JP2002505735A

JP2002505735A - 干渉計の回折格子間の測定対象の固定

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Publication number: JP2002505735A
Application number: JP53723597A
Authority: JP
Inventors: プラッテン，ジェームズ・イー; ホーディン，リチャード・エス
Original assignee: トロペル・コーポレーション
Priority date: 1996-04-18
Filing date: 1997-04-11
Publication date: 2002-02-19
Anticipated expiration: 2017-04-11
Also published as: JP3296566B2; DE69723068D1; WO1997039309A1; US5684594A; EP0894239B1; EP0894239A1; DE69723068T2; KR20000005525A

Abstract

(57)【要約】テストビーム及び参照ビームを発生し且つ再度組み合わせるように配置されている一対の回折格子を有する干渉計に適用される測定対象固定システム。固定システムは、グレーズ角度にて、テストビームが測定対象の表面に入射するように、回折格子の間に測定対象を位置付ける。位置付け固定具は、テストビーム及び参照ビームを透過させる窓プラットフォーム上の測定位置に測定対象を移動させながら、測定対象と干渉計の参照表面とを係合させる。次いで、固定具は、必要であればテストビーム及び参照ビームを透過させるクランプ窓によって把持されていてもよい測定対象の表面全体の同時測定のために取り除かれる。

Description

【発明の詳細な説明】干渉計への測定対象の固定技術分野テストビーム及び参照ビームを分離して且つ再度組み合わせるべく配置されている一対の回折格子の間に位置付けられた測定対象の表面を測定するための干渉計。背景光軸上に配置されている一対の回折格子を用いる干渉計は、測定対象の表面を測定するために、テストビームが測定対象の表面に入射し得るように、テストビーム及び参照ビームを分離してさらに再度組み合わせることができる。このような装置は、円筒状表面及び円錐状表面に容易に適用できるし、また円筒状形状又は円錐状形状ではない他の表面にも適用可能である。測定されるべき対象は、テストビームがグレーズ角度にて測定対象の表面に入射するように、回折格子の間に位置付けられる。そして、かような干渉計において最も容易に測定される回転体の測定対象表面に対しては、測定対象表面の軸が回折格子の光軸上に位置付けられる。かような干渉計のオペレータは、多数の測定対象を測定可能とするために、一連の類似の測定対象を同一測定位置に位置付けることが必要となるであろう。さらに、測定が可能な限り迅速に行われ得るように、測定対象を測定位置に迅速に且つ正確に位置付けることが望ましい。これは、一の簡単な操作で同時に測定対象の表面全体をこのタイプの干渉計で測定する場合に特に重要であり、測定のため対象を位置づけるために必要とされる時間が一連の測定に要求される総時間の大部分を占めるようになる。発明の概要我々は、オペレータが連続的に測定対象を干渉計内の同一測定位置に迅速に位置付けることを可能とする測定対象固定システムを開発した。我々のシステムは、異なる寸法及び形状の測定対象に適応するし、一度位置付けられた測定対象を所定位置に保持するための異なる方法にも適応する。本発明の目的は、測定用の対象の位置付け処理をスピードアップすること及び測定対象の位置付けの正確さを改良することにある。これは、干渉計の要求にも合致するものである。我々の測定対象固定システムは、テストビーム及び参照ビームを発生し且つ再度組み合わせる一対の回折格子を有する干渉計に適用する。測定されるべき対象は、テストビームが測定対象の表面上に入射し且つ参照ビームが測定対象を通過するように回折格子の間に位置付けられる。こうして、単一の干渉パターンによって、測定対象の表面全体が測定可能となる。我々は、干渉計の参照表面(refewrence surface)と係合したり係合から外れたりするように移動可能な固定具を用いるので、固定具は反復的に公知の位置に戻ることができる。固定具は、干渉計内での測定位置に測定対象を係合させ且つ位置付けることができる測定対象位置付け表面を有する。測定対象の位置付けは、測定対象が固定具の測定対象位置付け表面に係合して、固定具が干渉計の参照表面に係合するときに、正確になされる。こうして、固定具を反復的に配備することによって、同様の公称寸法の一連の測定対象を迅速に同一測定位置に位置付けることができるようになる。これを達成するための好ましい方法は、回折格子の間で移動可能に配置された測定対象支持プラットホームを用いることである。測定対象支持プラットフォームは、テストビーム及び参照ビームを透過させて、且つ測定用の対象を支持する窓を有する。窓プラットフォームは、平面の傾斜を調節するように移動可能なステージ上に載置される。該ステージはＸ軸方向及びＹ軸方向に移動する。この移動は、移動可能なプラットフォーム上に位置付けられている測定対象を、干渉パターンを観察することによって、回折格子の光軸と正確に整合せしめることができる。固定具で位置付けられた測定対象は光軸と正確に位置付けられると、固定具を再使用することによって、同一位置に一連の類似の測定対象を位置付けることができる。窓プラットフォームは、固定具に対する参照表面を与えることができ、固定具は、測定対象に対する位置付け表面を与えることができる。このとき、測定対象及び固定具の両者は窓プラットフォーム上に支持される。一方、支持なしに自由に立つことができない測定対象は、測定位置に把持される。これは、垂直方向に調節可能で、支持された測定対象の頂部と係合するように低くされ得る把持プラットフォームによって成される。図面図１は、本発明の測定対象固定システムに設けられている回折格子干渉計の概略側面図である。図２は、本発明により配置された窓プラットフォーム、位置付け固定具及び測定対象の概略側面図である。図３は、図２の窓プラットフォーム、測定対象及び位置付け固定具の概略平面図である。図４は、図２の位置付け固定具の概略底面図である。図５は、図２と同様の概略側面図であり、円錐形の測定対象と窓プラットフォームに対して配置された対応する位置付け固定具を示す。図６は、図５の位置付け固定具の概略底面図である。図７及び図８は、図１に示す配置と同様の態様にて、一対の窓の間に測定対象を把持するために配置された一対の窓を示す概略側面図である。図９から図１１は、測定のために異なる測定対象を保持するべく配置された支持窓を概略的に示す。図１２は、２つの異なる固定具配置範囲を有する窓プラットフォームを概略的に示す。図１３は、図１２の窓プラットフォームの２つのリセスに嵌合するキーを有する位置付け固定具を概略的に示す。詳細な説明我々の固定システムと一緒に用いるタイプの測定対象を測定するための干渉計１０は、図１に概略的に示されている。好ましくは単色性の視準光源１１は、一点鎖線で示されている光軸１５上に配置されている一対の回折格子１２及び１３を貫通するように向けられる。単純に示すと、各回折格子１２及び１３は、透過された光を参照ビーム２０及びテストビーム２５に回折する同心状の環状のラインで形成されている。参照ビーム２０は、測定されるべき対象３０の脇を通過する０次回折次数のビームである。テストビーム２５は、好ましくはグレーズ光角度にて測定対象３０の表面上に入射する１次回折次数のビームである。テストビーム２５は、測定対象３０の表面から反射して、回折格子１３において参照ビーム２０と再度組み合わせられる。こうして、イメージングシステム１４によって見ることができる干渉パターンを形成するので、測定対象３０の表面が測定できる。実際には、情況はより込み入っている。ポジティブ及びネガティブな１次回折次数のビームが発生してもよい。０次回折次数のビームは抑制されてもよい。２次回折次数のビームが伴われるようになってもよい。格子はブレーズされて異なるピッチを与え且つ異なる形状に形成されてもよい。測定対象３０の表面は円筒形又は円錐形とは異なっていてもよい。回折格子１２及び１３の間の測定位置に測定対象３０を固定する問題は、光学的なバリエーションにかかわらず、同様に残されている。測定対象３０は、参照ビーム及びテストビームを透過する窓１６上で格子１２及び１３の間に支持されている。窓１６は、後述する理由により、好ましくは移動可能な窓プラットフォーム２１によって支持されている。プラットフォーム２１は、調節可能なアパーチャ３２を含む。アパーチャ３２は、好ましくは格子１２を透過した光の直径を調節する虹彩装置である。窓プラットフォーム２１は、所望の移動を可能とするステージ２２上に載置されている。概略的に示された移動装置２３〜２７は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向での移動及びＸ軸運動及びＹ軸運動が生じる平面の傾斜調節を与える。運動コントローラ２３〜２７は、マイクロメータタイプの手動装置であってもよく又はモータ駆動及びコンピュータ制御されてもよい。クランプ窓１７は、測定対象３０の上部を係合する場合に用いることができる。これは、不安定な測定対象３０又はある理由によって正確に直立に立つことができない測定対象３０を測定するために重要である。クランプはさらに、水平方向に向けられている測定対象又は他の垂直でない位置にある測定対象を測定するために用いることができる。窓１７は、クランププラットフォーム２８上に支持されている。クランププラットフォーム２８は、ガイドロッド２９上で垂直に調節可能であり、止めねじ３１によって上昇した位置に保持され得る。クランププラットフォーム２８の移動には、他の多くのバリエーションが可能である。基本的に要求されることは、測定対象３０をチェンジするためにプラットフォーム２８を上昇させること、及びクランプ窓１７が測定するために位置付けられた測定対象３０と係合するようにプラットフォーム２８を下降させることである。窓１７の重さは、通常は、把持するに十分であるが、他の把持力を適用することもできる。窓１７はさらに、テストビーム及び参照ビームを上部の回折格子１３まで透過させる。光学軸１５と整合するように、窓１６上に測定対象３０を位置付けるための固定具４０は、図２から図４に示されている。窓プラットフォーム２１の円周は、参照表面４１を形成する。固定具４０は、表面４２と係合する。固定具４０は、窓プラットフォーム２１上でスライド可能で、表面４２を参照表面４１及び窓プラットフォーム２１の周囲と係合させたり係合を外したりする。固定具４０はさらに、測定対象３０と係合する位置付け表面すなわち縁部４３を有する。測定対象３０の円筒状又は円錐形の表面は、２本のライン又は４点のポイントに沿って、固定具４０の位置付け表面４３と係合し得るが、他の多くの変形もまた可能である。固定具４０は、概略的に示されているように、材料の単一片であっても、いくつかのパーツのアセンブリであっても良い。さらに、多くの形状を有していてもよく、異なる形状の位置付け表面、縁部、又はポイントと係合しても良い。さらに、ライン、ポイント及びキーを含む多種の方法にて、干渉計の参照表面と係合しても良い。窓プラットフォーム２１として示されている単純な円形の参照表面４１は、多くの異なる形態で置換可能で、干渉計の参照表面として採用されている形状は、固定具４０の形状及び参照表面との接触位置に移動する係合表面４２に影響を与えるであろう。測定対象３０は、いくらか樽状であってもよく、又は円筒形又は円錐形とは異なる他の形状の表面を有していてもよい。かような変形は、固定具４０上の異なる形状の位置付け表面４３によって達成される。単一の干渉計は、異なる形状の測定対象を位置付けるために、異なる直径及び形状の種々の固定具４０を有していてもよい。この例は、図５及び図６に示されている。図５及び図６において、固定具４５は、窓プラットフォーム２１上に支持されている測定対象５０の対応する円錐形表面と係合して位置付けるために円錐形状の位置付け表面４６を有する。図７は、安定して直立に立つことができない測定対象５５用のクランプ装置を概略的に示す。測定対象５５は、丸みを帯びた端部を有するので、直立に位置付けられ並びに干渉計の光学軸と整合させられることが必要となる。図６に示されているような固定具４５は、測定対象５５と係合して測定対象５５を窓１６上の正確な直立位置に保持するように形状化された位置付け表面４６を有する。ここで、測定対象５５は支持パッド５６上に位置付けられている。次いで、上部窓１７は、測定対象５５の上端部を係合把持するように下降される。測定対象５５の上端部は、クランプ窓１７の下側上のクランプパッド５７によって係合される。把持することで利益を得る測定対象６０の別の実施例は、図８に概略的に示されている。測定対象６０は、支持窓１６及びクランプ窓１７内に形成されている穴すなわちリセス６２内に突き立っている端部突出部６１を有する。固定具４０又は４５は、突出部６１が開口部６２に迅速に且つ信頼性高く嵌合するように、測定対象６０を位置付けることを目的とする。図９は、端部突出部６４を有するが安定して直立する測定対象６５を概略的に示す。測定対象６５は、窓１６内の穴すなわちリセス６３内に端部突出部６４を挿入することによって、窓１６上に位置付けられ得る。図７〜図９は、プラットフォーム２１及び２８内の異なる窓を用いる可能性及び異なる形状にされた測定対象を受け入れるための異なる形状を窓及び固定具に与える可能性を示す。支持窓１６は、さらに、測定対象７０を保持するための磁石６６を備えていてもよい。磁石６６は、窓１６の上面に又は上面の上方に多種の態様にて配置されてよい。図１０に示した実施形態において、磁石６６は、小さな自在継手すなわちボールジョイント６７上に載置されている。ボールジョイント６７は、調節された位置を保持するに十分なほど摩擦によって動きが鈍くなっている。こうして、測定対象７０を磁石６６上に正確に位置付けることができ、ジョイント６７によって直立位置に調節することができる。環境に応じて、測定対象７０は、磁石６６によって支持されたまま測定可能であるか、又は図７及び図８に示すように上部窓１７によって所定位置に把持され得る。図６に示したように、固定具４５は、測定対象７０の円錐形表面をかような位置付けに係合するように使用することができる。ジョイント６７の上に載置されているか又は窓１６の表面上に載置されている磁石６６は、保持力及び移動抵抗を与えるので、測定位置への測定対象の固定は迅速に且つ信頼性高く行える。磁石上に支持されている測定対象は、位置付け固定具又はオペレータの指を取り除くことによって、測定位置から無理に移動させられることはない。図１１は、測定対象７５が外面７７に代えて又は外面７７に加えて、測定されるべき内面７６を有することを示す。固定具４０による窓１６上への測定対象７５の位置付けは、内面又は外面のいずれが測定されているかにかかわらず、同様の方法でなされる。図１２及び図１３は、窓プラットフォーム２１の参照表面周囲４１内に形成されているノッチすなわちリセス７１及び７２の配置を示す。これらは、固定具４０の係合表面４２から延びている突出部すなわちキー７３によって係合されている。こうして、干渉計のオペレータの右手操作又は左手操作を達成するため、窓プラットフォーム２１上の固定具４０に対する２つの位置を可能とする。別の測定対象の位置付けは、固定具４０の２つの位置の間でわずかに異なっていてもよい。同じ位置が反復して用いられる場合には、同じ寸法の測定対象が一貫して位置付けられるであろう。図１３は、位置付けられるべき測定対象を磁石的に係合するため、位置付け表面４３に隣接して固定具４０上に配置された磁石８０を示す。磁石８０を使用することで、オペレータは固定具位置付け表面４３に対して測定対象を指圧で保持する必要がなくなる。磁石８０によって位置付け表面４３に対して保持されている測定対象は、固定具４０によって測定位置まで移動され得、固定具４０が取り除かれる前に上部窓７０によって把持され得る。あるいは、磁石８０は、両矢印で示すように、磁石による保持力を加えたり除いたりするように、固定具４０内で移動可能である。磁石８０が位置付け表面４３に隣接する際に、測定対象は位置付けられ得る。次いで、磁石８０は、位置付け表面４３から取り除かれて、位置付けられた測定対象を移動することなく、固定具４０を干渉計から取り除くことができる。磁石に対する他の多くの使用の可能性は、測定対象に対する窓受け部や測定対象を位置付ける固定具を含み得る。同じ公称寸法の多数の測定対象を連続して測定するために、我々の固定システムを使用するオペレータは、以下のように作業する。位置付けされるべき測定対象に嵌合するか又は適合性のある位置付け表面４３を有する固定具４０を選び、第１の測定対象を窓１６上に位置付ける。これは、測定対象を位置付け表面４３に対して磁石的に又は指圧のいずれかによって保持しながら、固定具４０を参照表面との係合位置に移動させることでなされる。正確な直径の固定具が選ばれた場合には、測定対象は窓プラットフォーム２１の中心近くで干渉計１０の光学軸１５の近くに置かれるべきである。測定対象を所定位置に把持する必要がある場合には、窓クランプ１７を測定対象の頂部と係合するように下降させる。測定対象が端部突出部を有するか又は窓１６上の特定の受け部がある場合には、これは、プラットフォーム２１上に適当な窓を載置して、また可能であれば干渉計１０内にてクランププラットフォーム２８上に別の適当な窓を載置することであらかじめ選択される。選ばれた測定対象が位置付けられて、選ばれた固定具４０が取り除かれたならば、ステージ２２は、光学軸１５を有する測定対象と整合するように調節される。これは、イメージングシステム１４によって作られた縞のパターンを観察しながら、調節装置２３〜２７を手動によって移動させることでなされる。さらに、これは、イメージングシステム１４内に形成された干渉図形のコンピュータ分析に対応するモータ駆動調節装置のコンピュータコントロールによってなされてもよい。調節可能なアパーチャ３２もまた、この時、回折格子１２を透過した不必要なイルミネーションを排除するように設定されてもよい。測定対象が光学軸１５との整合位置に調節された後、測定対象の表面の測定は、干渉図形の光学的分析によって迅速になされ、測定された測定対象は干渉計から取り除かれる。これは、クランプが測定対象を直立位置に保持することが必要であった場合には、測定対象を把持しているクランプを緩めることを必要とする。既に使用された同じ固定具を再度配備して、第２の測定のための第２の測定対象を位置付ける。一連の測定における類似の測定対象は、同じ公称寸法を有するので、固定具の再使用は、ステージ２２を再度調節する必要なしに、第２の測定対象を第１の測定対象が占めていた同じ位置に正確に位置付ける。次いで第２の測定対象は、迅速に測定されて取り除かれ、連続的にすべての測定対象の測定が終了するまで、この工程が反復される。測定用の次の測定対象の固定位置付けは、第１の測定対象が干渉計の光学軸との調節された整合位置に置かれた後、迅速に行われる。同じ位置付け固定具を反復して使用することで、第１の測定対象と同じ位置で一連の各測定対象を次々観察することができる。異なる寸法又は形状の測定対象が測定されるべき場合には、工程は反復される。窓１６又は１７における調節はあらかじめ定められ、正確な固定具が選ばれ、最初の測定対象が位置付けられて正確に整合され、次いで、次の測定対象を同じ固定具を再使用することで同じ位置に正確に位置付ける。干渉計１０は、数秒間で正確に位置付けられた測定対象の測定をなし得るので、我々の固定システムは同じ寸法の一連の測定対象の測定工程のスピードアップを図ることができる。さらに、これは、干渉計の機械的又は光学的操作に影響を与えない簡単で廉価な構成部品で行うことができる。

【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項【提出日】平成９年１１月１３日（１９９７．１１．１３）【補正内容】明細書干渉計の回折格子間の測定対象の固定技術分野テストビーム及び参照ビームを分離して且つ再度組み合わせるべく配置されている一対の回折格子の間に位置付けられた測定対象の表面を測定するための干渉計。背景光軸上に配置されている一対の回折格子を用いる干渉計は、測定対象の表面を測定するために、テストビームが測定対象の表面に入射し得るように、テストビーム及び参照ビームを分離してさらに再度組み合わせることができる。このような装置は、円筒状表面及び円錐状表面に容易に適用できるし、また円筒状形状又は円錐状形状ではない他の表面にも適用可能である。測定されるべき対象は、テストビームがグレーズ角度にて測定対象の表面に入射するように、回折格子の間に位置付けられる。そして、かような干渉計において最も容易に測定される回転体の測定対象表面に対しては、測定対象表面の軸が回折格子の光軸上に位置付けられる。かような干渉計のオペレータは、多数の測定対象を測定可能とするために、一連の類似の測定対象を同一測定位置に位置付けることが必要となるであろう。さらに、測定が可能な限り迅速に行われ得るように、測定対象を測定位置に迅速に且つ正確に位置付けることが望ましい。これは、一の簡単な操作で同時に測定対象の表面全体をこのタイプの干渉計で測定する場合に特に重要であり、測定のため対象を位置づけるために必要とされる時間が一連の測定に要求される総時間の大部分を占めるようになる。請求の範囲１．テストビーム及び参照ビームを発生し且つ再度組み合わせるように配置されている一対の回折格子を有する干渉計において、ａ上記テストビーム及び参照ビームの経路内の上記回折格子の間に位置付けられている移動可能なステージと、ｂ上記移動可能なステージ上に載置されており、上記テストビーム及び参照ビームが通過する窓を有する窓プラットフォームと、ｃ上記窓プラットフォームの参照表面と係合可能な位置決め表面を有する固定具と、を備え、ｄ上記固定具は、上記テストビームが測定対象に入射する上記窓プラットフォーム内の測定位置に、測定対象を係合させて位置付けるための位置付け表面を有し、ｅ上記固定具は、測定対象の表面の測定のために、上記窓プラットフォーム上に位置付けられている測定対象を残すように、干渉計から取り除かれ得る、ことを特徴とする干渉計。２．請求項１の干渉計であって、前記固定具の位置付け表面は、測定される測定対象と係合することを特徴とする干渉計。３．請求項１の干渉計であって、固定られた位置に測定対象を保持するため、前記プラットフォーム上に配置された測定対象受け部を有することを特徴とする干渉計。４．請求項３の干渉計であって、前記測定対象受け部は、磁石を含むことを特徴とする干渉計。５．請求項３の干渉計であって、前記測定対象受け部は、自在継手を含むことを特徴とする干渉計。６．請求項３の干渉計であって、前記測定対象受け部は、リセスを含むことを特徴とする干渉計。７．請求項１の干渉計であって、前記窓プラットフォーム上に支持されている端部に対向する測定対象の端部を係合するためのクランプを含むことを特徴とする干渉計。８．請求項７の干渉計であって、前記クランプは、前記テストビーム及び参照ビームが通過する窓を有することを特徴とする干渉計。９．請求項１の干渉計であって、前記窓プラットフォームは、前記テストビーム及び参照ビームの寸法を制限するための調節可能なアパーチャを含むことを特徴とする干渉計。１０．請求項１の干渉計であって、前記窓プラットフォームの参照表面は、測定対象を支持する平面の下方にあり、前記固定具の位置付け表面は測定対象を支持する平面の上方にあることを特徴とする干渉計。１１．テストビーム及び参照ビームを発生させて再度組み合わせる回折格子の間の測定位置に測定対象を固定する方法であって、ａ干渉計の上記回折格子の間に、測定対象を支持するための移動可能なステージ上の窓プラットフォームを用いる工程と、ｂ上記テストビームの経路上において、干渉計の光学軸上の測定位置に測定対象を位置付けるように、測定対象と上記窓プラットフォームとを係合するため、固定具を用いる工程と、ｃ上記固定具で測定対象を位置付けることによって、同じ寸法の測定対象を取り除き、次いで置き換える工程と、ｄ測定対象の表面の測定中に、測定位置にある各測定対象との係合位置から外すように上記固定具を移動させる工程と、を備えることを特徴とする方法。１２．請求項１１の方法であって、前記窓プラットフォームと光学軸上の測定位置まで移動する測定対象とを係合する前記固定具で、前記固定具及び測定対象を移動させる工程と、次いで、測定対象を測定位置に残したまま前記固定具を干渉計から取り除く工程と、を含むことを特徴とする方法。１３．請求項１１の方法であって、測定対象を測定位置に支持するために、前記窓プラットフォーム上の測定対象受け部を用いる工程を含むことを特徴とする方法。１４．請求項１３の方法であって、前記測定対象受け部内の磁石を用いる工程を含むことを特徴とする方法。１５．請求項１１の方法であって、測定対象を測定位置に把持する工程と、測定対象を干渉計から取り除くためクランプを緩める工程と、を含むことを特徴とする方法。１６．請求項１５の方法であって、測定対象の位置付けの間に測定対象を前記固定具に対して磁石的に保持する工程と、把持後、干渉計から前記固定具を取り除く工程と、を含むことを特徴とする方法。１７．干渉計に測定対象を位置付けるための固定具と干渉計との組合せであって、ａ上記固定具により係合可能な干渉計上の参照表面と、ｂ干渉計に位置付けられるべき測定対象を係合するための位置付け表面を有する上記固定具と、ｃ測定対象が干渉計内の所定位置に位置付けられるように、測定対象を係合しながら、上記参照表面との係合位置に、干渉計によって支持されている上記固定具と、ｄ上記固定具が干渉計から取り除かれた後、測定対象の表面の測定中に、所定の位置に干渉計によって支持されている測定対象と、ｅテストビームが測定対象の表面に入射するように、干渉計の回折格子の間に配置されている所定位置にある測定対象用の支持体と、を備えることを特徴とする組合せ。１８．請求項１７の干渉計と固定具との組合わせであって、前記参照表面は、前記回折格子の間で移動可能な窓プラットフォーム上にあることを特徴とする組合せ。１９．請求項１８の干渉計と固定具との組合せであって、前記窓プラットフォームは、前記回折格子の間の移動可能なステージの上に載置されていることを特徴とする組合せ。２０．請求項１８の干渉計と固定具との組合せであって、測定対象は、前記窓プラットフォームの窓上に支持されていることを特徴とする組合せ。２１．請求項１７の干渉計と固定具との組合せであって、前記参照表面は、測定対象用の支持体の平面の下方に位置付けられており、前記位置付け表面は測定対象を支持する平面の上方に位置付けられていることを特徴とする組合せ。【手続補正書】【提出日】平成１０年１１月１１日（１９９８．１１．１１）【補正内容】請求の範囲１．テストビーム及び参照ビームを発生し且つ再度組み合わせるように配置されている一対の回折格子を有する干渉計において、ａ上記テストビーム及び参照ビームの経路内の上記回折格子の間に位置付けられている移動可能なステージと、ｂ上記移動可能なステージ上に載置されており、上記テストビーム及び参照ビームが通過する窓を有する窓プラットフォームと、ｃ上記窓プラットフォームの参照表面と係合可能な位置決め表面を有する固定具と、を備え、ｄ上記固定具は、上記テストビームが測定対象に入射する上記窓プラットフォーム内の測定位置に、測定対象を係合させて位置付けるための位置付け表面を有し、ｅ上記固定具は、測定対象の表面の測定のために、上記窓プラットフォーム上に位置付けられている測定対象を残すように、干渉計から取り除かれ得る、ことを特徴とする干渉計。２．請求項１の干渉計であって、前記固定具の位置付け表面は、測定される測定対象と係合することを特徴とする干渉計。３．請求項１又は請求項２の干渉計であって、固定られた位置に測定対象を保持するため、前記プラットフォーム上に配置された測定対象受け部を有することを特徴とする干渉計。４．請求項１〜請求項３のいずれか１の干渉計であって、前記窓プラットフォーム上に支持されている端部に対向する測定対象の端部を係合するためのクランプを含むことを特徴とする干渉計。５．請求項１〜請求項４のいずれか１の干渉計であって、前記窓プラットフォームは、前記テストビーム及び参照ビームの寸法を制限するための調節可能なアパーチャを含むことを特徴とする干渉計。６．請求項１〜請求項５のいずれか１の干渉計であって、前記窓プラットフォームの参照表面は、測定対象を支持する平面の下方にあり、前記固定具の位置付け表面は測定対象を支持する平面の上方にあることを特徴とする干渉計。７．テストビーム及び参照ビームを発生させて再度組み合わせる回折格子の間の測定位置に測定対象を固定する方法であって、ａ干渉計の上記回折格子の間に、測定対象を支持するための移動可能なステージ上の窓プラットフォームを用いる工程と、ｂ上記テストビームの経路上において、干渉計の光学軸上の測定位置に測定対象を位置付けるように、測定対象と上記窓プラットフォームとを係合するため、固定具を用いる工程と、ｃ上記固定具で測定対象を位置付けることによって、同じ寸法の測定対象を取り除き、次いで置き換える工程と、ｄ測定対象の表面の測定中に、測定位置にある各測定対象との係合位置から外すように上記固定具を移動させる工程と、を備えることを特徴とする方法。８．請求項７の方法であって、前記窓プラットフォームと光学軸上の測定位置まで移動する測定対象とを係合する前記固定具で、前記固定具及び測定対象を移動させる工程と、次いで、測定対象を測定位置に残したまま前記固定具を干渉計から取り除く工程と、を含むことを特徴とする方法。９．請求項７又は請求項８の方法であって、測定対象を測定位置に支持するために、前記窓プラットフォーム上の測定対象受け部を用いる工程を含むことを特徴とする方法。１０．請求項７〜請求項９のいずれか１の方法であって、測定対象を測定位置に把持する工程と、測定対象を干渉計から取り除くためクランプを緩める工程と、を含むことを特徴とする方法。１１．請求項９の方法であって、前記測定対象受け部内の磁石を用いる工程を含むことを特徴とする方法。

Claims

【特許請求の範囲】１．テストビーム及び参照ビームを発生し且つ再度組み合わせるように配置されている一対の回折格子を有する干渉計において、ａ上記テストビーム及び参照ビームの経路内の上記回折格子の間に位置付けられている移動可能なステージと、ｂ上記移動可能なステージ上に載置されており、上記テストビーム及び参照ビームが通過する窓を有する窓プラットフォームと、ｃ上記窓プラットフォームの参照表面と係合可能な位置決め表面を有する固定具と、を備え、ｄ上記固定具は、上記テストビームが測定対象に入射する上記窓プラットフォーム内の測定位置に、測定対象を係合させて位置付けるための位置付け表面を有する、ことを特徴とする干渉計。２．請求項１の干渉計であって、前記固定具は、測定対象を位置付けた後、干渉計から取り除くことができることを特徴とする干渉計。３．請求項１の干渉計であって、固定られた位置に測定対象を保持するため、前記プラットフォーム上に配置された測定対象受け部を有することを特徴とする干渉計。４．請求項３の干渉計であって、前記測定対象受け部は、磁石を含むことを特徴とする干渉計。５．請求項３の干渉計であって、前記測定対象受け部は、自在継手を含むことを特徴とする干渉計。６．請求項３の干渉計であって、前記測定対象受け部は、リセスを含むことを特徴とする干渉計。７．請求項１の干渉計であって、前記窓プラットフォーム上に支持されている端部に対向する測定対象の端部を係合するためのクランプを含むことを特徴とする干渉計。８．請求項７の干渉計であって、前記クランプは、前記テストビーム及び参照ビームが通過する窓を有することを特徴とする干渉計。９．請求項１の干渉計であって、前記窓プラットフォームは、前記テストビーム及び参照ビームの寸法を制限するための調節可能なアパーチャを含むことを特徴とする干渉計。１０．請求項１の干渉計であって、前記窓プラットフォームの参照表面は、測定対象を支持する平面の下方にあり、前記固定具の位置付け表面は測定対象を支持する平面の上方にあることを特徴とする干渉計。１１．テストビーム及び参照ビームを発生させて再度組み合わせる回折格子の間の測定位置に測定対象を固定する方法であって、ａ干渉計の上記回折格子の間に、測定対象を支持するための移動可能なステージ上の窓プラットフォームを用いる工程と、ｂ上記テストビームの経路上において、干渉計の光学軸上の測定位置に測定対象を位置付けるように、測定対象と上記窓プラットフォームとを係合するため、固定具を用いる工程と、ｃ上記固定具で測定対象を位置付けることによって、同じ寸法の測定対象を取り除き、次いで置き換える工程と、を備えることを特徴とする方法。１２．請求項１１の方法であって、前記窓プラットフォームと光学軸上の測定位置まで移動する測定対象とを係合する前記固定具で、前記固定具及び測定対象を移動させる工程と、次いで、測定対象を測定位置に残したまま前記固定具を干渉計から取り除く工程と、を含むことを特徴とする方法。１３．請求項１１の方法であって、測定対象を測定位置に支持するために、前記窓プラットフォーム上の測定対象受け部を用いる工程を含むことを特徴とする方法。１４．請求項１３の方法であって、前記測定対象受け部内の磁石を用いる工程を含むことを特徴とする方法。１５．請求項１１の方法であって、測定対象を測定位置に把持する工程と、測定対象を干渉計から取り除くためクランプを緩める工程と、を含むことを特徴とする方法。１６．請求項１５の方法であって、測定対象の位置付けの間に測定対象を前記固定具に対して磁石的に保持する工程と、把持後、干渉計から前記固定具を取り除く工程と、を含むことを特徴とする方法。１７．干渉計に測定対象を位置付けるための固定具と干渉計との組合せであって、ａ上記固定具により係合可能な干渉計上の参照表面と、ｂ干渉計に位置付けられるべき測定対象を係合するための位置付け表面を有する上記固定具と、ｃ測定対象が干渉計内の所定位置に位置付けられるように、測定対象を係合しながら、上記参照表面との係合位置に、干渉計によって支持されている上記固定具と、ｄ上記固定具が干渉計から取り除かれた後、所定の位置に干渉計によって支持されている測定対象と、ｅテストビームが測定対象の表面に入射するように、干渉計の回折格子の間に配置されている所定位置にある測定対象用の支持体と、を備えることを特徴とする組合せ。１８．請求項１７の干渉計と固定具との組合わせであって、前記参照表面は、前記回折格子の間で移動可能な窓プラットフォーム上にあることを特徴とする組合せ。１９．請求項１８の干渉計と固定具との組合せであって、前記窓プラットフォームは、前記回折格子の間の移動可能なステージの上に載置されていることを特徴とする組合せ。２０．請求項１８の干渉計と固定具との組合せであって、測定対象は、前記窓プラットフォームの窓上に支持されていることを特徴とする組合せ。２１．請求項１７の干渉計と固定具との組合せであって、前記参照表面は、測定対象用の支持体の平面の下方に位置付けられており、前記位置付け表面は測定対象を支持する平面の上方に位置付けられていることを特徴とする組合せ。２２．請求項１７の干渉計と固定具との組合せであって、所定位置に測定対象を支持するための磁石を含むことを特徴とする組合せ。２３．請求項２２の干渉計と固定具との組合せであって、磁石を支持する自在継手を含むことを特徴とする組合せ。２４．請求項１７の干渉計と固定具との組合せであって、所定位置に測定対象を保持するためのクランプを含むことを特徴とする組合せ。２５．干渉計であって、ａ回折格子の間の領域にテストビーム及び参照ビームが形成されるように、光学軸上に配置されている一対の回折格子と、ｂ前記回折格子の間で、光学軸上に位置決めされている測定対象測定位置と、ｃ干渉計上に支持可能な固定具であって、該固定具の係合表面が干渉計の参照表面と係合するようにされている固定具と、を備え、ｄ上記固定具は、測定対象の表面と係合する位置付け表面を有し、上記固定具が参照表面と係合し、測定対象が位置付け表面と係合するときに、測定対象は光学軸上に位置付けられ、ｅ上記固定具は、測定用の上記光学軸上に測定対象を位置付けたまま、上記係合表面から取り除かれ得ることを特徴とする干渉計。２６．請求項２５の干渉計であって、テストビーム及び参照ビームを透過するように配置された窓上に測定対象を支持するためのプラットフォームを含むことを特徴とする干渉計。２７．請求項２６の干渉計であって、前記回折格子の間に配置された移動可能なステージを含み、前記プラットフォームは上記移動可能なステージの上に載置されていることを特徴とする干渉計。２８．請求項２５の干渉計であって、前記参照表面は、測定対象を支持する表面の平面の下方にあり、前記位置付け表面は測定対象を支持する平面の上方にあることことを特徴とする干渉計。２９．請求項２５の干渉計であって、測定対象測定位置にて配置された測定対象受け部を含むことを特徴とする干渉計。３０．請求項２９の干渉計であって、前記測定対象受け部は、磁石を含むことを特徴とする干渉計。３１．請求項２５の干渉計であって、測定対象を測定位置に把持するクランプを含むことを特徴とする干渉計。３２．請求項３１の干渉計であって、前記クランプは、テストビーム及び参照ビームを透過するための窓を含むことを特徴とする干渉計。