JP2002504430A - 逆イオン化防止プローブと制御装置とを有するスプレーガン - Google Patents
逆イオン化防止プローブと制御装置とを有するスプレーガンInfo
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- B05B5/025—Discharge apparatus, e.g. electrostatic spray guns
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Abstract
(57)【要約】
粉末噴霧塗装システムは、ある部分３６の上をある噴霧パターンで粉体を噴霧するためのスプレーガン１０を含む。スプレーガン１０は、電源１５に接続された電極１４を含み、粉体がガン１０から部分３６に向かって分配されると電極１４は粉体を帯電させる。第１電流センサ３３が電源４２から電極１４へのガン電流を測定する。電極１４によって生じた自由イオンを捕集するために、ＡＢＩプローブまたはイオン捕集器２６がガン１０に取り付けられている。捕集器２６は、スプレーパターンの近くに位置して電極１４から離隔した前方部分を有する。第２電流センサ３４がイオン捕集器２６からの戻り電流を測定する。調整組立品３５がイオン捕集器２６からの戻り電流を調整する。ガン電流と戻り電流の差を表す所定の設定値に従って調整組立品３５を操作するために、制御装置１８が第１および第２電流センサ３３、３４と調整組立品３５とに接続されている。このシステムは、さまざまな形状寸法の部分３６がガン１０の前を通ると、ガン先端に対するＡＢＩプローブ２６の先端の位置または有効位置を自動的に調節する。
Description
【０００１】
【１．発明の分野】 本発明は、静電噴霧塗装システムに関し、とくに静電噴霧塗装システムにおい
て自由イオンを捕集するための装置に関する。
て自由イオンを捕集するための装置に関する。
【０００２】
【２．従来の技術の説明】 静電噴霧塗装システムにおいては、塗装材料は供給源から１つまたは複数のス
プレーガンへポンプ流送され、スプレーガンは塗装材料を塗装しようとする部分
に噴霧する。塗装材料は、流動空気流の中で搬送される乾燥粒子の形、またはガ
ンによって噴霧化される液体の形のいずれにすることもできる。スプレーガンは
高電圧帯電電極によって塗装粒子を帯電させることができる。塗装粒子をガンの
前面から噴霧すると、塗装粒子は塗装しようとする部分に静電的に引きつけられ
、この部分は一般に電気的に接地され、架空式コンベヤから吊るされているかま
たはスプレーブースを通って搬送される。スプレーガンはスプレーブースにおい
て、定位置、またはレシプロケータ、または所定の経路を自動的に転送できるよ
うにする他の装置のいずれかに取り付けられている。これらの帯電塗装粒子がそ
の部分に付着すると、これらの粒子は静電吸引によってそこに接着してから、炉
に搬送されて底で硬化されるか、または粉体塗装の場合には溶融されて共に流れ
、製品の上に連続的な塗装を形成する。
プレーガンへポンプ流送され、スプレーガンは塗装材料を塗装しようとする部分
に噴霧する。塗装材料は、流動空気流の中で搬送される乾燥粒子の形、またはガ
ンによって噴霧化される液体の形のいずれにすることもできる。スプレーガンは
高電圧帯電電極によって塗装粒子を帯電させることができる。塗装粒子をガンの
前面から噴霧すると、塗装粒子は塗装しようとする部分に静電的に引きつけられ
、この部分は一般に電気的に接地され、架空式コンベヤから吊るされているかま
たはスプレーブースを通って搬送される。スプレーガンはスプレーブースにおい
て、定位置、またはレシプロケータ、または所定の経路を自動的に転送できるよ
うにする他の装置のいずれかに取り付けられている。これらの帯電塗装粒子がそ
の部分に付着すると、これらの粒子は静電吸引によってそこに接着してから、炉
に搬送されて底で硬化されるか、または粉体塗装の場合には溶融されて共に流れ
、製品の上に連続的な塗装を形成する。
【０００３】 その他にガンから接地部分に流れる自由イオンを引きつけるには、イオン捕集
器が有用であることがわかっている。粉体を帯電させると、非常に多くの自由イ
オンも発生する。イオン捕集器がなければ、自由イオンは塗装材料と共に塗装部
分へ運ばれる。これによって、局部的な電界強度が付着塗装層の内部にイオン化
を引き起こすために十分に大きくなるまで、電荷が付着塗装層の上に蓄積する。
この「逆イオン化」は付着塗装を妨害し、結果的に硬化された塗装層の中にクレ
ータまたはその他の欠陥を生じさせる。逆イオン化は転送効率を大幅に低下させ
、粉体塗装工程の経済的および環境上の有効性に有害な影響を及ぼす。イオン捕
集器を使用することによって、これらの自由イオンは塗装部分に到達する前に捕
集され、転送効率は改善され、塗装部分の表面仕上げの外観を改善することがで
きる。
器が有用であることがわかっている。粉体を帯電させると、非常に多くの自由イ
オンも発生する。イオン捕集器がなければ、自由イオンは塗装材料と共に塗装部
分へ運ばれる。これによって、局部的な電界強度が付着塗装層の内部にイオン化
を引き起こすために十分に大きくなるまで、電荷が付着塗装層の上に蓄積する。
この「逆イオン化」は付着塗装を妨害し、結果的に硬化された塗装層の中にクレ
ータまたはその他の欠陥を生じさせる。逆イオン化は転送効率を大幅に低下させ
、粉体塗装工程の経済的および環境上の有効性に有害な影響を及ぼす。イオン捕
集器を使用することによって、これらの自由イオンは塗装部分に到達する前に捕
集され、転送効率は改善され、塗装部分の表面仕上げの外観を改善することがで
きる。
【０００４】 イオン捕集器の一例として、本発明の譲受人に譲渡された米国特許出願第０８
／９５９７２３号に示された逆イオン化防止（ＡＢＩ）装置がある。この特許は
、満足なイオン捕集をもたらすＡＢＩプローブを示している。有効プローブ長は
調節可能であり、電極に対するプローブの端部の位置を変えることができるよう
にするので、電極に対するプローブの位置を調節することができる。
／９５９７２３号に示された逆イオン化防止（ＡＢＩ）装置がある。この特許は
、満足なイオン捕集をもたらすＡＢＩプローブを示している。有効プローブ長は
調節可能であり、電極に対するプローブの端部の位置を変えることができるよう
にするので、電極に対するプローブの位置を調節することができる。
【０００５】 イオン捕集器の別の例がＢｅｌｍａｉｎ他に交付された米国特許第４９２１１
７２号に示されており、これは粉体噴霧ガンの前部に対向電極が取り付けられた
形になっている。イオン捕集器のさらに別の例が欧州特許公告第０６２００４５
号に示されており、これはガンの前部の周りに対向電極環が取付け固定された形
になっている。これらのイオン捕集器は正しい位置に固定されているかまたはガ
ンの中に組み込まれているので、調節または取外しが容易ではない。
７２号に示されており、これは粉体噴霧ガンの前部に対向電極が取り付けられた
形になっている。イオン捕集器のさらに別の例が欧州特許公告第０６２００４５
号に示されており、これはガンの前部の周りに対向電極環が取付け固定された形
になっている。これらのイオン捕集器は正しい位置に固定されているかまたはガ
ンの中に組み込まれているので、調節または取外しが容易ではない。
【０００６】 イオン捕集器またはＡＢＩ装置またはプローブの存在によって、使用者はガン
と接地された部分の間の電界強度を大幅に低下させ、ならびに接地された部分へ
の自由イオン流を大幅に低下させることができる。したがって、逆イオン化の発
達は低下または遅延され、ガンと接地部分の間の電界強度は低下する。電界強度
の低下は、結果的に接地部分における凹部区域またはファラデー遮蔽区域の貫通
を改善することになる。しかし、ＡＢＩプローブの位置決めはプローブの確実な
効果を完全に実現する場合に極めて重要なことである。ＡＢＩプローブが正しく
位置決めされた場合には、塗装の結果は静電荷塗装システムを使用して達成され
たものに匹敵し、適用の容易さも同様なものである。
と接地された部分の間の電界強度を大幅に低下させ、ならびに接地された部分へ
の自由イオン流を大幅に低下させることができる。したがって、逆イオン化の発
達は低下または遅延され、ガンと接地部分の間の電界強度は低下する。電界強度
の低下は、結果的に接地部分における凹部区域またはファラデー遮蔽区域の貫通
を改善することになる。しかし、ＡＢＩプローブの位置決めはプローブの確実な
効果を完全に実現する場合に極めて重要なことである。ＡＢＩプローブが正しく
位置決めされた場合には、塗装の結果は静電荷塗装システムを使用して達成され
たものに匹敵し、適用の容易さも同様なものである。
【０００７】 しかしながら、ＡＢＩプローブの先端と接地部分の間の適正な距離を維持する
ことは、最初に予測されたよりも困難である。ガンと接地部分の間の距離は、接
地部分の形状寸法に応じて、また部分類別の変化に基づいて変化する。多くの部
分が凹部区域を含み、これらの区域は接地部分の残りの区域よりもガンから有意
に遠く、多くの部分が生産ラインにおいて、有意に異なる形状を有する他の部分
とともに提供される。ガンと部分の間の距離は変化するので、ＡＢＩプローブの
位置決めは、ＡＢＩプローブをイオン捕集器として使用する最高の確実な効果を
得るために、手動で調節しなければならない。あいにく、手動による位置決めは
、さまざまな形状の部分がスプレーブースの中に入るので、生産ランの中間では
通常不可能である。手動による再位置決めは、特定の生産ランにおいて部分の全
体形状と寸法を考慮して周期的に実施できるが、ＡＢＩプローブのこのような手
動再位置決めはむしろ厄介であり、その結果多くの生産適用においてほとんど行
われない傾向がある。
ことは、最初に予測されたよりも困難である。ガンと接地部分の間の距離は、接
地部分の形状寸法に応じて、また部分類別の変化に基づいて変化する。多くの部
分が凹部区域を含み、これらの区域は接地部分の残りの区域よりもガンから有意
に遠く、多くの部分が生産ラインにおいて、有意に異なる形状を有する他の部分
とともに提供される。ガンと部分の間の距離は変化するので、ＡＢＩプローブの
位置決めは、ＡＢＩプローブをイオン捕集器として使用する最高の確実な効果を
得るために、手動で調節しなければならない。あいにく、手動による位置決めは
、さまざまな形状の部分がスプレーブースの中に入るので、生産ランの中間では
通常不可能である。手動による再位置決めは、特定の生産ランにおいて部分の全
体形状と寸法を考慮して周期的に実施できるが、ＡＢＩプローブのこのような手
動再位置決めはむしろ厄介であり、その結果多くの生産適用においてほとんど行
われない傾向がある。
【０００８】
これらの問題およびその他の問題は、本発明の逆イオン化防止装置溶の制御シ
ステムによって克服される。本発明は、さまざまな形状や寸法の部分がスプレー
ブースにおけるガンの前を通過するときにガンの帯電電極に対するイオン捕集器
またはＡＢＩプローブの前方表面の有効位置を自動的に調節するためのシステム
を提供する。したがってこの制御システムは、粉体噴霧塗装システムにおいてＡ
ＡＢＩプローブまたは自由イオン捕集器の利点が最大限に利用されるようにする
。
ステムによって克服される。本発明は、さまざまな形状や寸法の部分がスプレー
ブースにおけるガンの前を通過するときにガンの帯電電極に対するイオン捕集器
またはＡＢＩプローブの前方表面の有効位置を自動的に調節するためのシステム
を提供する。したがってこの制御システムは、粉体噴霧塗装システムにおいてＡ
ＡＢＩプローブまたは自由イオン捕集器の利点が最大限に利用されるようにする
。
【０００９】 本発明のＡＢＩプローブ制御システムによって、使用者は接地された部分への
転送電流を自動的にある事前設定されたレベル以下に維持し、したがってその部
分がガンに近づくかまたはガンが移動してその部分への近づくと、イオン電流の
上昇を抑えることが可能である。転送電流に対するこのような制御は部分上の逆
イオン化の発達を遅延させ、またガンが移動して部分に近づくとガンと部分の間
の電界の強度を低下させる。そこで電界強度の低下は部分上における凹状区域の
浸透を改善する結果となる。制御システムはＡＢＩプローブの最高の利益達成を
可能にし、転送効率を改善し、部分上の表面仕上げの外観を改善する。
転送電流を自動的にある事前設定されたレベル以下に維持し、したがってその部
分がガンに近づくかまたはガンが移動してその部分への近づくと、イオン電流の
上昇を抑えることが可能である。転送電流に対するこのような制御は部分上の逆
イオン化の発達を遅延させ、またガンが移動して部分に近づくとガンと部分の間
の電界の強度を低下させる。そこで電界強度の低下は部分上における凹状区域の
浸透を改善する結果となる。制御システムはＡＢＩプローブの最高の利益達成を
可能にし、転送効率を改善し、部分上の表面仕上げの外観を改善する。
【００１０】 本発明のＡＢＩプローブ制御システムはまた自動操作も準備している。ＡＢＩ
プローブの有効位置はイオン捕集の必要性が増減するとともに自動的に変化され
るので、操作者は適用パラメータを調節する必要な全くなく、ＡＢＩプローブの
手動による再位置決めも必要としない。
プローブの有効位置はイオン捕集の必要性が増減するとともに自動的に変化され
るので、操作者は適用パラメータを調節する必要な全くなく、ＡＢＩプローブの
手動による再位置決めも必要としない。
【００１１】 したがって本発明の制御システムは、使用者がガン先端とＡＢＩプローブの間
の電界強度と電流とを制御することによってガンと部分の間の電流を自動的に制
御することを可能にし、ガンと部分の間の距離が変化する状況でＡＢＩプローブ
の利益を最大限にするためにＡＢＩプローブの位置決めを調節することを不必要
にする。
の電界強度と電流とを制御することによってガンと部分の間の電流を自動的に制
御することを可能にし、ガンと部分の間の距離が変化する状況でＡＢＩプローブ
の利益を最大限にするためにＡＢＩプローブの位置決めを調節することを不必要
にする。
【００１２】 これらの利点およびその他の利点は、粉体噴霧塗装システムの本発明によって
提供され、このシステムは、電源と、部分上にある噴霧パターンで粉体を噴霧す
るための、電源に接続された電極を含むスプレーガンであって、ガンの電流が電
源から電極に供給され、粉体がガンから部分に向かって分配されると電極が粉体
を帯電させるスプレーガンと、電極によって生じた自由イオンを捕集するために
ガンに取り付けられて、噴霧パターンの近くに位置決めされて電極から離隔した
前方部分を有するイオン捕集器であって、イオン捕集器から接地に向かって戻り
電流が流れるイオン捕集器と、電極に対するイオン捕集器の有効位置を調整する
調整組立品と、所定のセッテイングに従って調整組立品を操作して調整組立品ガ
ン電流と戻り電流との差を示すための、調整組立品に接続された制御装置とを含
む。
提供され、このシステムは、電源と、部分上にある噴霧パターンで粉体を噴霧す
るための、電源に接続された電極を含むスプレーガンであって、ガンの電流が電
源から電極に供給され、粉体がガンから部分に向かって分配されると電極が粉体
を帯電させるスプレーガンと、電極によって生じた自由イオンを捕集するために
ガンに取り付けられて、噴霧パターンの近くに位置決めされて電極から離隔した
前方部分を有するイオン捕集器であって、イオン捕集器から接地に向かって戻り
電流が流れるイオン捕集器と、電極に対するイオン捕集器の有効位置を調整する
調整組立品と、所定のセッテイングに従って調整組立品を操作して調整組立品ガ
ン電流と戻り電流との差を示すための、調整組立品に接続された制御装置とを含
む。
【００１３】
図面を詳しく参照すると、最初に図１には自動粉体ガン１０が示されている。
ガン１０は部分の上に空気流によって飛沫同伴される粉体を噴霧するために通常
使用される形式のもので、ガンは、本体１１と、本体１１に接続されて部分の上
に粉体を噴霧する出口ノズル１３に粉体を供給する供給ホース１２とを含む。ノ
ズル１３において粉体は電極１４によって電荷が付与される。電極１４は一般的
には大きな負電位たとえば−１００ボルトに帯電される。電極１４は、ガン本体
１１内に位置する適当な高圧電源構成要素１５に接続されており、低圧電源１７
に接続された給電線１６を通じてガンに低圧の電気が供給される。電極に供給さ
れる電圧は、給電線１６と低圧電源１７の間に接続されたガン制御装置１８によ
って制御される。ガン１０は、ガン取付けアセンブリ２０によって取付けバー１
９の上に取り付けることができる。どのような適当な取付けアセンブリを使用す
ることもできるが、好ましい取付けアセンブリは米国特許出願第０８／９５９７
２３号に開示されたものである。
ガン１０は部分の上に空気流によって飛沫同伴される粉体を噴霧するために通常
使用される形式のもので、ガンは、本体１１と、本体１１に接続されて部分の上
に粉体を噴霧する出口ノズル１３に粉体を供給する供給ホース１２とを含む。ノ
ズル１３において粉体は電極１４によって電荷が付与される。電極１４は一般的
には大きな負電位たとえば−１００ボルトに帯電される。電極１４は、ガン本体
１１内に位置する適当な高圧電源構成要素１５に接続されており、低圧電源１７
に接続された給電線１６を通じてガンに低圧の電気が供給される。電極に供給さ
れる電圧は、給電線１６と低圧電源１７の間に接続されたガン制御装置１８によ
って制御される。ガン１０は、ガン取付けアセンブリ２０によって取付けバー１
９の上に取り付けることができる。どのような適当な取付けアセンブリを使用す
ることもできるが、好ましい取付けアセンブリは米国特許出願第０８／９５９７
２３号に開示されたものである。
【００１４】 取付けアセンブリ２０は、穴（図示せず）を有する取付け板２５を有し、この
穴は、イオン捕集器または逆イオン化防止（ＡＢＩ）プローブ２６を取り付けて
支持するための取付け板を通ってこの前面から後面に延びる。図１に示すように
、プローブ２６は、真鍮やアルミニウムなどの強い導電性の高い材料の単一ロッ
ドにすることもできる。プローブは開口部２５内の止めねじ２７によって固定位
置に保持するか、またはプローブを、図３〜６を参照して後で説明するように自
動的に移動可能にすることもできる。取付け板２５を通じてプローブ２６を直接
接地することもでき、または図２〜７を参照してさらに後で説明するように、調
整された電位に維持されるように取付け板内部の絶縁されたさや（図示せず）の
中に取り付けることもできる。少なくともプローブ２６の前端部は半球状に丸く
なっている。
穴は、イオン捕集器または逆イオン化防止（ＡＢＩ）プローブ２６を取り付けて
支持するための取付け板を通ってこの前面から後面に延びる。図１に示すように
、プローブ２６は、真鍮やアルミニウムなどの強い導電性の高い材料の単一ロッ
ドにすることもできる。プローブは開口部２５内の止めねじ２７によって固定位
置に保持するか、またはプローブを、図３〜６を参照して後で説明するように自
動的に移動可能にすることもできる。取付け板２５を通じてプローブ２６を直接
接地することもでき、または図２〜７を参照してさらに後で説明するように、調
整された電位に維持されるように取付け板内部の絶縁されたさや（図示せず）の
中に取り付けることもできる。少なくともプローブ２６の前端部は半球状に丸く
なっている。
【００１５】 図１には棒状のプローブ２６を示しているが、ＡＢＩプローブまたはイオン捕
集器はガン電極から離隔した丸くしたエッジを有する表面であってもよい。イオ
ン捕集器の望みの形状と配置は、電極によって発生する電界とプローブによって
行われる望みのイオン捕集機能によって決まる。ＡＢＩプローブ２６の目的は、
スプレーガン１０の帯電電極１４において発生する自由イオンを捕集することで
ある。電極１４の近くにプローブ２６が存在することは、ガン電極１４によって
作られて前方に部分の上に集束される電界に加えて、後方にプローブの上に集束
する電界も作り出す。ガンの帯電電極からのイオンの大部分を捕集するために、
プローブの先端と帯電電極の先端との間の距離は、帯電電極の先端と噴霧される
部分の間の距離と適正な関係を持たなければならない。この距離関係が維持され
ている場合には、帯電電極１４とプローブ２６の間の電界は、帯電電極と部分の
間の電界よりも強くなる。
集器はガン電極から離隔した丸くしたエッジを有する表面であってもよい。イオ
ン捕集器の望みの形状と配置は、電極によって発生する電界とプローブによって
行われる望みのイオン捕集機能によって決まる。ＡＢＩプローブ２６の目的は、
スプレーガン１０の帯電電極１４において発生する自由イオンを捕集することで
ある。電極１４の近くにプローブ２６が存在することは、ガン電極１４によって
作られて前方に部分の上に集束される電界に加えて、後方にプローブの上に集束
する電界も作り出す。ガンの帯電電極からのイオンの大部分を捕集するために、
プローブの先端と帯電電極の先端との間の距離は、帯電電極の先端と噴霧される
部分の間の距離と適正な関係を持たなければならない。この距離関係が維持され
ている場合には、帯電電極１４とプローブ２６の間の電界は、帯電電極と部分の
間の電界よりも強くなる。
【００１６】 イオンを部分の上に付着させる代りにイオンをプローブ２６によって捕集する
ことによって、部分上の表面仕上げの外観を改善することができる。ＡＢＩプロ
ーブを使用しなければ、局部電界強度が粉体層の中にイオン化を起させるために
十分な大きさになるまで部分が噴霧されるので、電荷が付着した粉体層の上に蓄
積される。この「逆イオン化」は、移動効率と均一なファラデー遮蔽区域を被覆
する能力に悪影響を与える。そのうえ、逆イオン化は付着した粉体を擾乱し、部
分の上に硬化した塗装層にクレータまたはその他の欠陥を生じさせる可能性があ
る。ＡＢＩを使用することによって、これらのクレータや欠陥は避けられ、より
円滑な塗装層が作られる。ＡＢＩプローブはイオンが部分の上に集まるようにす
る代りにイオンを捕集するので、入ってくる粉体は帯電された付着粉体の逆イオ
ン化によってそれほど急速には放電されないので、より厚い塗装層を部分の上に
作ることができる。ＡＢＩプローブの使用はまた、前述のように部分の上に形成
される電荷は少ないので、予め塗装されている部分に第２の塗装を行うことを容
易にする。
ことによって、部分上の表面仕上げの外観を改善することができる。ＡＢＩプロ
ーブを使用しなければ、局部電界強度が粉体層の中にイオン化を起させるために
十分な大きさになるまで部分が噴霧されるので、電荷が付着した粉体層の上に蓄
積される。この「逆イオン化」は、移動効率と均一なファラデー遮蔽区域を被覆
する能力に悪影響を与える。そのうえ、逆イオン化は付着した粉体を擾乱し、部
分の上に硬化した塗装層にクレータまたはその他の欠陥を生じさせる可能性があ
る。ＡＢＩを使用することによって、これらのクレータや欠陥は避けられ、より
円滑な塗装層が作られる。ＡＢＩプローブはイオンが部分の上に集まるようにす
る代りにイオンを捕集するので、入ってくる粉体は帯電された付着粉体の逆イオ
ン化によってそれほど急速には放電されないので、より厚い塗装層を部分の上に
作ることができる。ＡＢＩプローブの使用はまた、前述のように部分の上に形成
される電荷は少ないので、予め塗装されている部分に第２の塗装を行うことを容
易にする。
【００１７】 ガンの帯電電極から部分へ向かう電界はＡＢＩプローブのために弱くなるので
、ガンは、突き出た部分や縁部により厚い塗装層を作ることなく、より均一な厚
さに塗装するはずである。プローブがなければ、電界線は通常ガンに最も近い縁
部に沿って集中し、結果的にこれらの領域に厚い塗装層を作る可能性がある。Ａ
ＢＩプローブの使用によって得られるより弱い電界は、結果的に、強い電界によ
って最も近い縁部に向かって発散されることなく、部分状のファラデー遮蔽区域
のよりすぐれた塗装となるはずである。ＡＢＩプローブを有するコロナ帯電ガン
は、摩擦帯電ガンに類似の噴霧特性を有するはずであり、これは摩擦帯電ガンが
高電圧帯電電極を持たず、それほど多くのイオンを作り出さず、またガンと部分
の間にそれほど強い電界を作り出さないからである。
、ガンは、突き出た部分や縁部により厚い塗装層を作ることなく、より均一な厚
さに塗装するはずである。プローブがなければ、電界線は通常ガンに最も近い縁
部に沿って集中し、結果的にこれらの領域に厚い塗装層を作る可能性がある。Ａ
ＢＩプローブの使用によって得られるより弱い電界は、結果的に、強い電界によ
って最も近い縁部に向かって発散されることなく、部分状のファラデー遮蔽区域
のよりすぐれた塗装となるはずである。ＡＢＩプローブを有するコロナ帯電ガン
は、摩擦帯電ガンに類似の噴霧特性を有するはずであり、これは摩擦帯電ガンが
高電圧帯電電極を持たず、それほど多くのイオンを作り出さず、またガンと部分
の間にそれほど強い電界を作り出さないからである。
【００１８】 ＡＢＩプローブのさまざまな他の実施形態を使用することができ、これらのい
くつかが前述の米国特許出願第０８／９５９７２３号に示されている。図１に示
されたプローブ２６は取付け板２５に止めねじ２７によって調節可能に保持され
た導電性材料の単一ロッドであるが、異なる長さのプローブのセットを準備する
ことによってプローブの固定長を変えることもできるので、ある長さのプローブ
を除去してこれを長さの異なる他のプローブと取り替えることによって距離を調
節することができる。代替案として、ＡＢＩプローブは、望みの長さのプローブ
を作り出すために必要に応じて組み立てることができる１つまたは複数のセクシ
ョンを含むことができる。ＡＢＩプローブは引込み可能アンテナで使用されるも
のに類似のテレスコープ式設計として作ることができる。さらなる代替案として
、プローブ２６を開口部２５の中に保持するために止めねじ２７を使用する代わ
りに、プローブは、穴の中の内部ねじ山に係合する長さに沿った外部ねじ山を有
することができるので、使用者は、プローブを単に時計回りまたは反時計回りに
回すことによってプローブの有効長を調節することができる。
くつかが前述の米国特許出願第０８／９５９７２３号に示されている。図１に示
されたプローブ２６は取付け板２５に止めねじ２７によって調節可能に保持され
た導電性材料の単一ロッドであるが、異なる長さのプローブのセットを準備する
ことによってプローブの固定長を変えることもできるので、ある長さのプローブ
を除去してこれを長さの異なる他のプローブと取り替えることによって距離を調
節することができる。代替案として、ＡＢＩプローブは、望みの長さのプローブ
を作り出すために必要に応じて組み立てることができる１つまたは複数のセクシ
ョンを含むことができる。ＡＢＩプローブは引込み可能アンテナで使用されるも
のに類似のテレスコープ式設計として作ることができる。さらなる代替案として
、プローブ２６を開口部２５の中に保持するために止めねじ２７を使用する代わ
りに、プローブは、穴の中の内部ねじ山に係合する長さに沿った外部ねじ山を有
することができるので、使用者は、プローブを単に時計回りまたは反時計回りに
回すことによってプローブの有効長を調節することができる。
【００１９】 ＡＢＩプローブは、図１に示すようにガン本体の側部に沿って延びる細長いロ
ッドにすることもできるが、ガン電極の先端から望みの距離でガンを取り巻く導
電性リングにすることもできる。ＡＢＩプローブまたはイオン捕集器はまた、ガ
ン本体の外シェルの中に包含される円滑な表面の形状を取ることもできる。さら
にまた、図１に示すＡＢＩプローブ２６は取付け板に取り付けられているが、プ
ローブは代替案として、ガン取付けアセンブリ２０がガンに取り付けられる部分
以外の部分でガン本体に直接取り付けることができる。手動操作されるスプレー
ガンのために、たとえばプローブをガンの側部または頂部に取り付けられたブラ
ケットの上に取り付けることができる。
ッドにすることもできるが、ガン電極の先端から望みの距離でガンを取り巻く導
電性リングにすることもできる。ＡＢＩプローブまたはイオン捕集器はまた、ガ
ン本体の外シェルの中に包含される円滑な表面の形状を取ることもできる。さら
にまた、図１に示すＡＢＩプローブ２６は取付け板に取り付けられているが、プ
ローブは代替案として、ガン取付けアセンブリ２０がガンに取り付けられる部分
以外の部分でガン本体に直接取り付けることができる。手動操作されるスプレー
ガンのために、たとえばプローブをガンの側部または頂部に取り付けられたブラ
ケットの上に取り付けることができる。
【００２０】 本発明によれば、ＡＢＩプローブまたはイオン捕集器２６は制御システム３２
に接続され、制御システム３２は、ガンと部分の間の距離が変化するとＡＢＩプ
ローブの有効位置を変えることによって、帯電電極の先端とＡＢＩプローブ先端
の間の電界強度を自動的に調節する。ＡＢＩプローブの有効位置は、プローブの
実際の位置またはプローブの電位を変えることによって、変えることができる。
この制御システム３２の１つの実施形態を図２に概略的な形で図示する。ガンの
中に置かれた高電圧変圧器１５に接続された第１電流感知装置３３が、低圧電源
１７から内部ガン構成要素１５を通って電極１４へ流れるガン電流μＡ1を測定 する。第２電流感知装置３４が、ＡＢＩプローブから接地へ逆流する戻り電流μ
Ａ3を測定する。電流センサ３３、３４は、電流プローブ、測定抵抗器、ホール 効果装置、またはマイクロアンペア計などの、どのような適当な電流測定装置で
あってもよい。電流センサ３３、３４による２つの電流の読みは適切なリード線
によって電子論理演算装置３５に供給され、電子論理演算装置３５はガン電流の
読みと戻り電流の読みとの差μＡ1―μＡ3を決定する。この差μＡ1―μＡ3は、
部分３６に粉体粒子によって「分配される」電流である移動電流μＡ2と、噴霧 塗装作業中の電流損失とを足したものに等しい。換言すれば、移動電流μＡ2を 一定に維持するためには、差μＡ1―μＡ3は一定でなければならない。
に接続され、制御システム３２は、ガンと部分の間の距離が変化するとＡＢＩプ
ローブの有効位置を変えることによって、帯電電極の先端とＡＢＩプローブ先端
の間の電界強度を自動的に調節する。ＡＢＩプローブの有効位置は、プローブの
実際の位置またはプローブの電位を変えることによって、変えることができる。
この制御システム３２の１つの実施形態を図２に概略的な形で図示する。ガンの
中に置かれた高電圧変圧器１５に接続された第１電流感知装置３３が、低圧電源
１７から内部ガン構成要素１５を通って電極１４へ流れるガン電流μＡ1を測定 する。第２電流感知装置３４が、ＡＢＩプローブから接地へ逆流する戻り電流μ
Ａ3を測定する。電流センサ３３、３４は、電流プローブ、測定抵抗器、ホール 効果装置、またはマイクロアンペア計などの、どのような適当な電流測定装置で
あってもよい。電流センサ３３、３４による２つの電流の読みは適切なリード線
によって電子論理演算装置３５に供給され、電子論理演算装置３５はガン電流の
読みと戻り電流の読みとの差μＡ1―μＡ3を決定する。この差μＡ1―μＡ3は、
部分３６に粉体粒子によって「分配される」電流である移動電流μＡ2と、噴霧 塗装作業中の電流損失とを足したものに等しい。換言すれば、移動電流μＡ2を 一定に維持するためには、差μＡ1―μＡ3は一定でなければならない。
【００２１】 本発明によれば、戻り電流μＡ3は、差μＡ1―μＡ3が一定レベルに維持され るようにガン制御装置１８によって制御される。この差μＡ1―μＡ3の一定レベ
ルは、転送電流μＡ2入力部４１によってガン制御装置に入力される。それから 戻り電流μＡ3はガン制御装置によって、差μＡ1―μＡ3を一定の設定レベルに 保つようなレベルに維持される。戻り電流μＡ3は、いくつかの異なる方法のい ずれか１つによって制御することができる。図２では、戻り電流μＡ3は、ＡＢ Ｉプローブ２６と接地の間に位置する高圧電源４２によって制御される。電源４
２は、電源に低電圧入力を供給するガン制御装置１８に接続されている。電源４
２は低電圧入力を取り、倍率器として作用し、供給入力を高電圧出力に変換し、
高電圧出力はＡＢＩプローブ２６に供給される。電源４２は、ＡＢＩプローブを
通って接地へ流れる電流μＡ3のレベルを制御するために、したがってガン電極 とＡＢＩプローブの間の電界強度を高めるために、ＡＢＩプローブ２６の電位を
接地以上の望みの電圧レベルに上げる。したがって、第２電流センサは電源４２
に接続されて、ＡＢＩプローブ２６から電源４２を通って最後の接地へ逆流する
電流を測定する。
ルは、転送電流μＡ2入力部４１によってガン制御装置に入力される。それから 戻り電流μＡ3はガン制御装置によって、差μＡ1―μＡ3を一定の設定レベルに 保つようなレベルに維持される。戻り電流μＡ3は、いくつかの異なる方法のい ずれか１つによって制御することができる。図２では、戻り電流μＡ3は、ＡＢ Ｉプローブ２６と接地の間に位置する高圧電源４２によって制御される。電源４
２は、電源に低電圧入力を供給するガン制御装置１８に接続されている。電源４
２は低電圧入力を取り、倍率器として作用し、供給入力を高電圧出力に変換し、
高電圧出力はＡＢＩプローブ２６に供給される。電源４２は、ＡＢＩプローブを
通って接地へ流れる電流μＡ3のレベルを制御するために、したがってガン電極 とＡＢＩプローブの間の電界強度を高めるために、ＡＢＩプローブ２６の電位を
接地以上の望みの電圧レベルに上げる。したがって、第２電流センサは電源４２
に接続されて、ＡＢＩプローブ２６から電源４２を通って最後の接地へ逆流する
電流を測定する。
【００２２】 操作では、使用者は、入力部４１においてガン制御装置１８に望みの移動電流
μＡ2をセットする。部分がガンの前を通過すると、電流センサ３３は電極へ流 れるガン電流μＡ1を測定し、第２電流センサ３４はＡＢＩプローブ２６から流 れる戻り電流μＡ3を測定する。これらの電流間の差μＡ1−μＡ3は電子論理演 算装置３５において、セット転送電流μＡ2に比例するように較正された一定値 と比較される。この電流差μＡ1−μＡ3が一定値とほぼ同じでない場合には、ガ
ン制御装置１８は倍率器４２を調節して、ＡＢＩプローブ２６の電圧を増減する
。ＡＢＩプローブ２６の前端における正電位は、結果としてプローブ前端と電極
の間の距離を変化することと同じである。ここでは、電極とＡＢＩプローブの間
の電位差がより大きいほど、電極とＡＢＩプローブ先端の間の電界はより強く、
またガンと部分の間にガンによって作り出される電界はより弱くなる。この過程
は、異なる形状の部分が塗装のためにスプレーブースに入るときに絶えず繰り返
され、または単一部分がそうではなくガンと塗装される部分の間の距離に有意の
効果を有する大きな凹状区域を含んで入る場合には、この単一部分の塗装中にお
いても絶えず繰り返される。
μＡ2をセットする。部分がガンの前を通過すると、電流センサ３３は電極へ流 れるガン電流μＡ1を測定し、第２電流センサ３４はＡＢＩプローブ２６から流 れる戻り電流μＡ3を測定する。これらの電流間の差μＡ1−μＡ3は電子論理演 算装置３５において、セット転送電流μＡ2に比例するように較正された一定値 と比較される。この電流差μＡ1−μＡ3が一定値とほぼ同じでない場合には、ガ
ン制御装置１８は倍率器４２を調節して、ＡＢＩプローブ２６の電圧を増減する
。ＡＢＩプローブ２６の前端における正電位は、結果としてプローブ前端と電極
の間の距離を変化することと同じである。ここでは、電極とＡＢＩプローブの間
の電位差がより大きいほど、電極とＡＢＩプローブ先端の間の電界はより強く、
またガンと部分の間にガンによって作り出される電界はより弱くなる。この過程
は、異なる形状の部分が塗装のためにスプレーブースに入るときに絶えず繰り返
され、または単一部分がそうではなくガンと塗装される部分の間の距離に有意の
効果を有する大きな凹状区域を含んで入る場合には、この単一部分の塗装中にお
いても絶えず繰り返される。
【００２３】 戻り電流μＡ3のレベルを制御するために、その他の手段も使用することがで きる。図３は、プローブの電位を調節するのではなくＡＢＩプローブの前端の位
置が自動的に調節される制御システム１３２を示す。図３の制御システム１３２
はガン１１０を有し、ガン１１０は、ガン本体１１１と内部高電圧構成要素１１
５、ガン制御装置１１８、ＡＢＩプローブ１２６、第１電流センサ１３３、第２
電流センサ１３４、電子論理演算装置１３５、および入力部１４１を有し、これ
らは、図２のガン１０は、ガン本体１１と内部高電圧構成要素１５、ガン制御装
置１８、ＡＢＩプローブ２６、第１電流センサ３３、第２電流センサ３４、電子
論理演算装置３５、および入力部４１と本質的に同一である。高圧電源または倍
率器４２の代りに、図３に示す実施形態は、ガン１１０の本体に対するＡＢＩプ
ローブ１２６の縦方向位置を移動させるための空気圧シリンダ１４２を使用する
。シリンダ１４２は空気圧制御装置１４４によって空気圧供給部１４３の接続さ
れているので、シリンダ１４２内のピストン１４５が一方向に始動されてＡＢＩ
プローブの縦方向位置を前進させるか、または別の方向に始動されて、シリンダ
内の空気圧が低下するとピストンを引っ込める戻しばね１４６によってＡＢＩプ
ローブを引っ込める。図２の制御システム３２におけるプローブ２６と異なり、
ＡＢＩプローブ１２６は常に接地されている。ＡＢＩプローブ１２６はまた電流
センサ１３４に接続されており、電流センサ１３４はＡＢＩプローブから接地へ
逆流する電流μＡ3を測定する。内部ガン変換器１１５に接続された電流センサ １３３は、電源１１７から電極１１４へ流れる電流μＡ1を測定する。電子論理 演算装置１３５は、これら２電流の読みの差μＡ1−μＡ3を決定する。制御シス
テム３２による場合と同様に、戻り電流μＡ3は、差μＡ1−μＡ3がμＡ2電流入
力１４１に従って予めセットされたレベルに維持されるようにガン制御装置１１
８によって制御される。ガン制御装置は、空気圧制御装置１を使用してシリンダ
１４２への空気圧を調整することによって差μＡ1−μＡ3を一定に保持するよう
に、戻り電流μＡ3を維持する。ＡＢＩプローブ１２６は電極１１４に向かって 前方に移動されて戻り電流μＡ3を増加させ、ＡＢＩプローブは引っ込められて 戻り電流μＡ3を低下させる。
置が自動的に調節される制御システム１３２を示す。図３の制御システム１３２
はガン１１０を有し、ガン１１０は、ガン本体１１１と内部高電圧構成要素１１
５、ガン制御装置１１８、ＡＢＩプローブ１２６、第１電流センサ１３３、第２
電流センサ１３４、電子論理演算装置１３５、および入力部１４１を有し、これ
らは、図２のガン１０は、ガン本体１１と内部高電圧構成要素１５、ガン制御装
置１８、ＡＢＩプローブ２６、第１電流センサ３３、第２電流センサ３４、電子
論理演算装置３５、および入力部４１と本質的に同一である。高圧電源または倍
率器４２の代りに、図３に示す実施形態は、ガン１１０の本体に対するＡＢＩプ
ローブ１２６の縦方向位置を移動させるための空気圧シリンダ１４２を使用する
。シリンダ１４２は空気圧制御装置１４４によって空気圧供給部１４３の接続さ
れているので、シリンダ１４２内のピストン１４５が一方向に始動されてＡＢＩ
プローブの縦方向位置を前進させるか、または別の方向に始動されて、シリンダ
内の空気圧が低下するとピストンを引っ込める戻しばね１４６によってＡＢＩプ
ローブを引っ込める。図２の制御システム３２におけるプローブ２６と異なり、
ＡＢＩプローブ１２６は常に接地されている。ＡＢＩプローブ１２６はまた電流
センサ１３４に接続されており、電流センサ１３４はＡＢＩプローブから接地へ
逆流する電流μＡ3を測定する。内部ガン変換器１１５に接続された電流センサ １３３は、電源１１７から電極１１４へ流れる電流μＡ1を測定する。電子論理 演算装置１３５は、これら２電流の読みの差μＡ1−μＡ3を決定する。制御シス
テム３２による場合と同様に、戻り電流μＡ3は、差μＡ1−μＡ3がμＡ2電流入
力１４１に従って予めセットされたレベルに維持されるようにガン制御装置１１
８によって制御される。ガン制御装置は、空気圧制御装置１を使用してシリンダ
１４２への空気圧を調整することによって差μＡ1−μＡ3を一定に保持するよう
に、戻り電流μＡ3を維持する。ＡＢＩプローブ１２６は電極１１４に向かって 前方に移動されて戻り電流μＡ3を増加させ、ＡＢＩプローブは引っ込められて 戻り電流μＡ3を低下させる。
【００２４】 図３の制御システム１３２の操作では、使用者は入力部１４１においてガン制
御装置１１８への望みの転送電流μＡ2をセットする。部分がガンの前を通過す ると、第１電流センサ１３３は電流μＡ1を測定し、第２電流センサ１３４は電 流μＡ3を測定し、電子論理演算装置１３５は電流差μＡ1−μＡ3を測定して、 この差を、セットされた転送電流μＡ2に比例するように較正された一定値と比 較する。この電流差が一定値とほぼ同じでない場合には、ガン制御装置１１８は
空気圧制御装置１４４を始動してシリンダ１４２への圧力を増減させ、ＡＢＩプ
ローブ１２６を移動させて電極に近づけるかまたは電極から遠ざけて、これによ
って戻り電流μＡ3を調節し、したがって転送電流μＡ2を調整する。この過程は
、異なる形状の部分１３６が塗装のためにスプレーブースに入るときに絶えず繰
り返され、または単一部分がそうではなくガンと塗装される部分の間の距離に有
意の効果を有する大きな凹状区域を含んで入る場合には、この単一部分の塗装中
においても絶えず繰り返される。
御装置１１８への望みの転送電流μＡ2をセットする。部分がガンの前を通過す ると、第１電流センサ１３３は電流μＡ1を測定し、第２電流センサ１３４は電 流μＡ3を測定し、電子論理演算装置１３５は電流差μＡ1−μＡ3を測定して、 この差を、セットされた転送電流μＡ2に比例するように較正された一定値と比 較する。この電流差が一定値とほぼ同じでない場合には、ガン制御装置１１８は
空気圧制御装置１４４を始動してシリンダ１４２への圧力を増減させ、ＡＢＩプ
ローブ１２６を移動させて電極に近づけるかまたは電極から遠ざけて、これによ
って戻り電流μＡ3を調節し、したがって転送電流μＡ2を調整する。この過程は
、異なる形状の部分１３６が塗装のためにスプレーブースに入るときに絶えず繰
り返され、または単一部分がそうではなくガンと塗装される部分の間の距離に有
意の効果を有する大きな凹状区域を含んで入る場合には、この単一部分の塗装中
においても絶えず繰り返される。
【００２５】 電極に対して移動可能なＡＢＩプローブを提供するための一代替実施形態を図
４〜６に示す。この実施形態は、図４に示すようにガン２１０の本体２１１と共
にある空気圧シリンダ２４２を使用する。シリンダ２４２は、ピストンロッド２
４７に連結されたピストン２４５を有する。ピストンロッド２４７の先端にはヨ
ークアセンブリ２４８が取り付けられている。ＡＢＩプローブを含む一対のワイ
ヤ２２６がヨークアセンブリ２４８に接続されており、ワイヤ２２６の各々はプ
ラスチックさや２４９を通じて、ガン電極２１４から離隔したガン本体２１１の
側部に沿ってガンの外部に延びている。ワイヤ２２６は、完全に引っ込んだワイ
ヤ２２６を示す図５に示すように、隙間のないガン本体壁２５１の中の開口部２
５０を通って延びることができる。代替案として、ワイヤ２２６は図６に示すよ
うにエアシュラウドを通じて延びることができ、ガン本体壁２５１には内径２５
２が設けられ、内径２５２の周りには空気穴２５３がある。空気穴２５３は風道
２５４を通じて加圧空気供給源（図示せず）に連結できるので、加圧空気は風道
と内径の空気穴２５３とを通ってワイヤ２２６を空気で包み、ワイヤが内径２５
２を通って自由に動けるようにし、粉体が蓄積して内径を詰まらせワイヤの動き
を阻害することを防止する助けになる。
４〜６に示す。この実施形態は、図４に示すようにガン２１０の本体２１１と共
にある空気圧シリンダ２４２を使用する。シリンダ２４２は、ピストンロッド２
４７に連結されたピストン２４５を有する。ピストンロッド２４７の先端にはヨ
ークアセンブリ２４８が取り付けられている。ＡＢＩプローブを含む一対のワイ
ヤ２２６がヨークアセンブリ２４８に接続されており、ワイヤ２２６の各々はプ
ラスチックさや２４９を通じて、ガン電極２１４から離隔したガン本体２１１の
側部に沿ってガンの外部に延びている。ワイヤ２２６は、完全に引っ込んだワイ
ヤ２２６を示す図５に示すように、隙間のないガン本体壁２５１の中の開口部２
５０を通って延びることができる。代替案として、ワイヤ２２６は図６に示すよ
うにエアシュラウドを通じて延びることができ、ガン本体壁２５１には内径２５
２が設けられ、内径２５２の周りには空気穴２５３がある。空気穴２５３は風道
２５４を通じて加圧空気供給源（図示せず）に連結できるので、加圧空気は風道
と内径の空気穴２５３とを通ってワイヤ２２６を空気で包み、ワイヤが内径２５
２を通って自由に動けるようにし、粉体が蓄積して内径を詰まらせワイヤの動き
を阻害することを防止する助けになる。
【００２６】 制御システムの別の実施形態を図７に示す。図７の制御システム３３２はガン
３１０を有し、ガン３１０は、ガン本体３１１と内部高電圧構成要素３１５、ガ
ン制御装置３１８、ＡＢＩプローブ３２６、第１電流センサ３３３、第２電流セ
ンサ３３４、電子論理演算装置３３５、および入力部３４１を有し、これらは、
図２のガン１０は、ガン本体１１と内部高電圧構成要素１５、ガン制御装置１８
、ＡＢＩプローブ２６、第１電流センサ３３、第２電流センサ３４、電子論理演
算装置３５、および入力部４１と本質的に同一である。制御システム３３２では
、ＡＢＩプローブ３２６は可変抵抗装置３４２を通じて接地に接続されている。
可変抵抗装置３４２は、±１００ｋＶのレベルの電圧に遭遇することのある電子
静電粉体噴霧システムの高電圧環境において使用可能な適当なものであれば、ど
んな装置であってもよい。このような抵抗装置は一般的には、抵抗装置を絶縁し
て適切な冷却を行うためにオイルバスを含む。可変抵抗装置３４２はガン制御装
置３１８に接続されているので、ガン制御装置は電流センサ３３４によって実測
戻り電流μＡ3を、抵抗を変化させることによって調整することができる。内部 高電圧ガン構成要素３１５に接続された電流センサ３３３は、電極電流μＡ1を 測定する。電子論理演算装置３３５は電流差μＡ1−μＡ3を決定して、この差を
μＡ2電流入力３４１と比較する。それから戻り電流μＡ3は、可変抵抗装置３４
２によってＡＢＩプローブ３２６と接地の間の抵抗を変えることによって、ガン
制御装置によって維持される。各部分３３６がガン３１０の前を通過するとき、
電流差が一定値とほぼ同じでない場合には、ガン制御装置３１８は、ＡＢＩプロ
ーブ３２６の電圧を効果的に増減する可変抵抗装置３４２を調節する。この抵抗
を変えることは、その効果においてＡＢＩプローブの先端とガン電圧の間の距離
を変化させることと同じである。ここでは、ＡＢＩプローブと接地の間の抵抗が
大きいほど、ＡＢＩプローブ先端の正電位はより高く、ガン先端とＡＢＩプロー
ブ先端の間の電界はより強く、またガンと部分の間にガンによって作り出される
電界はより強くなる。この過程は、異なる形状の部分３６が塗装のためにスプレ
ーブースに入るときに絶えず繰り返され、または単一部分がそうではなくガンと
塗装される部分の間の距離に有意の効果を有する大きな凹状区域を含んで入る場
合には、この単一部分の塗装中においても絶えず繰り返される。
３１０を有し、ガン３１０は、ガン本体３１１と内部高電圧構成要素３１５、ガ
ン制御装置３１８、ＡＢＩプローブ３２６、第１電流センサ３３３、第２電流セ
ンサ３３４、電子論理演算装置３３５、および入力部３４１を有し、これらは、
図２のガン１０は、ガン本体１１と内部高電圧構成要素１５、ガン制御装置１８
、ＡＢＩプローブ２６、第１電流センサ３３、第２電流センサ３４、電子論理演
算装置３５、および入力部４１と本質的に同一である。制御システム３３２では
、ＡＢＩプローブ３２６は可変抵抗装置３４２を通じて接地に接続されている。
可変抵抗装置３４２は、±１００ｋＶのレベルの電圧に遭遇することのある電子
静電粉体噴霧システムの高電圧環境において使用可能な適当なものであれば、ど
んな装置であってもよい。このような抵抗装置は一般的には、抵抗装置を絶縁し
て適切な冷却を行うためにオイルバスを含む。可変抵抗装置３４２はガン制御装
置３１８に接続されているので、ガン制御装置は電流センサ３３４によって実測
戻り電流μＡ3を、抵抗を変化させることによって調整することができる。内部 高電圧ガン構成要素３１５に接続された電流センサ３３３は、電極電流μＡ1を 測定する。電子論理演算装置３３５は電流差μＡ1−μＡ3を決定して、この差を
μＡ2電流入力３４１と比較する。それから戻り電流μＡ3は、可変抵抗装置３４
２によってＡＢＩプローブ３２６と接地の間の抵抗を変えることによって、ガン
制御装置によって維持される。各部分３３６がガン３１０の前を通過するとき、
電流差が一定値とほぼ同じでない場合には、ガン制御装置３１８は、ＡＢＩプロ
ーブ３２６の電圧を効果的に増減する可変抵抗装置３４２を調節する。この抵抗
を変えることは、その効果においてＡＢＩプローブの先端とガン電圧の間の距離
を変化させることと同じである。ここでは、ＡＢＩプローブと接地の間の抵抗が
大きいほど、ＡＢＩプローブ先端の正電位はより高く、ガン先端とＡＢＩプロー
ブ先端の間の電界はより強く、またガンと部分の間にガンによって作り出される
電界はより強くなる。この過程は、異なる形状の部分３６が塗装のためにスプレ
ーブースに入るときに絶えず繰り返され、または単一部分がそうではなくガンと
塗装される部分の間の距離に有意の効果を有する大きな凹状区域を含んで入る場
合には、この単一部分の塗装中においても絶えず繰り返される。
【００２７】 本発明による制御システムの上述の実施形態にはすべて共通の利点がある。制
御システムは自動帰還回路を提供し、この自動帰還回路によって使用者は、ガン
電極への供給電流を、ガンが移動して部分に近づくときに電極から部分への電流
の増加を抑えるようなレベルとしてガン電極への供給電流を自動的に維持するこ
とができる。ガン電流のこの制御は部分における逆イオン化の発達を遅らせ、ガ
ンが移動して部分に近づくときにガンと部分の間における電界強度の上昇を防止
する。電界強度の低下は、結果的に部分上の凹状区域への噴霧力の浸透を改善す
る。自動帰還回路は自動的に動作し、操作者はどの適用パラメータも調節する必
要はない。
御システムは自動帰還回路を提供し、この自動帰還回路によって使用者は、ガン
電極への供給電流を、ガンが移動して部分に近づくときに電極から部分への電流
の増加を抑えるようなレベルとしてガン電極への供給電流を自動的に維持するこ
とができる。ガン電流のこの制御は部分における逆イオン化の発達を遅らせ、ガ
ンが移動して部分に近づくときにガンと部分の間における電界強度の上昇を防止
する。電界強度の低下は、結果的に部分上の凹状区域への噴霧力の浸透を改善す
る。自動帰還回路は自動的に動作し、操作者はどの適用パラメータも調節する必
要はない。
【００２８】 ＡＢＩプローブの利点は、これによって使用者がガンと接地された部分の間の
電界強度を大きく低下させることができ、また実際に部分への自由イオン電流を
排除することである。したがって、逆イオン化の発達は大きく遅延し、ファラデ
ィ箱区域の透過は非常に容易になる。事実上、ＡＢＩプローブが正しく位置付け
られた場合には、ガン先端とＡＢＩプローブの間の距離は、ガンと部分の間の距
離のほぼ半分であり、摩擦塗工において達成される場合と同じ凹状区域の塗装の
容易さを、コロナガンによって観察することができる。
電界強度を大きく低下させることができ、また実際に部分への自由イオン電流を
排除することである。したがって、逆イオン化の発達は大きく遅延し、ファラデ
ィ箱区域の透過は非常に容易になる。事実上、ＡＢＩプローブが正しく位置付け
られた場合には、ガン先端とＡＢＩプローブの間の距離は、ガンと部分の間の距
離のほぼ半分であり、摩擦塗工において達成される場合と同じ凹状区域の塗装の
容易さを、コロナガンによって観察することができる。
【００２９】 ＡＢＩプローブの１つの欠点は、ガンと部分の間の距離が部分の外形および部
分の類別に基づいて変化することである。この距離が変化すると、ガン頂部の背
後におけるＡＢＩプローブの位置決めを、ＡＢＩプローブをイオン捕集器として
最大限に有効に使用するために手動で調節しなければならない。あいにく、ＡＢ
Ｉのこのような手動位置決めはむしろ厄介であり、結果的に生産塗工においては
ほとんど行われない傾向がある。
分の類別に基づいて変化することである。この距離が変化すると、ガン頂部の背
後におけるＡＢＩプローブの位置決めを、ＡＢＩプローブをイオン捕集器として
最大限に有効に使用するために手動で調節しなければならない。あいにく、ＡＢ
Ｉのこのような手動位置決めはむしろ厄介であり、結果的に生産塗工においては
ほとんど行われない傾向がある。
【００３０】 ガン先端とＡＢＩプローブの間の電界強度と電流を制御することによって使用
者がガンと部分の間の電流を制御することができるようにする技術はまた、ガン
と部分の間の距離が変化する状況においてＡＢＩプロ−ブの利益を最大にするた
めにＡＢＩプローブの位置決めを調節することを不必要にする。
者がガンと部分の間の電流を制御することができるようにする技術はまた、ガン
と部分の間の距離が変化する状況においてＡＢＩプロ−ブの利益を最大にするた
めにＡＢＩプローブの位置決めを調節することを不必要にする。
【００３１】 図２、３、および７に示す制御システムは、目標電流が供給電流と戻り電流の
測定値を使用して決定される本質的に閉ループのシステムであるが、本発明の原
理を開ループシステムにおいて使用することも可能であり、この場合、実験また
は経験によって近似の戻り電流を決定することができ、（プローブの実際の位置
または静止プローブに供給される電圧のいずれをも意味する）ＡＢＩプローブの
有効位置を、塗装される実際の部分によって変化することができる。このような
開ループシステムはここに述べた閉ループシステムのような満足すべき結果を出
さないが、既存の噴霧塗装システムにおいて実施することはもっと容易である。
測定値を使用して決定される本質的に閉ループのシステムであるが、本発明の原
理を開ループシステムにおいて使用することも可能であり、この場合、実験また
は経験によって近似の戻り電流を決定することができ、（プローブの実際の位置
または静止プローブに供給される電圧のいずれをも意味する）ＡＢＩプローブの
有効位置を、塗装される実際の部分によって変化することができる。このような
開ループシステムはここに述べた閉ループシステムのような満足すべき結果を出
さないが、既存の噴霧塗装システムにおいて実施することはもっと容易である。
【００３２】 ここに図示説明した特定の実施形態に他の変形および変更が可能であることは
、当業者には明白であろうし、これらはすべて本発明の目的とする意図と範囲の
中に含まれる。本発明を特定の実施形態に関して図示説明したが、これらは本発
明を限定するものではなく例示を目的としたものである。したがって本特許は、
範囲と効果においてここに図示説明した特定の実施形態にも、また本発明が推進
した技術進歩の範囲に合わない別の方法にも限定されないものとする。
、当業者には明白であろうし、これらはすべて本発明の目的とする意図と範囲の
中に含まれる。本発明を特定の実施形態に関して図示説明したが、これらは本発
明を限定するものではなく例示を目的としたものである。したがって本特許は、
範囲と効果においてここに図示説明した特定の実施形態にも、また本発明が推進
した技術進歩の範囲に合わない別の方法にも限定されないものとする。
【図１】 逆イオン化防止プローブが取り付けられているスプレーガンの側面図である。
【図２】 本発明による制御システムの一実施形態の概略図である。
【図３】 本発明による制御システムの別の実施形態の図２と同様な概略図である。
【図４】 図３の制御システムにおいて使用するための逆イオン化防止プローブの一変形
を示す概略図である。
を示す概略図である。
【図５】 ガン本体からのＡＢＩプローブの出口を示す、図４の１部分の詳細図である。
【図６】 ガン本体からのＡＢＩプローブの出口のための代替配置を示す、図６と同様な
詳細図である。
詳細図である。
【図７】 本は対明による制御システムさらに別の実施形態の図２、３と同様な概略図で
ある。
ある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ) ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ， ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，Ｄ Ｋ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＧＨ，ＨＵ，ＩＬ ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ， ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，Ｍ Ｋ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ， ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，Ｙ Ｕ，ＺＷ (72)発明者 グスコフ，セルゲイ，ヴィ． アメリカ合衆国 44116 オハイオ，ロッ キイ リヴァー，ヒリアード ロード 18963，アパートメント ３ Ｆターム(参考） 4F034 AA01 BA01 BB12 BB15 BB23 BB28
Claims (24)
- 【請求項１】 粉末噴霧塗装システムであって、 電源と、 部分上にある噴霧パターンで粉体を噴霧するための、電源に接続された電極を
含むスプレーガンであって、ガン電流が電源から電極に供給され、粉体がガンか
ら部分に向かって分配されると電極が粉体を帯電させるスプレーガンと、 電極によって生じた自由イオンを捕集するためにガンに取り付けられて、電極
から離隔して位置付けられた部分を有し、イオン捕集器から接地に向かって戻り
電流が流れるイオン捕集器と、 電極に対するイオン捕集器の有効位置を調整する調整組立品と、 調整組立品を操作するために調整組立品に接続された制御装置と を含む粉末噴霧塗装システム。 - 【請求項２】 制御装置が、ガン電流と戻り電流の間の差を表す所定の設定
値に従って調整組立品を操作する請求項１に記載の粉末噴霧塗装システム。 - 【請求項３】 イオン捕集器の有効位置がイオン捕集器の電位を変えること
によって調整される請求項１に記載の粉末噴霧塗装システム。 - 【請求項４】 調整組立品が、イオン捕集器に接続されてイオン捕集器を望
みの電位に維持する可変電圧源を含み、可変電圧源は制御装置に接続されて、ガ
ン電流と戻り電流の差を表す所定の設定値に従って捕集器の電圧レベルを調節す
る請求項３に記載の粉末噴霧塗装システム。 - 【請求項５】 調整組立品が、捕集器と接地の間に接続された可変抵抗装置
を含み、可変抵抗装置は制御装置に接続されて、ガン電流と戻り電流の差を表す
所定の設定値に従って抵抗を調節する請求項３に記載の粉末噴霧塗装システム。 - 【請求項６】 イオン捕集器の有効位置が、イオン捕集器の実際位置を変化
することによって調整される請求項１に記載の粉末噴霧塗装システム。 - 【請求項７】 調整組立品が、捕集器の少なくとも前記の部分の位置を電極
に対して移動させる駆動装置を含み、捕集器は接地され、駆動装置は制御装置に
接続されて、ガン電流と戻り電流の差を表す所定の設定値に従って捕集器の前記
部分の位置を調節する請求項６に記載の粉末噴霧塗装システム。 - 【請求項８】 電源から電極へのガン電流を測定する第１電流センサと、イ
オン捕集器からの戻り電流を測定する第２電流センサとをさらに含み、制御装置
は、実際の電流の読みと所定の設定値の間の差に従って調整組立品を変えるため
に第１および第２電流センサに接続されている請求項１に記載の粉末噴霧塗装シ
ステム。 - 【請求項９】 粉末噴霧塗装システムであって、 電源と、 部分上にある噴霧パターンで粉体を噴霧するための、電源に接続された電極を
含むスプレーガンであって、ガン電流が電源から電極に供給され、粉体がガンか
ら部分に向かって分配されると電極が粉体を帯電させるスプレーガンと、 電源から電極へのガン電流を測定する第１電流センサと、 電極によって生じた自由イオンを捕集するためにガンに取り付けられて、電極
から離隔して位置付けられた前方部分を有するイオン捕集器と、 イオン捕集器からの戻り電流を測定する第２電流センサと、 イオン捕集装置からの戻り電流を調整する調整組立品と、 調整組立品を操作するために、第１および第２電流センサと調整組立品とに接
続された制御装置と を含む粉末噴霧塗装システム。 - 【請求項１０】 制御装置が、所定の転送電流設定値およびガン電流と電流
センサからの戻り電流の読みとの実際の差の比較に従って、調整組立品を操作す
る請求項９に記載の粉末噴霧塗装システム。 - 【請求項１１】 調整組立品が、イオン捕集器を望みの電位に維持するため
にイオン捕集器に接続された可変電圧源を含み、可変電圧源は制御装置に接続さ
れて、所定の転送電流設定値およびガン電流と電流センサからの戻り電流の読み
との実際の差の比較に従って捕集器の電圧レベルを調節する請求項９に記載の粉
末噴霧塗装システム。 - 【請求項１２】 調節組立品が、電極に対する捕集器の少なくとも前方部分
の位置を移動させる駆動装置を含み、捕集器は接地され、駆動装置は制御装置に
接続されて、所定の転送電流設定値およびガン電流と電流センサからの戻り電流
の読みとの実際の差の比較に従って捕集器の前方部分の位置を調節する請求項６
に記載の粉末噴霧塗装システム。 - 【請求項１３】 調整組立品が、捕集器と接地の間に接続された可変抵抗装
置を含み、可変抵抗装置は制御装置に接続されて、所定の転送電流設定値および
ガン電流と電流センサからの戻り電流の読みとの実際の差の比較に従って抵抗を
調節する請求項９に記載の粉末噴霧塗装システム。 - 【請求項１４】 ガン電流と戻り電流の差は制御装置によって望みの転送電
流と比較され、この望みの転送電流に対応する設定値を入力するための入力装置
をさらに含む請求項９に記載の粉末噴霧塗装システム。 - 【請求項１５】 イオン捕集器が細長いロッドである請求項９に記載の静電
スプレーガン組立品。 - 【請求項１６】 ガンは縦軸を有する細長い本体を含み、捕集器は概してガ
ン本体の縦軸に平行に延びている請求項９に記載の静電スプレーガン組立品。 - 【請求項１７】 捕集器がガン本体から離隔している請求項９に記載の静電
スプレーガン組立品。 - 【請求項１８】 粉末噴霧塗装システムであって、 電源と、 部分上にある噴霧パターンで粉体を噴霧するための、電源に接続された電極を
含むスプレーガンであって、ガン電流が電源から電極に供給され、粉体がガンか
ら部分に向かって分配されると電極が粉体を帯電させるスプレーガンと、 電源から電極へのガン電流を測定する第１電流センサと、 電極によって生じた自由イオンを捕集するためにガンに固定式に取り付けられ
て、電極から離隔して位置付けられた前方部分を有するイオン捕集器と、 イオン捕集器からの戻り電流を測定する第２電流センサと、 イオン捕集器と接地の間に接続されて、イオン捕集装置から接地への戻り電流
を調整する調整組立品と、 調整組立品を操作するために、第１および第２電流センサと調整組立品に接続
された制御装置と を含む粉末噴霧塗装システム。 - 【請求項１９】 制御装置が、望みの転送電流を表す所定の転送電流設定値
および実測ガン電流と電流センサからの実測戻り電流との差の比較に従って、調
整組立品を操作する請求項９に記載の粉末噴霧塗装システム。 - 【請求項２０】 調整組立品が、イオン捕集器を望みの電位に維持するため
にイオン捕集器に接続された可変電圧源を含み、可変電圧源は制御装置に接続さ
れて、所定の設定値および実測ガン電流と実測戻り電流の差との比較に従って捕
集器の電圧レベルを調節する請求項１７に記載の粉末噴霧塗装システム。 - 【請求項２１】 調整組立品が、捕集器と接地の間に接続された可変抵抗装
置を含み、可変抵抗装置は制御装置に接続されて、所定の設定値および実測ガン
電流と実測戻り電流との差の比較に従って抵抗を調節する請求項１７に記載の粉
末噴霧塗装システム。 - 【請求項２２】 実測ガン電流と実測戻り電流の差は望みの転送電流と比較
され、この望みの転送電流に対応する設定値を入力するための入力装置をさらに
含む請求項１７に記載の粉末噴霧塗装システム。 - 【請求項２３】 粉末噴霧塗装システムであって、 電源と、 部分上にある噴霧パターンで粉体を噴霧するための、電源に接続された電極を
含むスプレーガンであって、ガン電流が電源から電極に供給され、粉体がガンか
ら部分に向かって分配されると電極が粉体を帯電させるスプレーガンと、 電源から電極へのガン電流を測定する第１電流センサと、 電極によって生じた自由イオンを捕集するためにガンに対して移動可能に取り
付けられ、接地され、電極から離隔して位置付けられた前方部分を有するイオン
捕集器と、 イオン捕集器からの戻り電流を測定する第２電流センサと、 イオン捕集器とから接地への戻り電流を調整するために、電極に対してイオン
捕集装置を移動させる調整組立品と、 望みの転送電流を表わす所定の設定値および実測ガン電流と電流センサからの
実測戻り電流の差との比較に従って調整組立品を操作するための、第１および第
２電流センサと調整組立品に接続された制御装置と を含む粉末噴霧塗装システム。 - 【請求項２４】 ガン電流と戻り電流の差は制御装置によって望みの転送電
流と比較され、この望みの転送電流に対応する設定値を入力するための入力装置
をさらに含む請求項２１に記載の粉末噴霧塗装システム。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/030,590 | 1998-02-25 | ||
| US09/030,590 US5908162A (en) | 1998-02-25 | 1998-02-25 | Spray gun having an anti-back-ionization probe with a control system therefor |
| PCT/US1999/002893 WO1999043440A1 (en) | 1998-02-25 | 1999-02-11 | Spray gun having an anti-back-ionization probe with a control system therefor |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002504430A true JP2002504430A (ja) | 2002-02-12 |
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ID=21854939
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000533228A Pending JP2002504430A (ja) | 1998-02-25 | 1999-02-11 | 逆イオン化防止プローブと制御装置とを有するスプレーガン |
Country Status (7)
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|---|---|
| US (1) | US5908162A (ja) |
| EP (1) | EP1056546B1 (ja) |
| JP (1) | JP2002504430A (ja) |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009531175A (ja) * | 2006-03-28 | 2009-09-03 | イリノイ トゥール ワークス インコーポレイティド | 静電支援型コーティングシステム用の直接及び間接合成型帯電システム |
| KR102053615B1 (ko) * | 2018-07-11 | 2019-12-09 | 안동대학교 산학협력단 | 전기발생 화장품의 전기발생 표시가 가능한 용기 및 모듈형 장치 |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003031075A1 (en) * | 1999-09-16 | 2003-04-17 | Nordson Corporation | Powder spray gun with inline angle spray nozzle |
| US6379465B1 (en) | 1999-09-17 | 2002-04-30 | Nordson Corporation | Coating system with centralized control panel and gun mapping |
| US6758423B1 (en) | 1999-09-17 | 2004-07-06 | Nordson Corporation | Spray gun with data device and method of control |
| US6977013B2 (en) | 1999-09-17 | 2005-12-20 | Nordson Corporation | Powder coating system central controller |
| US20020088397A1 (en) * | 2000-05-03 | 2002-07-11 | Perkins Jeffrey A. | Coating system with centralized control panel and gun mapping |
| DE10003295B4 (de) * | 2000-01-27 | 2006-05-04 | Eisenmann Maschinenbau Gmbh & Co. Kg | Verfahren zum elektrostatischen Beschichten eines Werkstücks sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
| DE10392290T5 (de) | 2002-02-12 | 2005-06-09 | Nordson Corporation, Westlake | Regeleinrichtung für ein internes Netzteil einer elektrostatischen Spritzpistole |
| WO2005009621A1 (ja) * | 2003-07-24 | 2005-02-03 | Ransburg Industrial Finishing K.K. | 静電塗装装置 |
| US7793869B2 (en) * | 2003-08-18 | 2010-09-14 | Nordson Corporation | Particulate material applicator and pump |
| JP4785744B2 (ja) † | 2003-08-18 | 2011-10-05 | ノードソン コーポレーション | 自動粉体コーティングスプレーアプリケーター |
| GB2442210B (en) * | 2006-09-27 | 2011-12-07 | Yu Tung Invest Holdings Ltd | Powder spray coating discharge assembly |
| DE102007060211B4 (de) * | 2007-12-14 | 2022-04-28 | Gema Switzerland Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum elektrostatischen Sprühbeschichten von Objekten |
| US20090179081A1 (en) * | 2008-01-15 | 2009-07-16 | Illinois Tool Works Inc. | Spray Gun with Low Emissions Technology |
| CN102179326B (zh) * | 2011-04-29 | 2012-08-22 | 厦门大学 | 连续工作可控静电喷射装置 |
| JP5854322B2 (ja) * | 2011-11-30 | 2016-02-09 | いすゞ自動車株式会社 | 静電塗装方法 |
| BR112015006286B1 (pt) * | 2012-10-17 | 2020-12-15 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Aparelho de revestimento eletrostático e método de verificação de estado de ligação à terra |
| DE102013205362A1 (de) * | 2013-03-26 | 2014-10-02 | Gema Switzerland Gmbh | Sprühbeschichtungspistole zur Sprühbeschichtung von Gegenständen mit Beschichtungspulver |
| DE102013022282B3 (de) * | 2013-12-03 | 2015-03-05 | Eisenmann Ag | Mit Innenaufladung arbeitender Hochrotationszerstäuber |
| CN107442313B (zh) * | 2017-09-19 | 2019-08-02 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种喷涂装置、喷涂系统以及喷涂方法 |
| US20220193703A1 (en) * | 2019-04-05 | 2022-06-23 | Graco Minnesota Inc. | Mounting of external charging probe on electrostatic spray gun |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2433594A (en) * | 1946-08-22 | 1947-12-30 | Calo Carlo | Drum stand |
| DE856361C (de) * | 1951-07-13 | 1952-11-20 | Willy Hartmann | Tischstativ |
| FR1330178A (fr) * | 1962-04-25 | 1963-06-21 | Sames Mach Electrostat | Perfectionnements aux têtes de pulvérisation électrostatique |
| US3558052A (en) * | 1968-10-31 | 1971-01-26 | F I N D Inc | Method and apparatus for spraying electrostatic dry powder |
| DE7401584U (de) * | 1973-04-06 | 1974-08-22 | Mueller E Kg | Vorrichtung zum elektrostatischen Überziehen von Gegenständen mit flüssigem oder pulverförmigem Material |
| JPS5117235A (en) * | 1974-08-04 | 1976-02-12 | Senichi Masuda | Seidenfuntaitochakusochi |
| US4568027A (en) * | 1983-05-13 | 1986-02-04 | Hydralast Products, Inc. | Fluid spray-forming device |
| DE3505618A1 (de) * | 1985-02-19 | 1986-08-21 | Kopperschmidt-Mueller Gmbh & Co Kg, 4800 Bielefeld | Verfahren zum beschichten von gegenstaenden mit hilfe eines spruehstrahls und vorrichtung zur durchfuehrung dieses verfahrens |
| DE3510199A1 (de) * | 1985-03-21 | 1986-10-02 | Ransburg-Gema AG, St. Gallen | Beschichtungseinrichtung zum automatischen spruehbeschichten von gegenstaenden |
| US4779564A (en) * | 1986-06-09 | 1988-10-25 | Morton Thiokol, Inc. | Apparatus for electrostatic powder spray coating and resulting coated product |
| FR2620354B2 (fr) * | 1987-02-12 | 1990-01-05 | Sames Sa | Dispositif de projection electrostatique de produit en poudre |
| US5063350A (en) * | 1990-02-09 | 1991-11-05 | Graco Inc. | Electrostatic spray gun voltage and current monitor |
| FR2692173B1 (fr) * | 1992-06-10 | 1994-09-02 | Sames Sa | Dispositif de projection électrostatique d'un produit de revêtement en poudre à tête d'ionisation tournante. |
| FR2693923A1 (fr) * | 1992-07-24 | 1994-01-28 | Sames Sa | Dispositif de projection électrostatique de produit pulvérulent. |
| US5351903A (en) * | 1993-04-06 | 1994-10-04 | Russell Mazakas | Electrostatic powder paint gun with trigger control variable voltage |
| DE4312262A1 (de) * | 1993-04-15 | 1994-10-20 | Gema Volstatic Ag | Elektrostatische Sprühvorrichtung |
| KR960007018A (ko) * | 1994-08-17 | 1996-03-22 | 이마무라 가즈스께 | 정전 파우더 도장 방법과 장치 |
| US5598099A (en) * | 1995-06-22 | 1997-01-28 | Fire Sentry Systems, Inc. | System and method for coincidence detection of ungrounded parts with detectors located within and outside a production coating area |
-
1998
- 1998-02-25 US US09/030,590 patent/US5908162A/en not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-02-11 CN CN99803286.7A patent/CN1105603C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1999-02-11 DE DE69922171T patent/DE69922171T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1999-02-11 AU AU27625/99A patent/AU2762599A/en not_active Abandoned
- 1999-02-11 WO PCT/US1999/002893 patent/WO1999043440A1/en active IP Right Grant
- 1999-02-11 EP EP99908117A patent/EP1056546B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-02-11 JP JP2000533228A patent/JP2002504430A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009531175A (ja) * | 2006-03-28 | 2009-09-03 | イリノイ トゥール ワークス インコーポレイティド | 静電支援型コーティングシステム用の直接及び間接合成型帯電システム |
| KR102053615B1 (ko) * | 2018-07-11 | 2019-12-09 | 안동대학교 산학협력단 | 전기발생 화장품의 전기발생 표시가 가능한 용기 및 모듈형 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1105603C (zh) | 2003-04-16 |
| EP1056546B1 (en) | 2004-11-24 |
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| DE69922171T2 (de) | 2005-11-24 |
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