JP2002500213A

JP2002500213A - Ｎ−（３−アミノ−４−フルオロフェニル）−スルホンアミド、ｎ−（３−アミノ−４−フルオロフェニル）カルボン酸アミド及びｎ−（３−アミノ−４−フルオロフェニル）カルバメートの製造法

Info

Publication number: JP2002500213A
Application number: JP2000527524A
Authority: JP
Inventors: フツペルツ，アヒム; ランチユ，ラインハルト
Original assignee: バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト
Priority date: 1998-01-09
Filing date: 1998-12-24
Publication date: 2002-01-08
Also published as: IL136658A0; CN1178898C; EP1045829B1; AU2416799A; CN1285816A; DE59808656D1; IL136658A; WO1999035122A1; KR20010024785A; DE19800531A1; BR9813718A; US6218565B1; ES2195450T3; HUP0100643A2; HUP0100643A3; ATE242199T1; DK1045829T3; KR100524096B1; EP1045829A1

Abstract

(57)【要約】本発明は、ＡがＳＯ₂、ＣＯ又はＣＯ₂を示し、Ｒが場合により置換されていることができるアルキル又はアリールを示す一般式（Ｉ）のＮ−（３−アミノ−４−フルオロフェニル）−スルホンアミド、Ｎ−（３−アミノ−４−フルオロフェニル）カルボン酸アミド及びＮ−（３−アミノ−４−フルオロフェニル）カルバメートの製造法に関し、その方法によれば、式（ＩＩ）の１−フルオロ−２，４−ジアミノ−ベンゾールがＡ及びＲが上記の意味を有する式（ＩＩＩ）の塩化スルホニル、カルボン酸クロリド又はクロロギ酸エステルと、酸受容体を用いて、希釈剤の存在下に、−２０℃〜＋１００℃の範囲の温度において反応させられる。【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】本発明は、除草的に活性な化合物の製造のための中間体として用いることがで
きるＮ−（３−アミノ−４−フルオロ−フェニル）−スルホンアミド、Ｎ−（３
−アミノ−４−フルオロ−フェニル）−カルボキシアミド及びＮ−（３−アミノ
−４−フルオロ−フェニル）−カルバメートの製造のための新規な方法に関する
。

【０００２】対応するＮ−（３−ニトロ−４−フルオロ−フェニル）−スルホンアミドを、
還元剤又は水素化剤、例えば酢酸のような酸の存在下における鉄又は例えば酸化
白金のような触媒の存在下における水素と反応させると、Ｎ−（３−アミノ−４
−フルオロ−フェニル）−スルホンアミドが得られることは知られている（ＥＰ
−Ａ−４９６５９５を参照されたい）。しかしながら、１−フルオロ−２，４−
ジニトロ−ベンゼンの選択的還元及び続く塩化スルホニルとの反応による必要な
出発材料の製造は技術的問題を含んでいる。特に、１−フルオロ−２，４−ジニ
トロ−ベンゼンを選択的に１−フルオロ−４−アミノ−２−ニトロ−ベンゼンに
水素化する試みは、常に、可能な一水素化生成物及び二水素化生成物の混合物を
与える。この理由のため、１−フルオロ−４−アミノ−２−ニトロ−ベンゼン（
ＥＰ−Ａ−１２７０７９；ＲｅｃｕｅｉｌＴｒａｖ．Ｃｈｉｍ．Ｐａｙｓ−Ｂ
ａｓ６５（１９４６），３２９を参照されたい）（及びまた１−フルオロ−２
，４−ジアミノ−ベンゼンも（Ｂｕｌｌ．Ｓｏｃ．Ｃｈｉｍ．Ｆｒ．１３２（１
９９５），３０６−３１３を参照されたい））は、一般に、金属もしくは金属化
合物、例えば硫酸鉄（ＩＩ）の存在下もしくは酢酸の存在下における鉄又は塩酸
の存在下における塩化錫（ＩＩ）を用いる還元により製造される。しかしながら
、工業におけるそのような還元剤の使用は、それに伴う廃棄の問題の故に、可能
なら避けるべきである。

【０００３】さらに、１−クロロ−２，４−ジアミノ−ベンゼンを塩化スルホニル及び塩化
カルボニルと反応させると、それぞれＮ−（３−アミノ−４−クロロ−フェニル
）−スルホンアミド及びＮ−（３−アミノ−４−クロロ−フェニル）−カルボキ
シアミドが得られることは既知である（ＷＯ−Ａ−９７２７１７１を参照された
い）。しかしながら、これらの反応における収率及び生成物の質は常に完全に満
足できるというわけではない。アレン上の置換基としての塩素及びフッ素はさら
なる反応に関して非常に異なる配向効果（ｄｉｒｅｃｔｉｎｇｅｆｆｅｃｔ）
を有することが多いので、１−フルオロ−２，４−ジアミノ−ベンゼンと塩化ス
ルホニル又は塩化カルボニルとの類似の反応をさらに当然のことであると予想す
ることはできなかった。

【０００４】今回、式（ＩＩ）

【０００５】

【化４】

【０００６】の１−フルオロ−２，４−ジアミノ−ベンゼン −もしくはその酸付加物− を一般式（ＩＩＩ）

【０００７】

【化５】

【０００８】［式中、ＡはＳＯ₂、ＣＯ又はＣＯ₂を示し、Ｒはそれぞれ場合により置換されていることができるアルキル又はアリールを示
す］の塩化スルホニル、塩化カルボニル又はクロロギ酸エステルと、酸受容体の存在
下及び希釈剤の存在下に、−２０℃〜＋１００℃の温度で反応させると一般式（
Ｉ）

【０００９】

【化６】

【００１０】［式中、Ａ及びＲは上記で定義した通りである］のＮ−（３−アミノ−４−フルオロ−フェニル）−スルホンアミド、Ｎ−（３−
アミノ−４−フルオロ−フェニル）−カルボキシアミド及びＮ−（３−アミノ−
４−フルオロ−フェニル）カルバメートが非常に高収率及び高純度で得られるこ
とが見いだされた。

【００１１】おそらく多重スルホニル化又はアシル化の生成物により比較的大きな程度まで
汚染されてもいる−可能な「単純な」スルホニル化生成物又はアシル化生成物の
大体等モルの混合物の生成が予想されて然るべきであったが、驚くべきことに、
本発明に従う方法により、一般式（Ｉ）のＮ−（３−アミノ−４−フルオロ−フ
ェニル）−スルホンアミド、Ｎ−（３−アミノ−４−フルオロ−フェニル）−カ
ルボキシアミド及びＮ−（３−アミノ−４−フルオロ−フェニル）カルバメート
を非常に高収率及び高純度で得ることが可能である。

【００１２】出発材料−１−フルオロ−２，４−ジアミノ−ベンゼン−を１−フルオロ−２
，４−ジニトロ−ベンゼンから接触水素化により１段階で非常に容易に得ること
ができ、先行技術と対照的に（ＥＰ−Ａ−４９６５９５を参照されたい）、さら
なる還元段階がもはや必要でないことは、本発明に従う方法の利点である。

【００１３】本発明に従う方法のさらなる利点は、反応を種々の溶媒の混合物中で行う必要
がなく（ＷＯ−Ａ−９７２７１７１を参照されたい）、１種の溶媒で十分である
ことである。

【００１４】さらに、一般式（Ｉ）の反応生成物を多くの場合に単離することなく、すなわ
ち本発明に従う反応の反応混合物中で、さらなる転換、例えばアシル化又はスル
ホニル化（塩化カルボニル、クロロギ酸エステル、塩化スルホニルなどを用いる
）に直接用いることができ、それが純粋な生成物を高収率で与えるということは
特に有利である。

【００１５】従って本発明に従う方法は、先行技術に対する有用な進歩である。

【００１６】出発材料として例えば１−フルオロ−２，４−ジアミノ−ベンゼン及びメタン
スルホニルクロリドを用いると、本発明に従う方法における反応の経路は以下の
反応式により示すことができる：

【００１７】

【化７】

【００１８】本発明に従う方法において出発材料として用いられるべき式（ＩＩ）の化合物
１−フルオロ−２，４−ジアミノ−ベンゼンは既知である（Ｂｕｌｌ．Ｓｏｃ．
Ｃｈｉｍ．Ｆｒ．１３２（１９９５），３０６−３１３を参照されたい）。

【００１９】式（ＩＩ）の化合物は有利には１−フルオロ−２，４−ジニトロ−ベンゼンの
接触水素化により製造することができる。

【００２０】式（ＩＩ）の化合物の酸付加物として用いるのに適しているのは、特に強酸、
例えば塩酸又は硫酸との塩である。一−及び二−塩酸塩を好ましいとして挙げる
ことができる。

【００２１】式（ＩＩＩ）は本発明に従い出発材料としてさらに用いられるべき塩化スルホ
ニル、塩化カルボニル及びクロロギ酸エステルの一般的定義を与えている。式（
ＩＩＩ）において、Ａは好ましくはＳＯ₂、ＣＯ又はＣＯ₂を示し、Ｒは好ましくは場合によりシアノ−、ハロゲン−又はＣ₁−Ｃ₄−アルコキシ−置
換されていることができる炭素数が１〜６のアルキルを示すか、あるいは好まし
くは場合によりシアノ−、ニトロ−、ハロゲン−、Ｃ₁−Ｃ₄−アルキル−、Ｃ₁ −Ｃ₄−ハロゲノアルキル−、Ｃ₁−Ｃ₄−アルコキシ−、Ｃ₁−Ｃ₄−ハロゲノアルコキシ−、Ｃ₁−Ｃ₄−アルキルチオ−、Ｃ₁−Ｃ₄−ハロゲノアルキルチオ−、
Ｃ₁−Ｃ₄−アルキルスルフィニル−、Ｃ₁−Ｃ₄−ハロゲノアルキルスルフィニル
−、Ｃ₁−Ｃ₄−アルキルスルホニル−、Ｃ₁−Ｃ₄−ハロゲノアルキルスルホニル
−、Ｃ₁−Ｃ₄−アルコキシ−カルボニル−又はジ−（Ｃ₁−Ｃ₄−アルキル）−ア
ミノ−置換されていることができる炭素数が６〜１０のアリールを示す。

【００２２】式（ＩＩＩ）において、Ａは特にＳＯ₂又はＣＯを示し、Ｒは特にそれぞれ場合によりシアノ−、フッ素−、塩素−、メトキシ−又はエト
キシ−置換されていることができるメチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル
、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブチルを示すか、あるいは特に場合によりシア
ノ−、ニトロ−、フッ素−、塩素−、臭素−、メチル−、エチル−、ｎ−もしく
はｉ−プロピル−、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブチル−、トリフルオロメチ
ル−、メトキシ−、エトキシ−、ｎ−もしくはｉ−プロポキシ−、ジフルオロメ
トキシ−、トリフルオロメトキシ−、メチルチオ−、エチルチオ−、ｎ−もしく
はｉ−プロピルチオ−、トリフルオロメチルチオ−、メチルスルフィニル−、エ
チルスルフィニル−、ｎ−もしくはｉ−プロピルスルフィニル−、トリフルオロ
メチルスルフィニル−、メチルスルホニル−、エチルスルホニル−、ｎ−もしく
はｉ−プロピルスルホニル−、トリフルオロメチルスルホニル−、メトキシカル
ボニル−、エトキシカルボニル−、ｎ−もしくはｉ−プロポキシ−カルボニル−
、ジメチルアミノ−又はジエチルアミノ−置換されていることができるフェニル
を示す。

【００２３】一般式（ＩＩＩ）の出発材料は合成のための既知の有機化学品である。

【００２４】本発明に従う方法は酸受容体を用いて行われる。適した酸受容体は一般に通常
の無機もしくは有機塩基又は酸受容体である。これらには好ましくはアルカリ金
属もしくはアルカリ土類金属酢酸塩、アミド、炭酸塩、重炭酸塩、水素化物、水
酸化物又はアルコキシド、例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウム又は酢酸カルシ
ウム、リチウムアミド、ナトリウムアミド、カリウムアミド又はカルシウムアミ
ド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム又は炭酸カルシウム、重炭酸ナトリウム、重
炭酸カリウム又は重炭酸カルシウム、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素
化カリウム又は水素化カルシウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム又は水酸化カルシウム、ナトリウムメトキシド、エトキシド、ｎ−もし
くはｉ−プロポキシド、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブトキシド又はカリウム
メトキシド、エトキシド、ｎ−もしくはｉ−プロポキシド、ｎ−、ｉ−、ｓ−も
しくはｔ−ブトキシド；さらに又、塩基性有機窒素化合物、例えばトリメチルア
ミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、エチル−ジ
イソプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−シクロヘキシルアミン、ジシクロヘキ
シルアミン、エチル−ジシクロヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ
，Ｎ−ジメチル−ベンジルアミン、ピリジン、２−メチル−、３−メチル−、４
−メチル−、２，４−ジメチル−、２，６−ジメチル−、３，４−ジメチル−及
び３，５−ジメチル−ピリジン、５−エチル−２−メチル−ピリジン、４−ジメ
チルアミノ−ピリジン、Ｎ−メチル−ピペリジン、１，４−ジアザビシクロ［２
，２，２］−オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，５−ジアザビシクロ［４，３，０］
−ノネ−５−エン（ＤＢＮ）又は１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−ウン
デセ−７−エン（ＤＢＵ）が含まれる。

【００２５】本発明に従う方法において、特別に好ましい酸受容体は塩基性有機窒素化合物
、特にピリジンである。

【００２６】本発明に従う方法は希釈剤を用いて行われる。本発明に従う方法を行うために
適した希釈剤は−適宜、水に加えて−特に不活性有機溶媒である。これらには特
に脂肪族、脂環式又は芳香族の場合によりハロゲン化されていることができる炭
化水素、例えばベンジン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジ
クロロベンゼン、石油エーテル、ヘキサン、シクロヘキサン、ジクロロメタン、
クロロホルム、四塩化炭素；エーテル、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン又はエチレングリコールジメチル
エーテルもしくはエチレングリコールジエチルエーテル；ケトン、例えばアセト
ン、ブタノン又はメチルイソブチルケトン；ニトリル、例えばアセトニトリル、
プロピオニトリル又はブチロニトリル；アミド、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−ホルムアニリド、Ｎ−メ
チル−ピロリドン又はヘキサメチルリン酸トリアミド；エステル、例えば酢酸メ
チル又は酢酸エチル；スルホキシド、例えばジメチルスルホキシド、アルコール
、例えばメタノール、エタノール、ｎ−もしくはｉ−プロパノール、エチレング
リコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル
、適宜又、上記の溶媒と水の（単−もしくは多相）混合物が含まれる。

【００２７】本発明に従う方法において、特別に好ましい希釈剤は非プロトン性極性有機溶
媒、例えば特にアセトン、ブタノン又はメチルイソブチルケトン；アセトニトリ
ル、プロピオニトリル又はブチロニトリルである。

【００２８】本発明に従う方法を行う場合、反応温度は比較的広い範囲内で変えることがで
きる。一般に該方法は−２０℃〜＋１００℃、好ましくは−５℃〜＋６０℃、特
に＋１０℃〜＋３０℃の温度で行われる。

【００２９】本発明に従う方法は一般に大気圧下で行われる。しかしながら、本発明に従う
方法を加圧もしくは減圧下において行うこともできる−一般に０．１バール〜１
００バール。

【００３０】本発明に従う方法を行うために、一般に式（ＩＩ）の１−フルオロ−２，４−
ジアミノ−ベンゼンのモル当たりに０．９〜１．５モル、好ましくは１．０〜１
．１モルの式（ＩＩＩ）の塩化スルホニル又は塩化カルボニル及び適宜１．０〜
２．０モル当量、好ましくは１．１〜１．５モル当量の酸受容体が用いられる。

【００３１】本発明に従う方法の好ましい実施態様の場合、式（ＩＩ）の１−フルオロ−２
，４−ジアミノ−ベンゼンを室温（約２０℃）において希釈剤及び酸受容体と混
合し、次いで塩化スルホニル、塩化カルボニルもしくはクロロギ酸エステルを撹
拌しながら計量添加する（ｍｅｔｅｒ）。別の場合、酸受容体及び塩化スルホニ
ル、カルボン酸クロリドもしくはクロロギ酸エステルを同時に（「同期的に」、
「平行して」）計量添加することもできる。次いで示した温度範囲内で反応が終
了するまで反応混合物を撹拌し、次いで通常の方法により処理することができる
（製造実施例を参照されたい）。

【００３２】しかしながら、反応混合物中に存在する一般式（Ｉ）の生成物を中間の単離な
しでさらに塩化スルホニル、塩化カルボニル又はクロロギ酸エステルと反応させ
、一般式（ＩＶ）

【００３３】

【化８】

【００３４】［式中、Ａ及びＲは上記で定義した通りであり、Ａ’及びＲ’はそれぞれＡ及びＲに関して上記で示した意味を有するが、ＡとＡ
’及びＲとＲ’の意味はそれぞれの個々の場合に同一である必要はない］の化合物を得ることもできる（製造実施例を参照されたい）。

【００３５】本発明に従う方法により製造され得る一般式（Ｉ）の化合物は、除草的に活性
な化合物の製造のための中間体として用いることができる（ＥＰ−Ａ−４９６５
９５を参照されたい）。

【００３６】

【実施例】製造実施例：実施例１

【００３７】

【化９】

【００３８】内部温度計、滴下ロート及び磁気撹拌機が取り付けられた２５０ｍｌの二口フ
ラスコ中で最初に６．３０ｇ（０．０５モル）の１−フルオロ−２，４−ジアミ
ノ−ベンゼンを８０ｍｌのアセトニトリル及び４．８ｇ（０．０６モル）のピリ
ジン中に入れ、１０℃〜１５℃において６．４３ｇ（０．０５モル）のエタンス
ルホニルクロリドと混合する。反応混合物を室温（約２０℃）において１時間撹
拌し、１００ｍｌの酢酸エチル及び５０ｍｌの水と混合する。有機相を分離し、
水溶液を各回５０ｍｌの酢酸エチルを用いて３回抽出し、有機相を合わせ、１０
０ｍｌの水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過する。水流ポンプ真空下
において濾液から溶媒を注意深く蒸留する。

【００３９】これは１０．７ｇの粗生成物を与え、それはＧＣ／ＭＳに従うと９２．８％の
Ｎ−（３−アミノ−４−フルオロ−フェニル）−エタンスルホンアミドを含有す
る（すなわち理論値の９１％）。実施例２

【００４０】

【化１０】

【００４１】内部温度計、滴下ロート及び磁気撹拌機が取り付けられた１００ｍｌの二口フ
ラスコ中で最初に３．１５ｇ（２５ミリモル）の１−フルオロ−２，４−ジアミ
ノ−ベンゼンを５０ｍｌのアセトニトリル及び２．４ｇ（３０ミリモル）のピリ
ジン中に入れ、１０℃〜１５℃において２．７ｇ（２５ミリモル）のクロロギ酸
エチルと混合する。反応混合物を室温（約２０℃）において１時間撹拌し、次い
で５０ｍｌのメチレンクロリド、５０ｍｌの水及び１０ｍｌの２Ｎ塩酸と混合す
る。有機相を分離し、水溶液を中和し、各回２０ｍｌのメチレンクロリドを用い
て３回抽出する。合わせた有機相を１００ｍｌの水で洗浄し、硫酸ナトリウム上
で乾燥し、濾過する。水流ポンプ真空下において濾液から溶媒を注意深く蒸留す
る。

【００４２】これは５．４ｇの粗生成物を与え、それはＨＰＬＣに従うと９１．８％のＯ−
エチルＮ−（３−アミノ−４−フルオロ−フェニル）−カルバメートを含有す
る（理論値の１００％）。実施例３

【００４３】

【化１１】

【００４４】内部温度計、滴下ロート及び磁気撹拌機が取り付けられた１００ｍｌの二口フ
ラスコ中で最初に３．１５ｇ（２５ミリモル）の１−フルオロ−２，４−ジアミ
ノ−ベンゼンを５０ｍｌのアセトニトリル及び２．４ｇ（３０ミリモル）のピリ
ジン中に入れ、１０℃〜１５℃において４．２６ｇ（２５ミリモル）の４−メト
キシ−ベンゾイルクロリドと混合する。反応混合物を室温（約２０℃）において
１時間撹拌し、次いで５０ｍｌの酢酸エチル及び５０ｍｌの水と混合する。有機
相を分離し、水相を各回２０ｍｌの酢酸エチルを用いて３回再抽出し、合わせた
有機相を１００ｍｌの水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過する。水流
ポンプ真空下において濾液から溶媒を注意深く蒸留する。

【００４５】これは６．１ｇの灰色の結晶性の粗生成物を与え、それはＨＰＬＣに従うと８
９．２％のＮ−（３−アミノ−４−フルオロ−フェニル）−４−メトキシ−ベン
ズアミドを含有する（理論値の８４％）。実施例４

【００４６】

【化１２】

【００４７】内部温度計、滴下ロート及び磁気撹拌機が取り付けられた１００ｍｌの二口フ
ラスコ中で最初に３．１５ｇ（２５ミリモル）の１−フルオロ−２，４−ジアミ
ノ−ベンゼンを８０ｍｌのアセトニトリル及び２．４ｇ（３０ミリモル）のピリ
ジン中に入れ、５℃において３．０１ｇ（２５ミリモル）の塩化ピバロイルと混
合する。反応混合物を室温（約２０℃）において１時間撹拌し、５０ｍｌの酢酸
エチル及び５０ｍｌの水と混合する。有機相を分離し、水相を各回２０ｍｌの酢
酸エチルを用いて３回再抽出し、合わせた有機相を１００ｍｌの水で洗浄し、硫
酸ナトリウム上で乾燥し、濾過する。水流ポンプ真空下において濾液から溶媒を
注意深く蒸留する。

【００４８】これは５．２ｇの褐色の固体を与え、それはＨＰＬＣに従うと８２．７％のＮ
−（３−アミノ−４−フルオロ−フェニル）−ピバルアミドを含有する（理論値
の８２％）。実施例５

【００４９】

【化１３】

【００５０】内部温度計、滴下ロート及び磁気撹拌機が取り付けられた２５０ｍｌの二口フ
ラスコ中で最初に６．３０ｇ（５０ミリモル）の１−フルオロ−２，４−ジアミ
ノ−ベンゼンを８０ｍｌのアセトニトリル及び１１．８ｇ（１５０ミリモル）の
ピリジン中に入れ、１０℃〜１５℃において６．４３ｇ（５０ミリモル）のエタ
ンスルホニルクロリドと混合する。反応混合物を室温（約２０℃）において１時
間撹拌し、次いで５．９７ｇ（５５ミリモル）のクロロギ酸エチルと混合する。
室温で１時間撹拌を続け、反応混合物を１００ｍｌの酢酸エチル及び５０ｍｌの
水と混合し、相を分離する。水相を各回５０ｍｌの酢酸エチルを用いて３回抽出
し、合わせた有機相を１００ｍｌの水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾
過する。水流ポンプ真空下で濾液から溶媒を注意深く蒸留する。

【００５１】これは１５．６ｇの結晶性の粗生成物を与え、それはＨＰＬＣに従うと８９．
１％のＮ−（３−エトキシカルボニルアミノ−４−フルオロ−フェニル）−エタ
ンスルホンアミドを含有する（理論値の９６％）。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ０７Ｃ 303/38 Ｃ０７Ｃ 303/38 311/08 311/08 (81)指定国ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ) ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＷＦターム(参考） 4H006 AA02 AC53 AC56 AC61 BA92 BC10 BC31 BD60 BJ50 BM30 BM71 BP30 BU46 BV72 BV74 RA36 RB04 (54)【発明の名称】Ｎ−（３−アミノ−４−フルオロフェニル）−スルホンアミド、Ｎ−（３−アミノ−４−フルオロフェニル）カルボン酸アミド及びＮ−（３−アミノ−４−フルオロフェニル）カルバメートの製造法

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】式（ＩＩ）【化１】の１−フルオロ−２，４−ジアミノ−ベンゼン −もしくはその酸付加物− を一般式（ＩＩＩ）【化２】［式中、ＡはＳＯ₂、ＣＯ又はＣＯ₂を示し、Ｒはそれぞれ場合により置換されていることができるアルキル又はアリールを示
す］の塩化スルホニル、塩化カルボニル又はクロロギ酸エステルと、酸受容体の存在
下及び希釈剤の存在下に、−２０℃〜＋１００℃の温度で反応させることを特徴
とする一般式（Ｉ）【化３】［式中、Ａ及びＲは上記で定義した通りである］のＮ−（３−アミノ−４−フルオロ−フェニル）−スルホンアミド、Ｎ−（３−
アミノ−４−フルオロ−フェニル）−カルボキシアミド又はＮ−（３−アミノ−
４−フルオロ−フェニル）カルバメートの製造法。
【請求項２】ＡがＳＯ₂、ＣＯ又はＣＯ₂を示し、Ｒが場合によりシアノ−、ハロゲン−又はＣ₁−Ｃ₄−アルコキシ−置換されてい
ることができる炭素数が１〜６のアルキルを示すか、あるいは場合によりシアノ
−、ニトロ−、ハロゲン−、Ｃ₁−Ｃ₄−アルキル−、Ｃ₁−Ｃ₄−ハロゲノアルキ
ル−、Ｃ₁−Ｃ₄−アルコキシ−、Ｃ₁−Ｃ₄−ハロゲノアルコキシ−、Ｃ₁−Ｃ₄−
アルキルチオ−、Ｃ₁−Ｃ₄−ハロゲノアルキルチオ−、Ｃ₁−Ｃ₄−アルキルスル
フィニル−、Ｃ₁−Ｃ₄−ハロゲノアルキルスルフィニル−、Ｃ₁−Ｃ₄−アルキル
スルホニル−、Ｃ₁−Ｃ₄−ハロゲノアルキルスルホニル−、Ｃ₁−Ｃ₄−アルコキ
シ−カルボニル−又はジ−（Ｃ₁−Ｃ₄−アルキル）−アミノ−置換されているこ
とができる炭素数が６〜１０のアリールを示すことを特徴とする請求項１に従う方法。
【請求項３】ＡがＳＯ₂又はＣＯを示し、Ｒがそれぞれ場合によりシアノ−、フッ素−、塩素−、メトキシ−又はエトキシ
−置換されていることができるメチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、ｎ
−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブチルを示すか、あるいは場合によりシアノ−、ニ
トロ−、フッ素−、塩素−、臭素−、メチル−、エチル−、ｎ−もしくはｉ−プ
ロピル−、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブチル−、トリフルオロメチル−、メ
トキシ−、エトキシ−、ｎ−もしくはｉ−プロポキシ−、ジフルオロメトキシ−
、トリフルオロメトキシ−、メチルチオ−、エチルチオ−、ｎ−もしくはｉ−プ
ロピルチオ−、トリフルオロメチルチオ−、メチルスルフィニル−、エチルスル
フィニル−、ｎ−もしくはｉ−プロピルスルフィニル−、トリフルオロメチルス
ルフィニル−、メチルスルホニル−、エチルスルホニル−、ｎ−もしくはｉ−プ
ロピルスルホニル−、トリフルオロメチルスルホニル−、メトキシカルボニル−
、エトキシカルボニル−、ｎ−もしくはｉ−プロポキシ−カルボニル−、ジメチ
ルアミノ−又はジエチルアミノ−置換されていることができるフェニルを示すことを特徴とする請求項１に従う方法。
【請求項４】１種のみの希釈剤を用いることを特徴とする請求項１〜３の
いずれかに従う方法。
【請求項５】用いられる酸受容体がピリジンであることを特徴とする請求
項１〜４のいずれかに従う方法。
【請求項６】式（ＩＩ）の１−フルオロ−２，４−ジアミノ−ベンゼンの
モル当たりに０．９〜１．５モルの式（ＩＩＩ）の塩化スルホニル又はカルボキ
シアミド及び及び１．０〜２．０モル当量の酸受容体を用いることを特徴とする
請求項１〜５のいずれかに従う方法。
【請求項７】式（ＩＩ）の１−フルオロ−２，４−ジアミノ−ベンゼンを
室温で希釈剤及び酸受容体と混合し、次いで塩化スルホニル、塩化カルボニル又
はクロロギ酸エステルを撹拌しながら計量添加することを特徴とする請求項１〜
６のいずれかに従う方法。