JP2002371095A - ヌクレオシドホスホロアミダイト化合物 - Google Patents
ヌクレオシドホスホロアミダイト化合物Info
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 効率的な核酸合成を可能にする核酸合成試薬
を提供する。 【解決手段】 下記の一般式（I）： 【化１】 （式中、Ｒ１はリン酸保護基を表し、Ｒ２は窒素原子上
に炭素数1から5の同一若しくは異なるアルキル基がふた
つ結合したジアルキルアミノ基〔ふたつのアルキル基が
互いに結合して環を形成してもよい〕、又はモルホリン
−１−イル基を表し、Ｒ３はアルコキシ基を有していて
もよいトリチル基を表し、Ｒ４は水素又はＯ−Ｒ５〔但
し、Ｒ５はtert-ブチリルジメチルシリル基、テトラヒ
ドロピラン−２−イル基、４−メトキシテトラヒドロピ
ラン−４−イル基、又はトリイソプロピルシリルオキシ
メチル基を表す。〕を表し、Ｂは保護基を有していても
よい核酸塩基の残基を表す。）で表されるヌクレオシド
ホスホロアミダイト化合物。
を提供する。 【解決手段】 下記の一般式（I）： 【化１】 （式中、Ｒ１はリン酸保護基を表し、Ｒ２は窒素原子上
に炭素数1から5の同一若しくは異なるアルキル基がふた
つ結合したジアルキルアミノ基〔ふたつのアルキル基が
互いに結合して環を形成してもよい〕、又はモルホリン
−１−イル基を表し、Ｒ３はアルコキシ基を有していて
もよいトリチル基を表し、Ｒ４は水素又はＯ−Ｒ５〔但
し、Ｒ５はtert-ブチリルジメチルシリル基、テトラヒ
ドロピラン−２−イル基、４−メトキシテトラヒドロピ
ラン−４−イル基、又はトリイソプロピルシリルオキシ
メチル基を表す。〕を表し、Ｂは保護基を有していても
よい核酸塩基の残基を表す。）で表されるヌクレオシド
ホスホロアミダイト化合物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なヌクレオシ
ドホスホロアミダイト化合物に関する。この化合物は、
核酸合成試薬として使用することができる。
ドホスホロアミダイト化合物に関する。この化合物は、
核酸合成試薬として使用することができる。
【０００２】
【従来の技術】化学的に合成されたオリゴデオキシリボ
核酸（オリゴＤＮＡ）は、遺伝子クローニングのプロー
ブ、遺伝子発現解析用プローブ、アンチセンスオリゴヌ
クレオチド等種々の用途に用いられている。ＤＮＡ化学
合成は現代の生命工学、生命科学の進展に必須な技術で
ある。現在のオリゴデオキシリボヌクレオチド化学合成
はホスホロアミダイト法により行われている。この方法
においては、用いるホスホロアミダイトユニットの５’
水酸基を適切な保護基を用いて保護することが必須であ
る。現在主として用いられている５’水酸基の保護基は
４，４’−ジメトキシトリチル基（ＤＭＴｒ基）であ
る。ＤＭＴｒ基は弱酸性条件下、迅速に除去可能である
ためＤＮＡ化学合成に用いられている。しかしここで用
いる酸性条件のため、長鎖ＤＮＡ 合成においてプリン
ヌクレオシドのＮ−グリコシド結合の切断（デプリネー
ション）が問題となる。
核酸（オリゴＤＮＡ）は、遺伝子クローニングのプロー
ブ、遺伝子発現解析用プローブ、アンチセンスオリゴヌ
クレオチド等種々の用途に用いられている。ＤＮＡ化学
合成は現代の生命工学、生命科学の進展に必須な技術で
ある。現在のオリゴデオキシリボヌクレオチド化学合成
はホスホロアミダイト法により行われている。この方法
においては、用いるホスホロアミダイトユニットの５’
水酸基を適切な保護基を用いて保護することが必須であ
る。現在主として用いられている５’水酸基の保護基は
４，４’−ジメトキシトリチル基（ＤＭＴｒ基）であ
る。ＤＭＴｒ基は弱酸性条件下、迅速に除去可能である
ためＤＮＡ化学合成に用いられている。しかしここで用
いる酸性条件のため、長鎖ＤＮＡ 合成においてプリン
ヌクレオシドのＮ−グリコシド結合の切断（デプリネー
ション）が問題となる。
【０００３】ＤＮＡ化学合成におけるもうひとつの問題
点はオリゴヌクレオチド鎖の伸長に時間がかかることで
ある。現在のＤＮＡ化学合成は（１）アミダイトユニッ
トと５’末端水酸基とのカップリング（２）未反応水酸
基の保護（３）インターヌクレオシド結合の酸化（４）
５’末端ＤＭＴｒ基の除去。の４工程からなっている。
しかし、長鎖オリゴＤＮＡを合成するためにはその合成
に要する時間を少しでも短縮することが経済的にも有利
である。
点はオリゴヌクレオチド鎖の伸長に時間がかかることで
ある。現在のＤＮＡ化学合成は（１）アミダイトユニッ
トと５’末端水酸基とのカップリング（２）未反応水酸
基の保護（３）インターヌクレオシド結合の酸化（４）
５’末端ＤＭＴｒ基の除去。の４工程からなっている。
しかし、長鎖オリゴＤＮＡを合成するためにはその合成
に要する時間を少しでも短縮することが経済的にも有利
である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、オリゴＤＮ
Ａ化学合成における上記ふたつの問題点、すなわち （１）ＤＭＴｒ基を脱保護する酸性条件下でのデプリネ
ーション （２）ＤＮＡ化学合成が時間を要する工程であること、
を同時に解決することを目的とするものである。
Ａ化学合成における上記ふたつの問題点、すなわち （１）ＤＭＴｒ基を脱保護する酸性条件下でのデプリネ
ーション （２）ＤＮＡ化学合成が時間を要する工程であること、
を同時に解決することを目的とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決するため鋭意検討を重ねた結果、５’水酸基の保護
基としてＤＭＴｒ基に替わり上記の（３）インターヌク
レオシド結合の酸化工程で同時に脱保護可能な保護基を
用いることにより、上記の（４）５’ＤＭＴｒ基の除去
工程を省略できることを見出し、更に、そのような保護
基として、スルフェニルエステル型保護基が使用できる
ことを見出し、これらの知見に基づき、本発明を完成す
るに至った。
解決するため鋭意検討を重ねた結果、５’水酸基の保護
基としてＤＭＴｒ基に替わり上記の（３）インターヌク
レオシド結合の酸化工程で同時に脱保護可能な保護基を
用いることにより、上記の（４）５’ＤＭＴｒ基の除去
工程を省略できることを見出し、更に、そのような保護
基として、スルフェニルエステル型保護基が使用できる
ことを見出し、これらの知見に基づき、本発明を完成す
るに至った。
【０００６】即ち、本発明は、下記の一般式（I）：
【０００７】
【化８】 （式中、Ｒ１はリン酸保護基を表し、Ｒ２は窒素原子上
に炭素数1から5の同一若しくは異なるアルキル基がふた
つ結合したジアルキルアミノ基〔ふたつのアルキル基が
互いに結合して環を形成してもよい〕、又はモルホリン
−１−イル基を表し、Ｒ３はアルコキシ基を有していて
もよいトリチル基を表し、Ｒ４は水素又はＯ−Ｒ５〔但
し、Ｒ５はtert-ブチリルジメチルシリル基、テトラヒ
ドロピラン−２−イル基、４−メトキシテトラヒドロピ
ラン−４−イル基、又はトリイソプロピルシリルオキシ
メチル基を表す。〕を表し、Ｂは保護基を有していても
よい核酸塩基の残基を表す。）で表されるヌクレオシド
ホスホロアミダイト化合物である。
に炭素数1から5の同一若しくは異なるアルキル基がふた
つ結合したジアルキルアミノ基〔ふたつのアルキル基が
互いに結合して環を形成してもよい〕、又はモルホリン
−１−イル基を表し、Ｒ３はアルコキシ基を有していて
もよいトリチル基を表し、Ｒ４は水素又はＯ−Ｒ５〔但
し、Ｒ５はtert-ブチリルジメチルシリル基、テトラヒ
ドロピラン−２−イル基、４−メトキシテトラヒドロピ
ラン−４−イル基、又はトリイソプロピルシリルオキシ
メチル基を表す。〕を表し、Ｂは保護基を有していても
よい核酸塩基の残基を表す。）で表されるヌクレオシド
ホスホロアミダイト化合物である。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
【０００９】本発明のヌクレオシドホスホロアミダイト
化合物（以下、単に「本化合物」という。）は、下記の
一般式（I）：
化合物（以下、単に「本化合物」という。）は、下記の
一般式（I）：
【００１０】
【化９】 で表される。
【００１１】式中のＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＢは
以下の基を表す。
以下の基を表す。
【００１２】Ｒ１は、リン酸保護基を表す。リン酸保護
基としては、ホスホロアミダイト法に使用されるもので
あればどのようなものでもよいが、メチル基、２−シア
ノエチル基、２−トリメチルシリルエチル基などを好ま
しい基として挙げることができる。
基としては、ホスホロアミダイト法に使用されるもので
あればどのようなものでもよいが、メチル基、２−シア
ノエチル基、２−トリメチルシリルエチル基などを好ま
しい基として挙げることができる。
【００１３】Ｒ２は、窒素原子上に炭素数1から5の同一
若しくは異なるアルキル基がふたつ結合したジアルキル
アミノ基〔ふたつのアルキル基が互いに結合して環を形
成してもよい〕、又はモルホリン−１−イル基を表す。
このようなジアルキルアミノ基としては、ジイソプロピ
ルアミノ基、又はジメチルアミノ基などを挙げることが
できる。
若しくは異なるアルキル基がふたつ結合したジアルキル
アミノ基〔ふたつのアルキル基が互いに結合して環を形
成してもよい〕、又はモルホリン−１−イル基を表す。
このようなジアルキルアミノ基としては、ジイソプロピ
ルアミノ基、又はジメチルアミノ基などを挙げることが
できる。
【００１４】Ｒ３はアルコキシ基を有していてもよいト
リチル基を表す。より具体的には、下記の一般式（I
I）:
リチル基を表す。より具体的には、下記の一般式（I
I）:
【００１５】
【化１０】 （式中、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８は互いに同一または異なっ
て、水素、炭素数1から10のアルコキシ基を表す。）で
表される基を表す。一般式（II）で表される基の中で好
ましい基としては、トリチル基、４−メトキシトリチル
基、４，４’−ジメトキシトリチル基などを挙げること
ができる。
て、水素、炭素数1から10のアルコキシ基を表す。）で
表される基を表す。一般式（II）で表される基の中で好
ましい基としては、トリチル基、４−メトキシトリチル
基、４，４’−ジメトキシトリチル基などを挙げること
ができる。
【００１６】Ｒ４は水素又はＯ−Ｒ５を表す。ここで、
Ｒ５はtert-ブチリルジメチルシリル基、テトラヒドロ
ピラン−２−イル基、４−メトキシテトラヒドロピラン
−４−イル基、又はトリイソプロピルシリルオキシメチ
ル基を表す。
Ｒ５はtert-ブチリルジメチルシリル基、テトラヒドロ
ピラン−２−イル基、４−メトキシテトラヒドロピラン
−４−イル基、又はトリイソプロピルシリルオキシメチ
ル基を表す。
【００１７】Ｂは保護基を有していてもよい核酸塩基の
残基を表す。核酸塩基は、核酸の合成に使用されるもの
であればどのようなものでもよく、また、保護基も核酸
の合成に使用されるものであればどのようなものでもよ
い。好ましい核酸塩基の残基としては、下記の一般式
（III）、（IV）、（V）、（VI）、又は（VII）:
残基を表す。核酸塩基は、核酸の合成に使用されるもの
であればどのようなものでもよく、また、保護基も核酸
の合成に使用されるものであればどのようなものでもよ
い。好ましい核酸塩基の残基としては、下記の一般式
（III）、（IV）、（V）、（VI）、又は（VII）:
【００１８】
【化１１】
【００１９】
【化１２】
【００２０】
【化１３】
【００２１】
【化１４】
【００２２】
【化１５】 で表される基を例示することができる。式中のＲ９は水
素又はアミノ基の保護基を表す。アミノ基の保護基とし
ては、ベンゾイル基、４−メトキシベンゾイル基、アセ
チル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル
基、フェニルアセチル基、フェノキシアセチル基、４−
tert−ブチルフェノキシアセチル基、４−イソプロピル
フェノキシアセチル基などを例示することができる。
素又はアミノ基の保護基を表す。アミノ基の保護基とし
ては、ベンゾイル基、４−メトキシベンゾイル基、アセ
チル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル
基、フェニルアセチル基、フェノキシアセチル基、４−
tert−ブチルフェノキシアセチル基、４−イソプロピル
フェノキシアセチル基などを例示することができる。
【００２３】本化合物は、デオキシヌクレオシドホスホ
ロアミダイド化合物（式（I）中のＲ４が水素）とリボ
ヌクレオシドホスホロアミダイト化合物（式（I）中の
Ｒ４がＯＲ５）の両者を含む。デオキシヌクレオシドホ
スホロアミダイド化合物については、以下の合成法１−
１又は合成法１−２により合成することができる。 （合成法１−１） 式（VIII）：
ロアミダイド化合物（式（I）中のＲ４が水素）とリボ
ヌクレオシドホスホロアミダイト化合物（式（I）中の
Ｒ４がＯＲ５）の両者を含む。デオキシヌクレオシドホ
スホロアミダイド化合物については、以下の合成法１−
１又は合成法１−２により合成することができる。 （合成法１−１） 式（VIII）：
【００２４】
【化１６】 （式中のＲ３及びＢは前記の通りである。）で表される
化合物と文献公知の方法によって得られる式（IX）：
化合物と文献公知の方法によって得られる式（IX）：
【００２５】
【化１７】 （式中のＲ１及びＲ２は前記の通りである。）で表され
る化合物とを反応を阻害しない溶媒たとえばピリジン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリド
ン、アセトン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジ
クロロエタン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルス
ルホキシド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン等に
溶解し、有機塩基例えばピリジン、２，６−ジメチルピ
リジン、２，４，６−トリメチルピリジン、Ｎ−メチル
イミダゾール、トリエチルアミン、トリブチルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザ
ビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の存在下、
−７８℃から室温℃で５分間から７２時間撹拌すること
により式（Ｉ）で表される化合物を得る。 （合成法１−２）式（VIII）で表される化合物と文献公
知の方法によって得られる式（X）：
る化合物とを反応を阻害しない溶媒たとえばピリジン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリド
ン、アセトン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジ
クロロエタン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルス
ルホキシド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン等に
溶解し、有機塩基例えばピリジン、２，６−ジメチルピ
リジン、２，４，６−トリメチルピリジン、Ｎ−メチル
イミダゾール、トリエチルアミン、トリブチルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザ
ビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の存在下、
−７８℃から室温℃で５分間から７２時間撹拌すること
により式（Ｉ）で表される化合物を得る。 （合成法１−２）式（VIII）で表される化合物と文献公
知の方法によって得られる式（X）：
【００２６】
【化１８】 （式中のＲ１及びＲ２は前記の通りである。）で表され
る化合物を反応を阻害しない溶媒例えばピリジン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ア
セトン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，
４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエ
タン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシ
ド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン等に溶解し、
１Ｈ−テトラゾール、１Ｈ−テトラゾール ジイソプロ
ピルアンモニウム等の存在下−７８℃から室温℃で５分
間から７２時間撹拌することにより式（I）で表される
化合物を得る。
る化合物を反応を阻害しない溶媒例えばピリジン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ア
セトン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，
４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエ
タン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシ
ド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン等に溶解し、
１Ｈ−テトラゾール、１Ｈ−テトラゾール ジイソプロ
ピルアンモニウム等の存在下−７８℃から室温℃で５分
間から７２時間撹拌することにより式（I）で表される
化合物を得る。
【００２７】これらの方法で合成中間体として用いた式
（VIII）で表される化合物は以下の中間体合成法１−１
又は中間体合成法１−２により合成可能である。 （中間体合成法１−１）市販もしくは文献公知の方法に
より得られる式（XI）：
（VIII）で表される化合物は以下の中間体合成法１−１
又は中間体合成法１−２により合成可能である。 （中間体合成法１−１）市販もしくは文献公知の方法に
より得られる式（XI）：
【００２８】
【化１９】 （式中のＢは前記の通りである。）で表される化合物と
式（XII）：
式（XII）：
【００２９】
【化２０】 （式中のＲ３は前記の通りである。）で表される化合物
を、反応を阻害しない溶媒たとえばピリジン、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセト
ン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，４−
ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタ
ン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシ
ド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン等に溶解し、
有機塩基例えばピリジン、２，６−ジメチルピリジン、
２，４，６−トリメチルピリジン、Ｎ−メチルイミダゾ
ール、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−
ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ
［５．４．０］−７−ウンデセン等、もしくは無機塩基
すなわち水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化セシウ
ム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等、もしくは有
機金属化合物例えば、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブ
チルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、リチウム Ｎ，Ｎ
−ジイソプロピルアミド、リチウム ２，６−ジメチル
ピペリジド、リチウム ヘキサメチルジシラジド、ナト
リウム ヘキサメチルジシラジド、メチルマグネシウム
ブロミド、エチルマグネシウム ブロミド、フェニル
マグネシウムブロミド、ｔ−ブチルマグネシウム ブロ
ミド等の存在下、または非存在下−７８℃から１００℃
で５分間から７２時間撹拌することにより式（VIII）で
表される化合物を得る。
を、反応を阻害しない溶媒たとえばピリジン、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセト
ン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，４−
ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタ
ン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシ
ド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン等に溶解し、
有機塩基例えばピリジン、２，６−ジメチルピリジン、
２，４，６−トリメチルピリジン、Ｎ−メチルイミダゾ
ール、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−
ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ
［５．４．０］−７−ウンデセン等、もしくは無機塩基
すなわち水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化セシウ
ム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等、もしくは有
機金属化合物例えば、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブ
チルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、リチウム Ｎ，Ｎ
−ジイソプロピルアミド、リチウム ２，６−ジメチル
ピペリジド、リチウム ヘキサメチルジシラジド、ナト
リウム ヘキサメチルジシラジド、メチルマグネシウム
ブロミド、エチルマグネシウム ブロミド、フェニル
マグネシウムブロミド、ｔ−ブチルマグネシウム ブロ
ミド等の存在下、または非存在下−７８℃から１００℃
で５分間から７２時間撹拌することにより式（VIII）で
表される化合物を得る。
【００３０】ここで用いた式（XII）で表される化合物
は式（XIII）：
は式（XIII）：
【００３１】
【化２１】 （式中Ｒ３は前記の通りである）で表される化合物と塩
素化試薬例えば塩素、塩化スルフリル、Ｎ−クロロスク
シミド、１，３−ジクロロ−５，５ジメチルヒダントイ
ン等とを反応を阻害しない溶媒たとえばＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトン、テ
トラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキ
サン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロ
ロホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、アセト
ニトリル、ベンゼン、トルエン等に溶解し、有機塩基例
えばピリジン、２，６−ジメチルピリジン、２，４，６
−トリメチルピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール、トリ
エチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロ
ピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．
０］−７−ウンデセン等、もしくは無機塩基すなわち水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化セシウム、水素化ナ
トリウム、水素化カリウム等、もしくは有機金属化合物
例えば、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウ
ム、ｔ−ブチルリチウム、リチウム Ｎ，Ｎ−ジイソプ
ロピルアミド、リチウム ２，６−ジメチルピペリジ
ド、リチウム ヘキサメチルジシラジド、ナトリウム
ヘキサメチルジシラジド、メチルマグネシウム ブロミ
ド、エチルマグネシウム ブロミド、フェニルマグネシ
ウムブロミド、ｔ−ブチルマグネシウムブロミド等の存
在下、または非存在下−７８℃から１００℃で５分間か
ら７２時間撹拌することにより得られる。
素化試薬例えば塩素、塩化スルフリル、Ｎ−クロロスク
シミド、１，３−ジクロロ−５，５ジメチルヒダントイ
ン等とを反応を阻害しない溶媒たとえばＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトン、テ
トラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキ
サン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロ
ロホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、アセト
ニトリル、ベンゼン、トルエン等に溶解し、有機塩基例
えばピリジン、２，６−ジメチルピリジン、２，４，６
−トリメチルピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール、トリ
エチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロ
ピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．
０］−７−ウンデセン等、もしくは無機塩基すなわち水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化セシウム、水素化ナ
トリウム、水素化カリウム等、もしくは有機金属化合物
例えば、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウ
ム、ｔ−ブチルリチウム、リチウム Ｎ，Ｎ−ジイソプ
ロピルアミド、リチウム ２，６−ジメチルピペリジ
ド、リチウム ヘキサメチルジシラジド、ナトリウム
ヘキサメチルジシラジド、メチルマグネシウム ブロミ
ド、エチルマグネシウム ブロミド、フェニルマグネシ
ウムブロミド、ｔ−ブチルマグネシウムブロミド等の存
在下、または非存在下−７８℃から１００℃で５分間か
ら７２時間撹拌することにより得られる。
【００３２】ここで用いた式（XIII）で表される化合物
は文献公知の方法を用いて得るか、もしくは文献公知の
方法で得られる式（XIV）：
は文献公知の方法を用いて得るか、もしくは文献公知の
方法で得られる式（XIV）：
【００３３】
【化２２】 （式中のＲ３は前記の通りである）で表される化合物と
硫化試薬例えば五硫化リン、ローソン試薬等を反応を阻
害しない溶媒たとえばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
Ｎ−メチルピロリドン、アセトン、テトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジクロロ
メタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、酢酸
エチル、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベン
ゼン、トルエン等に溶解し室温から１００℃で５分間か
ら７２時間撹拌することにより得られる。 （中間体合成法１−２） 式（XV）：
硫化試薬例えば五硫化リン、ローソン試薬等を反応を阻
害しない溶媒たとえばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
Ｎ−メチルピロリドン、アセトン、テトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジクロロ
メタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、酢酸
エチル、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベン
ゼン、トルエン等に溶解し室温から１００℃で５分間か
ら７２時間撹拌することにより得られる。 （中間体合成法１−２） 式（XV）：
【００３４】
【化２３】 （式中のＲ３及びＢは前記の通りであり、Ｒ１０、Ｒ１
１、Ｒ１２は同一または異なって、メチル基、エチル
基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、又はフェニル基を
表す。）で表される化合物とフッ素化試薬例えばテトラ
ブチルアンモニウム フルオリド、テトラエチルアンモ
ニウム フルオリド、トリエチルベンジルアンモニウム
フルオリド、フッ化水素、フッ化水素−ピリジン、フッ
化水素−トリエチルアミン複合体、トリエチルアミンー
３フッ化水素複合体、フッ化セシウム等とを反応を阻害
しない溶媒たとえばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ
−メチルピロリドン、アセトン、テトラヒドロフラン、
ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジクロロメタ
ン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、酢酸エチ
ル、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベンゼ
ン、トルエン等に溶解し室温から１００℃で５分間から
７２時間撹拌することにより式（VIII）で表される化合
物を得る。
１、Ｒ１２は同一または異なって、メチル基、エチル
基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、又はフェニル基を
表す。）で表される化合物とフッ素化試薬例えばテトラ
ブチルアンモニウム フルオリド、テトラエチルアンモ
ニウム フルオリド、トリエチルベンジルアンモニウム
フルオリド、フッ化水素、フッ化水素−ピリジン、フッ
化水素−トリエチルアミン複合体、トリエチルアミンー
３フッ化水素複合体、フッ化セシウム等とを反応を阻害
しない溶媒たとえばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ
−メチルピロリドン、アセトン、テトラヒドロフラン、
ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジクロロメタ
ン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、酢酸エチ
ル、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベンゼ
ン、トルエン等に溶解し室温から１００℃で５分間から
７２時間撹拌することにより式（VIII）で表される化合
物を得る。
【００３５】ここで用いた式（XV）で表される化合物は
式（XVI）：
式（XVI）：
【００３６】
【化２４】 （式中のＲ１０、Ｒ１１、Ｒ１２及びＢは前記の通りで
ある。）で表される化合物と式（XII）で表される化合
物とを反応を阻害しない溶媒例えばＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、テトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジメチル
スルホキシド、ベンゼン、トルエン等に溶解し有機金属
化合物例えば、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリ
チウム、ｔ−ブチルリチウム、リチウムＮ，Ｎ−ジイソ
プロピルアミド、リチウム２，６−ジメチルピペリジ
ド、リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキ
サメチルジシラジド、メチルマグネシウムブロミド、エ
チルマグネシウムブロミド、フェニルマグネシウムブロ
ミド、ｔ−ブチルマグネシウムブロミド等の存在下−７
８℃から１００℃で５分間から７２時間撹拌することに
より得られる。
ある。）で表される化合物と式（XII）で表される化合
物とを反応を阻害しない溶媒例えばＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、テトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジメチル
スルホキシド、ベンゼン、トルエン等に溶解し有機金属
化合物例えば、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリ
チウム、ｔ−ブチルリチウム、リチウムＮ，Ｎ−ジイソ
プロピルアミド、リチウム２，６−ジメチルピペリジ
ド、リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキ
サメチルジシラジド、メチルマグネシウムブロミド、エ
チルマグネシウムブロミド、フェニルマグネシウムブロ
ミド、ｔ−ブチルマグネシウムブロミド等の存在下−７
８℃から１００℃で５分間から７２時間撹拌することに
より得られる。
【００３７】ここで用いた式（XVI）で表される化合物
は式（XI）で表される化合物と式（XVII）：
は式（XI）で表される化合物と式（XVII）：
【００３８】
【化２５】 （式中のＲ１０、Ｒ１１及びＲ１２は前記の通りであ
り、Ｒ１３は塩素、臭素、ヨウ素、又はトリフルオロメ
タンスルホニルオキシ基等を表す。）で表される化合物
を、反応を阻害しない溶媒たとえばＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトン、テトラ
ヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサ
ン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロ
ホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、アセトニ
トリル、ベンゼン、トルエン等に溶解し、有機塩基例え
ばピリジン、２，６−ジメチルピリジン、２，４，６−
トリメチルピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール、イミダ
ゾール、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ
−ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシク
ロ［５．４．０］−７−ウンデセン等、もしくは無機塩
基すなわち水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化セシウ
ム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等、もしくは有
機金属化合物例えば、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブ
チルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、リチウム Ｎ，Ｎ
−ジイソプロピルアミド、リチウム ２，６−ジメチル
ピペリジド、リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリ
ウムヘキサメチルジシラジド、メチルマグネシウム ブ
ロミド、エチルマグネシウム ブロミド、フェニルマグ
ネシウムブロミド、ｔ−ブチルマグネシウム ブロミド
等の存在下、または非存在下−７８℃から１００℃で５
分間から７２時間撹拌することにより得られる。また、
式（XVI）で表される化合物は文献公知の方法により得
られる式（XVIII）：
り、Ｒ１３は塩素、臭素、ヨウ素、又はトリフルオロメ
タンスルホニルオキシ基等を表す。）で表される化合物
を、反応を阻害しない溶媒たとえばＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトン、テトラ
ヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサ
ン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロ
ホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、アセトニ
トリル、ベンゼン、トルエン等に溶解し、有機塩基例え
ばピリジン、２，６−ジメチルピリジン、２，４，６−
トリメチルピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール、イミダ
ゾール、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ
−ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシク
ロ［５．４．０］−７−ウンデセン等、もしくは無機塩
基すなわち水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化セシウ
ム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等、もしくは有
機金属化合物例えば、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブ
チルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、リチウム Ｎ，Ｎ
−ジイソプロピルアミド、リチウム ２，６−ジメチル
ピペリジド、リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリ
ウムヘキサメチルジシラジド、メチルマグネシウム ブ
ロミド、エチルマグネシウム ブロミド、フェニルマグ
ネシウムブロミド、ｔ−ブチルマグネシウム ブロミド
等の存在下、または非存在下−７８℃から１００℃で５
分間から７２時間撹拌することにより得られる。また、
式（XVI）で表される化合物は文献公知の方法により得
られる式（XVIII）：
【００３９】
【化２６】 （式中、Ｒ１４、Ｒ１５は同一または異なって水素又は
メトキシ基を表す。）で表される化合物と式（XVII）で
表される化合物とを反応を阻害しない溶媒たとえばＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ア
セトン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，
４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエ
タン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシ
ド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン等に溶解し、
有機塩基例えばピリジン、２，６−ジメチルピリジン、
２，４，６−トリメチルピリジン、Ｎ−メチルイミダゾ
ール、イミダゾール、トリエチルアミン、トリブチルア
ミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、１，８−
ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等、も
しくは無機塩基すなわち水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、
フッ化セシウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム
等、もしくは有機金属化合物例えば、ｎ−ブチルリチウ
ム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、リ
チウム Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド、リチウム
２，６−ジメチルピペリジド、リチウム ヘキサメチル
ジシラジド、ナトリウム ヘキサメチルジシラジド、メ
チルマグネシウム ブロミド、エチルマグネシウム ブ
ロミド、フェニルマグネシウムブロミド、ｔ−ブチルマ
グネシウム ブロミド等の存在下、または非存在下−７
８℃から１００℃で５分間から７２時間撹拌して式（XI
X）：
メトキシ基を表す。）で表される化合物と式（XVII）で
表される化合物とを反応を阻害しない溶媒たとえばＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ア
セトン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，
４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエ
タン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシ
ド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン等に溶解し、
有機塩基例えばピリジン、２，６−ジメチルピリジン、
２，４，６−トリメチルピリジン、Ｎ−メチルイミダゾ
ール、イミダゾール、トリエチルアミン、トリブチルア
ミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、１，８−
ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等、も
しくは無機塩基すなわち水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、
フッ化セシウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム
等、もしくは有機金属化合物例えば、ｎ−ブチルリチウ
ム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、リ
チウム Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミド、リチウム
２，６−ジメチルピペリジド、リチウム ヘキサメチル
ジシラジド、ナトリウム ヘキサメチルジシラジド、メ
チルマグネシウム ブロミド、エチルマグネシウム ブ
ロミド、フェニルマグネシウムブロミド、ｔ−ブチルマ
グネシウム ブロミド等の存在下、または非存在下−７
８℃から１００℃で５分間から７２時間撹拌して式（XI
X）：
【００４０】
【化２７】 （式中のＲ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１４、Ｒ１５、及
びＢは前記の通りである。）で表される化合物を得、つ
いでこの式（XIX）で表される化合物と酸例えば塩酸、
硫酸、硝酸、酢酸、リン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、
メタンスルホン酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、ト
リフルオロ酢酸等を、反応を阻害しない溶媒たとえば
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリド
ン、アセトン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジ
クロロエタン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルス
ルホキシド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン、
水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール
もしくはこれらの混合溶媒等に溶解し−７８℃から１０
０℃で５分間から７２時間撹拌して得られる。
びＢは前記の通りである。）で表される化合物を得、つ
いでこの式（XIX）で表される化合物と酸例えば塩酸、
硫酸、硝酸、酢酸、リン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、
メタンスルホン酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、ト
リフルオロ酢酸等を、反応を阻害しない溶媒たとえば
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリド
ン、アセトン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジ
クロロエタン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルス
ルホキシド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン、
水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール
もしくはこれらの混合溶媒等に溶解し−７８℃から１０
０℃で５分間から７２時間撹拌して得られる。
【００４１】リボヌクレオシドホスホロアミダイト化合
物については、以下の合成法２−１又は２−２により合
成することができる。 （合成法２−１） 式（XX）：
物については、以下の合成法２−１又は２−２により合
成することができる。 （合成法２−１） 式（XX）：
【００４２】
【化２８】 （式中のＲ３、Ｒ５及びＢは前記の通りである。）で表
される化合物と式（IX）で表される化合物とを反応を阻
害しない溶媒例えばピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトン、テトラヒド
ロフラン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジ
クロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホル
ム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、アセトニトリ
ル、ベンゼン、トルエン等に溶解し、有機塩基例えばピ
リジン、２，６−ジメチルピリジン、２，４，６−トリ
メチルピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール、トリエチル
アミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエ
チルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−
７−ウンデセン等の存在下、−７８℃から室温℃で５分
間から７２時間撹拌することにより式（Ｉ）で表される
化合物を得る。 （合成法２−２）式（XX）で表される化合物と式（X）
で表される化合物を反応を阻害しない溶媒例えばピリジ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリ
ドン、アセトン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジ
クロロエタン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルス
ルホキシド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン等に
溶解し、１Ｈ−テトラゾール、１Ｈ−テトラゾール ジ
イソプロピルアンモニウム等の存在下−７８℃から室温
℃で５分間から７２時間撹拌することにより式（I）で
表される化合物を得る。
される化合物と式（IX）で表される化合物とを反応を阻
害しない溶媒例えばピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトン、テトラヒド
ロフラン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジ
クロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホル
ム、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、アセトニトリ
ル、ベンゼン、トルエン等に溶解し、有機塩基例えばピ
リジン、２，６−ジメチルピリジン、２，４，６−トリ
メチルピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール、トリエチル
アミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエ
チルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−
７−ウンデセン等の存在下、−７８℃から室温℃で５分
間から７２時間撹拌することにより式（Ｉ）で表される
化合物を得る。 （合成法２−２）式（XX）で表される化合物と式（X）
で表される化合物を反応を阻害しない溶媒例えばピリジ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリ
ドン、アセトン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、１，２−ジ
クロロエタン、クロロホルム、酢酸エチル、ジメチルス
ルホキシド、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン等に
溶解し、１Ｈ−テトラゾール、１Ｈ−テトラゾール ジ
イソプロピルアンモニウム等の存在下−７８℃から室温
℃で５分間から７２時間撹拌することにより式（I）で
表される化合物を得る。
【００４３】これらの方法で合成中間体として用いた式
（XX）で表される化合物は以下の中間体合成法２−１に
より合成可能である。 （中間体合成法２−１） 式（XXI）：
（XX）で表される化合物は以下の中間体合成法２−１に
より合成可能である。 （中間体合成法２−１） 式（XXI）：
【００４４】
【化２９】 （式中のＲ３、Ｒ５、及びＢは前記の通りであり、Ｒ１
６は３−ヒドロキシ−１，１，３，３，−テトライソプ
ロピルジシロキサン−１−イル基、又はジ−tert−ブチ
ルヒドロキシシリル基を表す。）で表される化合物を適
当な溶媒（例えば、テトラヒドロフラン等）に溶解し、
フッ素化剤（例えば、テトラブチルアンモニウムフルオ
リド、トリエチルアミントリハイドロフルオリド、フッ
化水素ピリジン）及び酸（例えば、酢酸、塩酸、硫酸）
を単独もしくは任意の混合比の混合試薬として反応させ
ることにより、式（XX）で表される化合物が得られる。
また、式（XXI）で表される化合物を水や適当な有機溶
媒に溶解し、適当なアルカリ（例えば、水酸化ナトリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、テトラブチルアン
モニウムヒドロキシド、水酸化リチウム等）と反応させ
ることによっても、式（XX）で表される化合物が得られ
る。
６は３−ヒドロキシ−１，１，３，３，−テトライソプ
ロピルジシロキサン−１−イル基、又はジ−tert−ブチ
ルヒドロキシシリル基を表す。）で表される化合物を適
当な溶媒（例えば、テトラヒドロフラン等）に溶解し、
フッ素化剤（例えば、テトラブチルアンモニウムフルオ
リド、トリエチルアミントリハイドロフルオリド、フッ
化水素ピリジン）及び酸（例えば、酢酸、塩酸、硫酸）
を単独もしくは任意の混合比の混合試薬として反応させ
ることにより、式（XX）で表される化合物が得られる。
また、式（XXI）で表される化合物を水や適当な有機溶
媒に溶解し、適当なアルカリ（例えば、水酸化ナトリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、テトラブチルアン
モニウムヒドロキシド、水酸化リチウム等）と反応させ
ることによっても、式（XX）で表される化合物が得られ
る。
【００４５】ここで用いた式（XXI）で表される化合物
は式（XXII）：
は式（XXII）：
【００４６】
【化３０】 （式中のＲ５、Ｒ１６、及びＢは前記の通りである）で
表される化合物と式（XII）で表される化合物とを反応
を阻害しない溶媒例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、ジエ
チルエーテル、１，４−ジオキサン、ジメチルスルホキ
シド、ベンゼン、トルエン等に溶解し有機金属化合物例
えば、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、
ｔ−ブチルリチウム、リチウムＮ，Ｎ−ジイソプロピル
アミド、リチウム２，６−ジメチルピペリジド、リチウ
ムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジ
シラジド、メチルマグネシウムブロミド、エチルマグネ
シウムブロミド、フェニルマグネシウムブロミド、ｔ−
ブチルマグネシウムブロミド等の存在下−７８℃から１
００℃で５分間から７２時間撹拌することにより得られ
る。
表される化合物と式（XII）で表される化合物とを反応
を阻害しない溶媒例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、ジエ
チルエーテル、１，４−ジオキサン、ジメチルスルホキ
シド、ベンゼン、トルエン等に溶解し有機金属化合物例
えば、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、
ｔ−ブチルリチウム、リチウムＮ，Ｎ−ジイソプロピル
アミド、リチウム２，６−ジメチルピペリジド、リチウ
ムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジ
シラジド、メチルマグネシウムブロミド、エチルマグネ
シウムブロミド、フェニルマグネシウムブロミド、ｔ−
ブチルマグネシウムブロミド等の存在下−７８℃から１
００℃で５分間から７２時間撹拌することにより得られ
る。
【００４７】ここで用いた式（XXII）で表される化合物
は式（XXIII）：
は式（XXIII）：
【００４８】
【化３１】 （式中のＲ５及びＢは前記の通りであり、Ｒ１７は１，
１，３，３−テトライソプロピルジシロキサン−１，３
−ジイル基、又はジ−tert−ブチルシランジイル基を表
す。）で表される化合物を適当な溶媒（例えば、テトラ
ヒドロフラン等）に溶解し、フッ素化剤（例えば、テト
ラブチルアンモニウムフルオリド、トリエチルアミント
リハイドロフルオリド、フッ化水素ピリジン）及び酸
（例えば、酢酸、塩酸、硫酸）を単独もしくは任意の混
合比の混合試薬として反応させることにより得られる。
また、式（XXIII）で表される化合物を水や適当な有機
溶媒に溶解し、適当なアルカリ（例えば、水酸化ナトリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、テトラブチルア
ンモニウムヒドロキシド、水酸化リチウム等）と反応さ
せることによっても得られる。
１，３，３−テトライソプロピルジシロキサン−１，３
−ジイル基、又はジ−tert−ブチルシランジイル基を表
す。）で表される化合物を適当な溶媒（例えば、テトラ
ヒドロフラン等）に溶解し、フッ素化剤（例えば、テト
ラブチルアンモニウムフルオリド、トリエチルアミント
リハイドロフルオリド、フッ化水素ピリジン）及び酸
（例えば、酢酸、塩酸、硫酸）を単独もしくは任意の混
合比の混合試薬として反応させることにより得られる。
また、式（XXIII）で表される化合物を水や適当な有機
溶媒に溶解し、適当なアルカリ（例えば、水酸化ナトリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、テトラブチルア
ンモニウムヒドロキシド、水酸化リチウム等）と反応さ
せることによっても得られる。
【００４９】ここで用いた式（XXIII）で表される化合
物は、式（XXIV）：
物は、式（XXIV）：
【００５０】
【化３２】 （式中のＢ及びＲ１７は前記の通りである。）で表され
る化合物から以下の処理を行うことにより得ることがで
きる。 Ｒ５がtert-ブチリルジメチルシリル基である場合：式
（XXIV）で表される化合物を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド等の溶媒に溶かし、tert-ブチリルジメチルシリ
ルクロリド及びイミダゾールと反応させる。 Ｒ５がテトラヒドロピラン−２−イル基である場合：式
（XXIV）で表される化合物を、適当な溶媒に溶解又は無
溶媒条件下でパラトルエンスルホン酸等を酸触媒とし
て、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピランと反応させる。 Ｒ５が４−メトキシテトラヒドロピラン−４−イル基で
ある場合：式（XXIV）で表される化合物を、適当な溶媒
に溶解又は無溶媒条件下でパラトルエンスルホン酸等を
酸触媒として、５，６−ジヒドロ−４−メトキシ−２Ｈ
−ピランと反応させる Ｒ５がトリイソプロピルシリルオキシメチル基である場
合：式（XXIV）で表される化合物を、ジクロロメタン等
の反応を阻害しない溶媒に溶かし、トリイソプロピルシ
リルオキシメチルクロリド及びエチルジイソプロピルア
ミン等の有機アミンと反応させる。
る化合物から以下の処理を行うことにより得ることがで
きる。 Ｒ５がtert-ブチリルジメチルシリル基である場合：式
（XXIV）で表される化合物を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド等の溶媒に溶かし、tert-ブチリルジメチルシリ
ルクロリド及びイミダゾールと反応させる。 Ｒ５がテトラヒドロピラン−２−イル基である場合：式
（XXIV）で表される化合物を、適当な溶媒に溶解又は無
溶媒条件下でパラトルエンスルホン酸等を酸触媒とし
て、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピランと反応させる。 Ｒ５が４−メトキシテトラヒドロピラン−４−イル基で
ある場合：式（XXIV）で表される化合物を、適当な溶媒
に溶解又は無溶媒条件下でパラトルエンスルホン酸等を
酸触媒として、５，６−ジヒドロ−４−メトキシ−２Ｈ
−ピランと反応させる Ｒ５がトリイソプロピルシリルオキシメチル基である場
合：式（XXIV）で表される化合物を、ジクロロメタン等
の反応を阻害しない溶媒に溶かし、トリイソプロピルシ
リルオキシメチルクロリド及びエチルジイソプロピルア
ミン等の有機アミンと反応させる。
【００５１】ここで用いた式（XXIV）で表される化合物
は、式（XXV）：
は、式（XXV）：
【００５２】
【化３３】 （式中のＢは前記の通りである。）で表される化合物
を、適当な溶媒（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、ピリジン等）に溶かし、硝酸銀、過塩素酸銀、トリ
フルオロメタンスルホン酸銀等の非存在下若しくは存在
下で、１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テトライソ
プロピルジシロキサン、ジ−tert−ブチルジクロロシロ
キサン、ジ−tert−ブチルシリルビス（トリフルオロメ
タンスルホン酸）などと反応させることにより得ること
ができる。
を、適当な溶媒（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、ピリジン等）に溶かし、硝酸銀、過塩素酸銀、トリ
フルオロメタンスルホン酸銀等の非存在下若しくは存在
下で、１，３−ジクロロ−１，１，３，３−テトライソ
プロピルジシロキサン、ジ−tert−ブチルジクロロシロ
キサン、ジ−tert−ブチルシリルビス（トリフルオロメ
タンスルホン酸）などと反応させることにより得ること
ができる。
【００５３】ここで用いた式（XXV）で表される化合物
は文献記載の方法に従い合成可能である。合成方法の一
例として以下の方法を例示できる。天然のリボヌクレオ
シドの水酸基をクロロトリメチルシラン、ピリジンなど
で保護し、その後、酸塩化物や酸無水物などで核酸塩基
のアミノ基を保護する。この際、１−ヒドロキシベンゾ
トリアゾールや４−ジメチルアミノピリジン等の一般的
にアシル化の際に用いる触媒を添加してもよい。溶媒は
反応を阻害しないもの、例えば、ピリジン等を用いる。
次に、水酸化ナトリウム、アンモニア水、アミンなどの
アルカリやその水溶液、またはトリフルオロ酢酸、酢
酸、塩酸等の酸やその水溶液により水酸基の保護基を脱
保護する。この際、適当な有機溶媒を加えてもよい。以
上のような合成法により式（XXV）で表される化合物を
合成できる。
は文献記載の方法に従い合成可能である。合成方法の一
例として以下の方法を例示できる。天然のリボヌクレオ
シドの水酸基をクロロトリメチルシラン、ピリジンなど
で保護し、その後、酸塩化物や酸無水物などで核酸塩基
のアミノ基を保護する。この際、１−ヒドロキシベンゾ
トリアゾールや４−ジメチルアミノピリジン等の一般的
にアシル化の際に用いる触媒を添加してもよい。溶媒は
反応を阻害しないもの、例えば、ピリジン等を用いる。
次に、水酸化ナトリウム、アンモニア水、アミンなどの
アルカリやその水溶液、またはトリフルオロ酢酸、酢
酸、塩酸等の酸やその水溶液により水酸基の保護基を脱
保護する。この際、適当な有機溶媒を加えてもよい。以
上のような合成法により式（XXV）で表される化合物を
合成できる。
【００５４】本化合物は、ＤＮＡ、ＲＮＡ、ホスホロチ
オエートなどの核酸及びその類似物質の合成試薬として
使用することができる。本化合物を用いた核酸等の合成
は、既存の核酸合成試薬を用いた場合と同様の方法で行
うことができる。例えば、オリゴデオキシヌクレオチド
の合成は、文献公知の方法により自分で調整するかもし
くは市販品として入手可能な式（XXVI）：
オエートなどの核酸及びその類似物質の合成試薬として
使用することができる。本化合物を用いた核酸等の合成
は、既存の核酸合成試薬を用いた場合と同様の方法で行
うことができる。例えば、オリゴデオキシヌクレオチド
の合成は、文献公知の方法により自分で調整するかもし
くは市販品として入手可能な式（XXVI）：
【００５５】
【化３４】 で表される固相担体と保護ヌクレオシドがリンカーで結
合した化合物を原料として、以下の反応式１に従って行
うことができる。また反応式１の工程のすべてを市販の
ＤＮＡ自動合成基を用いて行うこともできる。 （反応式１） 工程１：酸処理 工程２：本化合物＋活性化剤＋反応溶媒 工程３：キャップ化剤添加 工程４：酸化剤添加 （工程２、３、４は所望のオリゴデオキシヌクレオチド
の鎖長から１を引いた回数繰り返し行う。） 工程５：切り出し剤添加 工程６：精製操作反応式１に記載されている化合物及び
試薬のうち、本化合物及び酸化剤以外については、オリ
ゴＤＮＡ合成に一般的に使用されているものであれば特
に限定されない。保護ヌクレオシドとしては、式（XXV
I）中のＲ１８が４，４’−ジメトキシトリチル基を表
し、Ｚがチミン−１−イル、Ｎ４−ベンゾイルシトシン
−１−イル、Ｎ４−アセチルシトシン−１−イル、Ｎ６
−ベンゾイルアデニン−９−イル、Ｎ６−フェノキシア
セチルアデニン−９−イル、Ｎ２−イソブチリルグアニ
ン−９−イル、Ｎ２−フェノキシアセチルグアニン−９
−イルで表される保護ヌクレオシド等を例示することが
できる。固相担体としては、コントロールドポアグラス
（ＣＰＧ）、ポリスチレン等を例示することができる。
式（XXVI）中のリンカーで表される基としては、３−ア
ミノプロピルやロング−チェーンアルキルアミノ（ＬＣ
ＡＡ）等を例示することができる。酸としては、トリフ
ルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸等を１から
５％の濃度になるようにジクロロメタン、クロロホル
ム、１，２−ジクロロエタン等の有機溶媒に溶解した溶
液等を例示することができる。反応溶媒としては、アセ
トニトリル、テトラヒドロフラン等、活性化剤としては
１Ｈ−テトラゾール、５−エチルチオテトラゾール、
３，４−ジクロロイミダゾール、３，４−ジシアノイミ
ダゾール、ベンゾトリアゾールトリフラート、イミダゾ
ールトリフラート等を例示することができる。キャップ
化試薬としては、４−ジメチルアミノピリジンやＮ−メ
チルイミダゾールをピリジン、アセトニトリル、テトラ
ヒドロフラン等の任意の混合溶媒に０．０５から１Ｍの
濃度になるように溶かした溶液と無水酢酸もしくは無水
メトキシ酢酸等とを適当な混合比で混合した溶液等を例
示することができる。切り出し剤としては、濃アンモニ
ア水、濃アンモニア水と反応を阻害しない有機溶媒例え
ばエタノール、メタノール、イソプロピルアルコール等
を任意の比率で混合した溶液、あるいは有機塩基例え
ば、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチル
アミン、１，８ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ
−７−エン等を反応を阻害しない有機有機溶媒例えばメ
タノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセ
トニトリル、テトラヒドロフランの単独溶媒もしくは任
意の比率の混合溶媒に溶解した溶液等を例示することが
できる。酸化剤としてはヨウ素をピリジン、水、アセト
ニトリル、テトラヒドロフラン等の無機溶媒や有機溶媒
もしくはそれらの任意の混合溶媒に０．０５から２Ｍの
濃度になるように溶解した溶液等を例示することができ
る。
合した化合物を原料として、以下の反応式１に従って行
うことができる。また反応式１の工程のすべてを市販の
ＤＮＡ自動合成基を用いて行うこともできる。 （反応式１） 工程１：酸処理 工程２：本化合物＋活性化剤＋反応溶媒 工程３：キャップ化剤添加 工程４：酸化剤添加 （工程２、３、４は所望のオリゴデオキシヌクレオチド
の鎖長から１を引いた回数繰り返し行う。） 工程５：切り出し剤添加 工程６：精製操作反応式１に記載されている化合物及び
試薬のうち、本化合物及び酸化剤以外については、オリ
ゴＤＮＡ合成に一般的に使用されているものであれば特
に限定されない。保護ヌクレオシドとしては、式（XXV
I）中のＲ１８が４，４’−ジメトキシトリチル基を表
し、Ｚがチミン−１−イル、Ｎ４−ベンゾイルシトシン
−１−イル、Ｎ４−アセチルシトシン−１−イル、Ｎ６
−ベンゾイルアデニン−９−イル、Ｎ６−フェノキシア
セチルアデニン−９−イル、Ｎ２−イソブチリルグアニ
ン−９−イル、Ｎ２−フェノキシアセチルグアニン−９
−イルで表される保護ヌクレオシド等を例示することが
できる。固相担体としては、コントロールドポアグラス
（ＣＰＧ）、ポリスチレン等を例示することができる。
式（XXVI）中のリンカーで表される基としては、３−ア
ミノプロピルやロング−チェーンアルキルアミノ（ＬＣ
ＡＡ）等を例示することができる。酸としては、トリフ
ルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸等を１から
５％の濃度になるようにジクロロメタン、クロロホル
ム、１，２−ジクロロエタン等の有機溶媒に溶解した溶
液等を例示することができる。反応溶媒としては、アセ
トニトリル、テトラヒドロフラン等、活性化剤としては
１Ｈ−テトラゾール、５−エチルチオテトラゾール、
３，４−ジクロロイミダゾール、３，４−ジシアノイミ
ダゾール、ベンゾトリアゾールトリフラート、イミダゾ
ールトリフラート等を例示することができる。キャップ
化試薬としては、４−ジメチルアミノピリジンやＮ−メ
チルイミダゾールをピリジン、アセトニトリル、テトラ
ヒドロフラン等の任意の混合溶媒に０．０５から１Ｍの
濃度になるように溶かした溶液と無水酢酸もしくは無水
メトキシ酢酸等とを適当な混合比で混合した溶液等を例
示することができる。切り出し剤としては、濃アンモニ
ア水、濃アンモニア水と反応を阻害しない有機溶媒例え
ばエタノール、メタノール、イソプロピルアルコール等
を任意の比率で混合した溶液、あるいは有機塩基例え
ば、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチル
アミン、１，８ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ
−７−エン等を反応を阻害しない有機有機溶媒例えばメ
タノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセ
トニトリル、テトラヒドロフランの単独溶媒もしくは任
意の比率の混合溶媒に溶解した溶液等を例示することが
できる。酸化剤としてはヨウ素をピリジン、水、アセト
ニトリル、テトラヒドロフラン等の無機溶媒や有機溶媒
もしくはそれらの任意の混合溶媒に０．０５から２Ｍの
濃度になるように溶解した溶液等を例示することができ
る。
【００５６】合成したオリゴヌクレオチドの精製はＣ８
からＣ１８の逆相カラムクロマトグラフィー、Ｃ８から
Ｃ１８逆相カートリッジカラム、陽イオン交換カラムク
ロマトグラフィー、陰イオン交換カラムクロマトグラフ
ィーなどの方法を単独で、もしくは高速液体クロマトグ
ラフィー装置との組み合わせにより用いて行う。この際
溶出溶媒としては例えばアセトニトリル、メタノール、
エタノール、イソプロピルアルコール、水等の単独溶媒
もしくは任意の比率の混合溶媒等があげられる。この場
合添加物としてリン酸ナトリウム、リン酸カリウム、塩
化ナトリウム、塩化カリウム、酢酸アンモニウム、酢酸
トリエチルアンモニウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウ
ム、トリス塩酸、エチレンジアミン四酢酸等を１ｍＭか
ら２Ｍの濃度で添加したり、溶液のｐＨを１から９の範
囲で調整することもできる。この方法で単離精製し収率
１％から９９%で得ることができる。
からＣ１８の逆相カラムクロマトグラフィー、Ｃ８から
Ｃ１８逆相カートリッジカラム、陽イオン交換カラムク
ロマトグラフィー、陰イオン交換カラムクロマトグラフ
ィーなどの方法を単独で、もしくは高速液体クロマトグ
ラフィー装置との組み合わせにより用いて行う。この際
溶出溶媒としては例えばアセトニトリル、メタノール、
エタノール、イソプロピルアルコール、水等の単独溶媒
もしくは任意の比率の混合溶媒等があげられる。この場
合添加物としてリン酸ナトリウム、リン酸カリウム、塩
化ナトリウム、塩化カリウム、酢酸アンモニウム、酢酸
トリエチルアンモニウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウ
ム、トリス塩酸、エチレンジアミン四酢酸等を１ｍＭか
ら２Ｍの濃度で添加したり、溶液のｐＨを１から９の範
囲で調整することもできる。この方法で単離精製し収率
１％から９９%で得ることができる。
【００５７】
【実施例】（実施例１）（２−シアノエトキシ）（５’−Ｏ−トリフェニルメタ
ンスルフェニルチミジン−３’−Ｏ−イル）Ｎ，Ｎ−ジ
イソプロピルホスホロアミダイト
ンスルフェニルチミジン−３’−Ｏ−イル）Ｎ，Ｎ−ジ
イソプロピルホスホロアミダイト
【００５８】
【化３５】 ５’−Ｏ−トリフェニルメタンスルフェニルチミジン
（５２０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（５
ｍｌ）に溶解し、ここにＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチル
アミン（５９３ μｌ，３．４ ｍｍｏｌ）とクロロ
（２−シアノエトキシ）（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミ
ノ）ホスフィン（４８３ μｌ，２．２ｍｍｏｌ）を加
え室温で７０分反応を行った。反応系をクロロホルム
（３０ｍｌ）で希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
（３０ｍｌ）で３回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル
＝７：３から１：１）で精製し表題化合物（４２５ ｍ
ｇ，６０％）を得た。
（５２０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（５
ｍｌ）に溶解し、ここにＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチル
アミン（５９３ μｌ，３．４ ｍｍｏｌ）とクロロ
（２−シアノエトキシ）（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミ
ノ）ホスフィン（４８３ μｌ，２．２ｍｍｏｌ）を加
え室温で７０分反応を行った。反応系をクロロホルム
（３０ｍｌ）で希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
（３０ｍｌ）で３回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル
＝７：３から１：１）で精製し表題化合物（４２５ ｍ
ｇ，６０％）を得た。
【００５９】１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨ
ｚ）１．１８−１．２９（ｍ，１２Ｈ），８．２７（１
Ｈ，ｂｒ，ＮＨ），１．９０（３Ｈ，ｓ），２．００
（１Ｈ，ｍ），２．３５（１Ｈ，ｍ），２．５３（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），３．４４−３．７８（６
Ｈ，ｍ），３．９１（１Ｈ，ｓ），４．２４（１Ｈ，
ｍ），６．２６（１Ｈ，ｍ），７．２６−７．３４（１
５Ｈ，ｍ），７．４７（１Ｈ，ｓ）；３１Ｐ−ＮＭＲ
（ＣＤＣｌ３，１０９．４ＭＨｚ）δ１４９．４，１４
９．７． （実施例２）（２−シアノエトキシ）｛５’−Ｏ−（４−メトキシフ
ェニル）ジフェニルメタンスルフェニルチミジン−３’
−Ｏ−イル｝Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイ
ト
ｚ）１．１８−１．２９（ｍ，１２Ｈ），８．２７（１
Ｈ，ｂｒ，ＮＨ），１．９０（３Ｈ，ｓ），２．００
（１Ｈ，ｍ），２．３５（１Ｈ，ｍ），２．５３（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），３．４４−３．７８（６
Ｈ，ｍ），３．９１（１Ｈ，ｓ），４．２４（１Ｈ，
ｍ），６．２６（１Ｈ，ｍ），７．２６−７．３４（１
５Ｈ，ｍ），７．４７（１Ｈ，ｓ）；３１Ｐ−ＮＭＲ
（ＣＤＣｌ３，１０９．４ＭＨｚ）δ１４９．４，１４
９．７． （実施例２）（２−シアノエトキシ）｛５’−Ｏ−（４−メトキシフ
ェニル）ジフェニルメタンスルフェニルチミジン−３’
−Ｏ−イル｝Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイ
ト
【００６０】
【化３６】 ５’−Ｏ−｛４−（メトキシフェニル）ジフェニルメタ
ンスルフェニル｝チミジン（５５０ ｍｇ，１．０ ｍ
ｍｏｌ）をジクロロメタン（５ｍｌ）に溶解し、Ｎ，Ｎ
−ジイソプロピルエチルアミン（４０１ μｌ，２．３
ｍｍｏｌ）とクロロ（２−シアノエトキシ）（Ｎ，Ｎ
−ジイソプロピルアミノ）ホスフィン（３２５ μｌ，
１．５ｍｍｏｌ）を加え室温で６０分反応を行った。反
応系をクロロホルム（３０ｍｌ）で希釈し、飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液（３０ｍｌ）で３回洗浄した。有機
層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去
した。残渣をジエチルエーテル−ジイソプロピルエーテ
ル（５ ｍｌ−２０ ｍｌ）に溶解し、１０％炭酸ナト
リウム水溶液（３０ ｍｌ）で１５回洗浄した。有機層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を減圧下留去し、
表題化合物（６１３ｍｇ，８２％）を得た。
ンスルフェニル｝チミジン（５５０ ｍｇ，１．０ ｍ
ｍｏｌ）をジクロロメタン（５ｍｌ）に溶解し、Ｎ，Ｎ
−ジイソプロピルエチルアミン（４０１ μｌ，２．３
ｍｍｏｌ）とクロロ（２−シアノエトキシ）（Ｎ，Ｎ
−ジイソプロピルアミノ）ホスフィン（３２５ μｌ，
１．５ｍｍｏｌ）を加え室温で６０分反応を行った。反
応系をクロロホルム（３０ｍｌ）で希釈し、飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液（３０ｍｌ）で３回洗浄した。有機
層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去
した。残渣をジエチルエーテル−ジイソプロピルエーテ
ル（５ ｍｌ−２０ ｍｌ）に溶解し、１０％炭酸ナト
リウム水溶液（３０ ｍｌ）で１５回洗浄した。有機層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を減圧下留去し、
表題化合物（６１３ｍｇ，８２％）を得た。
【００６１】１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨ
ｚ）１．１８−１．２９（ｍ，１２Ｈ），１．９０（３
Ｈ，ｓ），２．００（１Ｈ，ｍ），２．３５（１Ｈ，
ｍ），２．５３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），２．６
０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３ Ｈｚ），３．３８−３．７
７（７Ｈ，ｍ），３．８０（３Ｈ，ｓ），４．２４（１
Ｈ，ｍ），６．２６（１Ｈ，ｍ），６．８３（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ），７．２２−７．４３（１２
Ｈ，ｍ），７．４９，７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝ １
０．６ Ｈｚ）８．３２（１Ｈ，ｂｒ，ＮＨ）；３１Ｐ
−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，１０９．４ＭＨｚ）δ１４９．
３，１４９．７． （実施例３）（２−シアノエトキシ）｛５’−Ｏ−ビス（４−メトキ
シフェニル）フェニルメタンスルフェニルチミジン−
３’−Ｏ−イル｝Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミ
ダイト
ｚ）１．１８−１．２９（ｍ，１２Ｈ），１．９０（３
Ｈ，ｓ），２．００（１Ｈ，ｍ），２．３５（１Ｈ，
ｍ），２．５３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），２．６
０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３ Ｈｚ），３．３８−３．７
７（７Ｈ，ｍ），３．８０（３Ｈ，ｓ），４．２４（１
Ｈ，ｍ），６．２６（１Ｈ，ｍ），６．８３（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ），７．２２−７．４３（１２
Ｈ，ｍ），７．４９，７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝ １
０．６ Ｈｚ）８．３２（１Ｈ，ｂｒ，ＮＨ）；３１Ｐ
−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，１０９．４ＭＨｚ）δ１４９．
３，１４９．７． （実施例３）（２−シアノエトキシ）｛５’−Ｏ−ビス（４−メトキ
シフェニル）フェニルメタンスルフェニルチミジン−
３’−Ｏ−イル｝Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミ
ダイト
【００６２】
【化３７】 ５’−Ｏ−｛４−（メトキシフェニル）ジフェニルメタ
ンスルフェニル｝チミジンをジクロロメタンに溶解し、
Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンとクロロ（２−シ
アノエトキシ）（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ）ホス
フィンを加え室温で反応を行った。反応系をクロロホル
ムで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で３回洗浄
した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
減圧下留去した。残渣をジエチルエーテル−ジイソプロ
ピルエーテルに溶解し、１０％炭酸ナトリウム水溶液で
１５回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
後溶媒を減圧下留去し、表題化合物を得た。
ンスルフェニル｝チミジンをジクロロメタンに溶解し、
Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンとクロロ（２−シ
アノエトキシ）（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ）ホス
フィンを加え室温で反応を行った。反応系をクロロホル
ムで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で３回洗浄
した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
減圧下留去した。残渣をジエチルエーテル−ジイソプロ
ピルエーテルに溶解し、１０％炭酸ナトリウム水溶液で
１５回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
後溶媒を減圧下留去し、表題化合物を得た。
【００６３】１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨ
ｚ）１．１８−１．２９（ｍ，１２Ｈ），１．９０（３
Ｈ，ｓ），２．００（１Ｈ，ｍ），２．３５（１Ｈ，
ｍ），２．５４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），２．６
１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３ Ｈｚ），３．３８−３．７
７（７Ｈ，ｍ），３．９４（６Ｈ，ｓ），４．２６（１
Ｈ，ｍ），６．２８（１Ｈ，ｍ），６．８３（４Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７．２ Ｈｚ），７．２３−７．３４（９Ｈ，
ｍ），７．５０，７．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝ １０．９
Ｈｚ），８．１４（１Ｈ，ｂｒ，ＮＨ）；３１Ｐ−Ｎ
ＭＲ（ＣＤＣｌ３，１０９．４ＭＨｚ）δ１４９．４，
１４９．７． （原料合成例１）（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンチオール
ｚ）１．１８−１．２９（ｍ，１２Ｈ），１．９０（３
Ｈ，ｓ），２．００（１Ｈ，ｍ），２．３５（１Ｈ，
ｍ），２．５４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），２．６
１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３ Ｈｚ），３．３８−３．７
７（７Ｈ，ｍ），３．９４（６Ｈ，ｓ），４．２６（１
Ｈ，ｍ），６．２８（１Ｈ，ｍ），６．８３（４Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７．２ Ｈｚ），７．２３−７．３４（９Ｈ，
ｍ），７．５０，７．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝ １０．９
Ｈｚ），８．１４（１Ｈ，ｂｒ，ＮＨ）；３１Ｐ−Ｎ
ＭＲ（ＣＤＣｌ３，１０９．４ＭＨｚ）δ１４９．４，
１４９．７． （原料合成例１）（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンチオール
【００６４】
【化３８】 （４−メトキシフェニル）ジフェニルメタノール（１２
４ ｇ，０．４３ ｍｏｌ）をトルエン（２０００ ｍ
ｌ）に溶解し、ここにローソン試薬（１０４ｇ，０．２
４ ｍｏｌ）を加え７５℃まで昇温した。反応終了後、
反応系を室温に戻した後水（１０００ ｍｌ）で１回洗
浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒
を減圧留去した後残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（ヘキサン）で精製し表題化合物（８０ ｇ，６
１％）を得た。
４ ｇ，０．４３ ｍｏｌ）をトルエン（２０００ ｍ
ｌ）に溶解し、ここにローソン試薬（１０４ｇ，０．２
４ ｍｏｌ）を加え７５℃まで昇温した。反応終了後、
反応系を室温に戻した後水（１０００ ｍｌ）で１回洗
浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒
を減圧留去した後残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（ヘキサン）で精製し表題化合物（８０ ｇ，６
１％）を得た。
【００６５】１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨ
ｚ）δ３．０１（１Ｈ，ｓ），３．７８（３Ｈ，ｓ），
６．８０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９ Ｈｚ），７．１５
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９ Ｈｚ），７．２１−７．２７
（１２Ｈ，ｍ）． （原料合成例２）ビス（４−メトキシフェニル）フェニルメタンチオール
ｚ）δ３．０１（１Ｈ，ｓ），３．７８（３Ｈ，ｓ），
６．８０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９ Ｈｚ），７．１５
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９ Ｈｚ），７．２１−７．２７
（１２Ｈ，ｍ）． （原料合成例２）ビス（４−メトキシフェニル）フェニルメタンチオール
【００６６】
【化３９】 ビス（４−メトキシフェニル）フェニルメタノール（１
５ ｇ，４６．８ ｍｍｏｌ）をトルエン（３００ ｍ
ｌ）に溶解し、ここにローソン試薬（１０．３ｇ，２
３．４ ｍｍｏｌ）を加え７５℃まで昇温した。反応終
了後、反応系を室温に戻した後水（３００ ｍｌ）で２
回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
溶媒を減圧留去した後残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（ヘキサン）で精製し表題化合物（５．４
ｇ，３４％）を得た。 ＩＲ（ＫＢｒ） １６０７，１５０４，１４８７，１４４５，１３００，
１２５０，１１８０，１０２８，８１６，７８１，７０
０，５７７ｃｍ−１ （原料合成例３）（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニ
ルクロリド
５ ｇ，４６．８ ｍｍｏｌ）をトルエン（３００ ｍ
ｌ）に溶解し、ここにローソン試薬（１０．３ｇ，２
３．４ ｍｍｏｌ）を加え７５℃まで昇温した。反応終
了後、反応系を室温に戻した後水（３００ ｍｌ）で２
回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
溶媒を減圧留去した後残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（ヘキサン）で精製し表題化合物（５．４
ｇ，３４％）を得た。 ＩＲ（ＫＢｒ） １６０７，１５０４，１４８７，１４４５，１３００，
１２５０，１１８０，１０２８，８１６，７８１，７０
０，５７７ｃｍ−１ （原料合成例３）（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニ
ルクロリド
【００６７】
【化４０】 （４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンチオール
（５．０ ｇ，１６．３ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサ
ン（５０ ｍｌ）に溶解し、ここに５，５−ジメチル−
１，３−ジクロロヒダントイン（１．６ｇ，８．１ ｍ
ｍｏｌ）を加え室温で撹拌した。反応終了後、反応系を
ジエチルエーテル（１００ ｍｌ）で希釈し、飽和食塩
水（１００ ｍｌ）で２回、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液（１００ ｍｌ）で５回洗浄した。有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣
に酢酸エチルを加えて、生じた結晶を瀘取し、表題化合
物（２．５ ｇ，４５％）を得た。
（５．０ ｇ，１６．３ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサ
ン（５０ ｍｌ）に溶解し、ここに５，５−ジメチル−
１，３−ジクロロヒダントイン（１．６ｇ，８．１ ｍ
ｍｏｌ）を加え室温で撹拌した。反応終了後、反応系を
ジエチルエーテル（１００ ｍｌ）で希釈し、飽和食塩
水（１００ ｍｌ）で２回、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液（１００ ｍｌ）で５回洗浄した。有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣
に酢酸エチルを加えて、生じた結晶を瀘取し、表題化合
物（２．５ ｇ，４５％）を得た。
【００６８】１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨ
ｚ）δ３．８１（３Ｈ，ｓ），６．８５（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．９ Ｈｚ），７．２３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．２
Ｈｚ），７．３４−７．３５（１２Ｈ，ｍ）． （原料合成例４）ビス（４−メトキシフェニル）フェニルメタンスルフェ
ニルクロリド
ｚ）δ３．８１（３Ｈ，ｓ），６．８５（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．９ Ｈｚ），７．２３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．２
Ｈｚ），７．３４−７．３５（１２Ｈ，ｍ）． （原料合成例４）ビス（４−メトキシフェニル）フェニルメタンスルフェ
ニルクロリド
【００６９】
【化４１】 ビス（４−メトキシフェニル）フェニルメタンチオール
をトルエンに溶解し、ここにローソン試薬を加え７５℃
まで昇温した。反応終了後、反応系を室温に戻した後、
水で２回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、溶媒を減圧留去した後残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製し表題化合物を得た。 （原料合成例５）５’−Ｏ−トリフェニルメタンスルフェニル−３’−Ｏ
−ｔ−ブチルジメチルシリルチミジン
をトルエンに溶解し、ここにローソン試薬を加え７５℃
まで昇温した。反応終了後、反応系を室温に戻した後、
水で２回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、溶媒を減圧留去した後残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製し表題化合物を得た。 （原料合成例５）５’−Ｏ−トリフェニルメタンスルフェニル−３’−Ｏ
−ｔ−ブチルジメチルシリルチミジン
【００７０】
【化４２】 ３’−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリルチミジン（２．０
ｇ，５．６ ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１６
ｍｌ）に溶解し、ここにリチウムヘキサメチルジシラ
ジド（２．０ ｇ，１２．３ ｍｍｏｌ）を加え室温で
２５分間撹拌した。ここにトリフェニルメタンスルフェ
ニルクロリド（１．７ ｇ，５．６ ｍｍｏｌ）を加え
室温下３０時間撹拌後、反応系を酢酸エチル（５０ ｍ
ｌ）で希釈し、水（５０ ｍｌ）１回洗浄した。有機層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去し
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサ
ン：酢酸エチル＝４：１）で精製し表題化合物（１．８
ｇ，５１％）を得た。
ｇ，５．６ ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１６
ｍｌ）に溶解し、ここにリチウムヘキサメチルジシラ
ジド（２．０ ｇ，１２．３ ｍｍｏｌ）を加え室温で
２５分間撹拌した。ここにトリフェニルメタンスルフェ
ニルクロリド（１．７ ｇ，５．６ ｍｍｏｌ）を加え
室温下３０時間撹拌後、反応系を酢酸エチル（５０ ｍ
ｌ）で希釈し、水（５０ ｍｌ）１回洗浄した。有機層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去し
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサ
ン：酢酸エチル＝４：１）で精製し表題化合物（１．８
ｇ，５１％）を得た。
【００７１】１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨ
ｚ）δ０．１０（６Ｈ，ｓ），０．９３（９Ｈ，ｓ），
１．９２−１．２０（１Ｈ，ｍ），２．０２（３Ｈ，
ｓ），２．２５（１Ｈ，ｍ），３．５６（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝３．３ Ｈｚ，Ｊ＝１１．２Ｈｚ），３．６０（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．０ Ｈｚ，Ｊ＝１１．２Ｈｚ），
３，７７（１Ｈ，ｍ），４．１５（１Ｈ，ｍ），６．３
４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．３６−７．４７
（１２Ｈ，ｍ），７．５６（１Ｈ，ｓ），８．２６（１
Ｈ，ｂｒ）． （原料合成例６）５’−Ｏ−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタン
スルフェニル−３’−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリルチ
ミジン
ｚ）δ０．１０（６Ｈ，ｓ），０．９３（９Ｈ，ｓ），
１．９２−１．２０（１Ｈ，ｍ），２．０２（３Ｈ，
ｓ），２．２５（１Ｈ，ｍ），３．５６（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝３．３ Ｈｚ，Ｊ＝１１．２Ｈｚ），３．６０（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．０ Ｈｚ，Ｊ＝１１．２Ｈｚ），
３，７７（１Ｈ，ｍ），４．１５（１Ｈ，ｍ），６．３
４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．３６−７．４７
（１２Ｈ，ｍ），７．５６（１Ｈ，ｓ），８．２６（１
Ｈ，ｂｒ）． （原料合成例６）５’−Ｏ−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタン
スルフェニル−３’−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリルチ
ミジン
【００７２】
【化４３】 ３’−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリルチミジン（３５６
ｍｇ，１．０ ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（７
ｍｌ）に溶解し、ここにリチウムヘキサメチルジシラ
ジド（１．５３ ｇ，２．２ ｍｍｏｌ）を加え室温で
２５分間撹拌した。ここに（４−メトキシフェニル）ジ
フェニルメタンスルフェニルクロリド（５４５ ｍｇ，
１．６ ｍｍｏｌ）を加え室温下１時間撹拌後、反応系
に濃アンモニア水（１ ｍｌ）を加え室温で５分間撹拌
した。反応系を酢酸エチル（２０ｍｌ）で希釈し、飽和
食塩水（２０ ｍｌ）で３回洗浄した後、有機層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：
酢酸エチル＝４：１）で精製し表題化合物（４９０ ｍ
ｇ，７４％）を得た。
ｍｇ，１．０ ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（７
ｍｌ）に溶解し、ここにリチウムヘキサメチルジシラ
ジド（１．５３ ｇ，２．２ ｍｍｏｌ）を加え室温で
２５分間撹拌した。ここに（４−メトキシフェニル）ジ
フェニルメタンスルフェニルクロリド（５４５ ｍｇ，
１．６ ｍｍｏｌ）を加え室温下１時間撹拌後、反応系
に濃アンモニア水（１ ｍｌ）を加え室温で５分間撹拌
した。反応系を酢酸エチル（２０ｍｌ）で希釈し、飽和
食塩水（２０ ｍｌ）で３回洗浄した後、有機層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：
酢酸エチル＝４：１）で精製し表題化合物（４９０ ｍ
ｇ，７４％）を得た。
【００７３】１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨ
ｚ）δ０．０１（６Ｈ，ｓ），０．８３（９Ｈ，ｓ），
１．９１（４Ｈ，ｍ），２．１４（１Ｈ，ｍ），３．４
０（１Ｈ，ｄ），３．５２（１Ｈ，ｄ），３，６９（１
Ｈ，ｍ），３．８１（３Ｈ，ｓ），４．０８（１Ｈ，
ｍ），６．２５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．９ Ｈｚ），６．
８３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２ Ｈｚ），７．２３−７．
３５（１２Ｈ，ｍ），７．４８（１Ｈ，ｓ），８．３３
（１Ｈ，ｂｒ）． （原料合成例６）５’−Ｏ−ビス（４−メトキシフェニル）フェニルメタ
ンスルフェニル−３’−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル
チミジン
ｚ）δ０．０１（６Ｈ，ｓ），０．８３（９Ｈ，ｓ），
１．９１（４Ｈ，ｍ），２．１４（１Ｈ，ｍ），３．４
０（１Ｈ，ｄ），３．５２（１Ｈ，ｄ），３，６９（１
Ｈ，ｍ），３．８１（３Ｈ，ｓ），４．０８（１Ｈ，
ｍ），６．２５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．９ Ｈｚ），６．
８３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２ Ｈｚ），７．２３−７．
３５（１２Ｈ，ｍ），７．４８（１Ｈ，ｓ），８．３３
（１Ｈ，ｂｒ）． （原料合成例６）５’−Ｏ−ビス（４−メトキシフェニル）フェニルメタ
ンスルフェニル−３’−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル
チミジン
【００７４】
【化４４】 ３’−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリルチミジンをテトラ
ヒドロフランに溶解し、ここにリチウムヘキサメチルジ
シラジドを加え室温で２５分間撹拌した。ここにビス
（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニ
ルクロリドを加え室温下１時間撹拌後、反応系に濃アン
モニア水を加え室温で５分間撹拌した。反応系を酢酸エ
チルで希釈し、飽和食塩水で３回洗浄した後、有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
し表題化合物を得た。 （原料合成例７）５’−Ｏ−トリフェニルメタンスルフェニルチミジン
ヒドロフランに溶解し、ここにリチウムヘキサメチルジ
シラジドを加え室温で２５分間撹拌した。ここにビス
（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニ
ルクロリドを加え室温下１時間撹拌後、反応系に濃アン
モニア水を加え室温で５分間撹拌した。反応系を酢酸エ
チルで希釈し、飽和食塩水で３回洗浄した後、有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
し表題化合物を得た。 （原料合成例７）５’−Ｏ−トリフェニルメタンスルフェニルチミジン
【００７５】
【化４５】 ５’−Ｏ−トリフェニルメタンスルフェニル−３’−Ｏ
−ｔ−ブチルジメチルシリルチミジン（１．８ｇ，２．
９ ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１５ｍｌ）に溶
解し、ここにテトラブチルアンモニウムフルオリド（８
３４ ｍｇ，３．２ ｍｍｏｌ）と酢酸（１９２ ｍ
ｇ，３．２ ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。
反応系に水（１００ ｍｌ）を加え、酢酸エチル（１２
０ ｍｌ）で１回抽出した後、有機層を水（１００ ｍ
ｌ）で２回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾
燥した後、溶媒を減圧下留去した残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１
−４：６）で精製し、表題化合物（１．１ ｇ，７３
％）を得た。
−ｔ−ブチルジメチルシリルチミジン（１．８ｇ，２．
９ ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１５ｍｌ）に溶
解し、ここにテトラブチルアンモニウムフルオリド（８
３４ ｍｇ，３．２ ｍｍｏｌ）と酢酸（１９２ ｍ
ｇ，３．２ ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。
反応系に水（１００ ｍｌ）を加え、酢酸エチル（１２
０ ｍｌ）で１回抽出した後、有機層を水（１００ ｍ
ｌ）で２回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾
燥した後、溶媒を減圧下留去した残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１
−４：６）で精製し、表題化合物（１．１ ｇ，７３
％）を得た。
【００７６】１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨ
ｚ）δ１．８５（４Ｈ，ｍ），２．１４（１Ｈ，ｍ），
３．２９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．７ Ｈｚ，Ｊ＝１．
６ Ｈｚ），３．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．７ Ｈ
ｚ，３．９ Ｈｚ），３，６１（１Ｈ，ｍ），３．９２
（１Ｈ，ｍ），６．１５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８ Ｈ
ｚ），７．１０−７．３２（１５Ｈ，ｍ），７．４０
（１Ｈ，ｓ），８．１２（１Ｈ，ｂｒ）． （原料合成例８）５’−Ｏ−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタン
スルフェニルチミジン
ｚ）δ１．８５（４Ｈ，ｍ），２．１４（１Ｈ，ｍ），
３．２９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．７ Ｈｚ，Ｊ＝１．
６ Ｈｚ），３．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．７ Ｈ
ｚ，３．９ Ｈｚ），３，６１（１Ｈ，ｍ），３．９２
（１Ｈ，ｍ），６．１５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８ Ｈ
ｚ），７．１０−７．３２（１５Ｈ，ｍ），７．４０
（１Ｈ，ｓ），８．１２（１Ｈ，ｂｒ）． （原料合成例８）５’−Ｏ−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタン
スルフェニルチミジン
【００７７】
【化４６】 ５’−Ｏ−（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタン
スルフェニル−３’−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリルチ
ミジン（７９２ ｍｇ，１．２ｍｍｏｌ）をテトラヒド
ロフラン（４ ｍｌ）に溶解し、ここにテトラブチルア
ンモニウムフルオリド（３９０ ｍｇ，１．５ ｍｍｏ
ｌ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応系を酢酸エチ
ル（３０ ｍｌ）で希釈し、飽和食塩水（２０ ｍｌ）
で３回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
した後、溶媒を減圧下留去した残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：６）
で精製し、表題化合物（５０５ ｍｇ，７５％）を得
た。
スルフェニル−３’−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリルチ
ミジン（７９２ ｍｇ，１．２ｍｍｏｌ）をテトラヒド
ロフラン（４ ｍｌ）に溶解し、ここにテトラブチルア
ンモニウムフルオリド（３９０ ｍｇ，１．５ ｍｍｏ
ｌ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応系を酢酸エチ
ル（３０ ｍｌ）で希釈し、飽和食塩水（２０ ｍｌ）
で３回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
した後、溶媒を減圧下留去した残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：６）
で精製し、表題化合物（５０５ ｍｇ，７５％）を得
た。
【００７８】１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨ
ｚ）δ１．９５（３Ｈ，ｍ），２．００（１Ｈ，ｍ），
２．２５（１Ｈ，ｍ），３．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
１．７Ｈｚ），３．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝ Ｈｚ，Ｊ
＝２．３ Ｈｚ），３，７３（１Ｈ，ｍ），３．８２
（３Ｈ，ｓ），４．０７（１Ｈ，ｍ），６．２６（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６ Ｈｚ），６．８５（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．６ Ｈｚ），７．２４−７．３５（１２Ｈ，
ｍ），７．５１（１Ｈ，ｓ），８．３３（１Ｈ，ｂ
ｒ）． （原料合成例９）５’−Ｏ−ビス（４−メトキシフェニル）フェニルメタ
ンスルフェニルチミジン
ｚ）δ１．９５（３Ｈ，ｍ），２．００（１Ｈ，ｍ），
２．２５（１Ｈ，ｍ），３．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
１．７Ｈｚ），３．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝ Ｈｚ，Ｊ
＝２．３ Ｈｚ），３，７３（１Ｈ，ｍ），３．８２
（３Ｈ，ｓ），４．０７（１Ｈ，ｍ），６．２６（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６ Ｈｚ），６．８５（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．６ Ｈｚ），７．２４−７．３５（１２Ｈ，
ｍ），７．５１（１Ｈ，ｓ），８．３３（１Ｈ，ｂ
ｒ）． （原料合成例９）５’−Ｏ−ビス（４−メトキシフェニル）フェニルメタ
ンスルフェニルチミジン
【００７９】
【化４７】 ５’−Ｏ−ビス（４−メトキシフェニル）フェニルメタ
ンスルフェニル−３’−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル
チミジンをテトラヒドロフランに溶解し、ここにテトラ
ブチルアンモニウムフルオリドを加え、室温で１時間撹
拌した。反応系を酢酸エチルで希釈し、飽和食塩水で洗
浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、
溶媒を減圧下留去した残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製し、表題化合物を得た。 （参考例１）（２−シアノエトキシ）｛５’−Ｏ−（４
−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルチ
ミジン−３’−Ｏ−イル｝Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホス
ホロアミダイトを用いたペンタチミジル酸の合成 ペンタチミジル酸は以下の工程に従い合成した。 （１）市販の５’−Ｏ−４，４’−ジメトキシトリチル
チミジンを担持したＣＰＧ固相担体（１１ ｍｇ，０．
５ μｍｏｌ）をグラスフィルターに入れ、１％トリフ
ルオロ酢酸のジクロロメタン溶液（０．５ ｍｌ）で３
回洗浄した。 （２）固相担体をアセトニトリル（０．５ ｍｌ）で３
回洗浄した。 （３）反応容器にアセトニトリル（０．１３ ｍｌ）を
加え、ここに（２−シアノエトキシ）｛５’−Ｏ−（４
−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルチ
ミジン−３’−Ｏ−イル｝Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホス
ホロアミダイト（７．５ ｍｇ，１０μｍｏｌ）と１Ｈ
−テトラゾール（２．８ ｍｇ，４０μｍｏｌ）を加え
室温で１分間振盪した。 （４）上清を流しだし、固相担体をアセトニトリルで３
回洗浄した。 （５）反応容器に０．１ Ｍ ジメチルアミノピリジン
のピリジン溶液と無水酢酸とを体積比９：１で混合した
溶液を加え、室温で２分間振盪した。 （６）上清を流しだし、固相担体をアセトニトリルで３
回洗浄した。 （７）反応容器にヨウ素をピリジンとアセトニトリルと
水とを９：１０：１の体積比で混合した溶媒に０．５Ｍ
になるように溶解した溶液を加え、室温で２分間振盪し
た。 （８）（３）から（７）の操作を合計４回繰り返した。 （９）反応容器に濃アンモニア水を加え室温で３０分振
盪した。 （１０）上清を集め減圧下濃縮した。 （１１）残渣を逆相高速液体クロマトグラフィー（Ｗａ
ｔｅｒｓ μＢｏｎｄａｓｐｈｅｒｅ，アセトニトリ
ル：０．１Ｍ酢酸アンモニウム＝０：１００から３０：
７０、３０分の均等勾配）で精製して目的物を得た。：
保持時間１２．５分、MＡＬＤＩ ＴＯＦ−ＭＡＳＳ
［Ｍ＋１］＝１４５５。 （参考例２）（２−シアノエトキシ）｛５’−Ｏ−（４
−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルチ
ミジン−３’−Ｏ−イル｝Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホス
ホロアミダイトを用いたペンタチミジル酸ホスホロチオ
エートの合成 ペンタチミジル酸ホスホロチオエートは以下の工程に従
い合成した。 （１）市販の５’−Ｏ−４，４’−ジメトキシトリチル
チミジンを担持したＣＰＧ固相担体（１１ ｍｇ，０．
５ μｍｏｌ）をグラスフィルターに入れ、１％トリフ
ルオロ酢酸のジクロロメタン溶液（０．５ ｍｌ）で３
回洗浄した。 （２）固相担体をアセトニトリル（０．５ ｍｌ）で３
回洗浄した。 （３）反応容器にアセトニトリル（０．１３ ｍｌ）を
加え、ここに（２−シアノエトキシ）｛５’−Ｏ−（４
−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルチ
ミジン−３’−Ｏ−イル｝Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホス
ホロアミダイト（７．５ ｍｇ，１０μｍｏｌ）と１Ｈ
−テトラゾール（２．８ ｍｇ，４０μｍｏｌ）を加え
室温で１分間振盪した。 （４）上清を流しだし、固相担体をアセトニトリルで３
回洗浄した。 （５）反応容器に０．１ Ｍ ジメチルアミノピリジン
のピリジン溶液と無水酢酸とを体積比９：１で混合した
溶液を加え、室温で２分間振盪した。 （６）上清を流しだし、固相担体をアセトニトリルで３
回洗浄した。 （７）反応容器に０．５ Ｍ テトラエチルチウラムジ
スルフィドのアセトニトリル溶液を加え、室温で１５分
間振盪した。 （８）上清を流しだし、固相担体をアセトニトリルで３
回洗浄した。 （９）反応容器にヨウ素をピリジンとアセトニトリルと
水とを９：１０：１の体積比で混合した溶媒に０．５Ｍ
になるように溶解した溶液を加え、室温で２分間振盪し
た。 （１０）（３）から（９）の操作を合計４回繰り返し
た。 （１１）反応容器に濃アンモニア水を加え室温で３０分
振盪した。 （１２）上清を集め減圧下濃縮した。 （１３）残渣を逆相高速液体クロマトグラフィー（Ｗａ
ｔｅｒｓ μＢｏｎｄａｓｐｈｅｒｅ，アセトニトリ
ル：０．１Ｍ酢酸アンモニウム＝０：１００から３０：
７０、３０分の均等勾配）で精製して目的物を得た。
ンスルフェニル−３’−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル
チミジンをテトラヒドロフランに溶解し、ここにテトラ
ブチルアンモニウムフルオリドを加え、室温で１時間撹
拌した。反応系を酢酸エチルで希釈し、飽和食塩水で洗
浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、
溶媒を減圧下留去した残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製し、表題化合物を得た。 （参考例１）（２−シアノエトキシ）｛５’−Ｏ−（４
−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルチ
ミジン−３’−Ｏ−イル｝Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホス
ホロアミダイトを用いたペンタチミジル酸の合成 ペンタチミジル酸は以下の工程に従い合成した。 （１）市販の５’−Ｏ−４，４’−ジメトキシトリチル
チミジンを担持したＣＰＧ固相担体（１１ ｍｇ，０．
５ μｍｏｌ）をグラスフィルターに入れ、１％トリフ
ルオロ酢酸のジクロロメタン溶液（０．５ ｍｌ）で３
回洗浄した。 （２）固相担体をアセトニトリル（０．５ ｍｌ）で３
回洗浄した。 （３）反応容器にアセトニトリル（０．１３ ｍｌ）を
加え、ここに（２−シアノエトキシ）｛５’−Ｏ−（４
−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルチ
ミジン−３’−Ｏ−イル｝Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホス
ホロアミダイト（７．５ ｍｇ，１０μｍｏｌ）と１Ｈ
−テトラゾール（２．８ ｍｇ，４０μｍｏｌ）を加え
室温で１分間振盪した。 （４）上清を流しだし、固相担体をアセトニトリルで３
回洗浄した。 （５）反応容器に０．１ Ｍ ジメチルアミノピリジン
のピリジン溶液と無水酢酸とを体積比９：１で混合した
溶液を加え、室温で２分間振盪した。 （６）上清を流しだし、固相担体をアセトニトリルで３
回洗浄した。 （７）反応容器にヨウ素をピリジンとアセトニトリルと
水とを９：１０：１の体積比で混合した溶媒に０．５Ｍ
になるように溶解した溶液を加え、室温で２分間振盪し
た。 （８）（３）から（７）の操作を合計４回繰り返した。 （９）反応容器に濃アンモニア水を加え室温で３０分振
盪した。 （１０）上清を集め減圧下濃縮した。 （１１）残渣を逆相高速液体クロマトグラフィー（Ｗａ
ｔｅｒｓ μＢｏｎｄａｓｐｈｅｒｅ，アセトニトリ
ル：０．１Ｍ酢酸アンモニウム＝０：１００から３０：
７０、３０分の均等勾配）で精製して目的物を得た。：
保持時間１２．５分、MＡＬＤＩ ＴＯＦ−ＭＡＳＳ
［Ｍ＋１］＝１４５５。 （参考例２）（２−シアノエトキシ）｛５’−Ｏ−（４
−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルチ
ミジン−３’−Ｏ−イル｝Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホス
ホロアミダイトを用いたペンタチミジル酸ホスホロチオ
エートの合成 ペンタチミジル酸ホスホロチオエートは以下の工程に従
い合成した。 （１）市販の５’−Ｏ−４，４’−ジメトキシトリチル
チミジンを担持したＣＰＧ固相担体（１１ ｍｇ，０．
５ μｍｏｌ）をグラスフィルターに入れ、１％トリフ
ルオロ酢酸のジクロロメタン溶液（０．５ ｍｌ）で３
回洗浄した。 （２）固相担体をアセトニトリル（０．５ ｍｌ）で３
回洗浄した。 （３）反応容器にアセトニトリル（０．１３ ｍｌ）を
加え、ここに（２−シアノエトキシ）｛５’−Ｏ−（４
−メトキシフェニル）ジフェニルメタンスルフェニルチ
ミジン−３’−Ｏ−イル｝Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホス
ホロアミダイト（７．５ ｍｇ，１０μｍｏｌ）と１Ｈ
−テトラゾール（２．８ ｍｇ，４０μｍｏｌ）を加え
室温で１分間振盪した。 （４）上清を流しだし、固相担体をアセトニトリルで３
回洗浄した。 （５）反応容器に０．１ Ｍ ジメチルアミノピリジン
のピリジン溶液と無水酢酸とを体積比９：１で混合した
溶液を加え、室温で２分間振盪した。 （６）上清を流しだし、固相担体をアセトニトリルで３
回洗浄した。 （７）反応容器に０．５ Ｍ テトラエチルチウラムジ
スルフィドのアセトニトリル溶液を加え、室温で１５分
間振盪した。 （８）上清を流しだし、固相担体をアセトニトリルで３
回洗浄した。 （９）反応容器にヨウ素をピリジンとアセトニトリルと
水とを９：１０：１の体積比で混合した溶媒に０．５Ｍ
になるように溶解した溶液を加え、室温で２分間振盪し
た。 （１０）（３）から（９）の操作を合計４回繰り返し
た。 （１１）反応容器に濃アンモニア水を加え室温で３０分
振盪した。 （１２）上清を集め減圧下濃縮した。 （１３）残渣を逆相高速液体クロマトグラフィー（Ｗａ
ｔｅｒｓ μＢｏｎｄａｓｐｈｅｒｅ，アセトニトリ
ル：０．１Ｍ酢酸アンモニウム＝０：１００から３０：
７０、３０分の均等勾配）で精製して目的物を得た。
【００８０】
【発明の効果】本発明は、新規なヌクレオシドホスホロ
アミダイド化合物を提供する。この化合物を核酸合成試
薬として用いることにより、煩雑でかつデプリネーショ
ンを起こすおそれのあるＤＭＴｒ基の脱保護工程を省略
することができるようになる。
アミダイド化合物を提供する。この化合物を核酸合成試
薬として用いることにより、煩雑でかつデプリネーショ
ンを起こすおそれのあるＤＭＴｒ基の脱保護工程を省略
することができるようになる。
Claims (5)
- 【請求項１】 下記の一般式（I）： 【化１】 （式中、Ｒ１はリン酸保護基を表し、Ｒ２は窒素原子上
に炭素数1から5の同一若しくは異なるアルキル基がふた
つ結合したジアルキルアミノ基〔ふたつのアルキル基が
互いに結合して環を形成してもよい〕、又はモルホリン
−１−イル基を表し、Ｒ３はアルコキシ基を有していて
もよいトリチル基を表し、Ｒ４は水素又はＯ−Ｒ５〔但
し、Ｒ５はtert-ブチリルジメチルシリル基、テトラヒ
ドロピラン−２−イル基、４−メトキシテトラヒドロピ
ラン−４−イル基、又はトリイソプロピルシリルオキシ
メチル基を表す。〕を表し、Ｂは保護基を有していても
よい核酸塩基の残基を表す。）で表されるヌクレオシド
ホスホロアミダイト化合物。 - 【請求項２】 一般式（I）におけるＲ１が、メチル
基、２−シアノエチル基、又は２−トリメチルシリルエ
チル基である請求項１記載のヌクレオシドホスホロアミ
ダイト化合物。 - 【請求項３】 一般式（I）におけるＲ３が、下記の一
般式（II）: 【化２】 （式中、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８は互いに同一または異なっ
て、水素、炭素数1から10のアルコキシ基を表す。）で
表される基である請求項１又は２記載のヌクレオシドホ
スホロアミダイト化合物。 - 【請求項４】 一般式（I）におけるＢが、下記の一般
式（III）、（IV）、（V）、（VI）、又は（VII）: 【化３】 【化４】 【化５】 【化６】 【化７】 （式中、Ｒ９は、ベンゾイル基、４−メトキシベンゾイ
ル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソ
ブチリル基、フェニルアセチル基、フェノキシアセチル
基、４−tert−ブチルフェノキシアセチル基、又は４−
イソプロピルフェノキシアセチル基を表す。）で表され
る基である請求項１乃至３のいずれか一項に記載のヌク
レオシドホスホロアミダイト化合物。 - 【請求項５】 一般式（I）におけるＲ１が２−シアノ
エチル基で、Ｒ２がジイソプロピルアミノ基で、Ｒ３が
トリチル基、４−メトキシトリチル基、又は４，４’−
ジメトキシトリチル基で、Ｒ４が水素で、Ｂがチミン−
１−イル基である請求項１記載のヌクレオシドホスホロ
アミダイト化合物。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2001180445A JP4709959B2 (ja) | 2001-06-14 | 2001-06-14 | ヌクレオシドホスホロアミダイト化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001180445A JP4709959B2 (ja) | 2001-06-14 | 2001-06-14 | ヌクレオシドホスホロアミダイト化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002371095A true JP2002371095A (ja) | 2002-12-26 |
| JP4709959B2 JP4709959B2 (ja) | 2011-06-29 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001180445A Expired - Fee Related JP4709959B2 (ja) | 2001-06-14 | 2001-06-14 | ヌクレオシドホスホロアミダイト化合物 |
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|---|---|---|---|---|
| JP2007510401A (ja) * | 2003-10-02 | 2007-04-26 | エポック・バイオサイエンシーズ・インコーポレイテッド | 高度に多型の標的配列の一塩基多型分析 |
| JP2007514643A (ja) * | 2003-09-18 | 2007-06-07 | アイシス ファーマシューティカルズ、インク． | ４’−チオヌクレオシドおよびオリゴマー化合物 |
| JP2008524163A (ja) * | 2004-12-15 | 2008-07-10 | ギリンデュス アクチェンゲゼルシャフト | ４級ヘテロ環活性剤を用いたホスフィチル化した化合物の合成 |
| WO2021153047A1 (ja) * | 2020-01-29 | 2021-08-05 | 住友化学株式会社 | 核酸オリゴマーの製造方法 |
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-
2001
- 2001-06-14 JP JP2001180445A patent/JP4709959B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (4)
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| JPN6011000909, 有機合成化学協会誌, 1987, Ｖｏｌ．４５ Ｎｏ．１０, ｐ．９３０−９４３ * |
| JPN6011000910, 日本化学会講演予稿集, 1992, Ｖｏｌ．６３ｒｄ Ｎｏ．２, ｐ．１８８５ * |
| JPN6011000911, Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ, 1968, Ｖｏｌ．３３（６）, ｐ．２５８９−２５９０ * |
| JPN6011000912, Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ, 1965, Ｖｏｌ．６（９）, ｐ．５３１−５３５ * |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007514643A (ja) * | 2003-09-18 | 2007-06-07 | アイシス ファーマシューティカルズ、インク． | ４’−チオヌクレオシドおよびオリゴマー化合物 |
| JP2007510401A (ja) * | 2003-10-02 | 2007-04-26 | エポック・バイオサイエンシーズ・インコーポレイテッド | 高度に多型の標的配列の一塩基多型分析 |
| JP2008524163A (ja) * | 2004-12-15 | 2008-07-10 | ギリンデュス アクチェンゲゼルシャフト | ４級ヘテロ環活性剤を用いたホスフィチル化した化合物の合成 |
| WO2021153047A1 (ja) * | 2020-01-29 | 2021-08-05 | 住友化学株式会社 | 核酸オリゴマーの製造方法 |
| CN115003682A (zh) * | 2020-01-29 | 2022-09-02 | 住友化学株式会社 | 核酸寡聚物的制造方法 |
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