JP2002368019A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置の製造方法

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JP2002368019A JP2001174210A JP2001174210A JP2002368019A JP 2002368019 A JP2002368019 A JP 2002368019A JP 2001174210 A JP2001174210 A JP 2001174210A JP 2001174210 A JP2001174210 A JP 2001174210A JP 2002368019 A JP2002368019 A JP 2002368019A
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pellet
bonding
wiring board
pellets
semiconductor
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Takashi Wada
和田  隆
Eiji Niihara
栄二 新原
Chuichi Miyazaki
忠一 宮崎
Shunichiro Fujioka
俊一郎 藤岡
Minoru Kimura
稔 木村
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Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ワイヤ流れを防止する。 【解決手段】 多連配線基板10の複数個の単位配線基
板11に複数個のペレット3をそれぞれボンディングす
るペレットボンディング工程と、各ペレット3と単位配
線基板11の内部端子14とをワイヤボンディングする
工程と、これらペレット3を樹脂封止する樹脂封止体6
0をトランスファ成形する樹脂封止体成形工程と、多連
配線基板10と樹脂封止体60を単位配線基板11毎に
切断する樹脂封止体切断工程とを有するBGA・ICの
製造方法であり、ペレットボンディング工程で多連配線
基板10のうちの不良の単位配線基板11にペレット3
をボンディングする際に、ペレットを180度反転させ
てボンディングする。 【効果】 樹脂封止体成形工程で二枚の多連配線基板に
おけるペレットの分布は同等になるため、レジンの流速
変化によるワイヤ流れ不良を防止できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の製造
方法に関し、特に、モールド・アレイ・プロセス(mold
array process。以下、MAPという。)による半導体
装置の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】MAPによる半導体装置の製造方法は、
半導体素子を含む集積回路が作り込まれた半導体ペレッ
ト(以下、ペレットという。)を複数個、集積回路を電
気的に取り出すための電気配線が形成された多数個の単
位基板を連結してなる多連基板にそれぞれボンディング
し、これらペレットを樹脂封止体によって一括して樹脂
封止した後に、多連基板および樹脂封止体を単位基板す
なわちペレット毎に切断して個別の半導体装置を製造す
る方法である。
【0003】なお、複数個のチップ(ペレット)を電気
配線基板に機械的かつ電気的に接続し、これらのペレッ
トを電気配線基板の上で一括して封止したMCM(マル
チ・チップ・モジュール)を述べてある例としては、株
式会社日経BP社1993年5月31日発行の「VLS
Iパッケージング技術(下)」P213〜P253、が
ある。しかし、MAPによる半導体装置の製造方法は、
このMCMとパッケージをペレット毎に切断することに
よって個片の製品とする点で抜本的に異なる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】MAPによる半導体装
置の製造方法においては、樹脂封止体はトランスファ成
形装置によって複数枚の多連基板について同時に成形さ
れる。このトランスファ成形に際して、同時にトランス
ファ成形される複数枚の多連基板の全てに予め指定され
た数のペレットが搭載されている場合には、各多連基板
についての成形材料(以下、レジンという。)の流れが
互いに均等になるため、樹脂封止体は各多連基板につい
て同等に成形される。しかし、多連基板にペレットが搭
載されていない所謂目抜けがあると、レジンの流速変化
によるワイヤ流れ不良が発生するという問題点があるこ
とが本発明者によって明らかにされた。
【0005】MAPによる半導体装置の製造方法におい
ては、ペレットの無い目抜けの製品は電気的特性検査に
よって確実に排除することができるが、ワイヤ流れ不良
の発生した製品は電気的特性検査によって排除すること
ができない不確定な特性の製品も混在する場合がある。
【0006】本発明の目的は、ワイヤ流れ不良の発生を
防止することができるMAPによる半導体装置の製造方
法を提供することにある。
【0007】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【0008】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、次の通り
である。
【0009】すなわち、多連基板の複数個の単位基板に
複数個の半導体ペレットをそれぞれボンディングし、こ
れら半導体ペレットを樹脂封止体によって一括して樹脂
封止した後に、前記多連基板および樹脂封止体を前記単
位基板毎に切断して個別の半導体装置を製造する半導体
装置の製造方法であって、前記多連基板のうちの不良の
単位基板に前記半導体ペレットをボンディングする際
に、前記半導体ペレットを正規と異なる向きでボンディ
ングすることを特徴とする。
【0010】前記した手段によれば、不良の単位基板に
も半導体ペレットがボンディングされていることによ
り、多連基板におけるペレットの分布は全て同等になる
ため、複数枚の多連基板に対する樹脂封止体成形に際し
て、各多連基板に対する成形条件すなわちレジンの流速
特性を均等に設定することができる。したがって、レジ
ンの流速変化によるワイヤ流れ不良を防止することがで
きる。他方、不良の単位基板には半導体ペレットが正規
と異なる向きでボンディングされていることにより、正
規の電気的特性は発揮しないため、個別の切断された半
導体装置の電気的特性検査において不良の単位配線基板
によって製造された半導体装置は確実に跳ねることがで
きる。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を図
面に即して説明する。
【0012】本実施の形態において、本発明に係る半導
体装置の製造方法は、BGA( BallGrid Array Pakage
)を備えた半導体集積回路装置(以下、BGA・IC
という。)をMAPによって製造する方法として構成さ
れている。図1に示されているように、MAPによるB
GA・ICの製造方法は、ペレット準備工程、多連配線
基板準備工程、ペレットボンディング工程、ワイヤボン
ディング工程、樹脂封止体成形工程、樹脂封止体切断工
程、半田ボール付け工程および電気的特性検査工程を備
えている。以下、本実施の形態に係るMAPによるBG
A・ICの製造方法を各工程の順序に沿って説明する。
【0013】ペレット準備工程は半導体装置の製造方法
の所謂前工程によって構成されている。すなわち、半導
体装置の製造方法における所謂前工程において半導体ウ
エハの状態にて半導体素子を含む集積回路がマトリック
ス形状に画成された各ペレット部毎に作り込まれる。図
3で参照されるように、集積回路を作り込まれた半導体
ウエハ1の裏面には粘着シート2が貼着される。粘着シ
ート2が貼着された半導体ウエハ1はダイシング工程に
おいて個々のペレット3に分断される。この際、粘着シ
ート2が貼着されているため、個々のペレット3はばら
ばらになることはない。ペレット3に分断された半導体
ウエハ1は粘着シート2を引き伸ばされ、ウエハリング
4が装着される。引き伸ばされた粘着シート2におい
て、隣合うペレット3、3同士は間隔を置いた状態にな
る。そして、この状態で、ペレット3群はペレットボン
ディング工程に供給され、図3に示されているように、
ペレットボンディング装置20のピックアップ装置にセ
ットされる。
【0014】多連配線基板10は多連配線基板準備工程
において図2に示されている構成に製造され、ペレット
ボンディング工程に供給される。図2に示されているよ
うに、多連配線基板10はガラスエポキシ樹脂基板が使
用されて横長の長方形の平板形状に形成されており、多
連配線基板10は単位配線基板11が一方向に繰り返し
形成されて一列に連結された多連構造に形成されてい
る。単位配線基板11は同一のパターンが繰り返されて
いるため、以下の説明では原則として単位配線基板11
について説明する。
【0015】単位配線基板11は正方形の平板形状に形
成されたベース12を備えており、ベース12の外径は
ペレット3の外径よりも大きく設定されている。ベース
12はガラス繊維にエポキシ樹脂が含浸されたガラス・
エポキシ樹脂基板を使用して多層構造(図示せず)に形
成されている。ベース12の一主面(以下、上面とす
る。)の中央部にはペレット3をボンディングするため
のエリアとしてのペレットボンディングランド(以下、
ランドという。)13が、ペレット3の外径と略等しい
正方形に形成されている。ベース12の上面におけるラ
ンド13の四辺の外側には複数個の内部端子14がそれ
ぞれの辺と平行に配列されており、各内部端子14はワ
イヤボンディングが可能なサイズの四角形形状に形成さ
れている。
【0016】他方、ベース12の下面における外周辺部
には複数個の外部端子15が内外で二列の四角形枠形状
に配列されており、各外部端子15は小径の円形形状に
形成されている。ランド13、内部端子14および外部
端子15はベース12の表面に被着された銅箔がリソグ
ラフィ処理およびエッチング処理によってパターンニン
グされて形成されている。ベース12の上面に配置され
た内部端子14とベース12の下面に配置された外部端
子15とはベース12の内部に配線された電気配線16
によって互いに電気的に接続されている。多数本が互い
に電気的に絶縁した状態で配置された電気配線16は、
多層構造に形成されたベース12の各層にパターンニン
グされた後に、スルーホールによって上層と下層とが互
いに接続されることにより、所謂多層配線構造に形成さ
れている。
【0017】以上のように単位配線基板11は微細かつ
複雑な多層構造に構成されているため、多連配線基板1
0における多数個の単位配線基板11の中には、例え
ば、内部端子14と外部端子15との接続不良や隣合う
電気配線16、16同士の短絡不良のような不良を有す
る単位配線基板11が存在する。このような不良の単位
配線基板11は多連配線基板10に対する外観検査や電
気的特性検査によって検出される。そして、例えば、図
2に示されているように、検出された不良の単位配線基
板11には不良品であることを示すマーク(以下、マー
クという。)17が表示される。
【0018】ペレットボンディング工程は図3に示され
ているペレットボンディング装置20によって実施され
る。図3に示されたペレットボンディング装置20は一
方のワークとしての多連配線基板10をピッチ送りする
ピッチ送り装置21を備えており、ピッチ送り装置21
は水平に敷設されたガイドテーブル22の上において多
連配線基板10を一方向(以下、X方向とする。)にピ
ッチ送りするように構成されている。ピッチ送り装置2
1のガイドテーブル22の一端部(以下、前端部とす
る。)には多連配線基板10をガイドテーブル22に供
給するためのローディング装置23が設備されており、
ガイドテーブル22の後端部にはボンディング済みの多
連配線基板10をガイドテーブル22から排出するため
のアンローディング装置24が設備されている。
【0019】ガイドテーブル22のローディング装置2
3の下流側には、接着材としての銀ペースト25をラン
ド13に塗布するための銀ペースト塗布装置26が設備
されている。
【0020】ガイドテーブル22の銀ペースト塗布装置
26の下流側には、ペレット3をランド13の銀ペース
ト25の上にボンディングするプットダウン装置30が
設備されている。プットダウン装置30はX軸ロボット
31を備えており、X軸ロボット31はその上に設置さ
れたスタンド32をガイドテーブル22の送り方向(以
下、X方向とする。)に往復移動させるように構成され
ている。スタンド32にはY軸ロボット33が設置され
ており、Y軸ロボット33は垂直方向下向きに支持した
アーム34をX方向と直交する方向(以下、Y方向とす
る。)に往復移動させるように構成されている。アーム
34の先端にはボンディングヘッド35が設置されてお
り、ボンディングヘッド35は垂直方向下向きに支持し
たコレット36を上下方向に昇降させるとともに、水平
面内で360度回転させるように構成されている。ま
た、ボンディングヘッド35には単位配線基板11に表
示されたマーク17を認識する視覚観測系37が設置さ
れている。
【0021】プットダウン装置30のスタンド32のガ
イドテーブル22を挟んだ反対側には、粘着シート2か
らペレット3をピックアップするピックアップ装置38
が設備されている。ピックアップ装置38はウエハリン
グ4をXY方向に移動させるXYテーブル39を備えて
いる。XYテーブル39の真下には粘着シート2に粘着
されたペレット3を一個ずつ突き上げる突き上げ棒40
が設備されており、XYテーブル39の真上にはペレッ
ト3の良否を検出する視覚観測系41が設備されてい
る。XYテーブル39の片脇にはΘZロボット42が設
置されており、ΘZロボット42はアーム43を往復回
動かつ昇降させるように構成されている。アーム43の
先端にはペレット3を真空吸着保持するコレット44が
取り付けられている。ΘZロボット42およびXYテー
ブル39の片脇にはアライメント装置45が設備されて
おり、アライメント装置45はペレット3の位置を四枚
のブレードによって機械的にアライメントするように構
成されている。
【0022】図示しないが、ガイドテーブル22の内部
における銀ペースト塗布装置26からプットダウン装置
30の下流側に対向する位置にはヒートブロックが敷設
されており、ヒートブロックはピッチ送り装置21のピ
ッチ送り作動に連動して昇降するように構成されてい
る。
【0023】次に、前記構成に係るペレットボンディン
グ装置によるペレットボンディング工程を説明する。
【0024】ローディング装置23からガイドテーブル
22に供給された多連配線基板10は一ピッチずつ歩進
送りされて、銀ペースト塗布装置26の位置に達して間
欠停止する。単位配線基板11のランド13が銀ペース
ト塗布装置26の位置に間欠停止すると、銀ペースト2
5がランド13の上に銀ペースト塗布装置26によって
塗布される。そして、銀ペースト塗布装置26はY方向
に移動することにより、多連配線基板10において縦横
(マトリックス)に配列された単位配線基板11の各ラ
ンド13にそれぞれ銀ペースト25を塗布する。
【0025】多連配線基板10に対する歩進送り動作の
間欠停止期間が経過すると、多連配線基板10はピッチ
送り装置21によってガイドテーブル22を再び歩進送
りされる。以降、銀ペースト塗布装置26において前述
した作動が繰り返されることにより、銀ペースト25が
マーク17を表示された単位配線基板11を含む全ての
単位配線基板11のランド13に順次塗布されて行く。
【0026】一方、ピックアップ装置38において、X
Yテーブル39はウエハリング4における良品のペレッ
ト3を突き上げ棒40の真上に視覚観測系41の観測に
基づいて位置させる。続いて、突き上げ棒40は良品の
ペレット3を突き上げる。突き上げられたペレット3は
コレット44に真空吸着保持され、アーム43によって
アライメント装置45に搬送され、アライメント装置4
5に移載される。アライメント装置45において、ペレ
ット3は4枚のブレードによって機械的にアライメント
される。アライメント装置45にペレット3を移載した
コレット44は、ピックアップ装置38のウエハリング
4の真上に戻り、次のペレット3を受け取って次の動作
に待機する。
【0027】プットダウン装置30のボンディングヘッ
ド35に装着されたコレット36はアライメント装置4
5のペレット3を真空吸着保持してピックアップし、ガ
イドテーブル22の上に設定されたプットダウンステー
ジにX軸ロボット31、Y軸ロボット33およびボンデ
ィングヘッド35の作動によって搬送する。
【0028】多連配線基板10に対する歩進送りに伴っ
てランド13がプットダウンステージで間欠停止する
と、コレット36がボンディングヘッド35によって下
降され、ランド13に塗布された銀ペースト25の上に
ペレット3が押し付けられることよりランド13に接着
(ボンディング)される。
【0029】この際、図4に示されているように、プッ
トダウン装置30に設備された視覚観測系37によって
マーク17が観測された単位配線基板11のランド13
にはペレット3が、正規のボンディング姿勢に対して1
80度反対向きにボンディングされる。すなわち、コレ
ット36がボンディングヘッド35によって水平面内で
180度回動された状態でプットダウンされることによ
り、不良が検出されてマーク17が表示された単位配線
基板11にはペレット3が180度反対向きにボンディ
ングされる。なお、図4中、黒丸18はペレット3のボ
ンディング姿勢を表現するために便宜的に表示したイン
デックスである。
【0030】ペレット3をランド13に接着して空にな
ったコレット36はX軸ロボット31、Y軸ロボット3
3およびボンディングヘッド35の作動によってアライ
メント装置45に移動される。そして、コレット36は
次のペレット3をピックアップした後に、プットダウン
ステージに移動されてY方向の隣に位置する単位配線基
板11のランド13にペレット3をボンディングする。
【0031】そして、多連配線基板10においてY方向
に整列した複数個の単位配線基板11に対するペレット
3のボンディングが終了すると、多連配線基板10がピ
ッチ送り装置21によってガイドテーブル22の上を歩
進送りされる。
【0032】以上の作動が同時に進行されることによ
り、多連配線基板10の歩進送りに伴って各単位配線基
板11毎に銀ペースト塗布工程、ピックアップ工程およ
びプットダウン工程がそれぞれ実施され、ペレット3が
ランド13に銀ペースト25によって接着(ボンディン
グ)されて行く。
【0033】以上のようにしてペレット3がランド13
に銀ペースト25によってペレットボンディングされた
多連配線基板10はワイヤボンディング工程において、
図5に示されているように、ワイヤ19がペレット3の
電極パッドと内部端子14との間に橋絡される。この
際、図5に示されているように、マーク17が表示され
た不良の単位配線基板11にはワイヤボンディングが実
施されない。すなわち、不良の単位配線基板11にはペ
レット3が180度反対の向きでボンディングされてい
るため、ワイヤボンディング装置はペレット3のボンデ
ィングパッドを認識することができないため、不良の単
位配線基板11に対するワイヤボンディング作業は自動
的に飛ばしてしまう。
【0034】ワイヤボンディング工程が実施された多連
配線基板10には樹脂封止体成形工程において樹脂封止
体が成形される。この樹脂封止体成形工程は図6および
図7に示されているトランスファ成形装置50によって
実施される。
【0035】図6に示されているように、トランスファ
成形装置50はシリンダ装置等(図示せず)によって互
いに型締めされる一対の上型51と下型52を備えてい
る。上型51と下型52との合わせ面には上型キャビテ
ィー凹部53aと下型キャビティー凹部53bとが複数
組(但し、図7においては二組みだけが図示されてい
る。)、一対のものが互いに協働して一個のキャビティ
ー53を形成するように没設されている。下型キャビテ
ィー凹部53bは多連配線基板10を収納する大きさの
長方形の平盤穴形状に形成されており、上型キャビティ
ー凹部53aは下型キャビティー凹部53bよりも若干
小さい長方形の平盤穴形状に形成されて同心的に配置さ
れている。
【0036】下型52の合わせ面にはポット54が開設
されており、ポット54にはシリンダ装置(図示せず)
によって進退されるプランジャ55が成形材料としての
タブレットを押し潰し、このタブレットが溶融されて成
る液状のレジンを送給し得るように挿入されている。
【0037】上型51の合わせ面にはカル56がポット
54との対向位置に配されて没設されており、図7に示
されているように、カル56には複数本のランナ57の
一端がそれぞれ接続されている。各ランナ57の他端は
上型キャビティー凹部53aの一方の長辺にそれぞれ接
続されており、各ランナ57の上型キャビティー凹部5
3aとの接続部にはゲート58がレジン59をキャビテ
ィー53内に注入し得るように形成されている。
【0038】なお、理解し易くするために図示は省略す
るが、上型51および下型52の外側には上側ヒートブ
ロックおよび下側ヒートブロックがそれぞれ配設されて
いる。上下のヒートブロックには電気ヒータが上型51
および下型52におけるポット、カル、ランナおよびキ
ャビティー内のタブレットおよびレジンを加熱するよう
に敷設されている。この加熱により、タブレットは溶融
され、タブレットが溶融されて成るレジンは所定の粘度
まで低下される。
【0039】次に、前記構成に係るトランスファ成形装
置を使用した樹脂封止体成形工程を説明する。
【0040】トランスファ成形時において、ワークとし
てのワイヤボンディング後の多連配線基板10は各下型
52にそれぞれ収容される。続いて、上型51と下型5
2とが型締めされ、タブレットが加熱溶融されて成るレ
ジン59がプランジャ55によってポッド54およびカ
ル56から各ランナ57および各ゲート58を通じて各
キャビティー53に送給されて、それぞれ充填されて行
くことになる。
【0041】ところで、一つのカル56によって二枚の
多連配線基板10、10が同時にトランスファ成形され
る際に、図8に示されているように、多連配線基板10
においてペレット3の搭載されていない目抜けが設けら
れていることにより、双方の多連配線基板10、10に
おいて搭載されたペレット3の個数や分布が互いに相違
していると、一つのカル56に接続されたキャビティー
53、53においてレジン59の流速に差が発生するた
め、流速の変化によるワイヤ19が流され、隣合うワイ
ヤ19、19同士の接触やワイヤ19のペレット3への
接触等の所謂ワイヤ流れ不良が発生する。
【0042】しかし、本実施の形態においては、図7に
示されているように、一つのカル56によって二枚の多
連配線基板10、10が同時にトランスファ成形される
際に、多連配線基板10にはペレット3が全て搭載され
ていることにより、双方の多連配線基板10、10にお
いて搭載されたペレット3の個数や分布は互いに同等に
なるため、一つのカル56に接続されたキャビティー5
3、53においてレジン59の流速は同等になり、その
結果、ワイヤ19が流速変化によって流される所謂ワイ
ヤ流れ不良の発生は未然に防止されることになる。
【0043】レジン59が各キャビティー53に充填さ
れた後に、液状のレジン59が熱硬化されて樹脂封止体
が成形されると、上型51および下型52は型開きされ
るとともに、エジェクタ・ピン(図示せず)により樹脂
封止体群が離型される。そして、樹脂封止体群を成形さ
れた多連配線基板10はトランスファ成形装置50から
ハンドラ(図示せず)により脱装される。
【0044】図9に示されているように、樹脂封止体6
0は多連配線基板10の上面を略被覆した状態に樹脂成
形されており、全ての単位配線基板11の内部端子1
4、ペレット3およびワイヤ19を一括して樹脂封止し
た状態になっている。
【0045】以上のようにして樹脂封止体60によって
上面を全体的に樹脂封止された多連配線基板10は樹脂
封止体切断工程において、図10に示されているよう
に、各単位配線基板11すなわちペレット3毎に分断さ
れる。
【0046】単位配線基板11の外部端子15には半田
ボール付け工程において、半田ボール61が半田付けさ
れることにより、図11に示されているBGA・IC6
2が製造されたことになる。
【0047】以上のようにして製造されたBGA・IC
62は電気的特性工程において、電気的特性検査を実施
される。この際、不良の単位配線基板11のペレット3
にはワイヤボンディングが実施されていないため、不良
の単位配線基板11によって製造されたBGA・IC6
2は確実に排除されることになる。また、樹脂封止体成
形工程においてワイヤ流れ不良が確実に防止されている
ため、不確定な電気的特性を示すワイヤ流れ不良のBG
A・IC62が電気的特性検査工程を通過してしまうこ
とは未然に防止されていることになる。
【0048】前記実施の形態によれば、次の効果が得ら
れる。
【0049】1) 多連配線基板における不良の単位配線
基板にもペレットボンディングしておくことにより、一
つのカルによって複数枚の多連配線基板が同時にトラン
スファ成形される際に、全ての多連配線基板において搭
載されたペレットの個数や分布を均等に設定することが
できるため、一つのカルに接続された各キャビティー同
士においてレジンの流速を同等としてワイヤが流速変化
によって流される所謂ワイヤ流れ不良の発生を未然に防
止することができる。
【0050】2) 多連配線基板における不良の単位配線
基板にもペレットボンディングする際に、ペレットを1
80度反転させてボンディングすることにより、不良の
単位配線基板についてはワイヤボンディングを飛ばすこ
とができるため、電気的特性工程において、不良の単位
配線基板によって製造されたBGA・ICを確実に排除
することができる。
【0051】以上本発明者によってなされた発明を実施
形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の
形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない
範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
【0052】例えば、不良の単位配線基板にペレットボ
ンディングする際に、180度反転させてペレットをボ
ンディングするに限らず、90度や270度等のように
ワイヤボンディングが自動的に飛ばされる状態にペレッ
トを不良の単位配線基板にボンディングしてもよい。
【0053】また、不良の単位配線基板にペレットを回
転させた姿勢でボンディングするに限らず、ウエハの円
形周辺部に位置する不良のペレットやその他の電気的機
能を発揮しないダミーペレットを不良の単位配線基板に
ボンディングしてもよい。
【0054】さらに、不良の単位配線基板にペレットボ
ンディングするに限らず、所謂ロット端に掛かった多連
配線基板において不必要になってしまう単位配線基板に
ペレットをボンディングするように設定してもよい。
【0055】多連基板は多連配線基板構造に構成するに
限らず、多連リードフレーム構造に構成してもよい。
【0056】上下型、ポット、プランジャ、ランナ、ゲ
ート、キャビティー、その他の構成要素についての具体
的形状や構造は、前記構成に限らず、成形条件等々に応
じて適宜選定することが望ましい。
【0057】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるBGA
・ICの製造方法に適用した場合について説明したが、
それに限定されるものではなく、その他のパッケージを
備えた半導体装置の製造方法全般に適用することができ
る。
【0058】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次
の通りである。
【0059】基板における不良の単位基板にもペレット
ボンディングしておくことにより、一つのカルによって
複数枚の多連配線基板が同時にトランスファ成形される
際に、全ての基板において搭載されたペレットの個数や
分布を均等に設定することができるため、一つのカルに
接続された各キャビティー同士においてレジンの流速を
同等としてワイヤが流速変化によって流される所謂ワイ
ヤ流れ不良の発生を未然に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態であるMAPによるBG
A・ICの製造方法を示す工程図である。
【図2】多連配線基板を示しており、(a)は一部省略
平面図、(b)は(a)のb−b線に沿う拡大断面図で
ある。
【図3】ペレットボンディング工程に使用されるペレッ
トボンディング装置を示す斜視図である。
【図4】ペレットボンディング後を示しており、(a)
は一部省略平面図、(b)は(a)のb−b線に沿う拡
大断面図である。
【図5】ワイヤボンディング後を示しており、(a)は
一部省略平面図、(b)は(a)のb−b線に沿う断面
図である。
【図6】樹脂封止体成形工程に使用されるトランスファ
成形装置を示す一部省略側面図である。
【図7】その平面断面図である。
【図8】ワイヤ流れを説明するための平面断面図であ
る。
【図9】樹脂封止体成形工程後を示しており、(a)は
平面図、(b)は(a)のb−b線に沿う拡大断面図で
ある。
【図10】樹脂封止体切断工程を示しており、(a)は
平面図、(b)は(a)のb−b線に沿う拡大断面図で
ある。
【図11】製造されたBGA・ICを示しており、
(a)は一部切断正面図、(b)は上半分が平面図で下
半分が底面図である。
【符号の説明】
1…半導体ウエハ、2…粘着シート、3…ペレット(半
導体ペレット)、4…ウエハリング、10…多連配線基
板、11…単位配線基板、12…ベース、13…ランド
(ペレットボンディングランド)、14…内部端子、1
5…外部端子、16…電気配線、17…マーク、18…
インデックス、19…ワイヤ、20…ペレットボンディ
ング装置、21…ピッチ送り装置、22…ガイドテーブ
ル、23…ローディング装置、24…アンローディング
装置、25…銀ペースト、26…銀ペースト塗布装置、
30…プットダウン装置、31…X軸ロボット、32…
スタンド、33…Y軸ロボット、34…アーム35…ボ
ンディングヘッド、36…コレット、37…視覚観測
系、38…ピックアップ装置、39…XYテーブル、4
0…突き上げ棒、41…視覚観測系、42…ΘZロボッ
ト、43…アーム、44…コレット、45…アライメン
ト装置、50…トランスファ成形装置、51…上型、5
2…下型、53…キャビティー、53a…上型キャビテ
ィー凹部、53b…下型キャビティー凹部、54…ポッ
ト、55…プランジャ、56…カル、57…ランナ、5
8…ゲート、59…レジン、60…樹脂封止体、61…
半田ボール、62…BGA・IC(半導体装置)。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮崎 忠一 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体グループ内 (72)発明者 藤岡 俊一郎 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体グループ内 (72)発明者 木村 稔 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体グループ内 Fターム(参考) 4M109 AA01 BA03 DA01 5F047 AA17

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 多連基板の複数個の単位基板に複数個の
    半導体ペレットをそれぞれボンディングし、これら半導
    体ペレットを樹脂封止体によって一括して樹脂封止した
    後に、前記多連基板および樹脂封止体を前記単位基板毎
    に切断して個別の半導体装置を製造する半導体装置の製
    造方法であって、前記多連基板のうちの不良の単位基板
    に前記半導体ペレットをボンディングする際に、前記半
    導体ペレットを正規と異なる向きでボンディングするこ
    とを特徴とする半導体装置の製造方法。
  2. 【請求項2】 前記半導体ペレットを180度反転させ
    て前記不良の単位基板にボンディングすることを特徴と
    する請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記単位基板がランド、内部端子、外部
    端子および電気配線が形成された単位配線基板であり、
    前記多連基板がこの単位配線基板が複数連設された多連
    配線基板であることを特徴とする請求項1または2に記
    載の半導体装置の製造方法。
  4. 【請求項4】 多連基板の複数個の単位基板に複数個の
    半導体ペレットをそれぞれボンディングし、これら半導
    体ペレットを樹脂封止体によって一括して樹脂封止した
    後に、前記多連基板および樹脂封止体を前記単位基板毎
    に切断して個別の半導体装置を製造する半導体装置の製
    造方法であって、前記多連基板のうちの不良の単位基板
    に前記半導体ペレットをボンディングする際に、電気的
    に機能を発揮しないダミーペレットをボンディングする
    ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
  5. 【請求項5】 前記ダミーペレットが半導体ウエハの円
    形周辺部のペレットまたは集積回路を有しないペレット
    であることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の
    製造方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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JP2021019159A (ja) * 2019-07-23 2021-02-15 株式会社Fuji チップ配置装置及び半導体パッケージの製造方法

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