JP2002350588A - ヨウ素除去フィルタ及びヨウ素除去装置 - Google Patents
ヨウ素除去フィルタ及びヨウ素除去装置Info
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Abstract
で発生する各種化学形態の放射性ヨウ素(I2、HI、
CH3I)を、同時に且つ確実に捕集することのできる
ヨウ素除去フィルタを提供する。 【解決手段】 本発明に係るヨウ素除去フィルタは、有
機高分子基材の主鎖上に、少なくとも1つの3級アミノ
基と少なくとも1つの4級アンモニウム基とを有するグ
ラフト重合体側鎖を有する高分子素材を具備することを
特徴とするものである。また、本発明は、かかるヨウ素
除去フィルタを組み込んだことを特徴とするヨウ素除去
装置にも関する。
Description
は液中のヨウ素を除去するヨウ素除去フィルタ及びヨウ
素除去装置に関し、特に、原子力発電所及び使用済み核
燃料再処理設備等の原子力施設から放出される129Iや
131Iを効果的に除去するのに好適なヨウ素除去フィル
タ及びヨウ素除去装置に関するものである。
いて、核燃料棒にピンホール等の破損があると、129I
や131Iの核分裂生成物が排出される。このうち、129I
は半減期が107年と極めて長いが、排出量が少量で且
つエネルギーも低いという特徴がある。一方、131Iは
半減期が8日と短いが、排出量が多く、エネルギーが高
いという特徴を有している。したがって、原子炉の排気
系において最も危険な核分裂生成物核種は、131Iで、
原子力施設における測定評価の対象となっている。
は、原子炉施設から使用済みの核燃料が運び込まれるま
でには長い日時が経過しており、半減期の短い131Iは
減衰して殆ど存在しないが、半減期の長い129Iは多量
に存在する。
(I2)、ヨウ化水素酸(HI)、ヨウ化メチル(CH3
I)の3種類と言われている。この中で、非イオン性の
ヨウ化メチルが、最も除去しにくい。
ウ素を除去する方法としては、次の方法が用いられてい
る。 ヨウ化カリウム(KI)を添着した添着活性炭を大量
に使用して、放射性ヨウ素である131Iを非放射性のヨ
ウ素と同位体交換することによって捕集する; ヨウ素含有気体又は液体を、トリエチレンジアミン
(TEDA)を添着した添着活性炭に接触させて、3級
アミノ基とヨウ化メチルとを反応させることによって除
去する; ヨウ素含有気体又は液体を、銀ゼオライトに接触させ
て、ヨウ化銀として捕集する。
は、上記及びの除去技術が適用される。また、ヨウ
化水素酸は酸性であるので、アルカリ添着活性炭や強塩
基性アニオン交換体で除去することができる。更に分子
状のヨウ素(I2)を除去する方法としては、KIに吸
収させる方法や、本発明者らが提案したポリビニルピロ
リドンをグラフト重合した高分子素材を用いる方法など
がある。
示すヨウ化カリウムやTEDAを添着した添着活性炭を
使用する方法は、大量の活性炭を必要とするためにコス
トが高くなると同時に、使用した後の活性炭の処理が問
題となる。また、銀ゼオライトを使用する方法は、銀ゼ
オライトが高価であると同時に、脱水や150℃での加
熱が必要なことなど、プロセスが複雑で、且つ放射性ヨ
ウ素の除去率が満足できるものではなかった。
化水素酸などのイオン性物質とヨウ化メチルのような非
イオン性物質とは、除去方法が全く異なり、これらが混
在する系から放射性ヨウ素を完全に除去するためには、
両方の技法を組合せて用いなければならず、除去方法が
複雑になるという点であった。
れたもので、原子力発電所や使用済み核燃料再処理設備
等において発生する放射性ヨウ素(129I、131I)を、
確実に捕集することができるヨウ素除去フィルタ及び該
ヨウ素除去フィルタを用いたヨウ素除去装置を提供する
ものである。
除去する高分子素材を具備するヨウ素除去フィルタであ
って、前記高分子素材は、有機高分子基材の主鎖上に、
少なくとも1つの3級アミノ基と少なくとも1つの4級
アンモニウム基とを有するグラフト重合体側鎖を有する
ものであることを特徴とするヨウ素除去フィルタに関す
る。
明する。本発明のヨウ素除去フィルタを製造するための
有機高分子基材としては、ポリオレフィン系の有機高分
子基材が好ましく用いられる。ポリオレフィン系の有機
高分子基材は、放射線に対して崩壊性ではないので、後
述する放射線グラフト重合法によってグラフト重合体側
鎖を導入する目的に用いるのに適している。本発明のヨ
ウ素除去フィルタを製造するための有機高分子基材とし
て好適に用いることのできるポリオレフィン系高分子材
料の具体例としては、ポリエチレン及びポリプロピレン
に代表されるポリオレフィン類、PTFE、塩化ビニル
等に代表されるハロゲン化ポリオレフィン類、エチレン
−四フッ化エチレン共重合体及びエチレン−ビニルアル
コール共重合体(EVA)等に代表されるオレフィン−
ハロゲン化オレフィン共重合体などが挙げられるが、こ
れらに限定されない。
は、高分子素材単繊維やその集合体である織布や不織
布、またはそれらの加工品などを好適に用いることがで
きる。従来のビーズ状イオン交換樹脂は、処理−再生の
サイクルを頻繁に繰り返し、少ない再生剤量で1サイク
ルの処理液量をできるだけ大きくすることを目標として
いたため、充填塔あたりのイオン交換容量と再生効率と
が重要であった。これに対して、本発明に係るヨウ素除
去フィルタは、特に放射性ヨウ素除去フィルタとして用
いる場合には、事故時の安全フィルタとして、或いは汚
染区域で非定常の作業をする際の作業者の被爆低減を目
的として使用されることを主として意図しているため、
非再生使用を念頭においている。このような使用形態で
は、除去性能が良いこと、重量物でないこと、成形加工
が容易であること、装着性がよいこと、焼却などの廃棄
処理が容易であること、搬送などの移動性がよいこと、
などが重視される。これらの点から、本発明における基
材としては、高分子素材単繊維やその集合体である織布
や不織布、またはそれらの加工品などが好ましい。更
に、これらの形態の高分子は、表面積が大きく、ヨウ素
の除去速度を大きくすることができる。また、織布/不
織布基材などには、それ自体で濾過機能等を有するもの
があり、このような機能を有する基材に所定の官能基を
導入することによって、ヨウ素の除去材としてだけでな
く、微粒子等も同時に除去することができるので、複合
機能材料を形成することができる。また、織布/不織布
材料は、放射線グラフト重合用の基材として好適に用い
ることができ、また軽量でフィルタ状に加工することが
容易である。
は、上記のような有機高分子基材の主鎖上に、少なくと
も1つの3級アミノ基と少なくとも1つの4級アンモニ
ウム基とを有するグラフト重合体側鎖が導入されてい
る。上記に示すように、ヨウ素(I2)、ヨウ化水素酸
(HI)、ヨウ化メチル(CH3I)の3種類の形態を
取る放射性ヨウ素を1級〜3級アミノ基及び4級アンモ
ニウム基のアニオン交換基を有するイオン交換体を用い
て吸着除去しようとする場合、ヨウ化水素酸及びヨウ化
メチルのイオン性物質(酸性ガス)は、上記いずれのア
ニオン交換基によっても吸着除去できるが、非イオン性
物質であるヨウ化メチルは3級アミノ基でしか吸着除去
することができない。これは3級アミノ基が4級アンモ
ニウム化してCH3Iと結合するという反応機構による
ものである。一方、1級〜3級アミノ基はいずれも弱塩
基性アニオン交換基であり、イオン性物質(酸性ガス)
に対する吸着能は有しているものの、その吸着力が弱
く、これらの基のみではヨウ素やヨウ化水素酸の除去速
度が遅くなってしまい、実用には問題がある。そこで、
本発明者は、有機高分子基材上のグラフト重合体側鎖
に、3級アミノ基と、強塩基性アニオン交換基である4
級アンモニウム基とを混在させることにより、ヨウ化メ
チルに対する除去能と、ヨウ素及びヨウ化水素酸に対す
る優れた除去力の両方を確保することができることに着
目し、本発明を完成するに至った。
おいて、グラフト重合体側鎖上に存在する少なくとも1
つの3級アミノ基は、ヨウ化メチルの形態のヨウ素を吸
着除去する機能を有し、少なくとも1つの4級アンモニ
ウム基は、ヨウ素及びヨウ化水素酸の形態のヨウ素を迅
速に吸着除去するという機能を有している。
ミノ基と少なくとも1つの4級アンモニウム基とを有す
るグラフト重合体側鎖を有機高分子基材の主鎖上に導入
する手段としては、少なくとも1つの3級アミノ基を有
する重合性モノマーと、少なくとも1つの4級アンモニ
ウム基を有する重合性モノマーとを混合して、高分子基
材に対してグラフト重合を行う方法と、或いは、3級ア
ミノ基及び4級アンモニウム基に変換可能な官能基を有
する重合性モノマーをまず高分子基材に対してグラフト
重合し、次に3級アミノ化用の薬品と4級アンモニウム
化用の薬品とを混合して反応させる方法とが考えられ
る。前者の例を挙げると、3級アミノ基を有する重合性
モノマーとして、ジエチルアミノエチルメタクリレー
ト、N,N−ジメチルアミノプロピルアクリルアミドな
ど、4級アンモニウム基を有する重合性モノマーとし
て、ビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライ
ド、N,N−ジメチルアミノプロピルアクリルアミドの
4級アンモニウム化物などを用い、これらを混合してグ
ラフト重合を行うことによって、本発明に係る、有機高
分子基材の主鎖上に少なくとも1つの3級アミノ基と少
なくとも1つの4級アンモニウム基とを有するグラフト
重合体側鎖を有する素材を得ることができる。また、後
者の例を挙げると、重合性モノマーとして、スチレン、
クロロメチルスチレン、メタクリル酸グリシジルなどを
用いてグラフト重合を行って、有機高分子基材の主鎖上
にグラフト重合体側鎖を形成した後に、3級アミノ化薬
品としてジメチルアミンと、4級アンモニウム化薬品と
してトリメチルアミンとの混合物を反応させることによ
り、容易に3級アミノ基及び4級アンモニウム基を導入
することができる。更には、別法として、例えばまずグ
ラフト重合体側鎖に3級アミノ基のみを導入した後に、
一部の3級アミノ基を4級アンモニウム化することによ
っても、本発明に係る、有機高分子基材の主鎖上に少な
くとも1つの3級アミノ基と少なくとも1つの4級アン
モニウム基とを有するグラフト重合体側鎖を有する素材
を得ることができる。例えば、高分子基材にメタクリル
酸グリシジルをグラフト重合し、ジメチルアミンで3級
アミノ化を行った後に、塩化ベンジルなどを用いて3級
アミノ基の一部を4級アンモニウム化することができ
る。
は、少なくとも1つの3級アミノ基と少なくとも1つの
4級アンモニウム基以外に、更に1以上の1級〜3級ア
ミノ基及び/又は4級アンモニウム基を有していてもよ
く、その製造において用いる薬剤としても、上記に示し
た基に加えて更に1以上のアミノ基やアンモニウム基を
有していてもよい。
に、グラフト重合体側鎖を導入する手段としては、放射
線グラフト重合法を好ましく用いることができる。放射
線グラフト重合法は、有機高分子基材に放射線を照射し
てラジカルを生成させ、それにグラフトモノマーを反応
させることによって、所望のグラフト重合体側鎖を基材
に導入することのできる方法であり、グラフト鎖の数や
長さを比較的自由にコントロールすることができ、ま
た、各種形状の既存の高分子材料に重合体側鎖を導入す
ることができるので、本発明の目的のために用いるのに
最適である。
できる放射線グラフト重合法において、用いることので
きる放射線としては、α線、β線、γ線、電子線、紫外
線などを挙げることができるが、本発明において用いる
のにはγ線や電子線が適している。放射線グラフト重合
法には、グラフト用基材に予め放射線を照射した後、重
合性単量体(グラフトモノマー)と接触させて反応させ
る前照射グラフト重合法と、基材とモノマーの共存下に
放射線を照射する同時照射グラフト重合法とがあるが、
いずれの方法も本発明において用いることができる。ま
た、モノマーと基材との接触方法により、モノマー溶液
に基材を浸漬させたまま重合を行う液相グラフト重合
法、モノマーの蒸気に基材を接触させて重合を行う気相
グラフト重合法、基材をモノマー溶液に浸漬した後、モ
ノマー溶液から取り出して気相中で反応を行わせる含浸
気相グラフト重合法などが挙げられるが、いずれの方法
も本発明において用いることができる。
る織布/不織布は本発明のヨウ素除去フィルタを製造す
るための有機高分子基材として用いるのに適した素材で
あるが、これはモノマー溶液を保持し易いので、含浸気
相グラフト重合法において用いるのに適している。
は、ハロゲン化アルキル基をベンゼン環上にもつスチレ
ン系化合物を用いてグラフト重合体側鎖を形成し、これ
に、少なくとも2つの3級アミノ基を有するポリアミン
化合物を反応させることによって、本発明に係る、有機
高分子基材の主鎖上に少なくとも1つの3級アミノ基と
少なくとも1つの4級アンモニウム基とを有するグラフ
ト重合体側鎖を有する素材を得ることができる。即ち、
本発明の好ましい態様は、上述のヨウ素除去フィルタで
あって、高分子素材が、有機高分子基材の主鎖上に、ハ
ロゲン化アルキル基をベンゼン環上にもつスチレン系化
合物から誘導されたグラフト重合体側鎖を有し、該グラ
フト重合体側鎖上に、少なくとも2つの3級アミノ基を
有するポリアミン化合物から誘導される官能基が導入さ
れているものであることを特徴とするヨウ素除去フィル
タに関する。なお、このポリアミン化合物についても、
上記に説明したのと同様に、少なくとも2つの3級アミ
ノ基を有していればよく、それ以外に更に1以上の1級
〜3級アミノ基及び/又は4級アンモニウム基を有して
いてもよい。
いて説明する。なお、以下の説明において、「ハロゲン
化アルキル基をベンゼン環上にもつスチレン系化合物」
は、便宜上、「ハロゲン化アルキル置換スチレン」と称
する。
去フィルタは、上記に説明したような有機高分子基材の
主鎖上に、ハロゲン化アルキル置換スチレンから誘導さ
れるグラフト重合体側鎖を形成し、その側鎖上にアニオ
ン交換基が導入されている高分子素材を具備することを
特徴とする。
去フィルタにおいて、有機高分子基材の高分子主鎖上に
導入されるグラフト重合体側鎖は、ハロゲン化アルキル
置換スチレンから誘導される。かかる重合体側鎖は、有
機高分子基材の主鎖上にハロゲン化アルキル置換スチレ
ンをグラフト重合することによって導入される。本発明
のより好ましい態様において好ましく用いられるハロゲ
ン化アルキル置換スチレンの一例としては、次式:
チレンを挙げることができる。中でも特に好ましく用い
られるものとしては、次式:
式:
れる。これらの中でも特にクロロメチルスチレンが好ま
しく用いられ、ポリアミン化合物の導入率を大きくする
ことができ、また化学的耐久性も大きい。更には、ビニ
ル基とクロロメチル基とがパラ位に存在するp−クロロ
メチルスチレンを用いてヨウ素除去フィルタを形成する
と、ヨウ素の除去性能に優れたフィルタを得ることがで
き、本発明の用途に最適である。
体側鎖としては、ハロゲン化アルキル置換スチレンと他
の重合性単量体との共グラフト重合体側鎖も採用するこ
とができる。例えば、クロロメチルスチレンとアクリル
アミドのような親水性の重合性単量体を、有機高分子基
材に共グラフト重合することにより、基材に他の機能を
付与したり、ポリアミン化合物の導入率を高くすること
ができる。
去フィルタにおいては、上記のようにして導入されたグ
ラフト重合体側鎖を有する有機高分子基材に、少なくと
も2つの3級アミノ基を有するポリアミン化合物を反応
させることによって、かかるポリアミン化合物から誘導
される官能基がグラフト重合体側鎖上に導入されてい
る。本発明のかかる態様において用いることのできるポ
リアミン化合物としては、例えば、次式:
4,0]ウンデ−7−エン(以下、通称に従って「ジア
ザビシクロウンデセン」と称する)、次式:
のような環状又は多環式ポリアミンなどを特に好ましい
ものとして挙げることができる。特に上記の化学式に示
すもので例示されるポリアミン化合物は、ブリッジヘッ
ドと呼ばれる孤立電子対を有し、反応性に富む。したが
って、4級アンモニウム化が容易な上に、グラフト重合
体側鎖との結合に供されなかったアミノ基も非常に反応
性に富んでいる。
たグラフト重合体側鎖に、少なくとも2つの3級アミノ
基を有するポリアミン化合物を反応させると、3級アミ
ノ基の1つが4級アンモニウム化されて、この部位で結
合が起こる。しかしながら、ポリアミン化合物中に含ま
れる他の3級アミノ基(及び、ポリアミンがこれ以外に
も更に1以上の1級〜3級アミノ基及び/又は4級アン
モニウム基を有している場合にはこれらの基)は未反応
のままとなる。即ち、ハロゲン化アルキルスチレン1分
子に対して少なくとも1つの3級アミノ基と少なくとも
1つの4級アンモニウム基、並びに場合によっては更に
1級〜2級アミノ基が共に導入される。したがって、得
られる高分子素材は、2種類以上の官能基を有してお
り、ヨウ素除去フィルタとして、化学形態の異なるヨウ
素に対して同時除去性能を示す。
もポリアミン化合物を導入することは可能であるが、導
入率やイオン交換容量の増加率が本発明にかかるグラフ
ト重合体側鎖を有する有機高分子基材と比べてかなり小
さかった。これは、ビーズ状のイオン交換樹脂では、基
材の架橋構造のためにポリアミン化合物が樹脂の内部に
まで進入しづらいことや、ポリアミン化合物自体が架橋
してしまうためであると考えられる。これに対して、本
発明に係る高分子素材においては、有機高分子基材のグ
ラフト重合体側鎖にポリアミン化合物を導入しているの
で、ポリアミン化合物が導入された部位がより大きな電
荷を有してお互いに反発するために、グラフト重合体側
鎖間の距離が広がって、ポリアミン化合物が進入しやす
くなるためであると考えられる。このため、ポリアミン
化合物の導入率が大きくなるばかりでなく、架橋も生じ
にくく、非常に大きなイオン交換容量を有するイオン交
換体を得ることができる。なお、従来のビーズ状のイオ
ン交換樹脂では、イオン交換基の導入に伴う母材の物理
的強度の劣化を補うために高分子主鎖同士を架橋してい
るが、本発明にかかる高分子素材においては、有機高分
子基材の高分子主鎖上に、アニオン交換基を含む重合体
鎖の形態の側鎖を配置させることによって、高分子主鎖
の物理的強度をそのまま保持しながら、高いアニオン交
換容量を基材に付与することが可能となった。なお、本
発明に係る高分子素材においては、主鎖が物理的強度の
維持や形状の保持の役割を担う。
素除去装置におけるヨウ素除去素材として用いることが
できる。即ち、本発明の更なる態様は、ヨウ素除去素材
として、上記に記載の本発明に係るヨウ素除去フィルタ
を用いたヨウ素除去装置に関する。かかるヨウ素除去装
置は、放射性ヨウ素である129Iや131Iが放出さ
れる可能性のある、原子力発電所又は核燃料再処理設備
における排気ダクトに取り付けることができる。
ウ素除去剤として、活性炭、活性炭素繊維、薬剤添着活
性炭、薬剤添着活性炭素繊維、ゼオライト、薬剤添着ゼ
オライト、シリカゲル、薬剤添着シリカゲルなどを用い
る従来のヨウ素除去装置と組み合わせて用い、従来のヨ
ウ素除去装置を設置したダクトの下流側に本発明に係る
ヨウ素除去装置を配置することができる。このような複
合装置を構成すると、1段目のヨウ素除去装置(従来の
ヨウ素除去装置)から流出するヨウ素を本発明に係るヨ
ウ素除去フィルタで完全に除去することができ、従来の
ヨウ素除去剤の十分でない除去性能を補って、安全性を
更に向上させることができる。
は、マスク又は防護装置の表面又は内部に組み込んで用
いることもできる。
素除去フィルタは、高分子素材の有機高分子基材の主鎖
上に、少なくとも1つの3級アミノ基と少なくとも1つ
の4級アンモニウム基とを有するグラフト重合体側鎖を
有することを特徴としており、ヨウ素(I2)、ヨウ化
水素酸(HI)、ヨウ化メチル(CH3I)の種々の形
態のヨウ素を同時に除去することができる。また、物理
的強度が高く、空気中のみならず水中においてもヨウ素
を除去することができる。したがって、本発明に係るヨ
ウ素除去フィルタ及びヨウ素除去装置を用いれば、原子
力発電所、核燃料再処理設備等の原子力関連施設から放
出される可能性のある放射性ヨウ素を効率よく除去する
ことができ、これらの施設内作業における放射性ヨウ素
に起因する被爆の防止、及び施設外への放射性ヨウ素の
放出を排除することができる。また、本発明のより好ま
しい態様によれば、グラフト重合体側鎖上に、少なくと
も2つの3級アミノ基を有するポリアミン化合物から誘
導される官能基が導入されているので、素材の強度を低
下させることなくアニオン交換基の導入率を高くするこ
とができ、除去性能をより一層増大させることができ
る。更に、従来の手法ではアミン導入率を高めるとアミ
ン臭が激しくなるという問題があったが、本発明はこの
問題をも解決する。これは、本発明で用いている1分子
中に2個以上の3級アミノ基を有する化合物は、官能基
の数が多くなるほど沸点が高く、蒸気圧が低くなるた
め、アミン臭の発生が抑えられるためであると考えられ
る。更に、本発明に係るヨウ素除去フィルタは、焼却等
の処理が簡単で、より軽量かつ安価にヨウ素除去材を得
ることができる。
面を参照しながら説明する。これらの記載は、本発明を
限定するものではない。
(鞘)/ポリプロピレン(芯)の複合繊維よりなる目付
55g/m2、厚さ0.35mmの熱融着不織布を用いた。こ
の不織布基材に、電子線を窒素雰囲気中で150kGy照
射した。クロロメチルスチレン(セイミケミカル社製、
商品名:CMS−AM)を活性アルミナ充填層に通液す
ることにより重合禁止剤を取り除いた後、窒素曝気して
脱酸素を行った。このクロロメチルスチレン溶液中に、
照射済みの不織布基材を浸漬し、50℃で6時間反応さ
せた。溶液から不織布を取り出し、トルエンに3時間浸
漬してホモポリマーを除去した。乾燥した後に重量増加
に基づいてグラフト率を算出したところ、161%であ
った。
ミンの10%水溶液中に浸漬し、80℃で3時間反応さ
せた。反応後の不織布基材を水洗した後、5%水酸化ナ
トリウム水溶液に1時間浸漬して再生した。得られた不
織布の中性塩分解容量及び総交換容量は、それぞれ1.
67meq/g、3.43meq/gであった。即ち、中性塩分解
能力のある4級アンモニウム基は1.67meq/g、未反
応の3級アミノ基は総交換容量と中性塩分解容量との差
である1.76meq/gであった。したがって、4級アン
モニウム基と3級アミノ基の量がほぼ等しいことから、
トリエチレンジアミンが架橋されずに導入されたことが
分かる。また、重量変化から、グラフト重合したクロロ
メチルスチレンに対するポリアミンの導入率を算出した
ところ94%と高い導入率であった。
生し、乾燥した後、チャック付きのポリ袋に入れて保管
した。1カ月後に袋を開封したが、全くアミン臭が観じ
られなかった。
50Lのテドラバッグ内に入れた。次に、ヨウ化メチル
を約50ppmの濃度となるようにマイクロシリンジでテ
ドラバックに注入した後、テドラバック内のヨウ化メチ
ル濃度の経時変化を調べた。結果を表1に示す。未処理
の不織布基材を用いた場合の結果も併記した。表1の結
果より、本発明のヨウ素除去フィルタは、空気中のヨウ
化メチルを除去する能力が高いことが分かった。ヨウ化
メチルは、各種形態のヨウ素の中でも最も除去しづらい
ものであり、本発明のヨウ素除去フィルタの優れた性能
が示された。
50Lテドラバック内に封入した。次に、テドラバック
内にヨウ素(I2)の蒸気を約50ppmの濃度となるよう
に注入し、1時間後にヨウ素の存在を確認したところ、
ヨウ素は全く検出されなかった。なお、ヨウ素の検出
は、別のアニオン交換不織布にヨウ化ナトリウムを含浸
させたものをテドラバック内に配置して、その黄変の有
無を視認することによって行った。未処理の不織布基材
を用いて同様の試験を行ったところ、アニオン交換不織
布は1時間後も黄変し、ヨウ素の存在が確認された。こ
の結果から、本発明のヨウ素除去フィルタは、空気中の
ヨウ素を除去する能力にも優れていることが分かった。
布を、トリメチルアミン5%、ジメチルアミン5%の混
合水溶液に浸漬し、50℃で4時間反応させてアミノ化
したところ、中性塩分解容量1.03meq/g、総交換容
量2.23meq/gの、3級アミノ基と4級アンモニウム
基とを有するアニオン交換不織布が得られた。この不織
布を水酸化ナトリウム水溶液で再生し、乾燥した。
1と同様に、ヨウ化メチル及びヨウ素(I2)の除去試
験を行った。ヨウ化メチル除去試験では、1.5時間後
にテドラバック内のヨウ化メチルが検出されなかった。
また、ヨウ素(I2)の除去試験においては、1時間後
にヨウ素は検出されなかった。いずれの形態のヨウ素に
ついても高い除去性能が認められた。
布を、ジメチルアミン10%水溶液に浸漬し、50℃で
4時間反応させてアミノ化したところ、総交換容量2.
96meq/gの、3級アミノ基を有する弱塩基性アニオン
交換不織布が得られた。この不織布を、ヨウ化メチル溶
液に浸漬して30℃で25分間反応させることによっ
て、3級アミノ基の一部を4級アンモニウム化した。こ
の結果、中性塩分解容量1.12meq/gの、強塩基性ア
ニオン交換基(4級アンモニウム基)と弱塩基性アニオ
ン交換基(3級アミノ基)とが共存するアニオン交換不
織布が得られた。この不織布を水酸化ナトリウム水溶液
で再生し、乾燥した。
1と同様に、ヨウ化メチル及びヨウ素(I2)の除去試
験を行った。実施例1とほぼ同等の結果が得られ、いず
れの形態のヨウ素についても高い除去性能が認められ
た。
布をトリメチルアミン10%水溶液に浸漬し、50℃で
4時間反応させてアミノ化して、中性塩分解容量2.2
3meq/gの、アニオン交換基として4級アンモニウム基
のみを有する強塩基性アニオン交換不織布を得た。この
不織布を水酸化ナトリウム水溶液で再生し、乾燥した。
1と同様にヨウ化メチル及びヨウ素(I2)の除去試験
を行った。ヨウ化メチル除去試験では、1.5時間後に
テドラバック内にヨウ化メチルが32ppm検出され、除
去効率が極めて悪かった。
Claims (8)
- 【請求項1】 ヨウ素を吸着除去する高分子素材を具備
するヨウ素除去フィルタであって、前記高分子素材は、
有機高分子基材の主鎖上に、少なくとも1つの3級アミ
ノ基と少なくとも1つの4級アンモニウム基とを有する
グラフト重合体側鎖を有するものであることを特徴とす
るヨウ素除去フィルタ。 - 【請求項2】 前記グラフト重合体側鎖が、放射線グラ
フト重合法を用いて有機高分子基材の主鎖上に導入され
たものである請求項1に記載のヨウ素除去フィルタ。 - 【請求項3】 前記高分子素材が、有機高分子基材の主
鎖上に、ハロゲン化アルキル基をベンゼン環上にもつス
チレン系化合物から誘導されたグラフト重合体側鎖を有
し、該グラフト重合体側鎖上に、少なくとも2つの3級
アミノ基を有するポリアミン化合物から誘導される官能
基が導入されているものであることを特徴とする請求項
1又は2に記載のヨウ素除去フィルタ。 - 【請求項4】 前記ポリアミン化合物が、トリエチレン
ジアミン、ジアザビシクロウンデセン、ヘキサメチレン
テトラミンから選択される請求項3に記載のヨウ素除去
フィルタ。 - 【請求項5】 前記高分子素材の形状が、単繊維、単繊
維の集合体である織布又は不織布又はそれらの加工品よ
り選択される請求項1〜4のいずれかに記載のヨウ素除
去フィルタ。 - 【請求項6】 請求項1〜5のいずれかに記載のヨウ素
除去フィルタを組み込んだことを特徴とするヨウ素除去
装置。 - 【請求項7】 請求項1〜5のいずれかに記載のヨウ素
除去フィルタを、ヨウ素除去素材として、活性炭、活性
炭素繊維、薬剤添着活性炭、薬剤添着活性炭素繊維、ゼ
オライト、薬剤添着ゼオライト、シリカゲル、薬剤添着
シリカゲルより選択される素材を用いるヨウ素除去装置
を設置したダクトの下流側に設置したことを特徴とする
ヨウ素除去装置。 - 【請求項8】 マスク又は防護装置の表面又は内部に請
求項1〜5のいずれかに記載のヨウ素除去フィルタを組
み込んだことを特徴とするヨウ素除去装置。
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Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011158564A1 (ja) | 2010-06-15 | 2011-12-22 | 三菱重工業株式会社 | 放射性ヨウ素の吸着材及び放射性ヨウ素の除去装置 |
JP2012223674A (ja) * | 2011-04-15 | 2012-11-15 | Shinshu Univ | フィルター及びフィルターの製造方法 |
JP2012223254A (ja) * | 2011-04-15 | 2012-11-15 | Shinshu Univ | 放射性物質遮断マスク |
JP2012250198A (ja) * | 2011-06-03 | 2012-12-20 | Kaneka Corp | ヨウ素酸イオンの除去・吸着方法 |
JP2013092444A (ja) * | 2011-10-26 | 2013-05-16 | Dainichiseika Color & Chem Mfg Co Ltd | 放射性ヨウ素の除去方法及び放射性ヨウ素除去用の親水性樹脂 |
KR20140019379A (ko) * | 2011-04-27 | 2014-02-14 | 가부시키가이샤 가네카 | 이온 교환 섬유와 그 제조 방법, 수중의 화학 물질의 제거·흡착 방법 및 수중의 화학 물질의 제거·흡착 장치 |
WO2014042171A1 (ja) * | 2012-09-13 | 2014-03-20 | 株式会社日本環境調査研究所 | 放射性有機ヨウ素を捕集・吸着可能な使い捨てマスク |
KR20140088871A (ko) * | 2011-10-26 | 2014-07-11 | 다이니치 세이카 고교 가부시키가이샤 | 방사성 요오드의 제거방법 및 방사성 요오드 제거용 친수성 수지 |
US9149786B2 (en) | 2011-11-16 | 2015-10-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Iodine adsorbent and column for water treatment using iodine adsorbent |
JP2015530574A (ja) * | 2012-09-05 | 2015-10-15 | コミッサリア ア レネルジー アトミーク エ オ ゼネルジ ザルタナテイヴ | 分子状ヨウ素抽出のためのホフマンクラスレート材料の用途 |
JP2020134462A (ja) * | 2019-02-25 | 2020-08-31 | 日立Geニュークリア・エナジー株式会社 | 有機よう素除去剤 |
JP2021096186A (ja) * | 2019-12-18 | 2021-06-24 | 日立Geニュークリア・エナジー株式会社 | 有機よう素除去剤および有機よう素除去装置 |
-
2001
- 2001-05-25 JP JP2001156944A patent/JP3811369B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012002606A (ja) * | 2010-06-15 | 2012-01-05 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 放射性ヨウ素の吸着材及び放射性ヨウ素の除去装置 |
US9044737B2 (en) | 2010-06-15 | 2015-06-02 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Radioactive iodine adsorbent and radioactive iodine removal apparatus |
WO2011158564A1 (ja) | 2010-06-15 | 2011-12-22 | 三菱重工業株式会社 | 放射性ヨウ素の吸着材及び放射性ヨウ素の除去装置 |
JP2012223674A (ja) * | 2011-04-15 | 2012-11-15 | Shinshu Univ | フィルター及びフィルターの製造方法 |
JP2012223254A (ja) * | 2011-04-15 | 2012-11-15 | Shinshu Univ | 放射性物質遮断マスク |
KR20140019379A (ko) * | 2011-04-27 | 2014-02-14 | 가부시키가이샤 가네카 | 이온 교환 섬유와 그 제조 방법, 수중의 화학 물질의 제거·흡착 방법 및 수중의 화학 물질의 제거·흡착 장치 |
KR101913118B1 (ko) * | 2011-04-27 | 2018-10-31 | 가부시키가이샤 가네카 | 이온 교환 섬유와 그 제조 방법, 수중의 화학 물질의 제거·흡착 방법 및 수중의 화학 물질의 제거·흡착 장치 |
JP2012250198A (ja) * | 2011-06-03 | 2012-12-20 | Kaneka Corp | ヨウ素酸イオンの除去・吸着方法 |
KR101631777B1 (ko) * | 2011-10-26 | 2016-06-17 | 다이니치 세이카 고교 가부시키가이샤 | 방사성 요오드의 제거방법 및 방사성 요오드 제거용 친수성 수지 |
JP2013092444A (ja) * | 2011-10-26 | 2013-05-16 | Dainichiseika Color & Chem Mfg Co Ltd | 放射性ヨウ素の除去方法及び放射性ヨウ素除去用の親水性樹脂 |
KR20140088871A (ko) * | 2011-10-26 | 2014-07-11 | 다이니치 세이카 고교 가부시키가이샤 | 방사성 요오드의 제거방법 및 방사성 요오드 제거용 친수성 수지 |
US10008300B2 (en) | 2011-10-26 | 2018-06-26 | Dainichiseika Color & Chemicals Mfg. Co. Ltd. | Method for eliminating radioactive iodine and hydrophilic resin for eliminating radioactive iodine |
US9149786B2 (en) | 2011-11-16 | 2015-10-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Iodine adsorbent and column for water treatment using iodine adsorbent |
JP2015530574A (ja) * | 2012-09-05 | 2015-10-15 | コミッサリア ア レネルジー アトミーク エ オ ゼネルジ ザルタナテイヴ | 分子状ヨウ素抽出のためのホフマンクラスレート材料の用途 |
WO2014042171A1 (ja) * | 2012-09-13 | 2014-03-20 | 株式会社日本環境調査研究所 | 放射性有機ヨウ素を捕集・吸着可能な使い捨てマスク |
JP2020134462A (ja) * | 2019-02-25 | 2020-08-31 | 日立Geニュークリア・エナジー株式会社 | 有機よう素除去剤 |
WO2020174938A1 (ja) * | 2019-02-25 | 2020-09-03 | 日立Geニュークリア・エナジー株式会社 | 有機よう素除去剤 |
JP2021096186A (ja) * | 2019-12-18 | 2021-06-24 | 日立Geニュークリア・エナジー株式会社 | 有機よう素除去剤および有機よう素除去装置 |
WO2021124868A1 (ja) * | 2019-12-18 | 2021-06-24 | 日立Geニュークリア・エナジー株式会社 | 有機よう素除去剤および有機よう素除去装置 |
JP7281393B2 (ja) | 2019-12-18 | 2023-05-25 | 日立Geニュークリア・エナジー株式会社 | 有機よう素除去剤および有機よう素除去装置 |
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Publication number | Publication date |
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