JP2002343557A - 有機elパネル及びその製造方法 - Google Patents

有機elパネル及びその製造方法

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JP2002343557A
JP2002343557A JP2001145834A JP2001145834A JP2002343557A JP 2002343557 A JP2002343557 A JP 2002343557A JP 2001145834 A JP2001145834 A JP 2001145834A JP 2001145834 A JP2001145834 A JP 2001145834A JP 2002343557 A JP2002343557 A JP 2002343557A
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勝司 吉川
Ikuo Kobayashi
郁夫 小林
Toyoyasu Tadokoro
豊康 田所
Kazuhiro Sato
一広 佐藤
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 有機EL素子を収納する収納空間の気密性を
良好に確保すること可能であるとともに、製造工程を簡
素化することで生産性を高め、有機ELパネルの製造コ
ストを低減することが可能な有機ELパネル及びその製
造方法を提供する。 【解決手段】 有機EL素子19はガラス基板(透光性
基板)2上に配設され、少なくとも発光層を含む有機層
を一対の電極により挟持してなる。封止キャップ(封止
部材)11は、有機EL素子19の電極部(引き出し
部)14,18が外部に露出し、有機EL素子19を覆
うようにガラス基板2上に配設される。鍔部21は封止
キャップ11の電極部14,18に対応する箇所に少な
くとも設けらる。溜め部23は鍔部21とガラス基板2
との間に接着剤22が塗布される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、少なくとも一方が
透光性の一対の電極により挟持され所定の発光をなす有
機EL素子(有機エレクトロルミネッセンス素子)を備
えた有機ELパネル及びその製造方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】有機ELパネルの構造を図5及び図6を
用いて説明する。有機ELパネル1は、ガラス基板2上
にITO(indium tin oxide)等によって透明電極(陽
極)3を形成し、透明電極3上に正孔注入層,正孔輸送
層,発光層及び電子輸送層を順次積層形成してなる有機
層4を形成し、この有機層4上にアルミ(Al)等の背面
電極(陰極)5を形成し、透明電極3,有機層4及び背
面電極5を覆うようにガラス材料からなる凹部形状の封
止キャップ6を支持基板2上に紫外線硬化型の接着剤7
を介し気密的に配設することで構成されるもので、有機
ELパネル1は、透明電極3と背面電極5との間に、直
流電圧を印加することによって前記発光層が所定の発光
をなすものである。また、有機ELパネル1は、発光領
域の輪郭を鮮明に表示するため、または透明電極3と背
面電極5との絶縁を確保するために、ポリイミド系等の
絶縁層8が透明電極3の周縁部に若干重なるようにガラ
ス基板2上に形成されている。
【0003】また有機ELパネル1は、透明電極3及び
背面電極5から延長形成された電極部群9が、長方形形
状からなるガラス基板2の一辺に集中配設されるととも
に、このガラス基板2における電極部群9の形成領域1
0が封止キャップ6から露出するように構成されてい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】かかる有機ELパネル
1は、電極部群9がガラス基板2の一辺に集中配置さ
れ、この集中配置された電極部群9に封止キャップ6が
重なる状態で配置されることになるため、電極部群9と
封止キャップ6との重合部分において、数μm単位で隙
間が生じるために有機層4を収納する収納空間の気密性
を良好に確保することが難しくなり、前記収納空間への
外気の侵入により有機ELパネル1の耐久性を向上させ
ることが困難であるといった問題点を有していた。
【0005】また、有機ELパネル1の製造方法として
は、ガラス基板2となる支持基板上の複数箇所に、透明
電極3,絶縁層8,有機層4及び背面電極5を適宜方法
によって順次形成して有機EL素子を得て、前記各有機
EL素子を個々に用意した封止キャップ6で覆った後、
前記支持基板をスクライブ法によって切断して個々の有
機ELパネル1を得るようにしている。即ち、電極部群
9の形成領域10が封止キャップ6の外側に露出するよ
うに、個々の前記有機EL素子に封止キャップ6を配設
する必要があるため、生産性が悪く有機ELパネル1の
製造コストを高くしてしまうといった問題点を有してい
る。また、個々の封止キャップ6を得る場合に、大型の
ガラス基板(封止基板)によるマルチ取りが一般的であ
るため、封止キャップ6の製造工程において、封止キャ
ップ6専用に切断工程後の面取り工程や洗浄工程が必要
となり、製造工程が煩雑になってしまうといった問題点
を有している。
【0006】そこで、本発明は、前述した問題点に着目
し、有機EL素子を収納する収納空間の気密性を良好に
確保することが可能であるとともに、製造工程を簡素化
することで生産性を高め、有機ELパネルの製造コスト
を低減することが可能な有機ELパネル及びその製造方
法を提供するものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題を解
決するため、請求項1に記載の本発明は、透光性基板
と、前記透光性基板上に配設され、少なくとも発光層を
含む有機層を一対の電極により挟持してなる有機EL素
子と、前記有機EL素子における前記電極の引き出し部
が外部に露出し、前記有機EL素子を覆うように前記透
光性基板上に配設される封止部材と、前記封止部材の前
記引き出し部に対応する箇所に少なくとも設けらる鍔部
と、を備えてなることを特徴とする有機ELパネルであ
る。
【0008】また、請求項2に記載の本発明は、前記鍔
部と前記透光性基板との間に接着部材の溜め部を構成し
てなるものである。
【0009】また、請求項3に記載の本発明は、透光性
の支持基板上に、少なくとも発光層を含む有機層を一対
の電極により挟持してなる有機EL素子を複数箇所に形
成する有機EL素子形成工程と、前記有機EL素子の数
に応じた第1,第2の凹部を備える封止基板を用意し、
前記有機EL素子と前記第1の凹部とが対向し、前記電
極の引き出し部と前記第2の凹部とが対向するように前
記支持基板上に前記封止基板を配設するとともに、前記
支持基板と前記封止基板とを接着する有機EL素子封止
工程と、前記第2の凹部の前記有機EL素子側の底部端
部を所定長さ残した状態にて前記封止基板及び前記支持
基板を切断することで、前記引き出し部が外部に露出す
る個々の有機ELパネルを得る切断工程と、を含むこと
を特徴とする有機ELパネルの製造方法である。
【0010】また、請求項4に記載の本発明は、前記第
2の凹部の残部から構成される鍔部と前記有機EL素子
を支える基板との間に接着剤を塗布する接着工程を含む
ことを特徴とする有機ELパネルの製造方法である。
【0011】また、請求項5に記載の本発明は、ガラス
材料からなる前記封止基板の前記第1,第2の凹部を、
成形,エッチング法,サンドブラスト法及び切削の何れ
かの手段により形成することを特徴とする有機ELパネ
ルの製造方法である。
【0012】また、請求項6に記載の本発明は、前記切
断工程は、スクライブ法であることを特徴とする有機E
Lパネルの製造方法である。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面に基づき説明するが、従来例と同一もしくは相当箇
所には同一符号を付してその詳細な説明は省略する。
【0014】図1及び図2を用いて有機ELパネルの構
造を説明する。有機ELパネル1は、ガラス基板2,透
明電極3,絶縁層8,有機層4,背面電極5及び封止キ
ャップ11から構成されている。
【0015】ガラス基板2は、長方形形状からなる透光
性の平板部材である。
【0016】透明電極3は、ガラス基板2上にITO等
の導電性材料によって構成され、日の字型の表示セグメ
ント部12と、個々のセグメントからそれぞれ引き出し
形成されたリード部13と、リード部13の終端部に設
けられる電極部(引き出し部)14とを備えている。電
極部14群は、ガラス基板2の一辺に集中的に配設され
る。
【0017】絶縁層8は、ポリイミド系等の絶縁材料か
らなり、表示セグメント部11に対応した窓部15と、
背面電極5の後述する電極部に対応する切り欠き部16
とを有し、発光領域の輪郭を鮮明に表示するため、透明
電極3の表示セグメント部12の周縁部と若干重なるよ
うに窓部15が形成され、また、透明電極3と背面電極
5との絶縁を確保するためにリード部13上を覆うよう
に配設される。
【0018】有機層4は、少なくとも発光層を有するも
のであれば良いが、本発明の実施の形態においては正孔
注入層,正孔輸送層,発光層及び電子輸送層を順次積層
形成してなるものである。有機層4は、絶縁層8におけ
る窓部15の形成箇所に所定の大きさをもって配設され
る。
【0019】背面電極5は、アルミ等の非透光性の導電
性材料から構成され、有機層4上に配設される。背面電
極5は、透明電極3における各電極部14が形成される
ガラス基板2の一辺に設けられるリード部17と電気的
に接続される。尚、リード部17の終端部には、電極部
(引き出し部)18が設けられ、リード部17及び電極
部18は透明電極3と同材料により形成される。
【0020】封止キャップ11は、透明電極3,絶縁層
8,有機層4及び背面電極5からなる有機EL素子19
を収納するための凹部形状の収納空間(後述する第1の
凹部に対応する)20を有し、透明電極3の電極部14
及び背面電極5の電極部18が露出するようにガラス基
板2よりも若干小さ目に構成されるとともに、封止キャ
ップの周縁全周に鍔部21が形成されている。また、封
止キャップ11は、ガラス基板2上に紫外線硬化型の接
着剤7によって気密的に配設される。
【0021】以上の各部によって有機ELパネル1が構
成される。かかる有機ELパネル1において特徴となる
点は、封止キャップ11に形成される鍔部21とガラス
基板2との間、即ち電極部14,18に重なるように配
設される封止キャップ11の側部に、有機EL素子19
に悪影響を及ぼさない、例えば常温硬化型のシリコン系
接着剤21を塗布し、収納空間20内の気密を確保する
点にある。従って、鍔部21を形成することによって、
鍔部21とガラス基板2との間において、接着剤22の
塗布可能な溜め部23を構成できることから、収納空間
20の気密性を確保するとともに、接着剤22の塗布量
管理を容易に行うことことが可能となる。
【0022】次に、図3及び図4を用いて有機ELパネ
ル1の製造方法を説明する。尚、図4において、絶縁層
8は省略し図示しないものとする。
【0023】先ず、透明電極3,絶縁層8,有機層4及
び背面電極5からなる有機EL素子19と、リード部1
3,17及び電極部14,18とを、ガラス基板2とな
る支持基板24上の複数箇所に蒸着もしくはスパッタリ
ング法等の手段により形成する「有機EL素子形成工
程,図4(a)」。
【0024】そして、成形,エッチング法,サンドブラ
スト法及び切削の何れかの手段により、有機EL素子1
9の大きさに対応し収納空間20となる第1の凹部25
と、透明電極3及び背面電極5の各電極部14,18の
形成領域10の大きさに対応する第2の凹部26とを形
成した封止基板27を用意する「図4(a)」。
【0025】次に、封止基板27における支持基板24
との当接面28に接着剤7を塗布し、第1の凹部25が
有機EL素子19に対応し、また第2の凹部26が形成
領域10に対応するように、封止基板27を支持基板2
4上に接着固定することで有機ELパネル1を複数有す
るマルチ基板29が得られる「有機EL素子封止工程,
図4(b)」。
【0026】次に、第2の凹部26の一方の底部端部か
ら所定の長さ(例えば、0.3mm以上)隔てた第1の表面
位置(点線で示す位置)30と、第2の凹部26の他方
の底部端部から所定長さ(例えば、0.3mm以上)隔てた
第2の表面位置(点線で示す位置)31とにスクライバ
によって切断溝(図示しない)を形成する「図4
(b)」。また、マルチ基板29の他の切断方向となる
第2の凹部26にも有機ELパネル1の区画領域に応じ
た切断溝を形成する。
【0027】次に、マルチ基板29において、第2の凹
部26における第2の表面位置31に形成される前記切
断溝と、有機ELパネル1の区画領域に応じた前記切断
溝とを支点とし折り曲げ切断するスクライブ法によって
個々の有機ELパネル1に分割する「第1切断工程,図
4(c)」。
【0028】前述した切断工程に引き続き、第2の凹部
21の第1の表面位置30に形成される前記切断溝を支
点とし第2の凹部26の残部32をスクライブ法によっ
て切断する「第2の切断工程,図4(d)」。
【0029】従って、残部32が除去されることで、各
電極部14,18の形成領域10が露出する有機ELパ
ネル1が得られ、また封止キャップ11に鍔部21が得
られる「第2の切断工程,図4(e)」。
【0030】次に、個々の有機ELパネル1において、
図2に示すように、鍔部21とガラス基板2との間に接
着剤22を塗布し、収納空間20内の気密性を確保す
る。
【0031】かかる有機ELパネル1の製造方法は、透
光性の支持基板24上に、透明電極3,絶縁層8,有機
層4及び背面電極5からなる有機EL素子19を複数箇
所に形成する有機EL素子形成工程と、有機EL素子1
9と対応した数の第1,第2の凹部25,26を備える
透光性の封止基板27を用意し、有機EL素子19と第
1の凹部25とが対向し、また透明電極3及び背面電極
5の引き出し部となる各電極部14,18と第2の凹部
26とが対向するように支持基板24上に封止基板27
を配設するとともに、支持基板24と封止基板27とを
接着する有機EL素子封止工程と、封止基板27におけ
る第2の凹部26の有機EL素子19側の底部端部を所
定長さ残した状態にて封止基板27及び支持基板24を
切断することで、電極部14,18が外部に露出する個
々の有機ELパネル1を得るとともに、有機ELパネル
1の封止キャップ11となる封止基板27の電極部1
4,18に対応する箇所に、第2の凹部26の底辺端部
の一部分からなる鍔部21を形成する切断工程と、を含
むものであり、個々の封止キャップ6を有機EL素子1
9に合わせて配設した従来の製造方法に比べ、封止基板
27に形成される第2の凹部26の適正箇所を切断する
といった簡単な製造方法によって、各電極部14,18
が外部に露出する有機ELパネル1を得ることが可能と
なる。
【0032】また、マルチ基板29から前述した切断工
程のみで個々の有機ELパネル1を得ることができるこ
とから、生産性を向上させるとともに、製造コストを低
減させることが可能となる。
【0033】また、本発明の有機ELパネル1の製造方
法では、従来の製造工程のように封止キャップ6を形成
する場合に生じる切断工程後の面取り工程や洗浄工程が
不要となる。従って、有機ELパネル1の切断部分にお
ける面取り及び洗浄工程を第2の切断工程後にまとめて
行うことができることから、作業効率を向上させること
が可能である。
【0034】また、封止基板27をガラス材料から構成
し、第1,第2の凹部20,21を成形,エッチング
法,サンドブラスト法及び切削の何れかの手段により形
成することで、大量生産に優れ、安価に封止キャップ1
1を得ることが可能となる。
【0035】また、第1,第2の切断工程は、スクライ
ブ法による切断工程を採用することで、高価な設備を使
用しなくとも、個々の有機ELパネル1を得ることが可
能となり、製造コストの低減を更に可能とする。
【0036】また、前記第2の切断工程後に、鍔部21
と有機EL素子19を支える支持基板24であるガラス
基板2との間に接着剤22を塗布する接着工程を設ける
ことで、電極部14,18の形成領域10において、有
機ELパネル1に設けられる収納空間20への外気の侵
入を防ぐことが可能となり、有機ELパネル1の耐久性
を向上させることが可能となる。
【0037】更に、封止キャップ11に鍔部21を形成
するように、前記第1,第2の切断工程(スクライブ
法)によってマルチ基板29を切断することから、マル
チ基板29の切断面を良好なものとする。尚、前記切断
面を良好なものとする理由は、以下の通りである。
【0038】前記有機EL素子封止工程において、封止
基板27における支持基板24との当接面28に接着剤
7を塗布し、第1の凹部25が有機EL素子19に対応
し、また第2の凹部26が形成領域10に対応するよう
に、封止基板27を支持基板24上に接着固定する際
に、当接面28に塗布された余剰接着剤が第2の凹部2
6の壁部に付着し、前記余剰接着剤が付着した状態でマ
ルチ基板29における第2の凹部26の底部端部をスク
ライブ法を用いて切断すると、前記余剰接着剤の付着し
た部位が部分的に強固となることから、前記余剰接着剤
が付着していない第2の凹部26の他の箇所(強度的に
弱い箇所)に、前記スクライブ法による切断時の応力が
集中することになるから、適正なるマルチ基板29の切
断箇所(この場合は第2の凹部26の底部端部)からず
れた状態で切断されたり、あるいは封止パネル11に割
れが生じる等の切断不良が発生することから、ガラス基
板2及び封止キャップ11の外観を損ね、場合によって
は封止キャップ11の割れによって有機ELパネル1の
歩留まりを低下させてしまう恐れがあるが、第2の凹部
26の底部端部から所定の長さ隔てた第1,第2表面位
置30,31に切断溝を形成し、前記切断溝を支点とし
てスクライブ法を用いて切断することで、前記余剰接着
剤により強固になった第2の凹部26の端部を避けて切
断することが可能となるため、切断面において割れや欠
けが発生することない良好な切断工程を得ることが可能
となる。
【0039】尚、前述した本発明の実施の形態では、電
極部14,18の形成領域10のみの鍔部21に接着剤
22を塗布するものであったが、本発明にあっては封止
キャップ11の周縁全周に形成される鍔部21とガラス
基板2との間に接着剤22を塗布するものであっても良
く、接着剤22を鍔部21の全周にそって塗布すること
で、更に収納空間20の気密性が確保できる。
【0040】また、前述した本発明の実施の形態におけ
る封止キャップ11では、鍔部21を封止キャップ11
の全周に設けるようにしているが、本発明にあっては、
少なくとも封止キャップ6の電極部14,18が形成さ
れる部分に対応する一辺(電極が露出する部分)に鍔部
21が形成されるものであっても良い。
【0041】また、前述した本発明の実施の形態では、
平板状の板材に第1の凹部25を形成することで収納空
間20を備える封止キャップ11を構成しているが、請
求項1に記載の本発明にあっては、平板部材と、ガラス
基板2と当接する支持部とから収納空間20を備える構
成の封止キャップであっても良く、この場合の鍔部の形
成にあっては、電極部14,18の形成領域10に対応
する部分の前記平板部材を所定の長さ外方に突出させる
ように配設することで、収納空間20の気密性を確保す
る接着剤22を塗布することが可能な溜め部を構成する
ことができる。
【0042】また、前述した本発明の実施の形態では、
鍔部21とガラス基板2との間に接着剤22を塗布する
構成を説明したが、請求項1に記載の本発明にあって
は、前述した製造工程のようにマルチ基板29を形成せ
ずに一個単位で有機ELパネル1を製造する場合、ガラ
ス基板2と封止キャップ11とを接着する接着剤7を封
止キャップ11の鍔部21の形成側に多めに塗布し、こ
の封止キャップ11とガラス基板2とを接着することに
よって、鍔部21側に多めに塗布された余剰接着剤7
が、鍔部21とガラス基板2との間に形成される溜め部
に良好に蓄えられることになるため、封止キャップ11
とガラス基板2との接合部からの外気の侵入を防止する
ことが可能となる。また、このように接着剤7を塗布す
ることで、後工程によって溜め部23に接着剤22を塗
布しなくとも良いことから、製造工程を簡素化し、生産
性を向上させることが可能となる。
【0043】
【発明の効果】本発明は、少なくとも一方が透光性の一
対の電極により挟持され所定の発光をなす有機EL素子
を備えた有機ELパネル及びその製造方法に関し、有機
層を収納する収納空間の気密性を良好に確保すること可
能であるとともに、製造工程を簡素化することで生産性
を高め、有機ELパネルの製造コストを低減することが
可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態における有機ELパネルを
示す斜視図。
【図2】同上実施の形態の有機ELパネルの部分拡大
図。
【図3】同上実施の形態の有機ELパネルのマルチ基板
を示す平面図。
【図4】同上実施の形態の有機EL素子の製造方法を示
す図。
【図5】従来の有機ELパネルを示す要部部分断面図。
【図6】従来の有機ELパネルを示す平面図。
【符号の説明】
1 有機ELパネル 2 ガラス基板 3 透明電極 4 有機層 5 背面電極 7,22 接着剤 11 封止キャップ(封止部材) 14,18 電極部(引き出し部) 19 有機EL素子 20 収納空間 21 鍔部 22 接着剤 23 溜め部 24 支持基板 25 第1の凹部 26 第2の凹部 27 封止基板 30 第1の表面位置 31 第2の表面位置
フロントページの続き (72)発明者 田所 豊康 新潟県長岡市藤橋1丁目190番地1 日本 精機株式会社アールアンドデイセンター内 (72)発明者 佐藤 一広 新潟県長岡市藤橋1丁目190番地1 日本 精機株式会社アールアンドデイセンター内 Fターム(参考) 3K007 AB11 AB18 BB01 CA01 CB01 CC05 DA01 DB03 EA01 EB00 FA02

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透光性基板と、前記透光性基板上に配設
    され、少なくとも発光層を含む有機層を一対の電極によ
    り挟持してなる有機EL素子と、前記有機EL素子にお
    ける前記電極の引き出し部が外部に露出し、前記有機E
    L素子を覆うように前記透光性基板上に配設される封止
    部材と、前記封止部材の前記引き出し部に対応する箇所
    に少なくとも設けらる鍔部と、を備えてなることを特徴
    とする有機ELパネル。
  2. 【請求項2】 前記鍔部と前記透光性基板との間に接着
    部材の溜め部を構成してなることを特徴とする請求項1
    に記載の有機ELパネル。
  3. 【請求項3】 透光性の支持基板上に、少なくとも発光
    層を含む有機層を一対の電極により挟持してなる有機E
    L素子を複数箇所に形成する有機EL素子形成工程と、 前記有機EL素子の数に応じた第1,第2の凹部を備え
    る封止基板を用意し、前記有機EL素子と前記第1の凹
    部とが対向し、前記電極の引き出し部と前記第2の凹部
    とが対向するように前記支持基板上に前記封止基板を配
    設するとともに、前記支持基板と前記封止基板とを接着
    する有機EL素子封止工程と、 前記第2の凹部の前記有機EL素子側の底部端部を所定
    長さ残した状態にて前記封止基板及び前記支持基板を切
    断することで、前記引き出し部が外部に露出する個々の
    有機ELパネルを得る切断工程と、 を含むことを特徴とする有機ELパネルの製造方法。
  4. 【請求項4】 前記第2の凹部の残部から構成される鍔
    部と前記有機EL素子を支える基板との間に接着剤を塗
    布する接着工程を含むことを特徴とする請求項3に記載
    の有機ELパネルの製造方法。
  5. 【請求項5】 ガラス材料からなる前記封止基板の前記
    第1,第2の凹部を、成形,エッチング法,サンドブラ
    スト法及び切削の何れかの手段により形成することを特
    徴とする請求項3に記載の有機ELパネルの製造方法。
  6. 【請求項6】 前記切断工程は、スクライブ法であるこ
    とを特徴とする請求項3に記載の有機ELパネルの製造
    方法。
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