JP2002343540A - 平面ヒータ - Google Patents

平面ヒータ

Info

Publication number
JP2002343540A
JP2002343540A JP2001142669A JP2001142669A JP2002343540A JP 2002343540 A JP2002343540 A JP 2002343540A JP 2001142669 A JP2001142669 A JP 2001142669A JP 2001142669 A JP2001142669 A JP 2001142669A JP 2002343540 A JP2002343540 A JP 2002343540A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heater
insulating layer
slit
electrode
flat heater
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001142669A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigemitsu Ninomiya
重光 二宮
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TEEPI NETSUGAKU KK
Teikoku Piston Ring Co Ltd
Original Assignee
TEEPI NETSUGAKU KK
Teikoku Piston Ring Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TEEPI NETSUGAKU KK, Teikoku Piston Ring Co Ltd filed Critical TEEPI NETSUGAKU KK
Priority to JP2001142669A priority Critical patent/JP2002343540A/ja
Publication of JP2002343540A publication Critical patent/JP2002343540A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Toilet Supplies (AREA)
  • Bidet-Like Cleaning Device And Other Flush Toilet Accessories (AREA)
  • Fixing For Electrophotography (AREA)
  • Surface Heating Bodies (AREA)
  • Resistance Heating (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数の独立したヒータ回路を備え、それらの
温度を精度よくコントロール可能な平面ヒータを提供す
る。 【解決手段】 平面ヒータ1の金属基板2に下部絶縁層
5を被覆し、下部絶縁層5の上に抵抗体9、導体8及び
電極7で構成されたヒータ回路を形成し、下部絶縁層
5、抵抗体9及び導体8に上部絶縁層を被覆する。平面
ヒータ1は1本の横スリット3と4本の縦スリット4と
で、抵抗体9と導体8が配置する4つの加熱領域A,
B,C,Dと、電極7が配置する1つの電極配置領域E
とに区画され、各加熱領域A,B,C,Dのヒータ電力
を独立して制御できるようになっている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は平面ヒータに関す
る。更に詳しくは、複数の独立したヒータ回路を有して
おり、ヒータ各部の温度を精度よくコントロールできる
平面ヒータに関する。
【0002】
【従来の技術】耐熱金属基板上に印刷技術で絶縁層、そ
の上に抵抗体、導体及び電極からなるヒータ回路、更に
その上に絶縁層を形成した平面ヒータがある。この種の
ヒータは、以下の特徴がある。 ・(ヒータ電力/熱容量)が小さいので、昇温速度が大
きい。 ・印刷技術で抵抗体、導体及び電極を形成するので、薄
い平面ヒータが得られる。
【0003】上記の特徴を利用して、一部のコピー機に
おいてトナー定着のための加熱ヒータ、水洗便器の洗浄
水加熱ヒータ、湯沸し用のヒータとして利用され始めて
いる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】反面、この種のヒータ
は、以下の不都合を有する。・金属基板上に非金属の絶
縁層を被覆しているので、平面ヒータ内の温度勾配が大
きかったり、基板が変形すると絶縁層の剥離の危険があ
る。
【0005】最近の加熱・乾燥装置は小型化されるとと
もに、被加熱物をより精密に温度コントロールすること
が求められている。例えば、プリント基板のリフロー炉
は、表面実装や鉛フリーはんだの普及に伴い、基板各部
の耐熱性や所要加熱温度に応じて、各部を異なる温度に
加熱する必要がある。このような加熱装置では、ワーク
とヒータの距離が狭く、ヒータの大きさがワークの大き
さと比較して充分大きくないので、ワークの周縁部と中
央部の温度差を小さく制御する必要がある。したがっ
て、これらの加熱炉に用いる平面ヒータは、ヒータを複
数の領域に分け、各領域の温度を独立して精度よく制御
できることが必要である。
【0006】金属基板に絶縁層、抵抗体、導体及び電極
を形成した従来の平面ヒータは、薄型であり、1つのヒ
ータの中に複数のヒータ回路を配置して、それぞれ電力
をコントロールすることも可能である。
【0007】しかし、その場合、隣接しているヒータ回
路の領域間で熱の伝導があるため、各領域の温度を独立
して精度よく制御することができない。
【0008】また、領域間に大きな温度勾配を与える
と、絶縁層の破壊の恐れがあるので、領域間にステップ
状の温度分布を与えることができない。従って、被加熱
物の各部位に与える輻射熱を自由にコントロールできな
い。
【0009】また、従来の平面ヒータは、電極と抵抗体
を単に離間して配置させると、電極に近い抵抗体部分か
ら電極へ熱が逃げ、電極に近い部分の温度が低下するた
め、一様な温度分布を得ることができない。そのため、
一様な温度分布を有する加熱領域を有すること及び電極
の温度が低いことの2つを満足させる平面ヒータを得る
ことはできない。
【0010】本発明は上記事情に鑑みてなされたもので
あり、複数の独立したヒータ回路を備え、それらの温度
を精度よくコントロール可能な平面ヒータを提供するこ
とを課題とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するために、次の手段を採る。すなわち、本発明は、
金属基板に下部絶縁層が被覆され、下部絶縁層の上に抵
抗体、導体及び電極で構成されたヒータ回路が形成さ
れ、更に上部絶縁層が被覆されている平面ヒータにおい
て、前記平面ヒータが複数の独立したヒータ回路を有し
ており、かつ、隣接しているヒータ回路の領域間にスリ
ットを有していることを特徴とする(請求項1)。
【0012】上記構成によれば、各ヒータ回路の電力を
別々に制御すると、ヒータに所望の温度分布を与えるこ
とができ、被加熱物の各部の耐熱性や所要加熱温度に応
じて被加熱物の各部を適切に加熱できる。この際、スリ
ットが、隣接しているヒータ回路の領域間の熱伝導を遮
断するため、各領域の温度を精度よく制御できる。ま
た、絶縁層がスリットで非連続になるため、スリットを
挟んだ領域間にステップ状の温度勾配が与えられても、
絶縁層の剥離等を抑制できる。
【0013】前記スリットの周囲に絶縁層が被覆されて
いない部分が存在するのが好ましい(請求項2)。スリ
ットを挟んだ領域間に温度差がある場合、スリット近傍
で応力が発生するが、上記構成によれば、絶縁層の剥離
や脱落を更に低減できる。絶縁層の被覆されていない部
分の幅は、0.5−5mmとするのが好ましい(請求項
3)。また、スリットは端部が丸く形成されているのが
好ましい(請求項4)。以上のように構成すれば、スリ
ットを挟んだ領域間により大きなステップ状の温度勾配
を与えることができる。
【0014】前記スリットは端部が平面ヒータの側面に
開口しておらず、内側に配置しているのが好ましい(請
求項5)。これによれば、自由端のない平面ヒータが得
られる。自由端があると、ヒータ取付の際に自由端を固
定する必要があるが、自由端のない平面ヒータは固定個
所を少なくでき、取付が容易となる。
【0015】前記スリットの端部の外側を導体が横切る
構成を採れば(請求項6)、複数のヒータ回路に共通電
極を設けることが可能になる。また、電極を抵抗体領域
から離間して配置でき、電極や電極に取り付けられる端
子の温度上昇を抑制することができる。
【0016】前記平面ヒータが電極の配置する領域と、
抵抗体の配置する領域に区画されており、それらの領域
の間にスリットを有している構成を採れば(請求項
7)、複数のヒータ回路に共通電極を設けることが可能
になる。また、スリットが抵抗体と電極間の熱伝導を遮
断するため、電極や電極に取り付けられる端子の温度上
昇を抑制することができる。
【0017】平面ヒータには温度センサの取付手段が設
けられているのが好ましい(請求項8)。このようにす
れば、平面ヒータに温度センサを取り付けることによ
り、ヒータ温度をより直接的に精度よくコントロールす
ることが可能になる。なお、温度センサは各ヒータ回路
の領域にそれぞれ設けるのが好ましいが、どの程度設け
るかはヒータの用途に応じて適宜選択すればよい。
【0018】金属基板の一面に前記下部絶縁層、ヒータ
回路、及び上部絶縁層が設けられ、他面に絶縁層が被覆
されているのが好ましい(請求項9)。このようにすれ
ば、両面加熱用のヒータを得られる。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図1
及び図2を参照して説明する。
【0020】平面ヒータ1の定格電力は2kWである。
平面ヒータ1の耐熱性金属基板2は熱膨張率が小さく耐
熱性のあるマルテンサイト系ステンレス鋼(SUS43
0)からなる。金属基板2は左右に長い矩形形状で、そ
の大きさは例えば板厚2.5mm×長さ285mm×幅
155mmである。板厚は通常1.0−5mmの範囲で
選択される。ヒータ温度、所要昇温速度が大きい場合、
板厚を薄くする。
【0021】金属基板2には、横方向に延びる1本の長
孔形状のスリット(以下、横スリットという。)3と、
縦方向に延びる4本の長孔形状のスリット(以下、縦ス
リットという。)4が形成されている。横スリット3
は、金属基板2を上下に2等分する位置に配置されて横
方向に直線的に延び、左右の端部は金属基板2の左右の
側面から一定の距離を置いた位置に配置している。横ス
リット3の一方の端部付近には、2本の縦スリット4が
横スリット3を挟むように対称的に配置されて横スリッ
ト3に垂直に縦方向に直線的に延びている。各縦スリッ
ト4の上下端部はそれぞれ金属基板2の上下の側面及び
横スリット3から一定の距離を置いた位置に配置してい
る。残りの2本の縦スリット4は、横スリット3の端部
に配置している縦スリット4と横スリット3とで囲まれ
た領域を2等分する位置に配置されている。これらの2
本の縦スリット4は、横スリット3を挟むように対称的
に配置されて横スリット3に垂直に縦方向に直線的に延
びており、各縦スリット4の上下端部はそれぞれ金属基
板2の上下の側面及び横スリット3から一定の距離を置
いた位置に配置している。
【0022】上述した1本の横スリット3と4本の縦ス
リット4とで、平面ヒータ1は大きさが同じ4つの加熱
領域A,B,C,Dと、横スリット3の端部に配置して
いる縦スリット4よりも外側の電極配置領域Eとの5つ
の領域に区画されている。
【0023】横スリット3と縦スリット4の幅は0.5
−5mm、例えば2mmとされる。これらのスリット
3,4の端部は丸く、例えば半円形状に形成するのが望
ましく、必要に応じてスリット3,4の幅よりも大きな
欠円形状としてもよい。この場合、スリット3,4は亜
鈴形状になる。
【0024】上記金属基板2の一面に下部絶縁層5が被
覆されている。下部絶縁層5の熱膨張率は金属基板2の
熱膨張率に近いことが重要である。例えば、下部絶縁層
5は金属基板2の材料であるSUS430に対して琺瑯
フリットが使用される。琺瑯フリットは種々のものが市
販されている。下部絶縁層5はスクリーン印刷・焼成し
て形成される。所要の絶縁耐力を得るために、印刷・焼
成工程を複数回繰り返して下部絶縁層5を厚くすること
ができる。下部絶縁層5の厚さは25−100μmの範
囲で選択される。
【0025】下部絶縁層5が他の部材と接触しないよ
う、下部絶縁層5を金属基板2の端部、後述するヒータ
取付孔11及びセンサ取付孔10の近傍を避けて被覆す
る。更に、横スリット3と縦スリット4の周囲をスリッ
ト3,4から幅0.5−5mmの範囲で避けて被覆す
る。したがって、横スリット3及び縦スリット4の周囲
には下部絶縁層5が形成されていない部分6Aが存在す
る。金属基板2の端部、ヒータ取付孔11の周囲、セン
サ取付孔10の周囲にも同じように下部絶縁層5が形成
されていない部分6Bが存在する。
【0026】下部絶縁層5の上には、導電ペーストを所
要のパターンで印刷・焼成して電極7と導体8が形成さ
れている。ヒータ電流が大きい場合、Agを主成分とす
るペーストを用いるのが望ましい。電極7の面積及び導
体8の断面積は電流と温度を考慮して選択する。導体8
は例えばAgで、厚さと幅はそれぞれ5μm、2mmと
される。
【0027】更に、下部絶縁層5の上には、抵抗体9が
印刷・焼成して形成されている。抵抗体9は電極7と導
体8の形成後に形成される。抵抗体9は下部絶縁層5と
後述する上部絶縁層12の中に埋め込まれるので、絶縁
層5,12と熱膨張率が近いこと、及び絶縁層5,12
との間で相互拡散して変化しないことが重要である。抵
抗体9の幅・長さは電流の大きさ、所要の抵抗値を考慮
して決定する。抵抗体9の厚さと幅は、例えばそれぞれ
5μm、2mmとされる。
【0028】電極7は電極配置領域Eに5個、電極配置
領域Eと反対側の横スリット3端部の外側に1個形成さ
れている。7aは端子取付孔である。電極配置領域Eの
5個の電極7は、等間隔で配置されており、横スリット
3の端部の外側に1個配置し、上下の縦スリット4の外
側にそれぞれ2個配置されている。横スリット3の両側
の電極7は共通電極であり、4つの加熱領域A,B,
C,Dに形成されている抵抗体9と導体8からなる回路
パターンに共通に接続されており、残りの4個の電極7
が各加熱領域A,B,C,Dの抵抗体9と導体8からな
る回路パターンにそれぞれ接続されている。
【0029】抵抗体9と導体8のパターンは横スリット
3の上側の加熱領域A,Bと下側の加熱領域C,Dで同
一であるので、上側の加熱領域A,Bの抵抗体9と導体
8のパターンを代表的に説明する。
【0030】加熱領域Aにおいて、抵抗体9は横スリッ
ト3に平行に横方向に直線的に延びており、これらの抵
抗体9が加熱領域A内を略均一に上下に等間隔をおいて
複数本形成されている。そして、導体8が、隣接する抵
抗体9の端部同士を接続するように抵抗体9に垂直に縦
方向に形成されている。したがって、抵抗体9と導体8
はジグザグ状の回路パターンに形成されている。この回
路パターンの下端の抵抗体9は電極接続用導体8Aを介
して共通電極7に接続され、上端の抵抗体9は電極接続
用導体8Bを介して上から2番目の電極7に接続されて
いる。前記電極接続用導体8Aは左右の共通電極7に接
続され、共通電極7間を直線的に延びており、更にその
中間部から縦方向に延びて抵抗体9に接続している。前
記電極接続用導体8Bは上から2番目の電極7から僅か
に横方向に延び、それから縦スリット4の外側を縦方向
に延び、それから縦スリット4の端部の外側を横切って
横方向に延びて抵抗体9に接続している。
【0031】加熱領域Bは、上記加熱領域Aと同じよう
に形成されている。多少異なる点は、共通電極7側でな
い電極接続用導体8Bは上から1番目の電極7から縦方
向に延び、それから縦スリット4の端部の外側を横切っ
て横方向に延び、それから僅かに縦方向に延びて加熱領
域B内の上端の抵抗体9に接続している。
【0032】なお、各加熱領域A,B,C,Dにおい
て、中央の2本の抵抗体9の長手方向における中央部は
僅かに間隔が広がっている。この部分は、間隔が広く上
下に対向配置する一対の抵抗体部分9aと、それらとそ
の両側の抵抗体部分9bを接続している導体8aとで構
成されている。そして、これらで形成されている領域に
センサ取付孔10が左右一対、形成されている。
【0033】11は、平面ヒータ1の四隅に形成されて
いるヒータ取付孔である。
【0034】下部絶縁層5、抵抗体9及び導体8は上部
絶縁層12で被覆されている。上部絶縁層12は絶縁性
が下部絶縁層5ほど重要でないので、厚さは例えば25
μm程度とすれば充分である。上部絶縁層12は例えば
下部絶縁層5と同じ琺瑯フリットが使用される。
【0035】本実施形態の平面ヒータ1は以上のように
構成されているので、各加熱領域A,B,C,Dにおい
て、ヒータ回路の電力を別々に制御すると、平面ヒータ
1に所望の温度分布を与えることができ、被加熱物の各
部の耐熱性や所要加熱温度に応じて被加熱物の各部を適
切に加熱できる。この際、スリット3,4が、隣接して
いる加熱領域A,B,C,D間の熱伝導を遮断するた
め、各加熱領域A,B,C,Dの温度を精度よく制御で
きる。そして、各加熱領域A,B,C,Dで抵抗体9は
略均一に配置され、その周囲をスリット3,4で囲まれ
ているので、各加熱領域A,B,C,D内において温度
分布を一様化できる。また、絶縁層5,12がスリット
3,4で非連続になり、更に、スリット3,4の周囲に
絶縁層5,12が被覆されていない部分6Aが存在する
ため、スリット3,4を挟んだ加熱領域A,B,C,D
間にステップ状の温度勾配が与えられても、絶縁層5,
12が剥離したり、脱落したりするのを防止できる。更
には、電極7が配置している電極配置領域Eと、それに
隣接し抵抗体9が配置されている加熱領域A,Cとの間
に縦スリット4が設けられているので、加熱領域A,C
から電極配置領域Eへの熱伝導が縦スリット4で遮断さ
れ、電極7及び図示しない端子の温度の上昇を防ぐこと
ができる。
【0036】次に、本発明の別の実施形態を図3〜図5
を参照しながら、上記実施形態と相違している構成につ
いて説明する。
【0037】平面ヒータ1の耐熱性金属基板2は正方形
状で、その大きさは例えば板厚2.5mm×長さ190
mm×幅190mmである。
【0038】金属基板2には、1列あたり5本の縦スリ
ット4が6列形成されると共に、1列あたり6本の横ス
リット3が5列、縦スリット4の列の間に形成されるこ
とによって、縦スリット4と横スリット3で囲まれた正
方形状のヒータ領域Fが25個形成されている。25個
の各ヒータ領域Fは同じ面積を有している。これらの2
5個のヒータ領域Fの外側周囲には一定幅でヒータ回路
が形成されていない領域Gが存在している。この領域G
において、平面ヒータ1の四隅にヒータ取付孔11が形
成されている。
【0039】上記金属基板2の一面において、25個の
各ヒータ領域Fにそれぞれ下部絶縁層5が被覆されてい
る。
【0040】下部絶縁層5は横スリット3と縦スリット
4から幅0.5−5mmの範囲で避けて被覆する。した
がって、下部絶縁層5はヒータ領域F内で横スリット3
と縦スリット4に接しないように一回り小さい略正方形
状をなしており、各ヒータ領域F内において横スリット
3と縦スリット4の内側に下部絶縁層5が形成されてい
ない部分6Aが存在する。各ヒータ領域Fにおいて、対
角位置の2つの隅部にセンサ取付孔10が形成されてお
り、下部絶縁層5はこのセンサ取付孔10の近傍を避け
て被覆されている。したがって、下部絶縁層5はセンサ
取付孔10位置の角部がセンサ取付孔10に接しないよ
うに曲面に形成されており、センサ取付孔10の周囲に
下部絶縁層5が形成されていない部分6Bが存在する。
なお、センサ取付孔10は端子取付孔でもある。
【0041】下部絶縁層5の上には、電極7と導体8が
印刷・焼成して形成され、更に、抵抗体9が印刷・焼成
して形成されている。
【0042】電極7は各ヒータ領域Fにおいてセンサ取
付孔10が存在しない対角位置の2つの隅部にそれぞれ
形成されている。
【0043】各ヒータ領域Fに形成されている抵抗体9
と導体8のパターンは同一であるので、1つのヒータ領
域Fにおける抵抗体9と導体8のパターンを代表的に説
明する。
【0044】ヒータ領域Fにおいて、抵抗体9は横スリ
ット3に平行に横方向に直線的に延びており、これらの
抵抗体9がヒータ領域F内を略均一に上下に等間隔をお
いて複数本形成されている。そして、導体8が、隣接す
る抵抗体9の端部同士を接続するように抵抗体9に垂直
に縦方向に形成されている。したがって、抵抗体9と導
体8はジグザグ状の回路パターンに形成されている。こ
の回路パターンの両端がそれぞれ電極7に接続されてい
る。
【0045】下部絶縁層5、抵抗体9及び導体8は上部
絶縁層12で被覆されている。
【0046】本実施形態の平面ヒータ1は以上のように
構成されているので、各ヒータ領域Fにおいて、ヒータ
回路の電力を別々に制御すると、平面ヒータ1に所望の
温度分布を与えることができ、被加熱物の各部の耐熱性
や所要加熱温度に応じて被加熱物の各部を適切に加熱で
きる。この際、スリット3,4が、隣接しているヒータ
領域F間の熱伝導を遮断するため、各ヒータ領域Fの温
度を精度よく制御できる。そして、各ヒータ領域Fで抵
抗体9は略均一に配置され、その周囲をスリット3,4
で囲まれているので、各ヒータ領域F内において温度分
布を一様化できる。また、絶縁層5,12がスリット
3,4で非連続になり、更に、スリット3,4の周囲に
絶縁層5,12が被覆されていない部分6Aが存在する
ため、スリット3,4を挟んだヒータ領域F間にステッ
プ状の温度勾配が与えられても、絶縁層5,12が剥離
したり、脱落したりするのを防止できる。更には、ヒー
タ回路が形成されていない領域Gは、スリット3,4で
ヒータ領域Fからの熱伝導が遮断され、温度の上昇を防
ぐことができる。その結果、この部分からの炉体等への
熱伝導を防ぐことができる。
【0047】なお、上記2つの実施形態で、平面ヒータ
1の裏面に絶縁層を被覆すれば、両面ヒータとなる。
【0048】
【発明の効果】以上説明したように本発明の平面ヒータ
は、複数の独立したヒータ回路を備え、それらの温度を
精度よくコントロールできる。そのため、ヒータに所望
の温度分布を与えることができ、被加熱物の各部の耐熱
性や所要加熱温度に応じて被加熱物の各部を適切に加熱
できる。そして、平面ヒータの絶縁層の剥離や脱落を抑
制できる。したがって、半導体分野やプリント基板のリ
フロー炉等に好適に使用できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の平面ヒータの一実施形態であり、上部
絶縁層が省略して描かれている平面図である。
【図2】(a)は本発明の平面ヒータの一実施形態を示
す側面断面図、(b)はその一部分の拡大図である。
【図3】本発明の平面ヒータの別の実施形態であり、上
部絶縁層が省略して描かれている平面図である。
【図4】図3の一部分の拡大図である。
【図5】(a)は本発明の平面ヒータの別の実施形態を
示す正面断面図、(b)はその一部分の拡大図である。
【符号の説明】
1 平面ヒータ 2 金属基板 3 横スリット 4 縦スリット 5 下部絶縁層 6A,6B 絶縁層が形成されていない部分 7 電極 8 導体 9 抵抗体 10 センサ取付孔 11 ヒータ取付孔 12 上部絶縁層 A,B,C,D 加熱領域 E 電極配置領域 F ヒータ領域 G ヒータ回路が形成されていない領域
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03G 15/20 101 G03G 15/20 101 109 109 H05B 3/10 H05B 3/10 A C Fターム(参考) 2D037 AD03 2D038 JB02 2H033 AA18 BA27 BA32 BB18 CA27 3K034 AA02 AA06 AA08 AA10 AA34 AA37 BA03 BA15 BA17 BB03 BB14 BC04 BC12 BC29 BC30 CA03 CA14 CA22 JA10 3K092 PP08 PP20 QA05 QB02 QB30 QB43 QB47 QB51 QB59 QB68 QC07 QC19 QC25 QC49 RF03 RF09 RF17 RF22 UA04

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 金属基板に下部絶縁層が被覆され、下部
    絶縁層の上に抵抗体、導体及び電極で構成されたヒータ
    回路が形成され、更に上部絶縁層が被覆されている平面
    ヒータにおいて、 前記平面ヒータが複数の独立したヒータ回路を有してお
    り、かつ、隣接しているヒータ回路の領域間にスリット
    を有していることを特徴とする平面ヒータ。
  2. 【請求項2】 前記スリットの周囲に絶縁層が被覆され
    ていない部分が存在することを特徴とする請求項1記載
    の平面ヒータ。
  3. 【請求項3】 前記絶縁層の被覆されていない部分の幅
    が、0.5−5mmであることを特徴とする請求項2記
    載の平面ヒータ。
  4. 【請求項4】 前記スリットは端部が丸く形成されてい
    ることを特徴とする請求項1記載の平面ヒータ。
  5. 【請求項5】 前記スリットは端部が平面ヒータの側面
    に開口しておらず、内側に配置していることを特徴とす
    る請求項1記載の平面ヒータ。
  6. 【請求項6】 前記スリットの端部の外側を導体が横切
    っていることを特徴とする請求項1記載の平面ヒータ。
  7. 【請求項7】 前記平面ヒータが電極の配置する領域
    と、抵抗体の配置する領域に区画されており、それらの
    領域の間にスリットを有していることを特徴とする請求
    項1記載の平面ヒータ。
  8. 【請求項8】 温度センサの取付手段が設けられている
    ことを特徴とする請求項1記載の平面ヒータ。
  9. 【請求項9】 金属基板の一面に前記下部絶縁層、ヒー
    タ回路、及び上部絶縁層が設けられ、他面に絶縁層が被
    覆されていることを特徴とする請求項1記載の平面ヒー
    タ。
JP2001142669A 2001-05-14 2001-05-14 平面ヒータ Pending JP2002343540A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001142669A JP2002343540A (ja) 2001-05-14 2001-05-14 平面ヒータ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001142669A JP2002343540A (ja) 2001-05-14 2001-05-14 平面ヒータ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002343540A true JP2002343540A (ja) 2002-11-29

Family

ID=18988933

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001142669A Pending JP2002343540A (ja) 2001-05-14 2001-05-14 平面ヒータ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002343540A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007102199A1 (ja) * 2006-03-07 2007-09-13 Solana Techno Corporation マトリックスヒータ

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007102199A1 (ja) * 2006-03-07 2007-09-13 Solana Techno Corporation マトリックスヒータ

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20190064515A (ko) 온도가 제어되는 가열 소자 및 흡연 세트
JP3983304B2 (ja) 加熱素子
US3440407A (en) Temperature controlled circuit boards
US11406222B2 (en) Electric heater and cooking appliance having same
JPH07192902A (ja) Smd構造の抵抗器、その製造方法及びこの抵抗器を取り付けたプリント回路板
US11668470B2 (en) Electric heater and cooking appliance having same
US11253100B2 (en) Electric heater and electric heating apparatus having same
JPH0529067A (ja) 加熱体の構造及びoa機器の加熱装置
JPS5952521B2 (ja) 電気抵抗装置
KR20200021816A (ko) 전기 히터
JPH10214675A (ja) セラミックヒータ
JP3993852B2 (ja) 対称構造を持つサーミスタ
JP2017199565A (ja) 面状発熱体
JP2002343540A (ja) 平面ヒータ
JP4931360B2 (ja) ウェハ加熱装置
US11828490B2 (en) Ceramic heater for heating water in an appliance
JPH0633390U (ja) 面状発熱体
JPH04249090A (ja) 面状発熱体
JP2000124024A (ja) フラットコイルおよびこの製造方法
JPH09102384A (ja) 面状発熱体
JPH11121149A (ja) 面状加熱装置
CN220755080U (zh) 厚膜加热器
JPH06310305A (ja) 傍熱形チップサーミスタ
CN1446440A (zh) 电加热元件的相关改进
JP2004220782A (ja) スチールヒーター及び熱処理方法