JP2002342917A

JP2002342917A - 磁気記録媒体とその製造方法並びに磁気記録媒体の表面処理テープ及び研磨部材

Info

Publication number: JP2002342917A
Application number: JP2001150486A
Authority: JP
Inventors: Atsushi Kato; 篤加藤; Satoshi Kawamura; 智川村
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 2001-05-21
Filing date: 2001-05-21
Publication date: 2002-11-29

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】磁性層表面を傷つけずに付着物や、不要な突
起物を除去することが可能な、磁気記録媒体の製造方法
及び磁気記録媒体の表面処理テープと研磨部材並びに前
記方法で製造される磁気記録媒体の提供。【解決手段】磁気記録媒体１１の磁性層表面に付着す
る塵埃やこの磁性層表面の微小突起等の異物を除去し、
磁性層表面を平滑化する工程を有する、磁気記録媒体の
製造方法において、ＣａＯとＴｉＯ₂と含有する無機質
粉末、若しくはＣａＯとＴｉＯ₂とＮｉＯと含有する無
機質粉末を結合剤中に分散した塗料をフィルム状支持体
に塗布して作成した、表面処理テープ１０によって、該
磁性層表面を研磨している。尚、表面処理テープ１０の
代わりに、ＣａＯとＴｉＯ₂と含有する無機質粉末、若
しくはＣａＯとＴｉＯ₂とＮｉＯと含有する無機質粉末
を混練成形して成る、研摩部材を、採用してもよい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体の磁
性層表面に付着する塵埃やこの磁性層表面の微小突起等
の異物を除去し、磁性層表面を平滑化する、磁気記録体
製造用表面処理に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、ハイビジョンＶＴＲやデジタルＶ
ＴＲに代表される高性能化に伴い、磁気記録媒体の特性
向上が求められている。

【０００３】なかでも、近年、高密度大容量を目指し
て、より記録波長の短波長化が進んでいることから、使
用される磁性粉のサイズも微粒子化が進んでいる。しか
しながら、磁性粉サイズの微細化により、ヘッドに対す
る磁性層構成物の脱落（粉落ち）が発生しやすくなるこ
とや、磁性塗料作成時に分散が不良となることで凝集物
などが磁性層表面に突起となり記録抜け（ドロップアウ
ト、以下、ＤＯと称す）や、磁気ヘッドに付着すること
でヘッドの目詰まり（ヘッドクロック）を発生しやすく
なる。

【０００４】磁気記録媒体を製造する過程においては、
塵埃等が磁性層表面に付着することや、あるいはカレン
ダー処理で平滑化しきれなかった磁性層の微小突起等が
残存することがある。これら塵埃や微小突起等の異物
は、いずれもドロップアウトの原因となり、Ｓ／Ｎ比の
低下につながるため確実な除去が望まれる。したがっ
て、これまでは磁性層表面をクリーニング材、例えば、
ラッピングテープ等によって払拭することが行われてい
る。

【０００５】このようなラッピングテープによる表面処
理は、たとえば磁気記録媒体製造の各段階で特に多く利
用されている方法である。例えば、特開平４−２０５８
１７号のように、磁気記録媒体の磁性層表面に巻出しロ
ールより巻き取りロールによって走行するラッピングテ
ープを圧接させるように構成された表面処理装置を用い
る方法や、特開平２−１６１６１５号のように、テープ
状の研摩部材及び長尺状の磁気記録媒体を順次巻き付け
て摺動させる方法などがある。

【０００６】ここで、これらの装置に用いられるラッピ
ングテープには、例えばＷＡ（白色溶融アルミナ質）研
削材等をポリエステルフィルム等の基材に全面にわたっ
て形成したものが使用されている。この基材に形成され
る研削材は、磁性層表面に傷を付けないようにできるだ
け厚く形成し、しかも表面をカレンダー処理して極めて
平滑な面となるようになされている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなラッピングテープでは、表面を平滑な面となしてい
るため、目詰まりが発生し易く、払拭効率を低下させて
しまう場合がある。また、目詰まり部によって磁性層表
面に傷が付き、かえって媒体のＳ／Ｎ比を劣化させてし
まう場合がある。

【０００８】さらに、磁性層が脆弱である場合、磁性層
表面にある微小突起などはアルミナや酸化チタンを主成
分にしたラッピングテープを使用することで、除去でき
るものの磁性層表面を大きく傷つけるため、磁気記録媒
体として使用するときに磁気ヘッドとのコンタクトによ
りさらなる塗膜の破壊が進み、最悪の場合、ヘッドの目
詰まり（ヘッドクロッグ）を起す原因となる。

【０００９】また、サファイアやダイヤモンド、タング
ステンカーバイドなどを利用して表面を削り取るバーニ
ッシュ処理においても、同様の問題が発生するため、よ
り磁性層表面を傷つけずに付着物や、不要な突起物を除
去する表面処理方法の開発が求められていた。

【００１０】本発明は、かかる事情に鑑みなされたもの
で、その目的は、磁性層表面を傷つけずに付着物や、不
要な突起物を除去することが可能な、磁気記録媒体の製
造方法及び磁気記録媒体の表面処理テープと研磨部材並
びに前記方法で製造される磁気記録媒体の提供、にあ
る。

【００１１】

【課題を解決するための手段】そこで、前記課題を解決
するために、本発明者らは、ＭＩＧ（メタル・イン・ギ
ャップ）ヘッドやアモルファスヘッドなどに使用されて
いるガード材に使用される材料に着目した。

【００１２】通常のラッピングテープやブレードでは、
研磨力が強すぎるため、ヘッドと同程度の研磨力を有す
る表面処理テープにより処理することで、磁気記録媒体
の磁性層表面にダメージを与えず、適度な研磨力で平滑
化と付着物の除去が可能となる。

【００１３】従来、研摩材には、磁性層表面を傷つけな
い程度の微細な研磨材が用いられ、例えば、粒度４００
〜１００００メッシュ程度の無機質粉末が使用される。
また、この研削材の粒径及び硬度としては、例えば平均
粒径３μｍ以下、モース硬度６以上のものを使用してい
る。かかる研削材としては、ＷＡ（白色溶融アルミナ
質）砥粒やＧＣ（緑色炭化ケイ素質１級）砥粒あるいは
酸化クロム粒子等が一般的であった。

【００１４】本発明者らは、より有効な無機質粉末の組
み合わせを各種検討した結果、ＣａＯ、ＴｉＯ₂、Ｎｉ
Ｏ系無機粉末の組み合わせがより有効であることを見出
した。

【００１５】すなわち、本発明に係る磁気記録媒体の製
造方法は、磁気記録媒体の磁性層表面に付着する塵埃や
この磁性層表面の微小突起等の異物を除去し、磁性層表
面を平滑化する工程を有する、磁気記録媒体の製造方法
において、ＣａＯとＴｉＯ₂とを含有する無機質粉末、
若しくはＣａＯとＴｉＯ₂とＮｉＯとを含有する無機質
粉末を結合剤中に分散した塗料をフィルム状支持体に塗
布して作成した表面処理テープによって、磁性層表面を
研磨することを特徴とする。

【００１６】本発明では、ＣａＯ、ＴｉＯ₂、ＮｉＯの
比率により、研磨力をコントロールすることができ、磁
気記録体媒体の種類によって、それぞれ独自の比率を選
定することができる。

【００１７】本発明において、ＣａＯ、ＴｉＯ₂、Ｎｉ
Ｏ系無機質粉末の有効な比率は、ＣａＯが１０〜７０モ
ル％、ＴｉＯ₂が１０〜７０モル％、ＮｉＯが０〜５０
モル％であり、より好ましくは、ＣａＯが３０〜７０モ
ル％、ＴｉＯ₂が３０〜７０モル％、ＮｉＯが５〜１５
モル％である。また、ＣａＯとＴｉＯ₂とのモル比Ｃａ
Ｏ／ＴｉＯ₂を３０／７０〜７０／３０とすることが望
ましい。

【００１８】ここで、ＮｉＯの比率を高くすると、より
クリーニング力が上昇し、ヘッドへの粉落ち量の低減に
効果がある。また、ＣａＯの含有量は、磁気記録媒体と
摺動させた場合の摩擦係数を左右し、５モル％以下で
は、摩擦が高くなることで、磁気記録媒体の走行性が悪
化し、磁気記録媒体にダメージを与えるようになるた
め、実用的ではない。

【００１９】また、本発明の表面処理テープ中にＣａ
Ｏ、ＴｉＯ₂及びＮｉＯの他に、１モル％以下の含有率
でＣｏ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｐｄ、
Ｆｅ、Ｒｕ、Ｇａ、Ｓｉ、Ｂ、Ａｌ、Ｎｉの元素のう
ち、少なくとも２種以上の元素を含む金属化合物を含有
してもかまわない。

【００２０】例えば、各種帯電防止剤、防錆剤、カップ
リング剤として添加してもよい。また、適宜、各種の酸
化物を添加することで、研磨力やクリーニング力を調整
することができる。

【００２１】その他、本発明に係る表面処理テープにお
いて、フィルム状支持体やその他の結合剤、帯電防止
剤、防錆剤、あるいは塗料を調整するのに使用される溶
剤は従来公知のものがいずれも適応可能で何ら限定され
ない。

【００２２】フィルム状支持体の素材としては、一般的
に磁気記録体に使用されるものを使用することができ、
例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナ
フタレート等のポリエステル類、ポリエチレンナフタレ
ート等のポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン等のポリオレフィン類、セルローストリアセテート、
セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレ
ート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリカーボネイト、ポリ
イミド、ポリアミドイミド、その他のプラスチック、ア
ルミニウム、銅等の金属箔も使用できる。

【００２３】本発明において、表面処理テープとするた
めに使用される結合剤としては、公知の一般的な結合剤
が使用できる。すなわち、ポリビニルアルコール（以
下、ＰＶＡと称する）、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合
体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル
−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル
−マレイン酸共重合体、アクリル酸エステル−塩化ビニ
リデン共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリ
ル共重合体、メタクリル酸−塩化ビニリデン共重合体、
メタクリル酸エステル−スチレン共重合体、熱可塑性ポ
リウレタン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリ弗化ビニル、塩
化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、ブタジエン
−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタ
ジエン−メタクリル酸共重合体、ポリビニルブチラー
ル、セルロース誘導体、スチレン−ブタジエン共重合
体、ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹
脂、熱硬化性ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、メラミン樹
脂、アルキド樹脂、尿素−ホルムアルデヒド樹脂、ポリ
ビニルアセタール樹脂、またはこれらの混合物など、が
挙げられる。

【００２４】なかでも、柔軟性を付与するとされてい
る、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリロニ
トリル−ブタジエン共重合体等と、鋼性を付与するとさ
れている、セルロース誘導体、フェノール樹脂、エポキ
シ樹脂等が望ましい。また、これらの樹脂に適当な極性
基を導入させたものであってもよい。

【００２５】また、本発明においては、公知の、導電防
止剤、カップリング剤、硬化剤など、いずれも使用でき
る。

【００２６】公知のカップリング剤としては、シランカ
ップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニ
ウム系カップリング剤等が挙げられる。ここで、当該磁
性体重量１００部に対するカップリング剤の添加量は、
０．０５〜５部が好ましく、より好ましくは０．１〜５
部である。

【００２７】シランカップリング剤としては、γ−メタ
クリロキシプリビルトリメトキシシラン、ビニルトリエ
トキシシランなどの、ビニルシラン化合物や、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ンなどの、エポキシシラン化合物や、γ−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−ア
ミノプロピルメチルジメトキシシランなどの、アミノシ
ラン化合物や、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシ
ランなどの、メルカプトシラン化合物などが好適にもち
いることができる。

【００２８】チタネート系カップリング剤としては、テ
トラ−ｎ−ブトキシチタン、テトライソプロポキシチタ
ン、ビス（２−（（２−アミノエチル）アミノ）エタノ
レート）（２−（（２−アミノエチル）アミノ）エタノ
レート−０）（２−プロパノレート）チタニウム、トリ
ス（イソオクタデカノエート−０）（２−プロパノレー
ト）チタニウム、ビス（ジトリデシルホスファイト−
０’’）テトラキス（２−プロパノレート）ジハイドロ
ゼンチタネート、ビス（ジオクチルホスファイト−
０’’）テトラキス（２−プロパノレート）ジハイドロ
ゼンチタネート、トリス（ジオクチルホスファイト−
０’’）（２−プロパノレート）チタニウム、ビス（ジ
オクチルホスファイト−０’’）（１，２−エタンジオ
レート（２−）−０，０’）チタニウム、トリス（ドデ
シルベンゼンスルフォネート−０）（２−プロパノレー
ト）チタニウム、テトラキス（２，２−ビス（（２−プ
ロペニルオキシ）メチル）−１−ブタノレートチタネー
ト等が挙げられ、商品としては、味の素製の、プレンア
クトＫＲＴＴＳ、ＫＲ４６Ｂ、ＫＲ５５、ＫＲ４１Ｂ、
ＫＲ３８Ｓ、ＫＲ１３８Ｓ、ＫＲ２３８Ｓ、ＫＲ３３８
Ｘ、ＫＲ１２、ＫＲ４４、ＫＲ９ＳＡ、ＫＲ３４Ｓ等
が、好適である。

【００２９】アルミニウム系カップリング剤としては、
アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレート等が
挙げられ、商品としては、味の素製の、プレンアクトＡ
Ｌ−Ｍ等が、好適である。

【００３０】本発明では、より耐久性を持たせるため
に、平均官能基数２以上のイソシアネート系硬化剤を含
む。すなわち、ポリイソシアネートのポリメリック体や
ポリイソシアネートのポリオールアダクトは、いずれも
本発明において好適に使用できる。特に、ジイソシアネ
ートの三量体である環状の骨格を有するイソシアネート
はより反応性に富んだ硬化剤であり、耐久性向上につい
ては効果的である。

【００３１】また、イソシアネート硬化剤としては、芳
香族ポリイソシアネート及び脂肪族ポリイソシアネート
が挙げられ、これらと活性水素化合物との付加体が好ま
しい。

【００３２】芳香族ポリイソシアネートとしては、トル
エンジイソシアネート（ＴＤＩ）、１，３−キシレンジ
イソシアネート、１，４−キシレンジイソシアネート、
４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤ
Ｉ）、ｐ−フェニルジイソシアネート、ｍ−フェニルジ
イソシアネート、１，５−ナフチルジイソシアネート等
が挙げられる。

【００３３】脂肪族ポリイソシアネートとしては、ヘキ
サメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、ジシクロヘキ
シルメタンジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシ
アネート、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）等
が挙げられる。

【００３４】そして、これらと付加体を形成する活性水
素化合物としては、エチレングリコール、１，４−ブタ
ンジオール、１，３−ブタンジオール、ネオペンチルグ
リコール、ジエチレングリコール、トリメチロールプロ
パン、グリセリン等があり、平均分子量は、１００〜５
０００の範囲のものが好ましい。

【００３５】硬化剤の添加量としては、結合材樹脂の重
量比で０〜２０部が一般的であり、好ましくは、０〜１
０部である。ここで、理論上は、ポリウレタン樹脂組成
物（若しくは、結着剤樹脂組成物）中の活性水素と当量
のイソシアネート量となる硬化剤重量で、十分な添加量
となる。しかしながら、実際の製造上では、水分などに
より、硬化剤成分のイソシアネートが反応してしまうた
め、活性水素と当量のイソシアネート量では、不十分で
ある場合が多く、このため活性水素当量より、１０〜５
０％過剰量の硬化剤を添加するのが効果的である。

【００３６】さらに、ポリイソシアネートからなる硬化
剤を使用した場合、磁性塗料をコーティング後、４０〜
８０℃の温度で数時間硬化反応を促進させることによ
り、より強い接着性が得られる。

【００３７】本発明において、表面処理テープにより処
理する方法としては、特開平４−２０５８１７号に開示
された、幅広の磁気シートを処理する方法や、特開平１
−４５５６０に開示された、表面処理テープを回転ある
いは移動する磁気記録媒体表面に押し付けることで磁気
記録媒体表面を研摩する方法など、いずれも使用でき
る。また、特開平３−１６２７１７に開示されているよ
うな、サファイアや、超鋼のブレードと組合せて使用す
ることも可能である。

【００３８】また、本発明において、表面処理テープの
代わりに、ＣａＯとＴｉＯ₂とを含有する無機質粉末、
若しくはＣａＯとＴｉＯ₂とＮｉＯとを含有する無機質
粉末を混練成形して成る、研摩部材を、採用してもよ
い。このとき、該研磨部材は、いかなる形状でもよい
が、例えば、ブレード状に形成するとよい。そして、前
記無機粉末において、ＣａＯとＴｉＯ₂の含有比率は、
前述のように、ＣａＯ：ＴｉＯ₂＝３０〜７０モル％：
７０〜３０モル％とするとよい。また、ＣａＯとＴｉＯ
₂とＮｉＯの含有比率は、ＣａＯ：ＴｉＯ₂：ＮｉＯ＝１
０〜７０モル％：１０〜７０モル％：０〜５０モル％と
するとよい。

【００３９】

【発明の実施の形態】以下に、図表を用いて本発明の実
施例及び比較例について詳細に説明するが、本発明の実
施形態は当該実施例に限定されるものではない。１．表面処理テープの作成先ず、表１記載の組成となるように、市販の、ＣａＣＯ
₃粉末、ＴｉＯ₂粉末及びＮｉＯ粉末を適量秤量し、これ
に純水を加えボールミル中に２４時間湿式混合した。次
いで、これを、１００℃のもとで２０時間以上乾燥させ
てから石川式ライカイ機によって粉砕した後に、１２０
０℃のもとで８時間焼成した。その後、これを、目的の
ＪＩＳ−Ｚ８８０１に従った粒度４００〜１００００メ
ッシュ（平均粒子径３〜０．１μｍ）となるように、粉
砕機で粉砕した。

【００４０】そして、この得た粉末にポリエステルポリ
ウレタン樹脂（数平均分子量４００００）を重量比で１
５重量部添加し、さらにこれをＭＥＫ／トルエン／シク
ロヘキサノン＝２／１／１の溶剤中に固形分４０％とな
るように添加した後に、ボールミルによって、４時間攪
拌することで、塗料液を得た。

【００４１】さらに、この塗料液を、厚さ２５μｍのフ
ィルム状支持体（非磁性支持体で、ここではポリエチレ
ンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを採用）に、５μ
ｍの厚みで塗布し、これを乾燥させることで、表面処理
テープを作成した。２．研磨部材の作成ここでは、ブレード状の研磨部材の作成について述べ
る。尚、本発明に係る研磨部材はかかる形状に限定され
ない。また、後述の図３に記載したブレードの寸法もこ
れに限定されない。先ず、ＣａＯ、ＴｉＯ₂及びＮｉＯ
が表２に示す組成になるように、市販のＣａＣＯ₃粉
末、ＴｉＯ₂粉末及びＮｉＯ粉末を適量秤量し、これら
に純水を加えボールミル中にて２４時間湿式混合した。
次いで、１００℃にて２０時間以上乾燥し、石川式ライ
カイ機で粗粉砕した後、１１００℃のもとで５時間仮焼
した。その後、この仮焼した粉末を石川式ライカイ機に
より粉砕した。そして、この粉砕して得た粉末に再度純
水を加え、ボールミル中にて、２４時間湿式混合した。
さらに、これを、１００℃のもとで、２０時間以上乾燥
させてから、石川式ライカイ機によって粉砕後、ポリビ
ニルアルコールの１０重量％水溶液を全粉末重量の１０
重量％となるように加え造粒した。その後、これを８０
ＭＰａでプレス成形し、酸素中にて１２５０℃から１４
００℃で焼成した。さらに、これを、空気により１００
ＭＰａで加圧しながら１１５０℃から１３５０℃のもと
で熱間等方圧処理を施した後、図３に示したブレード状
に整形した。以下、このブレード状研磨部材をブレード
と称する。３．評価用ビデオテープの作成次に、評価用
のビデオテープを以下の組成及び手順で作成した。

【００４２】１）磁性層の組成評価用ビデオテープ磁性面を構成する塗料を、以下の組
成に基づき調製した。

【００４３】メタル磁性粉 … １００部平均長軸長：０．０１５（μｍ）比表面積：ＢＥＴ法で６０（ｍ²／ｇ）保磁力Ｈｃ：１７００（Ｏｅ）飽和磁束密度σＳ：１６０（ｅｍｕ／ｇ）塩ビ共重合体（日本ゼオン社製商品名ＭＲ−１１０） … １０部ポリエステルポリウレタン樹脂（イソフタル酸／テレフタル酸／ネオペンチルグリコール−ＭＤＩ（メタンジイソシアネート）系ポリウレタン，数平均分子量＝３００００，極性基＝ＳＯ₃Ｎａ＝０．２重量％含有） … １０部アルミナ（住友化学製ＨＩＴ−５０） … １０部カーボンブラック（キャボット社製ＢＰ−Ｌ） … １部ポリイソシアネート（日本ポリウレタン社製商品名コロネートＬ） … ４部ミリスチン酸 … １部ステアリン酸ブチル … １部メチルエチルケトン … ８０部メチルイソブチルケトン … ８０部トルエン … ８０部上記の磁性塗料組成を連続ニーダーで混練したのち、サ
ンドミルを用いて分散した。そして、予め、調製された
研磨剤スラリーを２４時間分散直後の磁性粉末分散物に
投入して１時間混合した後、ポリイソシアネート４部、
ミリスチン酸１部を加え、１μｍの平均口径を有するフ
ィルターで濾過し、磁性塗料液とした。

【００４４】２）バックコーティング層塗料の組成以下に示した組成に基づき、バックコーティング層を構
成する塗料を調製した。

【００４５】カーボンブラック（平均粒子径２０ｎｍ） … １００部カーボンブラック（平均粒径３５０ｎｍ） … ５部ポリウレタン樹脂（ポリカーボネートポリオール／ネオペンチルグリコールＨＤＩ系ポリウレタン，数平均分子量＝３５０００，Ｎ−メチルジエタノールアミン＝０．２重量％含有） … ２５部ニトロセルロース（旭化成社製ＮＣ−１／２Ｈ） … １５部ポリイソシアネート（日本ポリウレタン社製商品名コロネートＬ） … ２０部メチルエチルケトン … １８０部メチルイソブチルケトン … １８０部トルエン … １８０部上記の非磁性塗料組成を三本ロールにて混練後、サンド
ミルを用いて分散し、ポリイソシアネート５部を加え、
１μｍの平均口径を有するフィルターで濾過し、バック
コート用非磁性塗料とした。

【００４６】３）評価用ビデオテープの作成先ず、厚さが１０μｍのポリエチレンテレフタレートフ
ィルムに前記磁性塗料液を３．０μｍの厚みで塗布し、
乾燥、カレンダー処理した後に、これを硬化した。次
に、このフィルムの磁性面とこの面の反対面に、前記バ
ックコート用非磁性塗料を０．８μｍの厚みで塗布し、
乾燥させた。そして、このフィルムを９０℃、圧力３０
０ｋｇｆ／ｃｍ（２．９４ｋN／ｃｍ）の条件でカレン
ダー処理し、さらに７０℃のもとで１０時間硬化させた
後、これを１／２インチ（１２．７ｍｍ）幅に裁断する
ことで、評価用ビデオテープを得た。４．評価方法表面処理テープによる評価用ビデオテープの表面処理方
法を図１に示した。

【００４７】先ず、評価用ビデオテープ（図１において
は磁気記録媒体１１）の送り速度を１０ｍ／ｓｅｃ、表
面処理テープ１０の送り速度を５ｃｍ／ｍｉｎとする条
件のもとで、評価用ビデオテープの磁性層表面を表面処
理テープ１０によって処理する。そして、この評価用ビ
デオテープをソニー製ＨＤＣＡＭ用のカセットに組み込
んで、カセットテープを作成し、該カセットテープの、
粉落ち量、テープダメージ及びドロップアウト減少率を
測定評価した。

【００４８】次に、ブレードによる評価用ビデオテープ
の表面処理方法を図２に示した。

【００４９】テープ送り速度１０ｍ／ｓｅｃ、テープテ
ンション１００ｇｆ（０．９８Ｎ）の条件で、評価用ビ
デオテープ（図２においては磁気記録媒体２１）の磁性
層表面をブレード２０によってバーニッシュ（研磨）処
理した後、このテープをソニー製ＨＤＣＡＭ用のカセッ
トに組み込み、カセットテープを作成した。そして、該
カセットテープの、粉落ち量、テープダメージ及びドロ
ップアウト減少率を測定評価した。

【００５０】ここで、粉落ち量、テープダメージ及びド
ロップアウト減少率の測定評価方法について述べる。

【００５１】１）粉落ち量ソニー製ＨＤＣＡＭ用ＶＴＲ（ＨＤＷ−５００）を使用
して、磁気テープの未使用部のみを連続１００時間走行
したときの、ヘッドの摺動面をマイクロカメラで撮影
し、該摺動面の面積に対して付着した粉落ちの面積比を
％で表している。その数値が大きい程、粉落ちの量が多
く、５０％以上では瞬時クロックが多発する状況とな
り、実用に耐えないこと、を示す。

【００５２】２）テープダメージ粉落ちの評価で使用したテープについて、１００時間目
のポイントを５ｍサンプリングし、その表面を光学顕微
鏡（２００倍）で観察し、以下の基準で評価している。

【００５３】○：テープのエッジ部にダメージが、テー
プ表面にスクラッチ傷がない。

【００５４】△：表面にスクラッチ傷が発生している。

【００５５】×：エッジ部にダメージが発生している。

【００５６】３）ドロップアウト減少率表面処理テープ１０、ブレード２０によって表面処理を
施す前及び施した後のテープ（図１，２おいては磁気記
録媒体１１，２１）について、１６ＭＨｚの単一周波数
を記録し、シバソク製ドロップアウトカウンター（ＶＨ
０２ＡＺ）を用いて、キャンセルパルス１．０ｍｓで３
μｓｅｃ／−６ｄＢのドロップアウト（以下、ＤＯ）個
数を５分間測定し、その１分間当りの平均個数の減少率
を％で表している。その数値が大きい程、より付着物の
除去効果が大きく、ＤＯが減少したこと、を示す。５．結果各種表面処理テープの結果を表１に示した。

【００５７】

【表１】

【００５８】表１において、実施例１〜３は、ＣａＯ−
ＴｉＯ₂系での実施例である。

【００５９】実施例４〜１１は、ＮｉＯを１０モル％と
したときのＣａＯとＴｉＯ₂の含有比率を変化させた組
成での実施例である。

【００６０】実施例１２〜１８は、ＣａＯとＴｉＯの含
有比率（モル％）ＣａＯ：ＴｉＯ₂が５０：５０でＮｉ
Ｏを変化させたときの実施例である。

【００６１】実施例１９〜２２は、粒度を４００〜１０
０００メッシュまで変化させた実施例である。

【００６２】これに対して、従来の比較例として、比較
例１は表面処理しない場合を示した。

【００６３】また、比較例２〜４では、白色溶融アルミ
ナ質の粒度を変化させた場合の結果を開示している。

【００６４】さらに比較例５，６では、緑色炭化ケイ素
の粒度を変化させた場合の結果を開示している。

【００６５】また、比較例７では、ＴｉＯ₂−ＮｉＯ系
による結果を開示している。

【００６６】表１によれば、本発明に係る表面処理テー
プのいずれの実施例においても、比較例より良好な特性
が得られている。例えば、白色溶融アルミナ質や緑色炭
化ケイ素質ではＤＯの低減には効果があるものの、粉落
ちにはほとんど効果が見られない。また、ＣａＯを含ま
ないＴｉＯ₂−ＮｉＯ系では、ＤＯの低減も粉落ちの改
善もみられず、磁気層表面に傷が入ったこと、が確認さ
れた。

【００６７】さらに、表１の結果から、粉落ち量はＮｉ
Ｏの含有量に依存し、３０モル％以上でヘッドの粉落ち
がゼロとなり良好な磁気記録媒体が得られることがわか
る。粉落ち量とＮｉＯ含有量との関係をわかりやすくす
ると、図４のようになる。

【００６８】また、表１におけるＣａＯとＴｉＯ₂との
含有比率から、ＴｉＯ₂が多くなるほど、よりＤＯの低
減に効果があることがわかる。ＤＯ減少率とＴｉＯ₂含
有量との関係をわかりやくすると、図５のようになる。

【００６９】さらに、組成物の粒度とＤＯ低減に関する
効果は、図６に示された通り、粒度にして１０００メッ
シュ程度が良好であることが確認できるが、テープへの
スクラッチ傷との関係などから、磁気記録媒体の表面の
硬度によって効果的な粒度のものを使用できる。尚、図
６は、ＣａＯとＴｉＯ₂とＮｉＯとの含有比率（モル
％）が、ＣａＯ：ＴｉＯ：ＮｉＯ＝４０：４０：２０で
ある場合の、粒度とＤＯ減少率の関係を開示している
が、ＣａＯとＴｉＯ₂の含有比率がＣａＯ：ＴｉＯ₂＝３
０〜７０モル％：７０〜３０モル％、ＣａＯとＴｉＯ₂
とＮｉＯの含有比率が、ＣａＯ：ＴｉＯ₂：ＮｉＯ＝１
０〜７０モル％：１０〜７０モル％：０〜５０モル％で
ある場合でも当該図と同等の結果が得られることは明ら
かである。

【００７０】次に、ブレードによるバーニッシュ処理で
の結果を表２に示した。

【００７１】

【表２】

【００７２】表２において、実施例２３〜２５は、Ｃａ
Ｏ−ＴｉＯ２系での実施例である。

【００７３】実施例２６〜３３においては、ＮｉＯを１
０モル％としたときの、ＣａＯとＴｉＯ₂の含有比率を
変化させている。

【００７４】実施例３４〜４０は、ＣａＯ：ＴｉＯ₂が
５０：５０でＮｉＯを変化させたときの例である。

【００７５】実施例４１〜４４は、処理回数を１〜１０
回まで変化させた場合実施例である。

【００７６】これに対して、従来の比較例として、比較
例８〜１０では、サファイヤブレードにより処理回数を
変えた場合の結果を開示している。

【００７７】比較例１１では、カミソリ刀を使用した場
合、また比較例ではタングステン刀を使用した場合の結
果を開示している。

【００７８】表２の結果から、ブレードによるバーニッ
シュ処理の場合も、粉落ち量はＮｉＯの含有量に依存す
ること、が確認できる。粉落ち量とＮｉＯ含有量との関
係をわかりやすくすると、図７のようになる。

【００７９】ここで、粉落ち量は前者の表面処理テープ
よりも効果は弱くなっている（図４，図７）。しかしな
がら、図８に示したように、繰り返し処理することで、
粉落ち量をゼロにすることができる。尚、図８は、Ｃａ
ＯとＴｉＯ₂とＮｉＯとの含有比率（モル％）が、Ｃａ
Ｏ：ＴｉＯ：ＮｉＯ＝４０：４０：２０である場合の、
バーニッシュ処理回数と粉落ち量の関係を開示している
が、ＣａＯとＴｉＯ₂の含有比率がＣａＯ：ＴｉＯ₂＝３
０〜７０モル％：７０〜３０モル％、ＣａＯとＴｉＯ₂
とＮｉＯの含有比率が、ＣａＯ：ＴｉＯ₂：ＮｉＯ＝１
０〜７０モル％：１０〜７０モル％：０〜５０モル％で
ある場合でも当該図と同等の結果が得られることは明ら
かである。

【００８０】また、ＤＯの低減についても、その効果は
弱いものの、図９で示したように、ＴｉＯ₂の含有比率
が多くなるほど、よりＤＯの低減に効果があることが確
認された。また、粉落ち量と同様にバーニッシュ処理回
数が多くなるほど、ＤＯは減少することが確認できる
（図１０）。尚、図１０は、ＣａＯとＴｉＯ₂とＮｉＯ
との含有比率（モル％）が、ＣａＯ：ＴｉＯ：ＮｉＯ＝
４０：４０：２０である場合の、バーニッシュ処理回数
とＤＯ減少率の関係を開示しているが、ＣａＯとＴｉＯ
₂の含有比率がＣａＯ：ＴｉＯ₂＝３０〜７０モル％：７
０〜３０モル％、ＣａＯとＴｉＯ₂とＮｉＯの含有比率
が、ＣａＯ：ＴｉＯ₂：ＮｉＯ＝１０〜７０モル％：１
０〜７０モル％：０〜５０モル％である場合でも当該図
と同等の結果が得られることは明らかである。

【００８１】以上の結果から、本発明に係るブレードの
いずれの実施例においても、従来のブレードによるバー
ニッシュ処理と同等以上の効果があること、が示され
た。

【００８２】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
は、以下の効果を奏する。

【００８３】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法並び
に磁気記録媒体の表面処理テープ及び研磨部材によれ
ば、磁気記録媒体における磁性層表面を傷つけずに、該
磁性層表面の払拭を的確に行え、ドロップアウトやヘッ
ドクロックの極めて少ない品質の高い、磁気記録媒体の
提供が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】表面処理テープによる処理方法。

【図２】ブレード（研磨部材）による処理方法。

【図３】ブレードの形状概略。

【図４】粉落ち量とＮｉＯ含有量との関係（表面処理テ
ープ）を示した特性図。

【図５】ドロップアウト減少率（ＤＯ）とＴｉＯ₂含有
量との関係（表面処理テープ）を示した特性図。

【図６】ドロップアウト減少率（ＤＯ）と粒度（メッシ
ュ）との関係を示した特性図。

【図７】ブレードによる粉落ち量とＮｉＯ含有量との関
係を示した特性図。

【図８】ブレードによる処理回数と粉落ち量との関係を
示した特性図。

【図９】ドロップアウト減少率（ＤＯ）とＴｉＯ₂含有
量との関係（ブレード）を示した特性図。

【図１０】ドロップアウト減少率（ＤＯ）とブレードに
よる処理回数との関係を示した特性図。

【符号の説明】

１０…表面処理テープ１１，２１…磁気記録媒体２０…ブレード

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】磁気記録媒体の磁性層表面に付着する塵
埃やこの磁性層表面の微小突起等の異物を除去し、磁性
層表面を平滑化する工程を有する、磁気記録媒体の製造
方法において、ＣａＯとＴｉＯ₂とを含有する無機質粉
末を結合剤中に分散した塗料をフィルム状支持体に塗布
して作成した表面処理テープによって、磁性層表面を研
磨することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】ＣａＯ、ＴｉＯ₂及びＮｉＯを含有する
無機質粉末を結合剤中に分散した塗料をフィルム状支持
体に塗布して作成した表面処理テープによって、磁性層
表面を研磨することを特徴とする、請求項１記載の、磁
気記録媒体の製造方法。
【請求項３】磁気記録媒体の磁性層表面に付着する塵
埃やこの磁性層表面の微小突起等の異物を除去し、磁性
層表面を平滑化する工程を有する、磁気記録媒体の製造
方法において、ＣａＯとＴｉＯ₂とを含有する無機粉末
を混練成形して成る研摩部材によって、磁性層表面を研
磨することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】ＣａＯ、ＴｉＯ₂及びＮｉＯを含有する
無機粉末を混練成形して成る研摩部材によって、磁性層
表面を研磨することを特徴とする、請求項３記載の、磁
気記録媒体の製造方法。
【請求項５】前記無機粉末において、ＣａＯとＴｉＯ
₂の含有比率は、以下のようになることを特徴とする、
請求項１記載の、磁気記録媒体の製造方法。ＣａＯ：ＴｉＯ₂ ＝３０〜７０モル％：７０〜３０
モル％
【請求項６】前記無機粉末において、ＣａＯとＴｉＯ
₂とＮｉＯの含有比率は、以下のようになることを特徴
とする、請求項２記載の、磁気記録媒体の製造方法。ＣａＯ：ＴｉＯ₂：ＮｉＯ＝１０〜７０モル％：１
０〜７０モル％：０〜５０モル％
【請求項７】前記無機粉末において、ＣａＯとＴｉＯ
₂の含有比率は、以下のようになることを特徴とする、
請求項３記載の、磁気記録媒体の製造方法。ＣａＯ：ＴｉＯ₂ ＝３０〜７０モル％：７０〜３０
モル％
【請求項８】前記無機粉末において、ＣａＯとＴｉＯ
₂とＮｉＯの含有比率は、以下のようになることを特徴
とする、請求項４記載の、磁気記録媒体の製造方法。ＣａＯ：ＴｉＯ₂：ＮｉＯ＝１０〜７０モル％：１
０〜７０モル％：０〜５０モル％
【請求項９】磁気記録媒体の磁性層表面に付着する塵
埃やこの磁性層表面の微小突起等の異物を除去し、磁性
層表面を平滑化する工程を有する、磁気記録媒体の製造
において、前記磁性層表面を研磨するための、磁気記録
媒体の表面処理テープであって、該表面処理テープは、
ＣａＯとＴｉＯ₂とを含有する無機質粉末を結合剤中に
分散した塗料をフィルム状支持体に塗布して成ることを
特徴とする、磁気記録媒体の表面処理テープ。
【請求項１０】前表面処理テープは、ＣａＯ、ＴｉＯ
₂及びＮｉＯを含有する無機質粉末を結合剤中に分散し
た塗料をフィルム状支持体に塗布して成ることを特徴と
する、請求項９記載の、磁気記録媒体の表面処理テー
プ。
【請求項１１】磁気記録媒体の磁性層表面に付着する
塵埃やこの磁性層表面の微小突起等の異物を除去し、磁
性層表面を平滑化する工程を有する、磁気記録媒体の製
造において、前記磁性層表面を研磨するための、磁気記
録媒体の研磨部材であって、該研磨部材は、ＣａＯとＴ
ｉＯ₂とを含有する無機粉末を混練成形して成ることを
特徴とする、磁気記録媒体の研磨部材。
【請求項１２】前記研磨部材は、ＣａＯ、ＴｉＯ₂及
びＮｉＯ含有する無機粉末を混練成形して成ることを特
徴とする、請求項１１記載の、磁気記録媒体の研磨部
材。
【請求項１３】前記無機粉末において、ＣａＯとＴｉ
Ｏ₂の含有比率は、以下のようになることを特徴とす
る、請求項９記載の、磁気記録媒体の表面処理テープ。
ＣａＯ：ＴｉＯ₂ ＝３０〜７０モル％：７０〜３０
モル％
【請求項１４】前記無機粉末において、ＣａＯとＴｉ
Ｏ₂とＮｉＯの含有比率は、以下のようになることを特
徴とする、請求項１０記載の、磁気記録媒体の表面処理
テープ。ＣａＯ：ＴｉＯ₂：ＮｉＯ＝１０〜７０モル％：１
０〜７０モル％：０〜５０モル％
【請求項１５】前記無機粉末において、ＣａＯとＴｉ
Ｏ₂の含有比率は、以下のようになることを特徴とす
る、請求項１１記載の、磁気記録媒体の研磨部材。ＣａＯ：ＴｉＯ₂ ＝３０〜７０モル％：７０〜３０
モル％
【請求項１６】前記無機粉末において、ＣａＯとＴｉ
Ｏ₂とＮｉＯの含有比率は、以下のようになることを特
徴とする、請求項１２記載の、磁気記録媒体の研磨部
材。ＣａＯ：ＴｉＯ₂：ＮｉＯ＝１０〜７０モル％：１
０〜７０モル％：０〜５０モル％
【請求項１７】磁気記録媒体の磁性層表面に付着する
塵埃やこの磁性層表面の微小突起等の異物を除去し、磁
性層表面を平滑化する工程を有する方法により、製造さ
れる磁気記録媒体であって、前記工程において、ＣａＯ
とＴｉＯ₂とを含有する無機質粉末を結合剤中に分散し
た塗料をフィルム状支持体に塗布して作成した表面処理
テープによって、磁性層表面を研磨することを特徴とす
る磁気記録媒体。
【請求項１８】ＣａＯ、ＴｉＯ₂及びＮｉＯを含有す
る無機質粉末を結合剤中に分散した塗料をフィルム状支
持体に塗布して作成した表面処理テープによって、磁性
層表面を研磨することを特徴とする、請求項１７記載
の、磁気記録媒体。
【請求項１９】磁気記録媒体の磁性層表面に付着する
塵埃やこの磁性層表面の微小突起等の異物を除去し、磁
性層表面を平滑化する工程を有する方法により、製造さ
れる磁気記録媒体であって、前記工程において、ＣａＯ
とＴｉＯ₂とを含有する無機粉末を混練成形して成る研
摩部材によって、磁性層表面を研磨することを特徴とす
る磁気記録媒体。
【請求項２０】ＣａＯ、ＴｉＯ₂及びＮｉＯを含有す
る無機粉末を混練成形して成る研摩部材によって、磁性
層表面を研磨することを特徴とする、請求項１９記載
の、磁気記録媒体。
【請求項２１】前記無機粉末において、ＣａＯとＴｉ
Ｏ₂の含有比率は、以下のようになることを特徴とす
る、請求項１７記載の、磁気記録媒体。ＣａＯ：ＴｉＯ₂ ＝３０〜７０モル％：７０〜３０
モル％
【請求項２２】前記無機粉末において、ＣａＯとＴｉ
Ｏ₂とＮｉＯの含有比率は、以下のようになることを特
徴とする、請求項１８記載の、磁気記録媒体。ＣａＯ：ＴｉＯ₂：ＮｉＯ＝１０〜７０モル％：１
０〜７０モル％：０〜５０モル％
【請求項２３】前記無機粉末において、ＣａＯとＴｉ
Ｏ₂の含有比率は、以下のようになることを特徴とす
る、請求項１９記載の、磁気記録媒体。ＣａＯ：ＴｉＯ₂ ＝３０〜７０モル％：７０〜３０
モル％
【請求項２４】前記無機粉末において、ＣａＯとＴｉ
Ｏ₂とＮｉＯの含有比率は、以下のようになることを特
徴とする、請求項２０記載の、磁気記録媒体。ＣａＯ：ＴｉＯ₂：ＮｉＯ＝１０〜７０モル％：１
０〜７０モル％：０〜５０モル％