JP2002341105A - 反射防止光学物品 - Google Patents
反射防止光学物品Info
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- JP2002341105A JP2002341105A JP2001143546A JP2001143546A JP2002341105A JP 2002341105 A JP2002341105 A JP 2002341105A JP 2001143546 A JP2001143546 A JP 2001143546A JP 2001143546 A JP2001143546 A JP 2001143546A JP 2002341105 A JP2002341105 A JP 2002341105A
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- JP
- Japan
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- perfluoroalkyl
- optical article
- perfluoropolyether
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高い反射防止性と耐擦傷性を有する反射防止
光学物品を提供すること。 【構成】 透明基材上に、基材側から空気に向かって少
なくとも屈折率が１．４０以下の低屈折率膜が積層され
て成る反射防止光学物品において、前記低屈折率層をパ
ーフルオロアルキルアクリレート又はパーフルオロアル
キル（メタ）アクリレートとパーフルオロポリエーテル
の混合物で構成する。
光学物品を提供すること。 【構成】 透明基材上に、基材側から空気に向かって少
なくとも屈折率が１．４０以下の低屈折率膜が積層され
て成る反射防止光学物品において、前記低屈折率層をパ
ーフルオロアルキルアクリレート又はパーフルオロアル
キル（メタ）アクリレートとパーフルオロポリエーテル
の混合物で構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レンズ、フィルタ
ー等の反射防止膜を有する反射防止光学物品に関する。
ー等の反射防止膜を有する反射防止光学物品に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、レンズ等の反射防止効果が必要な
光学素子の反射防止膜は、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 等の高屈
折率物質とＭｇＦ2 、ＳｉＯ2 等の低屈折率物質を交互
に真空蒸着法に代表される真空成膜法により形成される
のが一般的である。
光学素子の反射防止膜は、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 等の高屈
折率物質とＭｇＦ2 、ＳｉＯ2 等の低屈折率物質を交互
に真空蒸着法に代表される真空成膜法により形成される
のが一般的である。
【０００３】又、近年、特開平２−１９８０１号公報に
開示されているように、低屈折率膜として溶媒可溶性の
非晶質フッ素樹脂を用い、溶液塗布方法により反射防止
膜を形成する手法も開発されている。
開示されているように、低屈折率膜として溶媒可溶性の
非晶質フッ素樹脂を用い、溶液塗布方法により反射防止
膜を形成する手法も開発されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来技術には以下のような問題があった。
来技術には以下のような問題があった。
【０００５】即ち、真空蒸着法、スパッタリング法、イ
オンプレーティング法等の真空成膜法はその機能上基材
の大きさや形状に制約があったり、装置コストが高価で
成膜コストの上昇を余儀なくされるという問題があっ
た。
オンプレーティング法等の真空成膜法はその機能上基材
の大きさや形状に制約があったり、装置コストが高価で
成膜コストの上昇を余儀なくされるという問題があっ
た。
【０００６】一方、特開平２−１９８０１号公報に記載
されたような溶媒可溶性非晶質フッ素樹脂を用いて溶液
塗布法により反射防止膜を形成する手法は、装置コスト
は安く、基材の形状や大きさへの対応が真空成膜法に比
べて容易であるという利点はあるが、 非晶質フッ素樹脂
を溶解するＰＦＣ（パーフルオロカーボン）が地球温暖
化の要因となり得る物質であることが近年明らかになっ
てきた。
されたような溶媒可溶性非晶質フッ素樹脂を用いて溶液
塗布法により反射防止膜を形成する手法は、装置コスト
は安く、基材の形状や大きさへの対応が真空成膜法に比
べて容易であるという利点はあるが、 非晶質フッ素樹脂
を溶解するＰＦＣ（パーフルオロカーボン）が地球温暖
化の要因となり得る物質であることが近年明らかになっ
てきた。
【０００７】本発明は上記問題に鑑みてなされたもの
で、その目的とする処は、高い反射防止性と耐擦傷性を
有する反射防止光学物品を提供することにある。
で、その目的とする処は、高い反射防止性と耐擦傷性を
有する反射防止光学物品を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、透明基材上に、基材側から空気に向かっ
て少なくとも屈折率が１．４０以下の低屈折率膜が積層
されて成る反射防止光学物品において、 前記低屈折率層
をパーフルオロアルキルアクリレート又はパーフルオロ
アルキル（メタ）アクリレートとパーフルオロポリエー
テルの混合物で構成したことを特徴とする。
め、本発明は、透明基材上に、基材側から空気に向かっ
て少なくとも屈折率が１．４０以下の低屈折率膜が積層
されて成る反射防止光学物品において、 前記低屈折率層
をパーフルオロアルキルアクリレート又はパーフルオロ
アルキル（メタ）アクリレートとパーフルオロポリエー
テルの混合物で構成したことを特徴とする。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態につい
て説明する。
て説明する。
【００１０】透明基材上に、基材側から空気に向かって
少なくとも屈折率が１．４０以下の低屈折率膜を積層し
て成る反射防止光学物品において、前記低屈折率層とし
てパーフルオロアルキルアクリレート又はパーフルオロ
アルキル（メタ）アクリレートとパーフルオロポリエー
テルの混合物を形成することによって従来の課題は解決
される。
少なくとも屈折率が１．４０以下の低屈折率膜を積層し
て成る反射防止光学物品において、前記低屈折率層とし
てパーフルオロアルキルアクリレート又はパーフルオロ
アルキル（メタ）アクリレートとパーフルオロポリエー
テルの混合物を形成することによって従来の課題は解決
される。
【００１１】元来、パーフルオロアルキルアクリレート
及びパーフルオロアルキル（メタ）アクリレートは５８
７ｎｍの波長の光に対する屈折率ｎｄは１．３８以上で
あり、ＭｇＦ2 の１．３８や非晶質フッ素樹脂の１．３
４と比較して高い。そのため、パーフルオロアルキルア
クリレート又はパーフルオロアルキル（メタ）アクリレ
ートを所望の厚みで形成した際の反射防止特性はＭｇＦ
2 や非晶質フッ素樹脂を用いた場合と比較して低い傾向
にある。
及びパーフルオロアルキル（メタ）アクリレートは５８
７ｎｍの波長の光に対する屈折率ｎｄは１．３８以上で
あり、ＭｇＦ2 の１．３８や非晶質フッ素樹脂の１．３
４と比較して高い。そのため、パーフルオロアルキルア
クリレート又はパーフルオロアルキル（メタ）アクリレ
ートを所望の厚みで形成した際の反射防止特性はＭｇＦ
2 や非晶質フッ素樹脂を用いた場合と比較して低い傾向
にある。
【００１２】本発明者等は、その課題を解決するために
パーフルオロアルキルアクリレート及びパーフルオロア
ルキル（メタ）アクリレート中にパーフルオロポリエー
テル（ｎｄ：１．２５〜１．３３）を混合することを見
出した。
パーフルオロアルキルアクリレート及びパーフルオロア
ルキル（メタ）アクリレート中にパーフルオロポリエー
テル（ｎｄ：１．２５〜１．３３）を混合することを見
出した。
【００１３】パーフルオロアルキルアクリレート及びパ
ーフルオロアルキル（メタ）アクリレート中にパーフル
オロポリエーテルは容易に相溶し、膜としての屈折率を
低下させることが可能となり、その結果、反射防止特性
を向上することができる。
ーフルオロアルキル（メタ）アクリレート中にパーフル
オロポリエーテルは容易に相溶し、膜としての屈折率を
低下させることが可能となり、その結果、反射防止特性
を向上することができる。
【００１４】又、パーフルオロポリエーテルはパーフル
オロアルキルアクリレート及びパーフルオロアルキル
（メタ）アクリレート膜表面の耐擦傷性の向上にも寄与
する。
オロアルキルアクリレート及びパーフルオロアルキル
（メタ）アクリレート膜表面の耐擦傷性の向上にも寄与
する。
【００１５】更に、パーフルオロアルキルアクリレート
及びパーフルオロアルキル（メタ）アクリレート、パー
フルオロポリエーテルは、ＰＦＣ（パーフルオロカーボ
ン）以外にも可溶で、ＰＦＣ（パーフルオロカーボン）
を溶媒として用いることなく塗布及び成膜できる。
及びパーフルオロアルキル（メタ）アクリレート、パー
フルオロポリエーテルは、ＰＦＣ（パーフルオロカーボ
ン）以外にも可溶で、ＰＦＣ（パーフルオロカーボン）
を溶媒として用いることなく塗布及び成膜できる。
【００１６】本発明における透明基材は、 光学用途に用
いるために十分な透過率を有していれば特に制約はない
が、具体的にはソーダガラス、カリガラス、フリントガ
ラス等の各種ガラス、石英等の透光性結晶、ポリスチレ
ン（ＰＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメ
タクリレート（ＰＭＭＡ）、アモルファスポリオレフィ
ン（ＡＰＯ）等の透明プラスチックを用いることができ
る。
いるために十分な透過率を有していれば特に制約はない
が、具体的にはソーダガラス、カリガラス、フリントガ
ラス等の各種ガラス、石英等の透光性結晶、ポリスチレ
ン（ＰＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメ
タクリレート（ＰＭＭＡ）、アモルファスポリオレフィ
ン（ＡＰＯ）等の透明プラスチックを用いることができ
る。
【００１７】又、本発明におけるパーフルオロアルキル
アクリレート及びパーフルオロアルキル（メタ）アクリ
レートとしては構造式（１），（２），（３），（４）
に代表されるパーフルオロアルキルアクリレート及びパ
ーフルオロアルキル（メタ）アクリレートを用いること
ができる。
アクリレート及びパーフルオロアルキル（メタ）アクリ
レートとしては構造式（１），（２），（３），（４）
に代表されるパーフルオロアルキルアクリレート及びパ
ーフルオロアルキル（メタ）アクリレートを用いること
ができる。
【００１８】又、本発明におけるパーフルオロポリエー
テルは構造式（５），（６）に代表されるパーフルオロ
ポリエーテルを用いることができる。
テルは構造式（５），（６）に代表されるパーフルオロ
ポリエーテルを用いることができる。
【００１９】更に、発明におけるパーフルオロアルキル
アクリレート及びパーフルオロアルキル（メタ）アクリ
レートとパーフルオロポリエーテルの混合物を溶解、 分
散するための溶媒としては、地球温暖化を考慮し、ＰＦ
Ｃ（パーフルオロカーボン）、ＨＦＣ（ハイドロパーフ
ルオロカーボン）以外の有機溶剤で、且つ、パーフルオ
ロアルキルアクリレート及びパーフルオロアルキル（メ
タ）アクリレートとパーフルオロポリエーテルを溶解又
はは分散できる物質であれば特に制約はないが、構造式
（７），（８）に示すようなＨＦＥ（ハイドロフルオロ
エーテル）を用いることができる。
アクリレート及びパーフルオロアルキル（メタ）アクリ
レートとパーフルオロポリエーテルの混合物を溶解、 分
散するための溶媒としては、地球温暖化を考慮し、ＰＦ
Ｃ（パーフルオロカーボン）、ＨＦＣ（ハイドロパーフ
ルオロカーボン）以外の有機溶剤で、且つ、パーフルオ
ロアルキルアクリレート及びパーフルオロアルキル（メ
タ）アクリレートとパーフルオロポリエーテルを溶解又
はは分散できる物質であれば特に制約はないが、構造式
（７），（８）に示すようなＨＦＥ（ハイドロフルオロ
エーテル）を用いることができる。
【００２０】又、パーフルオロアルキルアクリレート又
はパーフルオロアルキル（メタ）アクリレートとパーフ
ルオロポリエーテルの混合比は膜の屈折率を１．３４以
下に保ち、且つ、膜の透明性を保つために１００：０．
１〜１００：２の範囲内にあることが好ましい。
はパーフルオロアルキル（メタ）アクリレートとパーフ
ルオロポリエーテルの混合比は膜の屈折率を１．３４以
下に保ち、且つ、膜の透明性を保つために１００：０．
１〜１００：２の範囲内にあることが好ましい。
【００２１】更に、パーフルオロポリエーテルの分子量
は、膜の耐擦傷性を良好に保つために２０００〜１００
００の範囲内にあることが好ましい。又、パーフルオロ
ポリエーテルの分子末端は構造式（９），（１０）に示
すように、カルボキシル基又はアルコール基で編成され
ていても良い。
は、膜の耐擦傷性を良好に保つために２０００〜１００
００の範囲内にあることが好ましい。又、パーフルオロ
ポリエーテルの分子末端は構造式（９），（１０）に示
すように、カルボキシル基又はアルコール基で編成され
ていても良い。
【００２２】カルボキシル基及びアルコール基により分
子末端を編成することにより、 パーフルオロアルキルア
クリレート又はパーフルオロアルキル（メタ）アクリレ
ートとパーフルオロポリエーテルの混合膜と下層の密着
性を向上させることができる。
子末端を編成することにより、 パーフルオロアルキルア
クリレート又はパーフルオロアルキル（メタ）アクリレ
ートとパーフルオロポリエーテルの混合膜と下層の密着
性を向上させることができる。
【００２３】又、パーフルオロアルキルアクリレート又
はパーフルオロアルキル（メタ）アクリレートとパーフ
ルオロポリエーテルの混合膜を形成する際には、基材の
最表面を紫外線−オゾン処理又はコロナ放電処理或はプ
ラズマ処理を施しても良い。上記処理を施すことにより
パーフルオロアルキルアクリレート又はパーフルオロア
ルキル（メタ）アクリレートとパーフルオロポリエーテ
ルの混合膜と下層の密着性を更に向上させることができ
る。
はパーフルオロアルキル（メタ）アクリレートとパーフ
ルオロポリエーテルの混合膜を形成する際には、基材の
最表面を紫外線−オゾン処理又はコロナ放電処理或はプ
ラズマ処理を施しても良い。上記処理を施すことにより
パーフルオロアルキルアクリレート又はパーフルオロア
ルキル（メタ）アクリレートとパーフルオロポリエーテ
ルの混合膜と下層の密着性を更に向上させることができ
る。
【００２４】更に、パーフルオロアルキルアクリレート
又はパーフルオロアルキル（メタ）アクリレートとパー
フルオロポリエーテルの混合膜を形成する際には、基材
の最表面に構造式（１１）で表される有機シラン化合物
を接着層として形成しても良い。
又はパーフルオロアルキル（メタ）アクリレートとパー
フルオロポリエーテルの混合膜を形成する際には、基材
の最表面に構造式（１１）で表される有機シラン化合物
を接着層として形成しても良い。
【００２５】上記処理を施すことによりパーフルオロア
ルキルアクリレート又はパーフルオロアルキル（メタ）
アクリレートとパーフルオロポリエーテルの混合膜と下
層の密着性を向上させることができる。
ルキルアクリレート又はパーフルオロアルキル（メタ）
アクリレートとパーフルオロポリエーテルの混合膜と下
層の密着性を向上させることができる。
【００２６】又、上記パーフルオロポリエーテルの分子
末端の変性及び基材の最表面の紫外線−オゾン処理又は
コロナ放電処理又はプラズマ処理及び基材への最表面の
接着層の形成を並行して用いても良い。
末端の変性及び基材の最表面の紫外線−オゾン処理又は
コロナ放電処理又はプラズマ処理及び基材への最表面の
接着層の形成を並行して用いても良い。
【００２７】上記処理を施すことによりパーフルオロア
ルキルアクリレート又はパーフルオロアルキル（メタ）
アクリレートとパーフルオロポリエーテルの混合膜と下
層の密着性を向上させることができる。
ルキルアクリレート又はパーフルオロアルキル（メタ）
アクリレートとパーフルオロポリエーテルの混合膜と下
層の密着性を向上させることができる。
【００２８】［実施例］以下に本発明における反射防止
光学物品の実施例について説明する。
光学物品の実施例について説明する。
【００２９】（実施例１） ＜実験例１＞パーフルオロアルキルアクリレート（ＦＸ
１３：構造式（１）：住友３Ｍ社製）のハイドロフルオ
ロエーテル（ＨＦＥ７２００：構造式（８）：住友３Ｍ
社製）２重量％溶液１００ｇに、分子量５６００のパー
フルオロポリエーテル（デムナムＳ１００：構造式（１
２）：ダイキン工業社製）を０．０２ｇ添加して塗料Ａ
を作製した。そして、この塗料Ａをガラス（ＢＫ−７）
上に塗布し、１５０℃で３０分間加熱乾燥した。その際
の膜厚は９０ｎｍ、膜の屈折率は１．３５であった。
１３：構造式（１）：住友３Ｍ社製）のハイドロフルオ
ロエーテル（ＨＦＥ７２００：構造式（８）：住友３Ｍ
社製）２重量％溶液１００ｇに、分子量５６００のパー
フルオロポリエーテル（デムナムＳ１００：構造式（１
２）：ダイキン工業社製）を０．０２ｇ添加して塗料Ａ
を作製した。そして、この塗料Ａをガラス（ＢＫ−７）
上に塗布し、１５０℃で３０分間加熱乾燥した。その際
の膜厚は９０ｎｍ、膜の屈折率は１．３５であった。
【００３０】上記反射防止光学物品の片面反射率は波長
５００ｎｍで０．９５％であった。又、上記反射防止光
学物品の表面をダスパーを用いて３００ｇ荷重で摩擦し
たが、膜の剥離や傷は観察されなかった。
５００ｎｍで０．９５％であった。又、上記反射防止光
学物品の表面をダスパーを用いて３００ｇ荷重で摩擦し
たが、膜の剥離や傷は観察されなかった。
【００３１】＜比較例１＞パーフルオロアルキルアクリ
レート（ＦＸ１３：構造式（１）：住友３Ｍ社製）のハ
イドロフルオロエーテル（ＨＦＥ７２００：構造式
（８）：住友３Ｍ社製）２重量％溶液をガラス（ＢＫ−
７）上に塗布し、１５０℃で３０分間加熱乾燥した。そ
の際の膜厚は９０ｎｍ、膜の屈折率は１．３９であっ
た。
レート（ＦＸ１３：構造式（１）：住友３Ｍ社製）のハ
イドロフルオロエーテル（ＨＦＥ７２００：構造式
（８）：住友３Ｍ社製）２重量％溶液をガラス（ＢＫ−
７）上に塗布し、１５０℃で３０分間加熱乾燥した。そ
の際の膜厚は９０ｎｍ、膜の屈折率は１．３９であっ
た。
【００３２】上記反射防止光学物品の片面反射率は波長
５００ｎｍで１．２％であった。又、上記反射防止光学
物品の表面をダスパーを用いて３００ｇ荷重で摩擦した
ところ膜の剥離や傷が発生した。
５００ｎｍで１．２％であった。又、上記反射防止光学
物品の表面をダスパーを用いて３００ｇ荷重で摩擦した
ところ膜の剥離や傷が発生した。
【００３３】（実施例２）実験例１と同様にパーフルオ
ロアルキルアクリレート（ＦＸ１３：構造式（１）：住
友３Ｍ社製）のハイドロフルオロエーテル（ＨＦＥ７２
００：構造式（８）：住友３Ｍ社製）２重量％溶液１０
０ｇに、分子量５６００のパーフルオロポリエーテル
（デムナムＳ１００：構造式（１２）：ダイキン工業社
製）を添加して塗料Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅを作製した。その際
のデムナムの添加量はそれぞれＢ：０．００１ｇ、Ｃ：
０．００２ｇ、Ｄ：０．０４ｇ、Ｅ：０．０６ｇとし
た。塗料Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅをガラス（ＢＫ−７）上に塗布
し、１５０℃で３０分間加熱乾燥した。その際の膜厚は
９０ｎｍであった。又、それぞれの膜の屈折率と作製し
た反射防止光学物品の波長５００ｎｍにおける片面の反
射率を表１に示す。
ロアルキルアクリレート（ＦＸ１３：構造式（１）：住
友３Ｍ社製）のハイドロフルオロエーテル（ＨＦＥ７２
００：構造式（８）：住友３Ｍ社製）２重量％溶液１０
０ｇに、分子量５６００のパーフルオロポリエーテル
（デムナムＳ１００：構造式（１２）：ダイキン工業社
製）を添加して塗料Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅを作製した。その際
のデムナムの添加量はそれぞれＢ：０．００１ｇ、Ｃ：
０．００２ｇ、Ｄ：０．０４ｇ、Ｅ：０．０６ｇとし
た。塗料Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅをガラス（ＢＫ−７）上に塗布
し、１５０℃で３０分間加熱乾燥した。その際の膜厚は
９０ｎｍであった。又、それぞれの膜の屈折率と作製し
た反射防止光学物品の波長５００ｎｍにおける片面の反
射率を表１に示す。
【００３４】表１：実施例２の説明 （実施例３）実験例１と同様にパーフルオロアルキルア
クリレート（ＦＸ１３：構造式（１）：住友３Ｍ社製）
のハイドロフルオロエーテル（ＨＦＥ７２００：構造式
（８）：住友３Ｍ社製）２重量％溶液１００ｇに、分子
量５６００のパーフルオロポリエーテルを０．０２ｇ添
加して塗料Ｆ，Ｇ，Ｈを作製した。その際のパーフルオ
ロポリエーテル（デムナム：構造式（１２）：ダイキン
工業社製）の分子量はそれぞれＦ：２７００、Ｇ：４５
００、Ｈ：８４００とした。塗料をＦ，Ｇ，Ｈガラス
（ＢＫ−７）上に塗布し、１５０℃で３０分間加熱乾燥
した。その際の膜厚は９０ｎｍであった。又、それぞれ
の膜の屈折率と作製した反射防止光学物品の波長５００
ｎｍにおける片面の反射率を以下の表２に示す。
クリレート（ＦＸ１３：構造式（１）：住友３Ｍ社製）
のハイドロフルオロエーテル（ＨＦＥ７２００：構造式
（８）：住友３Ｍ社製）２重量％溶液１００ｇに、分子
量５６００のパーフルオロポリエーテルを０．０２ｇ添
加して塗料Ｆ，Ｇ，Ｈを作製した。その際のパーフルオ
ロポリエーテル（デムナム：構造式（１２）：ダイキン
工業社製）の分子量はそれぞれＦ：２７００、Ｇ：４５
００、Ｈ：８４００とした。塗料をＦ，Ｇ，Ｈガラス
（ＢＫ−７）上に塗布し、１５０℃で３０分間加熱乾燥
した。その際の膜厚は９０ｎｍであった。又、それぞれ
の膜の屈折率と作製した反射防止光学物品の波長５００
ｎｍにおける片面の反射率を以下の表２に示す。
【００３５】表２：実施例３の説明 （実施例４）実験例１と同様にパーフルオロアルキルア
クリレート（ＦＸ１３：構造式（１）：住友３Ｍ社製）
のハイドロフルオロエーテル（ＨＦＥ７２００：構造式
（８）：住友３Ｍ社製）２重量％溶液１００ｇに、分子
量５６００のパーフルオロポリエーテル（フォンブリ
ン：アウジモンド社製）を０．０２ｇ添加して塗料Ｉ，
Ｊ，Ｋを作製した。その際のパーフルオロポリエーテル
（フォンブリン）の構造式はそれぞれＩ：構造式
（６）、Ｊ：構造式（９）、Ｋ：構造式（１０）とし
た。塗料Ｉ，Ｊ，Ｋをガラス（ＢＫ−７）上に塗布し、
１５０℃で３０分間加熱乾燥した。その際の膜厚は９０
ｎｍであった。
クリレート（ＦＸ１３：構造式（１）：住友３Ｍ社製）
のハイドロフルオロエーテル（ＨＦＥ７２００：構造式
（８）：住友３Ｍ社製）２重量％溶液１００ｇに、分子
量５６００のパーフルオロポリエーテル（フォンブリ
ン：アウジモンド社製）を０．０２ｇ添加して塗料Ｉ，
Ｊ，Ｋを作製した。その際のパーフルオロポリエーテル
（フォンブリン）の構造式はそれぞれＩ：構造式
（６）、Ｊ：構造式（９）、Ｋ：構造式（１０）とし
た。塗料Ｉ，Ｊ，Ｋをガラス（ＢＫ−７）上に塗布し、
１５０℃で３０分間加熱乾燥した。その際の膜厚は９０
ｎｍであった。
【００３６】それぞれの膜の屈折率と作製した反射防止
光学物品の波長５００ｎｍにおける片面の反射率とテー
プ剥離試験（クロスカット１００個中の剥離個数：セロ
ハンテープ１０ｍｍ／ｓｅｃ、３０回）の結果を以下の
表３に示す。
光学物品の波長５００ｎｍにおける片面の反射率とテー
プ剥離試験（クロスカット１００個中の剥離個数：セロ
ハンテープ１０ｍｍ／ｓｅｃ、３０回）の結果を以下の
表３に示す。
【００３７】表３：実施例４の説明 （実施例５）実施例４で調整した塗料Ｊを用いて以下の
実験を行なった。
実験を行なった。
【００３８】＜実験例２＞塗料Ｊをガラス（ＢＫ−７）
上に塗布し、１５０℃で３０分間加熱乾燥した。その際
の膜厚は９０ｎｍであった。
上に塗布し、１５０℃で３０分間加熱乾燥した。その際
の膜厚は９０ｎｍであった。
【００３９】＜実験例３＞ガラス（ＢＫ−７）の表面を
紫外線−オゾン処理した後、塗料Ｊを塗布し、１５０℃
で３０分間加熱乾燥した。その際の膜厚は９０ｎｍであ
った。
紫外線−オゾン処理した後、塗料Ｊを塗布し、１５０℃
で３０分間加熱乾燥した。その際の膜厚は９０ｎｍであ
った。
【００４０】＜実験例４＞ガラス（ＢＫ−７）の表面に
テトラエトキシシランを５ｎｍ塗布した後、塗料Ｊを塗
布し、１５０℃で３０分間加熱乾燥した。その際の膜厚
は９０ｎｍであった。
テトラエトキシシランを５ｎｍ塗布した後、塗料Ｊを塗
布し、１５０℃で３０分間加熱乾燥した。その際の膜厚
は９０ｎｍであった。
【００４１】＜実験例５＞ガラス（ＢＫ−７）の表面に
構造式（１１）に示す有機シラン化合物を５ｎｍ塗布し
た後、塗料Ｊを塗布し、１５０℃で３０分間加熱乾燥し
た。その際の膜厚は９０ｎｍであった。
構造式（１１）に示す有機シラン化合物を５ｎｍ塗布し
た後、塗料Ｊを塗布し、１５０℃で３０分間加熱乾燥し
た。その際の膜厚は９０ｎｍであった。
【００４２】＜実験例６＞ガラス（ＢＫ−７）の表面を
紫外線−オゾン処理した後、構造式（１１）に示す有機
シラン化合物を５ｎｍ塗布し、その後塗料Ｊを塗布し、
１５０℃で３０分間加熱乾燥した。その際の膜厚は９０
ｎｍであった。
紫外線−オゾン処理した後、構造式（１１）に示す有機
シラン化合物を５ｎｍ塗布し、その後塗料Ｊを塗布し、
１５０℃で３０分間加熱乾燥した。その際の膜厚は９０
ｎｍであった。
【００４３】実験例２〜６において作製した反射型光学
素子の膜の屈折率と作製した反射防止光学物品の波長５
００ｎｍにおける片面の反射率とテープ剥離試験（クロ
スカット１００個中の剥離個数：セロハンテープ１０ｍ
ｍ／ｓｅｃ、３０回）の結果を以下の表４に示す。
素子の膜の屈折率と作製した反射防止光学物品の波長５
００ｎｍにおける片面の反射率とテープ剥離試験（クロ
スカット１００個中の剥離個数：セロハンテープ１０ｍ
ｍ／ｓｅｃ、３０回）の結果を以下の表４に示す。
【００４４】表４：実施例５の説明
【００４５】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、透明基材上に、基材側から空気に向かって少な
くとも屈折率が１．４０以下の低屈折率膜が積層されて
成る反射防止光学物品において、 前記低屈折率層をパー
フルオロアルキルアクリレート又はパーフルオロアルキ
ル（メタ）アクリレートとパーフルオロポリエーテルの
混合物で構成したため、高い反射防止性と耐擦傷性を有
する反射防止光学物品を得ることができる。
よれば、透明基材上に、基材側から空気に向かって少な
くとも屈折率が１．４０以下の低屈折率膜が積層されて
成る反射防止光学物品において、 前記低屈折率層をパー
フルオロアルキルアクリレート又はパーフルオロアルキ
ル（メタ）アクリレートとパーフルオロポリエーテルの
混合物で構成したため、高い反射防止性と耐擦傷性を有
する反射防止光学物品を得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2K009 AA02 CC24 DD02 DD05 DD17 4F100 AH05B AK01B AK25B AK54B AL05B AL07B AT00A BA02 BA03 BA07 CB00C EH462 EJ542 EJ552 GB90 JK09 JN01A JN06 JN18B YY00B
Claims (7)
- 【請求項１】 透明基材上に、基材側から空気に向かっ
て少なくとも屈折率が１．４０以下の低屈折率膜が積層
されて成る反射防止光学物品において、前記低屈折率層
をパーフルオロアルキルアクリレート又はパーフルオロ
アルキル（メタ）アクリレートとパーフルオロポリエー
テルの混合物で構成したことを特徴とする反射防止光学
物品。 - 【請求項２】 前記低屈折率膜を、パーフルオロアルキ
ルアクリレート又はパーフルオロアルキル（メタ）アク
リレートとパーフルオロポリエーテルの混合物がＰＦＣ
（パーフルオロカーボン）又はＨＦＣ（ハイドロフルオ
ロカーボン）以外の有機溶媒中に溶解又は分散した塗料
を少なくとも高屈折率膜が形成された基材上に塗布する
ことにより形成したことを特徴とする請求項１記載の反
射防止光学物品。 - 【請求項３】 前記パーフルオロアクリルアクリレート
又はパーフルオロアルキル（メタ）アクリレートとパー
フルオロポリエーテルの混合物の混合比が１００：０．
１〜１００：２の範囲内にあることを特徴とする請求項
１記載の反射防止光学物品。 - 【請求項４】 前記パーフルオロポリエーテルの分子量
が２０００〜１００００の範囲内にあることを特徴とす
る請求項１記載の反射防止光学物品。 - 【請求項５】 前記パーフルオロポリエーテルの分子末
端がカルボキシル基又はアルコール基により変性されて
いることを特徴とする請求項１記載の反射防止光学物
品。 - 【請求項６】 前記低屈折率層を少なくとも基材の最表
面を紫外線−オゾン処理、コロナ放電処理又はプラズマ
処理した後に形成することを特徴とする請求項１記載の
反射防止光学物品。 - 【請求項７】 前記低屈折率層が少なくとも基材の最表
面に形成した接着層を介して形成されていることを特徴
とする請求項１記載の反射防止光学物品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001143546A JP2002341105A (ja) | 2001-05-14 | 2001-05-14 | 反射防止光学物品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001143546A JP2002341105A (ja) | 2001-05-14 | 2001-05-14 | 反射防止光学物品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002341105A true JP2002341105A (ja) | 2002-11-27 |
Family
ID=18989680
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001143546A Withdrawn JP2002341105A (ja) | 2001-05-14 | 2001-05-14 | 反射防止光学物品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002341105A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007536718A (ja) * | 2004-05-03 | 2007-12-13 | メルク パテント ゲーエムベーハー | 有機半導体を含む電子デバイス |
-
2001
- 2001-05-14 JP JP2001143546A patent/JP2002341105A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007536718A (ja) * | 2004-05-03 | 2007-12-13 | メルク パテント ゲーエムベーハー | 有機半導体を含む電子デバイス |
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