JP2002332116A

JP2002332116A - 基板処理装置

Info

Publication number: JP2002332116A
Application number: JP2001138408A
Authority: JP
Inventors: Masayo Nakajima; 誠世中嶋
Original assignee: Hitachi Kokusai Electric Inc
Current assignee: Hitachi Kokusai Electric Inc
Priority date: 2001-05-09
Filing date: 2001-05-09
Publication date: 2002-11-22

Abstract

(57)【要約】【課題】なるべく小さなスペースで設置可能で、小さな
力で位置精度良く開閉することができる蓋開閉機構を備
えた基板処理装置を提供する。【解決手段】チャンバ２と、チャンバ２の開閉可能な蓋
１と、蓋１の開閉機構とを有する基板処理装置におい
て、蓋１の開閉機構が複数のアーム４、５、６と複数の
関節８、９、１０、１１とを備え、複数のアーム４、
５、６のうちの第１のアーム４の一端が関節８を介して
チャンバ２に連結され、第１のアーム４の他端に関節９
を介して第２のアーム５の一端が連結され、第２のアー
ム５の他端が関節１０を介して蓋１に連結されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置等
の基板処理装置に係り、特に、基板処理装置のチャンバ
の蓋の開閉機構を有する基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】図５は従来の基板処理装置の斜視図であ
り、（ａ）は蓋を閉めた状態、（ｂ）は蓋を開けた状態
を示す。

【０００３】２は半導体製造装置等の基板搬送室あるい
は反応室等のチャンバ、７はチャンバ２の開口、１は開
口７を覆う蓋、３はガスダンパ、１００は蓋１の取っ
手、１０１はチャンバ２内に設置されるウェハを検知す
るための窓、３０はガスダンパ３の太い管、３１は支点
（回転中心）、３２はガスダンパ３の蓋１への固定点で
ある。

【０００４】従来の蓋１の開閉機構は、図５に示すよう
に、その太い管３０内に窒素等の圧縮ガスが封入された
２個のガスダンパ３の反発力を利用して、手動で蓋１を
開閉する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】図５に示す従来の基板
処理装置における蓋１の開閉機構では、蓋１の重量が重
い場合、２個のガスダンパ３の反発力だけを利用して蓋
１を開閉することが困難なことがあった。

【０００６】なお、蓋１の重心から支点（回転中心）３
１までの距離Ａが長い場合、すなわち、蓋１の直径が大
きい場合、蓋１を開閉させるために、支点（回転中心）
３１からガスダンパ３の蓋１への固定点３２までの距離
Ｂが長いことが、蓋１の開閉の条件となる。このため、
蓋１が大きい場合、蓋１の開閉機構も大きくなり、チャ
ンバ２や基板処理装置全体の大きさも大きくなる。

【０００７】ガスダンパ３の開閉に必要な反発力をＦと
し、蓋１の重量をＷとすると、Ｆ＝（Ｗ×Ａ）／Ｂの式
が成り立つ。反発力Ｆが一定の場合、ＡまたはＷが大き
くなると、Ｂも大きくする必要がある。一方、Ａまたは
Ｗが小さくなると、Ｂも小さくて済む。

【０００８】さらに、蓋１の回転方向の自由度が低いた
め、蓋１を閉める際、蓋１とチャンバ２とを密着させる
ために、ガスダンパ３と蓋１との連結部にガタを設ける
等の必要があり、これは蓋１とチャンバ２との位置精度
の低下を引き起こし易い。

【０００９】本発明の目的は、なるべく小さなスペース
で設置可能で、小さな力で位置精度良く開閉することが
できる蓋開閉機構を備えた基板処理装置を提供すること
にある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、チャンバと、前記チャンバの開閉可能な
蓋と、前記蓋の開閉機構とを有する基板処理装置におい
て、前記蓋の開閉機構が複数のアームと複数の関節とを
備え、前記複数のアームのうちの第１のアームの一端が
前記関節を介して前記チャンバに連結され、前記第１の
アームの他端に前記関節を介して第２のアームの一端が
連結され、前記第２のアームの他端が前記関節を介して
前記蓋に連結されていることを特徴とする。

【００１１】本発明では、上記構成により、小さなスペ
ースで設置可能で、小さな力で位置精度良く蓋を開閉す
ることができる蓋の開閉機構を備えた基板処理装置を実
現することができる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の実施
の形態について詳細に説明する。なお、以下で説明する
図面で、同一機能を有するものは同一符号を付け、その
繰り返しの説明は省略する。

【００１３】図１（ａ）は本発明の実施の形態の基板処
理装置の斜視図、（ｂ）は（ａ）のＣ部の拡大詳細斜視
図である。

【００１４】図２（ａ）は本実施の形態の基板処理装置
の蓋開閉途中の状態の斜視図、（ｂ）は（ａ）の側面図
である。

【００１５】図３（ａ）は本実施の形態の基板処理装置
の蓋を完全に閉めた状態の斜視図、（ｂ）は（ａ）の側
面図である。

【００１６】図４（ａ）は本実施の形態の基板処理装置
の蓋を完全に開けた状態の斜視図、（ｂ）は（ａ）の側
面図である。

【００１７】２は半導体製造装置（枚葉装置）の基板搬
送室あるいは反応室等のチャンバ、１はチャンバ２の上
部に設けられた蓋、３はガスダンパ、７は蓋１で覆うチ
ャンバ２の開口、１００は蓋１の取っ手、１０１はチャ
ンバ２内に設置されるウェハを検知するための窓、３０
はガスダンパ３の太い管、４５は支点（回転中心）、３
２はガスダンパ３の蓋１への固定点である。

【００１８】図１（ａ）において、４は第１のアーム、
５は第２のアーム、６は第３のアーム、８は第１の関
節、９は第２の関節、１０は第３の関節、１１は第４の
関節、１２は第１のアーム４の端部に設けた支持部材、
１３は第２のアーム５の端部に設けた支持部材、１４は
第３のアーム６の端部に設けた支持部材である。

【００１９】本実施の形態の基板処理装置は、チャンバ
２と、チャンバ２の開閉可能な蓋１と、蓋１の開閉機構
とを有する基板処理装置において、蓋１の開閉機構が複
数のアーム４、５、６と複数の関節８、９、１０、１１
とを備え、複数のアーム４、５、６のうちの第１のアー
ム４の一端が関節８を介してチャンバ２に連結され、第
１のアーム４の他端に関節９を介して第２のアーム５の
一端が連結され、第２のアーム５の他端が関節１０を介
して蓋１に連結されている。

【００２０】第２のアーム５の支持部材１３は、蓋１の
外周部に固定されている。第３のアーム６の支持部材１
４は蓋１に固定されていない。蓋１とチャンバ２とは３
個の関節８、９、１０で連結されている。

【００２１】本実施の形態では、３個のアーム４、５、
６と４個の関節８、９、１０、１１から構成される４関
節３リンク機構と、ガスダンパ３とを２個ずつ設置し
た。ガスダンパ３は、太い管３０内に窒素等の圧縮ガス
が封入されている。

【００２２】第１のアーム４と第２のアーム５とは同じ
長さであり、第１のアーム４および第２のアーム５と、
第３のアーム６とは長さが異なる。

【００２３】長さの等しい２個のアーム４、５のうち、
第１のアーム４はその一端に関節８を持ち、チャンバ２
に連結され、第２のアーム５はその一端に関節１０を持
ち、蓋１に連結されている。３個のアーム４、５、６の
一端は、関節９において１本のシャフトにより連結さ
れ、一体化している。これらの３個のアーム４、５、
６、４個の関節８、９、１０、１１、３個の支持部材１
２、１３、１４により蓋１の開閉機構が構成されてい
る。

【００２４】２個のアーム４、５の長さを同じにするこ
とにより、図２に示す状態では、支点（回転中心）４５
からガスダンパ３の蓋１への固定点３２までの距離が長
くなり、手動で蓋１を開閉することが可能である。上記
のように、第３のアーム６の端部に設けた支持部材１４
は蓋１に固定されていないが、蓋１の開閉時には、第３
のアーム６が支持部材１４を介して、第２のアーム５に
よる蓋１の支持を補助する機能を果たす。支持部材１４
は蓋１に固定されていないので、蓋１を閉めた後は、図
２の状態から図３の状態にすることができる。

【００２５】また、３個のアーム４、５、６を関節８、
９、１０、１１で連結していることにより、自由度が高
くなり、蓋１の開閉時の位置精度が向上する。

【００２６】また、上記のように、第２のアーム５は支
持部材１３を介して蓋１の外周部（端部）に連結されて
いる。さらに、蓋１を閉めた時には、支点（回転中心）
４５を、図２に示す状態から図３に示す状態に移動させ
ることができる。これらの構成により、蓋１の開閉機構
が占めるスペースを小さくすることができ、蓋１上のス
ペースを広く取ることができる。この結果、チャンバ２
や基板処理装置全体の大きさも小さくすることができる
と共に、ウェハ検知用の窓１０１を有する蓋１上のスペ
ースをウェハ検知用のセンサ等のために有効に活用する
こができる。

【００２７】また、図４に示す蓋１を開いた状態では、
長さの異なる２個のアーム５、６によって蓋１を支持す
るため、関節８、９、１０、１１の自由度がなくなる。
これにより、蓋１の開閉動作以外での蓋１の回転を防止
することができ、蓋１の開閉時の安定性、安全性が増加
する。

【００２８】以上本発明を実施の形態に基づいて具体的
に説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変
更可能であることは勿論である。例えば、上記実施の形
態では、アームは３本設けたが、アームは３本に限ら
ず、４本以上設けることも可能である。また、第３のア
ーム６を設けないで、チャンバ２に連結された第１のア
ーム４と、該第１のアーム４に関節９で連結され、蓋１
に連結された第２のアーム５のみで蓋１の開閉機構を構
成することも可能である。また、関節は４個に限らず、
５個以上設けることも可能である。また、上記実施の形
態では、アームと関節を有する蓋１の開閉機構を２個設
けたが、１個だけ設けても、３個以上設けることも可能
である。また、第３のアーム６の端部に設けた支持部材
１４を蓋１の外周部に固定することも可能である。ま
た、２個のガスダンパ３の代わりに、それに変わる反発
力を得る他の反発力発生機構を設けることも可能であ
る。また、２個のガスダンパ３を設けないことも可能で
ある。しかし、この場合、蓋１を開けるのに大きな力を
必要とする。このため、複数のアームを有する蓋１の開
閉機構に、例えばシリンダ等の反発力発生機構を設ける
ことも可能である。

【００２９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
蓋開閉機構を小スペース化し、蓋開閉時の位置精度を向
上させ、蓋開閉時の安定性、安全性を増加させることが
できる基板処理装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】（ａ）は本発明の実施の形態の基板処理装置の
斜視図、（ｂ）は（ａ）のＣ部の拡大詳細斜視図であ
る。

【図２】（ａ）は本実施の形態の基板処理装置の蓋開閉
途中の状態の斜視図、（ｂ）は（ａ）の側面図である。

【図３】（ａ）は本実施の形態の基板処理装置の蓋を完
全に閉めた状態の斜視図、（ｂ）は（ａ）の側面図であ
る。

【図４】（ａ）は本実施の形態の基板処理装置の蓋を完
全に開けた状態の斜視図、（ｂ）は（ａ）の側面図であ
る。

【図５】（ａ）は従来の蓋を閉めた状態の基板処理装置
の斜視図、（ｂ）は蓋を開けた状態の基板処理装置の斜
視図である。

【符号の説明】

１…蓋、２…チャンバ、３…ガスダンパ、４…第１のア
ーム、５…第２のアーム、６…第３のアーム、７…開
口、８…第１の関節、９…第２の関節、１０…第３の関
節、１１…第４の関節、１２、１３、１４…支持部材、
３０…太い管、３１、４５…支点（回転中心）、３２…
ガスダンパの固定点、１００…取っ手、１０１…窓。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】チャンバと、前記チャンバの開閉可能な蓋
と、前記蓋の開閉機構とを有する基板処理装置におい
て、前記蓋の開閉機構が複数のアームと複数の関節とを備
え、前記複数のアームのうちの第１のアームの一端が前記関
節を介して前記チャンバに連結され、前記第１のアームの他端に前記関節を介して第２のアー
ムの一端が連結され、前記第２のアームの他端が前記関節を介して前記蓋に連
結されていることを特徴とする基板処理装置。