JP2002328362A - 液晶表示素子 - Google Patents
液晶表示素子Info
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- JP2002328362A JP2002328362A JP2001131543A JP2001131543A JP2002328362A JP 2002328362 A JP2002328362 A JP 2002328362A JP 2001131543 A JP2001131543 A JP 2001131543A JP 2001131543 A JP2001131543 A JP 2001131543A JP 2002328362 A JP2002328362 A JP 2002328362A
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
- C03C21/001—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
- C03C21/002—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions to perform ion-exchange between alkali ions
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- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 製造工程における搬送等に好都合で強度の高
いガラス基板を使用し、液晶表示素子の製造作業性およ
び耐久性を向上する。 【解決手段】 板厚０．４ｍｍのソーダガラス２１を溶
融カリウム塩中に浸漬し、ソーダガラス２１の両主面に
当該両主面近傍のナトリウムイオンをカリウムイオンで
置換してなる化学強化処理層２２、２３を形成する。こ
の場合、ソーダガラス２１中の錫含有率の大小に起因し
て、ソーダガラス２１の表側とする錫含有率の小さい主
面に形成された化学強化処理層２２の層厚が錫含有率の
大きい主面に形成された化学強化処理層２３の層厚より
も厚くなり、ソーダガラス２１はその表主面が張り出す
ように反る。そして、表主面側の化学強化処理層２２の
上面に電極膜２４を形成してなるガラス基板を、その表
主面を上にして両端支持で搬送するとき、自重による撓
みが加わることにより、反りが矯正され、これにより搬
送中にガラス基板が落下しないようにすることができ
る。
いガラス基板を使用し、液晶表示素子の製造作業性およ
び耐久性を向上する。 【解決手段】 板厚０．４ｍｍのソーダガラス２１を溶
融カリウム塩中に浸漬し、ソーダガラス２１の両主面に
当該両主面近傍のナトリウムイオンをカリウムイオンで
置換してなる化学強化処理層２２、２３を形成する。こ
の場合、ソーダガラス２１中の錫含有率の大小に起因し
て、ソーダガラス２１の表側とする錫含有率の小さい主
面に形成された化学強化処理層２２の層厚が錫含有率の
大きい主面に形成された化学強化処理層２３の層厚より
も厚くなり、ソーダガラス２１はその表主面が張り出す
ように反る。そして、表主面側の化学強化処理層２２の
上面に電極膜２４を形成してなるガラス基板を、その表
主面を上にして両端支持で搬送するとき、自重による撓
みが加わることにより、反りが矯正され、これにより搬
送中にガラス基板が落下しないようにすることができ
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は液晶表示素子に関
し、詳細には、搬送等における製造作業性に優れ且つガ
ラス基板が割れにくく耐久性の高い液晶表示素子に関す
る。
し、詳細には、搬送等における製造作業性に優れ且つガ
ラス基板が割れにくく耐久性の高い液晶表示素子に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示素子は通常、相対向する面にそ
れぞれＩＴＯ等の透明な金属からなる電極が形成された
一対のガラス基板をほぼ方形枠状のシール材を介して貼
り合わせ、シール材の内側における両ガラス基板間に液
晶を封入してなる。このような液晶表示素子は、その特
徴の１つとして薄型軽量であるので、携帯電話や腕時計
等の携帯型電子機器の表示素子として広く用いられてい
る。
れぞれＩＴＯ等の透明な金属からなる電極が形成された
一対のガラス基板をほぼ方形枠状のシール材を介して貼
り合わせ、シール材の内側における両ガラス基板間に液
晶を封入してなる。このような液晶表示素子は、その特
徴の１つとして薄型軽量であるので、携帯電話や腕時計
等の携帯型電子機器の表示素子として広く用いられてい
る。
【０００３】ところで、このような携帯型電子機器のあ
る分野では、さらなる薄型軽量化が要求されている。こ
の要求に答えるための１つとして、液晶表示素子のガラ
ス基板の板厚を、現状では０．７ｍｍが主流であるが、
０．５５ｍｍ、０．５ｍｍと薄くする傾向にあり、特に
最近では０．４ｍｍとより一層の薄型軽量化が要求され
ている。
る分野では、さらなる薄型軽量化が要求されている。こ
の要求に答えるための１つとして、液晶表示素子のガラ
ス基板の板厚を、現状では０．７ｍｍが主流であるが、
０．５５ｍｍ、０．５ｍｍと薄くする傾向にあり、特に
最近では０．４ｍｍとより一層の薄型軽量化が要求され
ている。
【０００４】一方、ガラス基板は薄くなるほど割れやす
いので、ソーダガラスに化学強化処理を施したものを用
いることが多い。すなわち、ソーダガラスを溶融カリウ
ム塩中に浸漬し、ソーダガラスの表面に当該両表面のナ
トリウムイオンをカリウムイオンで置換してなる化学強
化処理層を形成したものを用いる。
いので、ソーダガラスに化学強化処理を施したものを用
いることが多い。すなわち、ソーダガラスを溶融カリウ
ム塩中に浸漬し、ソーダガラスの表面に当該両表面のナ
トリウムイオンをカリウムイオンで置換してなる化学強
化処理層を形成したものを用いる。
【０００５】ところで、ソーダガラスには錫が含有され
ているが、その錫含有率は、図１１（Ａ）に示すよう
に、ソーダガラスの板厚方向に均一ではない。このソー
ダガラスを液晶表示素子のガラス基板として用いる場
合、従来は、ガラス基板の表裏両主面のうちの錫の含有
率が大きい方の主面をガラス基板の表側とし、この表側
主面(以下、表主面という)に電極膜として例えばＩＴＯ
（Indium Tin Oxide）等の透明導電膜を形成してい
た。すなわち、ソーダガラスからなるガラス基板１の錫
含有率は、電極形成面となる表主面側（図では上側）で
大きく、裏主面側（図では下側）で小さい。なお、主面
とは、板材の周囲６面のうちの４端面を除く表側と裏側
の２平面をいう。
ているが、その錫含有率は、図１１（Ａ）に示すよう
に、ソーダガラスの板厚方向に均一ではない。このソー
ダガラスを液晶表示素子のガラス基板として用いる場
合、従来は、ガラス基板の表裏両主面のうちの錫の含有
率が大きい方の主面をガラス基板の表側とし、この表側
主面(以下、表主面という)に電極膜として例えばＩＴＯ
（Indium Tin Oxide）等の透明導電膜を形成してい
た。すなわち、ソーダガラスからなるガラス基板１の錫
含有率は、電極形成面となる表主面側（図では上側）で
大きく、裏主面側（図では下側）で小さい。なお、主面
とは、板材の周囲６面のうちの４端面を除く表側と裏側
の２平面をいう。
【０００６】一方、錫はナトリウムイオンをカリウムイ
オンで置換するイオン置換反応の障害となる。このた
め、ソーダガラスからなるガラス基板１を溶融カリウム
塩中に浸漬し、その周面に上述したように化学強化処理
層を形成した場合、図１１（Ｂ）に示すように、電極形
成面となる表主面に形成された化学強化処理層２の層厚
が裏主面に形成された化学強化処理層３の層厚よりも薄
くなり、この層厚の差に起因してガラス基板１がその上
面(表主面)が凹むように反ってしまう。そして、この反
ったガラス基板１の上面つまり凹んだ表主面に形成され
た化学強化処理層２上に電極４が形成される。
オンで置換するイオン置換反応の障害となる。このた
め、ソーダガラスからなるガラス基板１を溶融カリウム
塩中に浸漬し、その周面に上述したように化学強化処理
層を形成した場合、図１１（Ｂ）に示すように、電極形
成面となる表主面に形成された化学強化処理層２の層厚
が裏主面に形成された化学強化処理層３の層厚よりも薄
くなり、この層厚の差に起因してガラス基板１がその上
面(表主面)が凹むように反ってしまう。そして、この反
ったガラス基板１の上面つまり凹んだ表主面に形成され
た化学強化処理層２上に電極４が形成される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、図１１
（Ｂ）に示すガラス基板１を製造工程において搬送する
場合、図１２に示すように、搬送カセット５内に設けら
れた複数対の支持棚６上に、それぞれガラス基板１を、
その表主面である電極形成面を上にして両端を支持さ
せ、複数段に収納する。しかしながら、このように支持
されて搬送されるガラス基板１は、強化処理を経てその
上面が凹むように反っており、この反りに自重による撓
みが加わることにより、凹みが助長されて大きくなって
支持棚６から外れ易くなっている。したがって、そのよ
うな状態でガラス基板１を搬送すると、支持棚６から外
れて落下したりし、製造作業に支障を来していた。この
発明の目的は、製造工程における搬送等に好都合で強度
の高いガラス基板を使用し、製造作業性に優れ且つガラ
ス基板が割れにくく耐久性の高い液晶表示素子を提供す
ることである。
（Ｂ）に示すガラス基板１を製造工程において搬送する
場合、図１２に示すように、搬送カセット５内に設けら
れた複数対の支持棚６上に、それぞれガラス基板１を、
その表主面である電極形成面を上にして両端を支持さ
せ、複数段に収納する。しかしながら、このように支持
されて搬送されるガラス基板１は、強化処理を経てその
上面が凹むように反っており、この反りに自重による撓
みが加わることにより、凹みが助長されて大きくなって
支持棚６から外れ易くなっている。したがって、そのよ
うな状態でガラス基板１を搬送すると、支持棚６から外
れて落下したりし、製造作業に支障を来していた。この
発明の目的は、製造工程における搬送等に好都合で強度
の高いガラス基板を使用し、製造作業性に優れ且つガラ
ス基板が割れにくく耐久性の高い液晶表示素子を提供す
ることである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示素子
は、請求項１に記載のように、電極が形成された一対の
ガラス基板を電極形成面を対向させて配置し、この対向
配置された一対のガラス基板間に液晶を封入してなる液
晶表示素子であって、前記ガラス基板が錫を含有するソ
ーダガラスからなり、該ガラス基板の両主面に化学強化
処理層が形成され、当該両主面のうちの錫の含有率の小
さい側の主面に形成された前記化学強化処理層上に前記
電極が形成されていることを特徴とするものである。本
発明の液晶表示素子においては、請求項２に記載のよう
に、前記化学強化処理層は、前記ガラス基板のナトリウ
ムイオンをこれよりもイオン半径が大きい陽イオンで置
換してなる化学強化処理層であることが好ましい。ま
た、請求項３に記載のように、前記化学強化処理層の層
厚は５±２μｍ程度であることが好ましい。また、請求
項４に記載のように、前記ガラス基板の厚さは０．７ｍ
ｍ未満であることが好ましい。そして、請求項１に記載
の発明によれば、ガラス基板の両主面のうち錫の含有率
の少ない方の主面に形成された化学強化処理層上に電極
を形成しているので、すなわち、ガラス基板の両主面に
形成される化学強化処理層の層厚の差に起因してガラス
基板に反りが発生しても、この反ったガラス基板の出張
った面に形成された化学強化処理層上に電極を形成して
いるので、この反ったガラス基板をその電極形成面を上
側として且つ両端支持で搬送するとき、自重による撓み
が加わることにより、反りが矯正され、これにより製造
工程におけるガラス基板の搬送中にガラス基板が落下し
ないようにして液晶表示素子の製造作業性を向上するこ
とができる。
は、請求項１に記載のように、電極が形成された一対の
ガラス基板を電極形成面を対向させて配置し、この対向
配置された一対のガラス基板間に液晶を封入してなる液
晶表示素子であって、前記ガラス基板が錫を含有するソ
ーダガラスからなり、該ガラス基板の両主面に化学強化
処理層が形成され、当該両主面のうちの錫の含有率の小
さい側の主面に形成された前記化学強化処理層上に前記
電極が形成されていることを特徴とするものである。本
発明の液晶表示素子においては、請求項２に記載のよう
に、前記化学強化処理層は、前記ガラス基板のナトリウ
ムイオンをこれよりもイオン半径が大きい陽イオンで置
換してなる化学強化処理層であることが好ましい。ま
た、請求項３に記載のように、前記化学強化処理層の層
厚は５±２μｍ程度であることが好ましい。また、請求
項４に記載のように、前記ガラス基板の厚さは０．７ｍ
ｍ未満であることが好ましい。そして、請求項１に記載
の発明によれば、ガラス基板の両主面のうち錫の含有率
の少ない方の主面に形成された化学強化処理層上に電極
を形成しているので、すなわち、ガラス基板の両主面に
形成される化学強化処理層の層厚の差に起因してガラス
基板に反りが発生しても、この反ったガラス基板の出張
った面に形成された化学強化処理層上に電極を形成して
いるので、この反ったガラス基板をその電極形成面を上
側として且つ両端支持で搬送するとき、自重による撓み
が加わることにより、反りが矯正され、これにより製造
工程におけるガラス基板の搬送中にガラス基板が落下し
ないようにして液晶表示素子の製造作業性を向上するこ
とができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】図１はこの発明の一実施形態とし
ての液晶表示素子の要部の断面図を示したものである。
この液晶表示素子は、ソーダガラスからなり後述する化
学強化処理が施された一対のガラス基板１１、１２を備
えている。各ガラス基板１１、１２の相対向させる面に
はそれぞれＩＴＯ等の透明な金属からなる電極１３、１
４が形成されている。そして、一対のガラス基板１１、
１２はほぼ方形枠状のシール材１５を介して貼り合わさ
れ、シール材１５の内側における両ガラス基板１１、１
２間には液晶１６が封入されている。
ての液晶表示素子の要部の断面図を示したものである。
この液晶表示素子は、ソーダガラスからなり後述する化
学強化処理が施された一対のガラス基板１１、１２を備
えている。各ガラス基板１１、１２の相対向させる面に
はそれぞれＩＴＯ等の透明な金属からなる電極１３、１
４が形成されている。そして、一対のガラス基板１１、
１２はほぼ方形枠状のシール材１５を介して貼り合わさ
れ、シール材１５の内側における両ガラス基板１１、１
２間には液晶１６が封入されている。
【００１０】次に、この液晶表示素子において、ガラス
基板１１、１２として用いるソーダガラスに化学強化処
理を施し、それに電極１３、１４を形成する場合につい
て説明する。まず、図２（Ａ）に示すように、ソーダガ
ラス２１を用意する。ここで、錫含有率が大きい側の主
面を裏主面とし、錫含有率が小さい側の主面を表主面と
決める。ソーダガラス２１の板厚は０．７ｍｍ未満であ
り、例えば０．５５ｍｍ、０．５ｍｍ、０．４ｍｍであ
る。そして、ソーダガラス２１の錫含有率の小さい表主
面を液晶表示素子のガラス基板として要求される平滑度
が得られるまで十分に研磨する。
基板１１、１２として用いるソーダガラスに化学強化処
理を施し、それに電極１３、１４を形成する場合につい
て説明する。まず、図２（Ａ）に示すように、ソーダガ
ラス２１を用意する。ここで、錫含有率が大きい側の主
面を裏主面とし、錫含有率が小さい側の主面を表主面と
決める。ソーダガラス２１の板厚は０．７ｍｍ未満であ
り、例えば０．５５ｍｍ、０．５ｍｍ、０．４ｍｍであ
る。そして、ソーダガラス２１の錫含有率の小さい表主
面を液晶表示素子のガラス基板として要求される平滑度
が得られるまで十分に研磨する。
【００１１】次に、図示していないが、イオン半径がナ
トリウムイオンよりも大きい陽イオンを含有する化学強
化処理液例えばカリウムイオンを含有する溶融カリウム
塩中にソーダガラス２１を浸漬し、図２（Ｂ）に示すよ
うに、ソーダガラス２１の両主面に当該両主面のナトリ
ウムイオンをカリウムイオンで置換してなる化学強化処
理層２２、２３を形成する。この場合、ソーダガラス２
１の表主面に形成された化学強化処理層２２の層厚が裏
主面に形成された化学強化処理層２３の層厚よりも厚く
なり、ソーダガラス２１はその表主面が張り出すように
反る。そして、この反ったソーダガラス２１の表主面つ
まり張り出した面の上に形成された化学強化処理層２２
の上面にＳｉＯ2からなるパッシベーション膜（図示せ
ず）を形成し、その上面にＩＴＯ等の透明な金属からな
る電極膜２４を形成する。
トリウムイオンよりも大きい陽イオンを含有する化学強
化処理液例えばカリウムイオンを含有する溶融カリウム
塩中にソーダガラス２１を浸漬し、図２（Ｂ）に示すよ
うに、ソーダガラス２１の両主面に当該両主面のナトリ
ウムイオンをカリウムイオンで置換してなる化学強化処
理層２２、２３を形成する。この場合、ソーダガラス２
１の表主面に形成された化学強化処理層２２の層厚が裏
主面に形成された化学強化処理層２３の層厚よりも厚く
なり、ソーダガラス２１はその表主面が張り出すように
反る。そして、この反ったソーダガラス２１の表主面つ
まり張り出した面の上に形成された化学強化処理層２２
の上面にＳｉＯ2からなるパッシベーション膜（図示せ
ず）を形成し、その上面にＩＴＯ等の透明な金属からな
る電極膜２４を形成する。
【００１２】次に、図３に示すように、上述の処理を終
了した複数枚のソーダガラス２１を搬送カセット３１内
に適切な間隔を保って複数段に収納し、この状態で次工
程に搬送する。このとき、各ソーダガラス２１をその電
極膜２４が形成された表主面を上にして搬送カセット３
１内に収納する。これは、液晶表示素子のガラス基板と
してのソーダガラス２１には主にその電極膜２４を形成
した表主面に各種処理が施される為、その表主面を上に
して搬送する方が各工程でガラス基板を反転させる頻度
が少なくて済み、製造工程上好都合であるからである。
了した複数枚のソーダガラス２１を搬送カセット３１内
に適切な間隔を保って複数段に収納し、この状態で次工
程に搬送する。このとき、各ソーダガラス２１をその電
極膜２４が形成された表主面を上にして搬送カセット３
１内に収納する。これは、液晶表示素子のガラス基板と
してのソーダガラス２１には主にその電極膜２４を形成
した表主面に各種処理が施される為、その表主面を上に
して搬送する方が各工程でガラス基板を反転させる頻度
が少なくて済み、製造工程上好都合であるからである。
【００１３】また、各ソーダガラス２１を搬送カセット
３１内に収納する場合、その両端を搬送カセット３１内
に設けられている複数対の支持棚３２上に支持させる。
この場合、ソーダガラス２１は、図３において一点鎖線
で示すように、その表主面が張り出すように反っている
が、本発明においては上述したようにその表主面を上に
して支持するから、自重による撓みが加わることによ
り、図３において実線で示すように、反りが矯正されて
ほぼ平坦な状態となる。したがって、ソーダガラス２１
が支持棚３２から外れて落下するようなことはなく、製
造作業性を向上することができる。
３１内に収納する場合、その両端を搬送カセット３１内
に設けられている複数対の支持棚３２上に支持させる。
この場合、ソーダガラス２１は、図３において一点鎖線
で示すように、その表主面が張り出すように反っている
が、本発明においては上述したようにその表主面を上に
して支持するから、自重による撓みが加わることによ
り、図３において実線で示すように、反りが矯正されて
ほぼ平坦な状態となる。したがって、ソーダガラス２１
が支持棚３２から外れて落下するようなことはなく、製
造作業性を向上することができる。
【００１４】ここで、ソーダガラス２１の撓み量を実測
した実験結果について説明する。この実験における撓み
量とは、図４に示すように、電極膜として例えばＩＴＯ
膜が形成された表主面を上にして両端を支持されたソー
ダガラス２１の中心点の変位量のことである。ソーダガ
ラス２１としては板厚０．４ｍｍのものを用いた。
した実験結果について説明する。この実験における撓み
量とは、図４に示すように、電極膜として例えばＩＴＯ
膜が形成された表主面を上にして両端を支持されたソー
ダガラス２１の中心点の変位量のことである。ソーダガ
ラス２１としては板厚０．４ｍｍのものを用いた。
【００１５】この実験によれば、化学強化処理を施した
ソーダガラス２１の錫の含有率の小さい側の主面にＳｉ
Ｏ2膜およびＩＴＯ膜を形成したものの撓み量は２．９
１ｍｍで、ＩＴＯ膜のみを形成したもの（つまりＳｉＯ
2膜を有しない）の撓み量は３．０４ｍｍであり、Ｓｉ
Ｏ2膜の有無による撓み量の違いは略なかった。すなわ
ち、本発明の構成を備えたソーダガラスの撓み量は、Ｓ
ｉＯ2膜の有無に拘わらずほぼ同じである。これに対
し、化学強化処理を施していない未強化ガラスの錫の含
有率の小さい側の主面にＳｉＯ2膜およびＩＴＯ膜を形
成してなるものの撓み量は３．７９ｍｍであった。した
がって、化学強化処理を施した本発明によるソーダガラ
ス２１の場合には、化学強化処理を施していない未強化
ガラスの場合よりも、撓み量を軽減することができてい
る。
ソーダガラス２１の錫の含有率の小さい側の主面にＳｉ
Ｏ2膜およびＩＴＯ膜を形成したものの撓み量は２．９
１ｍｍで、ＩＴＯ膜のみを形成したもの（つまりＳｉＯ
2膜を有しない）の撓み量は３．０４ｍｍであり、Ｓｉ
Ｏ2膜の有無による撓み量の違いは略なかった。すなわ
ち、本発明の構成を備えたソーダガラスの撓み量は、Ｓ
ｉＯ2膜の有無に拘わらずほぼ同じである。これに対
し、化学強化処理を施していない未強化ガラスの錫の含
有率の小さい側の主面にＳｉＯ2膜およびＩＴＯ膜を形
成してなるものの撓み量は３．７９ｍｍであった。した
がって、化学強化処理を施した本発明によるソーダガラ
ス２１の場合には、化学強化処理を施していない未強化
ガラスの場合よりも、撓み量を軽減することができてい
る。
【００１６】一方、図１１（Ｂ）に示す従来の場合のよ
うに、錫の含有率の大きい面にＳｉＯ2膜とＩＴＯ膜を
形成しその面を上にして両端支持した場合、未強化ガラ
スの表側にＳｉＯ2膜およびＩＴＯ膜を形成してなるも
のの撓み量は４．５１ｍｍであるのに対し、化学強化処
理を施したガラスの表側にＳｉＯ2膜およびＩＴＯ膜を
形成してなるものの撓み量は５．６０ｍｍで、ＩＴＯ膜
のみを形成してなるものの撓み量は５．４５ｍｍであ
り、いずれの場合も撓み量が増加している。
うに、錫の含有率の大きい面にＳｉＯ2膜とＩＴＯ膜を
形成しその面を上にして両端支持した場合、未強化ガラ
スの表側にＳｉＯ2膜およびＩＴＯ膜を形成してなるも
のの撓み量は４．５１ｍｍであるのに対し、化学強化処
理を施したガラスの表側にＳｉＯ2膜およびＩＴＯ膜を
形成してなるものの撓み量は５．６０ｍｍで、ＩＴＯ膜
のみを形成してなるものの撓み量は５．４５ｍｍであ
り、いずれの場合も撓み量が増加している。
【００１７】以上のように、本発明の化学強化処理ソー
ダガラスの錫の含有率の小さい側の主面にＩＴＯ膜等を
形成してなるものの撓み量は２．９１ｍｍあるいは３．
０４ｍｍであり、従来の化学強化処理ソーダガラスの錫
の含有率の大きい側の主面にＩＴＯ膜等を形成したもの
の撓み量の５．６０ｍｍあるいは５．４５ｍｍと比較し
て、撓み量を２ｍｍ以上小さくすることができている。
ダガラスの錫の含有率の小さい側の主面にＩＴＯ膜等を
形成してなるものの撓み量は２．９１ｍｍあるいは３．
０４ｍｍであり、従来の化学強化処理ソーダガラスの錫
の含有率の大きい側の主面にＩＴＯ膜等を形成したもの
の撓み量の５．６０ｍｍあるいは５．４５ｍｍと比較し
て、撓み量を２ｍｍ以上小さくすることができている。
【００１８】次に、ソーダガラス２１の両主面に形成す
る化学強化処理層２２、２３の好適層厚の範囲を把握す
るために行った強度試験について説明する。まず、ソー
ダガラス２１として、板厚０．４ｍｍのものを用意し
た。また、ソーダガラス２１に形成された化学強化処理
層２２の層厚が５μｍ、１０μｍ、１５μｍ、２０μｍ
のもの（以下、試料５、試料１０、試料１５、試料２０
という。）をそれぞれ複数用意し、また比較のために、
ソーダガラス２１の両主面に化学強化処理層２２、２３
が形成されていないもの（以下、比較試料という。）を
複数用意した。
る化学強化処理層２２、２３の好適層厚の範囲を把握す
るために行った強度試験について説明する。まず、ソー
ダガラス２１として、板厚０．４ｍｍのものを用意し
た。また、ソーダガラス２１に形成された化学強化処理
層２２の層厚が５μｍ、１０μｍ、１５μｍ、２０μｍ
のもの（以下、試料５、試料１０、試料１５、試料２０
という。）をそれぞれ複数用意し、また比較のために、
ソーダガラス２１の両主面に化学強化処理層２２、２３
が形成されていないもの（以下、比較試料という。）を
複数用意した。
【００１９】そして、面強度試験として、図５に示すよ
うに、リング状の支持台４１上に試料Ａ（つまり、試料
５、試料１０、試料１５、試料２０および比較試料）を
載置し、試料Ａの上面中央部に上側からリング状の加圧
ヘッド４２で荷重を加え、破壊荷重を測定したところ、
図６に示す結果（ワイブル分布）が得られた。図６にお
いて、横軸は破壊荷重ＬＮ（ｘｉ）を示し、縦軸は累積
ＬＮ（ＬＮ（１／（ｎ−ｉ＋１）／（ｎ＋１）））を示
す。ただし、ＬＮは自然対数、ｘｉは実測荷重、ｎは試
料数、ｉは試料番号であり、縦軸に平行に分布するほど
バラツキが小さいことを示す。また、図６において、黒
丸は比較試料、白四角は試料５、白三角は試料１０、白
丸は試料１５、白菱形は試料２０を示す。
うに、リング状の支持台４１上に試料Ａ（つまり、試料
５、試料１０、試料１５、試料２０および比較試料）を
載置し、試料Ａの上面中央部に上側からリング状の加圧
ヘッド４２で荷重を加え、破壊荷重を測定したところ、
図６に示す結果（ワイブル分布）が得られた。図６にお
いて、横軸は破壊荷重ＬＮ（ｘｉ）を示し、縦軸は累積
ＬＮ（ＬＮ（１／（ｎ−ｉ＋１）／（ｎ＋１）））を示
す。ただし、ＬＮは自然対数、ｘｉは実測荷重、ｎは試
料数、ｉは試料番号であり、縦軸に平行に分布するほど
バラツキが小さいことを示す。また、図６において、黒
丸は比較試料、白四角は試料５、白三角は試料１０、白
丸は試料１５、白菱形は試料２０を示す。
【００２０】さて、図６から明らかなように、面強度
は、白四角等の白抜きプロットで示す試料５、試料１
０、試料１５および試料２０の方が黒丸で示す比較試料
よりも優れていることが分かる。また、試料５、試料１
０、試料１５、試料２０について見ると、面強度にあま
り大きな差は見られない。したがって、面強度について
は、化学強化処理層２２を備えていればよく、その層厚
による差は見出せない。
は、白四角等の白抜きプロットで示す試料５、試料１
０、試料１５および試料２０の方が黒丸で示す比較試料
よりも優れていることが分かる。また、試料５、試料１
０、試料１５、試料２０について見ると、面強度にあま
り大きな差は見られない。したがって、面強度について
は、化学強化処理層２２を備えていればよく、その層厚
による差は見出せない。
【００２１】次に、端面強度試験として、図７（Ａ）、
（Ｂ）に示すように、互いに平行する一対の三角棒から
なる支持台４３上に試料Ａを載置し、試料Ａの上面中央
部に上側から板状の加圧ヘッド４４で荷重を加え、破壊
荷重を測定したところ、図８に示す結果（ワイブル分
布）が得られた。ただし、試料Ａの両端面４５はスクラ
イブ面であり、この試料Ａをスクライブホイールにより
スクライブラインを形成した面を下にして支持台４３上
に支持し、上記試験を行った。また、図８において、黒
丸は比較試料、白四角は試料５、白三角は試料１０を示
す。この場合、試料１５および試料２０については、化
学強化処理層２２の層厚が１５μｍ、２０μｍと比較的
厚いことから、スクライブ面４５がのこぎり歯状に乱れ
てしまい、このため除外した。
（Ｂ）に示すように、互いに平行する一対の三角棒から
なる支持台４３上に試料Ａを載置し、試料Ａの上面中央
部に上側から板状の加圧ヘッド４４で荷重を加え、破壊
荷重を測定したところ、図８に示す結果（ワイブル分
布）が得られた。ただし、試料Ａの両端面４５はスクラ
イブ面であり、この試料Ａをスクライブホイールにより
スクライブラインを形成した面を下にして支持台４３上
に支持し、上記試験を行った。また、図８において、黒
丸は比較試料、白四角は試料５、白三角は試料１０を示
す。この場合、試料１５および試料２０については、化
学強化処理層２２の層厚が１５μｍ、２０μｍと比較的
厚いことから、スクライブ面４５がのこぎり歯状に乱れ
てしまい、このため除外した。
【００２２】さて、図８から明らかなように、端面強度
は、白四角および白三角で示す試料５および試料１０の
方が黒丸で示す比較試料よりも優れていることが分か
る。但し、白四角および白三角で示す試料５と試料１０
とでは、端面強度にあまり大きな差は見られない。した
がって、端面強度については、化学強化処理層２２の層
厚が１５μｍ、２０μｍと厚いとガラス切断工程で問題
があるので好ましくなく、５μｍ、１０μｍ程度に薄い
方が好ましい。
は、白四角および白三角で示す試料５および試料１０の
方が黒丸で示す比較試料よりも優れていることが分か
る。但し、白四角および白三角で示す試料５と試料１０
とでは、端面強度にあまり大きな差は見られない。した
がって、端面強度については、化学強化処理層２２の層
厚が１５μｍ、２０μｍと厚いとガラス切断工程で問題
があるので好ましくなく、５μｍ、１０μｍ程度に薄い
方が好ましい。
【００２３】次に、試料５および試料１０について、そ
のガラス基板切断工程におけるスクライブラインを形成
する際のスクライブ圧力の許容幅を調べたところ、試料
５の場合には図９に示す結果が得られ、試料１０の場合
には図１０に示す結果が得られた。図９および図１０に
おいて、白四角はガラス基板をブレイクするのに要した
ブレイク荷重を示し、白三角はスクライブホイールによ
り形成されたスクライブラインの深さを示し、白丸はス
クライブラインからその直交する方向に発生した水平ク
ラックの長さを示す。
のガラス基板切断工程におけるスクライブラインを形成
する際のスクライブ圧力の許容幅を調べたところ、試料
５の場合には図９に示す結果が得られ、試料１０の場合
には図１０に示す結果が得られた。図９および図１０に
おいて、白四角はガラス基板をブレイクするのに要した
ブレイク荷重を示し、白三角はスクライブホイールによ
り形成されたスクライブラインの深さを示し、白丸はス
クライブラインからその直交する方向に発生した水平ク
ラックの長さを示す。
【００２４】さて、図９に示す試料５の場合には、スク
ライブ圧力０．１０〜０．２５ｋｇ／ｃｍ2の範囲が使
用可能な許容範囲であるのに対し、図１０に示す試料１
０の場合には、スクライブ圧力０．１５〜０．２０ｋｇ
／ｃｍ2の範囲が使用可能な許容範囲である。したがっ
て、試料５の方が試料１０よりもスクライブ圧力の許容
範囲が広いため、その分、スクライブ圧力の制御が容易
となり、この効果がまた、スクライブ装置やこれに関連
するブレイク装置等の簡素化に寄与する。以上の各種実
験データから、ソーダガラスからなるガラス基板に施す
化学強化処理層２２の層厚は、試料５の５μｍ程度が最
も好ましく、それを含む５±２μｍ程度の範囲が好適で
ある。
ライブ圧力０．１０〜０．２５ｋｇ／ｃｍ2の範囲が使
用可能な許容範囲であるのに対し、図１０に示す試料１
０の場合には、スクライブ圧力０．１５〜０．２０ｋｇ
／ｃｍ2の範囲が使用可能な許容範囲である。したがっ
て、試料５の方が試料１０よりもスクライブ圧力の許容
範囲が広いため、その分、スクライブ圧力の制御が容易
となり、この効果がまた、スクライブ装置やこれに関連
するブレイク装置等の簡素化に寄与する。以上の各種実
験データから、ソーダガラスからなるガラス基板に施す
化学強化処理層２２の層厚は、試料５の５μｍ程度が最
も好ましく、それを含む５±２μｍ程度の範囲が好適で
ある。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、ソーダガラスからなるガラス基板の錫の含有率の小
さい主面を電極を形成する表主面とするから、ガラス基
板の両主面に形成される化学強化処理層の層厚の差に起
因してガラス基板に反りが発生しても、この反ったガラ
ス基板の張り出した主面に形成された化学強化処理層上
に電極が形成されているので、この反ったガラス基板を
その電極形成面つまり表主面を上側として且つ両端支持
で搬送するとき、自重による撓みが加わることにより、
反りが矯正され、これにより製造工程におけるガラス基
板の搬送中にガラス基板が落下しないようにすることが
でき、その結果、製造作業性に優れ且つガラス基板が割
れにくく耐久性の高い液晶表示素子を提供することが可
能となる。
ば、ソーダガラスからなるガラス基板の錫の含有率の小
さい主面を電極を形成する表主面とするから、ガラス基
板の両主面に形成される化学強化処理層の層厚の差に起
因してガラス基板に反りが発生しても、この反ったガラ
ス基板の張り出した主面に形成された化学強化処理層上
に電極が形成されているので、この反ったガラス基板を
その電極形成面つまり表主面を上側として且つ両端支持
で搬送するとき、自重による撓みが加わることにより、
反りが矯正され、これにより製造工程におけるガラス基
板の搬送中にガラス基板が落下しないようにすることが
でき、その結果、製造作業性に優れ且つガラス基板が割
れにくく耐久性の高い液晶表示素子を提供することが可
能となる。
【図１】この発明の一実施形態としての液晶表示素子の
要部を示す断面図。
要部を示す断面図。
【図２】（Ａ）および（Ｂ）はソーダガラスの錫含有率
の小さい側の表面に電極を形成する場合を説明するため
に示す図。
の小さい側の表面に電極を形成する場合を説明するため
に示す図。
【図３】図２（Ｂ）に示すソーダガラスを搬送する場合
を説明するために示す図。
を説明するために示す図。
【図４】ソーダガラスの撓み量を説明するために示す
図。
図。
【図５】ソーダガラスの面強度試験を説明するために示
す図。
す図。
【図６】ソーダガラスの面強度試験結果を示す図。
【図７】ソーダガラスの端面強度試験を説明するために
示す図。
示す図。
【図８】ソーダガラスの端面強度試験結果を示す図。
【図９】化学強化処理層の層厚が５μｍである場合の加
工マージンを説明するために示す図。
工マージンを説明するために示す図。
【図１０】化学強化処理層の層厚が１０μｍである場合
の加工マージンを説明するために示す図。
の加工マージンを説明するために示す図。
【図１１】（Ａ）および（Ｂ）は従来例においてソーダ
ガラスの錫含有率の大きい側の表面に電極を形成する場
合を説明するために示す図。
ガラスの錫含有率の大きい側の表面に電極を形成する場
合を説明するために示す図。
【図１２】図１１（Ｂ）に示すソーダガラスを搬送する
場合を説明するために示す図。
場合を説明するために示す図。
１１、１２ ガラス基板 １３、１４ 電極 １５ シール材 １６ 液晶 ２１ ソーダガラス Ａ 試料
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 井出 明彦 東京都八王子市石川町2951番地の５ カシ オ計算機株式会社八王子研究所内 Ｆターム(参考） 2H090 JA05 JA08 JA09 JB02 JC06 JD13 LA01 4G059 AA08 AB11 EA03 EA05 GA01 GA12 HB03 HB14 5C094 AA15 AA36 AA43 AA48 BA43 DA13 EA05 EB02 FA02 FB15 GB10 JA08
Claims (4)
- 【請求項１】 電極が形成された一対のガラス基板を電
極形成面を対向させて配置し、この対向配置された一対
のガラス基板間に液晶を封入してなる液晶表示素子であ
って、前記ガラス基板が錫を含有するソーダガラスから
なり、該ガラス基板の両主面に化学強化処理層が形成さ
れ、当該両主面のうちの錫の含有率の小さい側の主面に
形成された前記化学強化処理層上に前記電極が形成され
ていることを特徴とする液晶表示素子。 - 【請求項２】 請求項１に記載の発明において、前記化
学強化処理層は、前記ガラス基板のナトリウムイオンを
これよりもイオン半径が大きい陽イオンで置換してなる
化学強化処理層であることを特徴とする液晶表示素子。 - 【請求項３】 請求項２に記載の発明において、前記化
学強化処理層の層厚は５±２μｍ程度であることを特徴
とする液晶表示素子。 - 【請求項４】 請求項１〜３のいずれかに記載の発明に
おいて、前記ガラス基板の厚さは０．７ｍｍ未満である
ことを特徴とする液晶表示素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001131543A JP2002328362A (ja) | 2001-04-27 | 2001-04-27 | 液晶表示素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001131543A JP2002328362A (ja) | 2001-04-27 | 2001-04-27 | 液晶表示素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002328362A true JP2002328362A (ja) | 2002-11-15 |
Family
ID=18979711
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001131543A Pending JP2002328362A (ja) | 2001-04-27 | 2001-04-27 | 液晶表示素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002328362A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008007384A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-17 | Optrex Corp | ガラス基板の製造方法 |
| WO2011124128A1 (zh) * | 2010-04-06 | 2011-10-13 | 北京京东方光电科技有限公司 | 阵列基板、液晶面板及其制造方法 |
| CN108516702A (zh) * | 2018-05-23 | 2018-09-11 | 河北视窗玻璃有限公司 | 一种降低玻璃化学强化中产生翘曲的方法及强化用治具 |
| WO2021095917A1 (ko) * | 2019-11-13 | 2021-05-20 | 엘지전자 주식회사 | 통신용 복합 유리 및 이의 제조 방법 |
-
2001
- 2001-04-27 JP JP2001131543A patent/JP2002328362A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008007384A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-17 | Optrex Corp | ガラス基板の製造方法 |
| WO2011124128A1 (zh) * | 2010-04-06 | 2011-10-13 | 北京京东方光电科技有限公司 | 阵列基板、液晶面板及其制造方法 |
| CN108516702A (zh) * | 2018-05-23 | 2018-09-11 | 河北视窗玻璃有限公司 | 一种降低玻璃化学强化中产生翘曲的方法及强化用治具 |
| CN108516702B (zh) * | 2018-05-23 | 2021-03-12 | 河北视窗玻璃有限公司 | 一种降低玻璃化学强化中产生翘曲的方法及强化用治具 |
| WO2021095917A1 (ko) * | 2019-11-13 | 2021-05-20 | 엘지전자 주식회사 | 통신용 복합 유리 및 이의 제조 방법 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20060206 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20060413 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070517 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070529 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070727 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20071009 |