JP2002326864A - 電熱器のベース及びその製法 - Google Patents

電熱器のベース及びその製法

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JP2002326864A
JP2002326864A JP2002040515A JP2002040515A JP2002326864A JP 2002326864 A JP2002326864 A JP 2002326864A JP 2002040515 A JP2002040515 A JP 2002040515A JP 2002040515 A JP2002040515 A JP 2002040515A JP 2002326864 A JP2002326864 A JP 2002326864A
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glass
heating element
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James David Joseph Jackson
デービッド ジョセフ ジャクソン ジェームス
Matthew Benedict David Mitchell
ベネディクト デービッド ミッチェル マシュー
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Microtherm Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/01Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C04B35/71Ceramic products containing macroscopic reinforcing agents
    • C04B35/78Ceramic products containing macroscopic reinforcing agents containing non-metallic materials
    • C04B35/80Fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B3/00Ohmic-resistance heating
    • H05B3/68Heating arrangements specially adapted for cooking plates or analogous hot-plates
    • H05B3/74Non-metallic plates, e.g. vitroceramic, ceramic or glassceramic hobs, also including power or control circuits

Abstract

(57)【要約】 【課題】 適切な曲げ強さ及び小さい熱伝導率を有する
電熱器のベースを提供する。 【解決手段】 ヒュームドシリカ65−98重量%;強
化フィラメント1−15重量%;ピロゲニックシリカ1
0重量%以下;及び乳白剤20重量%以下でなる組成物
を調製し、この組成物を圧縮してベースを形成し、加熱
−硬化させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は、電熱器のベース及びその製法に
係る。本発明は、特に(ただし、排他的ではない)、ガ
ラス−セラミック調理面をもつ調理ホブ、又はオーブン
の如き調理器具において使用される電熱器のベースに関
する。
【0002】微孔性断熱材料の如き断熱材料の層を収容
した金属製の皿状支持体からなるベースを有する調理器
具用の電熱器はよく知れれている。電熱素子は、絶縁材
料の層の上に支持される。通常、金属製の皿状支持体の
内側において、ヒーターの周辺には、断熱材料の壁が設
けられる。
【0003】コストを低減するためには、金属製の皿状
支持体、断熱材料の層及び断熱材料の壁を、発熱素子が
直接支持される断熱材料製の皿状ベースからなる単一部
材で置換られることが望ましい。このような部材につい
ては、2つの主な要件がある。断熱材料製の皿状ベース
は、自立性であるように適切な曲げ強さ、及び得られる
ヒーターの作動の間に、ベースの外側が、許容されない
ほど高い温度に達することを防止するように低い熱伝導
率を有していなければならない。
【0004】ヒル石及び結合剤からなるベース、ヒル石
又は雲母、ピロゲニックシリカ及び任意に強化繊維、結
合剤及び乳白剤からなるベースを提供することによっ
て、このような問題を解決するための試みがなされてい
る。このような組成物は、優れた曲げ強さをもつベース
を提供できる。しかしながら、その熱伝導率は望ましい
ものよりも大きく、より効果的に圧縮した微孔性断熱材
料の層をベースの内側に設け、発熱素子を支持する必要
があることが認められている。
【0005】本発明の目的は、上記問題を克服又は低減
することにある。
【0006】本発明の1態様によれば、電熱器のベース
において、該ベースは、圧縮し、熱硬化させた組成物か
らなり、前記組成物が、ヒュームドシリカ65−98重
量%;強化フィラメント1−15重量%;ピロゲニック
シリカ10重量%以下;及び乳白剤20重量%以下でな
ることを特徴とする電熱器のベースが提供される。
【0007】本発明の他の態様によれば、電熱器のベー
スを製造する方法において、1)ヒュームドシリカ65
−98重量%;強化フィラメント1−15重量%;ピロ
ゲニックシリカ10重量%以下;及び乳白剤20重量%
以下でなる組成物を調製し;2)この組成物を圧縮し
て、ベースを形成し;及び3)このベースを加熱して、
硬化を行なうことを特徴とする電熱器のベースの製法が
提供される。
【0008】熱硬化は、500−900℃の温度で行われる。
【0009】熱硬化の時間は、15−25分である。
【0010】強化フィラメントは、Eガラス、Rガラ
ス、又はSガラス、及びそれらの変性体の如きガラス、
シリカ、セラミック繊維、鉱物繊維及びボディーソルブ
ル(body soluble)繊維から選ばれる。
【0011】使用される場合、乳白剤は、二酸化チタン
(ルチル形である)、炭化ケイ素及び酸化鉄(赤鉄鉱形
である)の如き赤外線散乱物質から選ばれる。
【0012】ベースは、直立する壁を有する皿状の形状
を有する。
【0013】ベースには、さらに、少なくとも1つの電
熱素子が設置、固着され、これにより、電熱器が形成さ
れる。端子ブロックがベースに固着され、該端子ブロッ
クは、少なくとも1つの電熱素子に電気的に接続され
る。
【0014】この少なくとも1つの電熱素子及び/又は
端子ブロックは、組成物の圧縮によるベースの形成の間
に、ベースに固着される。
【0015】ベースよりも熱伝導率が小さい微孔性断熱
材料の層を、ベースと、少なくとも1つの電熱素子との
間に設けることができる。
【0016】本発明の結果、適切な曲げ強さ及び小さい
熱伝導率を有する電熱器のベースが提供される。ベース
よりも熱伝導率が小さい断熱材料を追加的に設けること
は必須ではないが、必要であれば、設けることもでき
る。
【0017】本発明がさらに良好に理解されるように、
及び本発明が如何にして実施されるかを明確に示すた
め、図面を参照して、以下の実施例を例示する。
【0018】
【実施例1】VAW(独国)によって供給されたヒュー
ムドシリカ98重量%;及びOCF(米国)によって供
給されたAdvantexガラスフィラメント2重量%からなる
組成物を調製した。
【0019】組成物を成形プレスにおいて圧縮して、図
1及び2において参照符号2で示されるヒーターのベー
スを形成した。ベース2は、700Kg/mのブロック密度
を有していた。
【0020】ベース2を、800℃において20分間加熱
して、その硬化を行った。
【0021】ベース2について、熱伝導率を測定したと
ころ、0.105W/(m・K)の値を有していた。
【0022】ベース2について、曲げ強さを測定したと
ころ、1400KN/mの値を有していた。
【0023】ヒーター用のベース2を形成するために組
成物を圧縮するプロセスの間に、ベースの表面に溝4を
形成した。
【0024】ベース2の加熱−硬化処理の後、図3及び
4に示すように、よく知られた形の発熱素子6を溝4に
固着し、端子ブロック8に接続させて、電熱器を形成し
た。このようなヒーターは、特に、調理器具での使用に
適用される。発熱素子6及び端子ブロック8を、耐高温
性の接着剤によって、その場に、好適に固着した。端子
ブロック8を、ベース2の形成の間にベース2に設けた
窪み10内に好適に固着させた。
【0025】よく知られた形の温度リミッター12を、
ヒーターを横切ってかつ発熱素子6を覆うように設ける
ことができる。このような温度リミッター12は、好適
は接着剤組成物によってベース2の外側に固着される取
付ブラケット14を有することができる。
【0026】ベース2は、多くの用途に適した小さい熱
伝導率を有しているが、必要であれば、ベース2と発熱
素子6との間に、より小さい熱伝導率の圧縮した微孔性
断熱材料の層を設けることができる。このような配置を
図5に示している。図において、圧縮した微孔性断熱材
料の層16が、ベース2と発熱素子6との間に設けてあ
る。
【0027】
【実施例2】VAW(独国)によって供給されたヒュー
ムドシリカ96重量%;OCF(米国)によって供給さ
れたAdvantexガラスフィラメント2重量%;及びのDegu
ssa-Huls(ベルギー国)によって供給されたピロゲニッ
クシリカ タイプA200 2重量%からなる組成物を調製し
た。
【0028】組成物を、端子ブロックに取付けられた発
熱素子と共に型に入れ、圧縮して、ヒーターユニットを
形成した。圧縮された組成物は、600Kg/mのブロック
密度を有していた。完成ユニットを、800℃において2
0分間加熱した。
【0029】得られたヒーターは、図3及び4に示すよ
うに、発熱素子6及び端子ブロック8と共に、加熱−硬
化された組成物でなるベース2を備えている。発熱素子
6及び端子ブロック8は、ベース2に鋳込まれており、
さらになる固着手段は必要ではない。
【0030】ベース2は、熱伝導率0.0661W/(m・K)及び
曲げ強さ1135KN/mを有していた。
【0031】
【実施例3】VAW(独国)によって供給されたヒュー
ムドシリカ93重量%;OCF(米国)によって供給さ
れたAdvantexガラスフィラメント2重量%;及びDeguss
a-Huls(ベルギー国)によって供給されたピロゲニック
シリカ タイプA200 5重量%からなる組成物を調製し
た。
【0032】この組成物を、端子ブロックに取付けられ
た発熱素子と共に型に入れ、圧縮して、ヒーターユニッ
トを形成した。圧縮された組成物は、500Kg/mのブロ
ック密度を有していた。完成ユニットを、800℃におい
て20分間加熱した。
【0033】得られたヒーターは、図3及び4に示すよ
うに、発熱素子6及び端子ブロック8と共に、加熱−硬
化された組成物でなるベース2を備えている。
【0034】ベース2は、熱伝導率0.0608W/(m・K)及び
曲げ強さ730KN/mを有していた。
【0035】
【実施例4】VAW(独国)によって供給されたヒュー
ムドシリカ93重量%;OCF(米国)によって供給さ
れたAdvantexガラスフィラメント2重量%;及びDeguss
a-Huls(独国)によって供給されたピロゲニックシリカ
タイプR974 5重量%からなる組成物を調製した。
【0036】この組成物を、端子ブロックに取付けられ
た発熱素子と共に、実施例3と正確に同じ方法で処理し
て、発熱素子6及び端子ブロック8と共に、加熱−硬化
された組成物でなるベース2を備えている図3及び4に
示すようなヒーターを形成した。
【0037】ベース2は、熱伝導率0.0611W/(m・K)及び
曲げ強さ770KN/mを有していた。
【0038】
【実施例5】VAW(独国)によって供給されたヒュー
ムドシリカ83重量%; Tilcon(英国)によって供給
されたルチル乳白剤10重量%;OCF(米国)によっ
て供給されたAdvantexガラスフィラメント2重量%;及
びDegussa-Huls(独国)によって供給されたピロゲニッ
クシリカ タイプR200 5重量%からなる組成物を調製し
た。
【0039】この組成物を、端子ブロックに取付けられ
た発熱素子と共に型に入れ、圧縮して、ヒーターユニッ
トを形成した。圧縮された組成物は、600Kg/mのブロ
ック密度を有していた。完成ユニットを、800℃におい
て20分間加熱した。
【0040】得られたヒーターは、図3及び4に示すよ
うに、発熱素子6及び端子ブロック8と共に、加熱−硬
化された組成物でなるベース2を備えている。
【0041】ベース2は、熱伝導率0.054W/(m・K)及び
曲げ強さ670KN/mを有していた。
【0042】上記実施例は、ヒュームドシリカを基材と
する組成物から、適切な曲げ強さ及び小さい熱伝導率を
有する電熱器のベースが提供されることを表わしてい
る。組成物に少量のピロゲニックシリカを含めることに
よって、圧縮の間に、適切な曲げ強さをなお保持したま
ま、改善された熱伝導率及び改善された流動特性が達成
される。
【0043】
【比較例1】Degussa-Huls(独国)によって供給された
ピロゲニックシリカ タイプA200 60重量%; Tilcon
(英国)によって供給されたルチル乳白剤37重量%;
及びOCF(米国)によって供給されたAdvantexガラス
フィラメント3重量%からなる組成物を調製した。
【0044】この組成物を圧縮して、図1及び2に示す
ような電熱器のベース2を形成した。ブロック密度は、
350Kg/mであった。
【0045】得られたベース2は、0.0301W/(m・K)の非
常に小さい熱伝導率を示した。しかしながら、その曲げ
強さ110KN/mは、電熱器に使用されるベースに関して
は、不充分なものである。
【0046】
【比較例2】Hoben Davis(英国)によって供給された
微粒子状のヒル石80重量%;及びCrosfield(英国)
によって供給された結合剤 タイプ K66 20重量%から
なる組成物を調製した。
【0047】この組成物を圧縮して、図1及び2に示す
ような電熱器のベース2を形成した。ブロック密度は70
0Kg/mであった。得られたベース2を300℃において
20分間加熱処理した。
【0048】ベースは、1960KN/mの優れた曲げ強さ
を有しているが、その熱伝導率は0.36W/(m・K)であり、
許容されないものである。
【0049】
【比較例3】Hoben Davis(英国)によって供給された
微粒子状のヒル石62重量%; Crosfield(英国)によ
って供給された結合剤 タイプ K66 20重量%;及びDe
gussa-Huls(ベルギー国)によって供給されたピロゲニ
ックシリカ タイプA200 18重量%からなる組成物を調
製した。
【0050】組成物を圧縮して、図1及び2に示すよう
な電熱器のベース2を形成した。ブロック密度は700Kg/
であった。得られたベース2を300℃において20
分間加熱処理した。
【0051】ベースは、1813KN/mの優れた曲げ強さ
を有しているが、その熱伝導率は0.25W/(m・K)であり、
許容されないものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による電熱器のベースの1具体例の平面
図である。
【図2】図1のベースの断面図である。
【図3】図1のベースが設けられた電熱器の平面図であ
る。
【図4】図3のヒーターの断面図である。
【図5】ベースと発熱素子との間に設けられた追加の断
熱材料を有するヒーターの変形例の断面図である。
【符号の説明】
2 ベース 4 溝 6 発熱素子 8 端子ブロック 10 窪み 12 温度リミッター 14 取付ブラケット 16 層
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05B 3/16 C04B 35/00 V (71)出願人 502057544 1 ARROWE BROOK ROA D, UPTON, WIRRAL CH 49 1SX, UNITED KINGD OM (72)発明者 ジェームス デービッド ジョセフ ジャ クソン イギリス国 ウースターシャー ディーワ イ10・2ティーアール キッダーミンスタ ー ジェームス・ロード 53 (72)発明者 マシュー ベネディクト デービッド ミ ッチェル イギリス国 ホープ・バレー エス33・9 ジェーキュー ラドウェル スモールデー ル ダ・ロッキー Fターム(参考) 3K092 PP20 QA05 QB44 SS02 SS12 SS34 SS45 VV31 VV40 3L087 AA03 DA03 DA17 4G030 AA16 AA27 AA37 AA47 AA66 BA01 BA20 BA21 BA25 CA01 GA27

Claims (24)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】電熱器のベースにおいて、該ベースは、圧
    縮し、熱硬化させた組成物からなり、前記組成物が、ヒ
    ュームドシリカ65−98重量%;強化フィラメント1
    −15重量%;ピロゲニックシリカ10重量%以下;及
    び乳白剤20重量%以下でなることを特徴とする、電熱
    器のベース。
  2. 【請求項2】強化フィラメントが、ガラス、シリカ、セ
    ラミック繊維、鉱物繊維及びボディーソルブル繊維から
    選ばれるものである、請求項1記載の電熱器のベース。
  3. 【請求項3】ガラスが、Eガラス、Rガラス、又はSガ
    ラス、及びそれらの変性体から選ばれるものである、請
    求項2記載の電熱器のベース。
  4. 【請求項4】使用される場合、乳白剤が、二酸化チタ
    ン、炭化ケイ素及び酸化鉄から選ばれるものである、請
    求項1−3のいずれか1項記載の電熱器のベース。
  5. 【請求項5】二酸化チタンがルチルからなるものであ
    る、請求項4記載の電熱器のベース。
  6. 【請求項6】酸化鉄が赤鉄鉱からなるものである、請求
    項4記載の電熱器のベース。
  7. 【請求項7】ベースが、直立する壁を有する皿状であ
    る、請求項1−6のいずれか1項記載の電熱器のベー
    ス。
  8. 【請求項8】少なくとも1つの電熱素子がベースに固着
    して設けられている、請求項1−7のいずれか1項記載
    の電熱器のベース。
  9. 【請求項9】端子ブロックがベースに固着されていると
    共に、該端子ブロックは、少なくとも1つの電熱素子に
    電気的に接続されている、請求項8記載の電熱器のベー
    ス。
  10. 【請求項10】少なくとも1つの電熱素子及び/又は端
    子ブロックが、組成物の圧縮によるベースの形成の間に
    ベースに固着されている、請求項8又は9記載の電熱器
    のベース。
  11. 【請求項11】ベースと少なくとも1つの電熱素子との
    間に、ベースよりも熱伝導率が小さい微孔性断熱材料の
    層が設けられている、請求項8、9又は10記載の電熱
    器のベース。
  12. 【請求項12】電熱器のベースを製造する方法におい
    て、1)ヒュームドシリカ65−98重量%;強化フィ
    ラメント1−15重量%;ピロゲニックシリカ10重量
    %以下;及び乳白剤20重量%以下でなる組成物を調製
    し;2)この組成物を圧縮して、ベースを形成し;及び
    3)このベースを加熱して、硬化を行なうことを特徴と
    する、電熱器のベースの製法。
  13. 【請求項13】硬化を行うために、ベースの加熱を温度
    500−900℃で行なう、請求項12記載の製法。
  14. 【請求項14】硬化を行うために、ベースの加熱を15
    −25分間行なう、請求項12又は13記載の製法。
  15. 【請求項15】強化フィラメントが、ガラス、シリカ、
    セラミック繊維、鉱物繊維及びボディーソルブル繊維か
    ら選ばれるものである、請求項12、13又は14記載
    の製法。
  16. 【請求項16】ガラスが、Eガラス、Rガラス、Sガラ
    ス、及びそれらの変性体から選ばれるものである、請求
    項15記載の製法。
  17. 【請求項17】使用される場合、乳白剤が、二酸化チタ
    ン、炭化ケイ素及び酸化鉄から選ばれるものである、請
    求項12−16のいずれか1項記載の製法。
  18. 【請求項18】二酸化チタンがルチルからなるものであ
    る、請求項17記載の製法。
  19. 【請求項19】酸化鉄が赤鉄鉱からなるものである、請
    求項17記載の製法。
  20. 【請求項20】ベースが、直立する壁を有する皿状であ
    る、請求項12−19のいずれか1項記載の製法。
  21. 【請求項21】少なくとも1つの電熱素子を、ベースに
    固着して設ける、請求項12−20のいずれか1項記載
    の製法。
  22. 【請求項22】端子ブロックをベースに固着すると共
    に、該端子ブロックを、少なくとも1つの電熱素子に電
    気的に接続する、請求項21記載の製法。
  23. 【請求項23】少なくとも1つの電熱素子及び/又は端
    子ブロックを、組成物の圧縮によるベースの形成の間に
    固着する、請求項21又は22記載の製法。
  24. 【請求項24】ベースと少なくとも1つの電熱素子との
    間に、ベースよりも熱伝導率が小さい微孔性断熱材料の
    層を設ける、請求項21、22又は23記載の製法。
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