JP2002320083A - 電子透かし埋め込み処理装置、電子透かし検出処理装置、および電子透かし埋め込み処理方法、電子透かし検出処理方法、並びにプログラム記憶媒体、およびプログラム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 画像フォーマット変換等の処理可能性のある
データに対する電子透かしの埋め込み処理および検出処
理における改良された構成を提供する。 【解決手段】 例えばＨＤ画像とＳＤ画像等、フォーマ
ット変換の可能性のあるデータに対する電子透かしの埋
め込みに際し、フォーマット変換前後の画像サイズの最
小公倍数画像サイズを設定し、最小公倍数画像において
変換後の画像における電子透かしの値を設定して、その
値に基づいて変換前の画像における電子透かしを設定
し、これを画像に埋め込む構成とした。本構成により、
電子透かしを埋め込んだ画像の変換処理がなされても、
変換後の画像から正確な電子透かしを確実に検出するこ
とができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、画像等のデータに
著作権情報、編集情報などの付加情報を埋め込みまたは
読み取る技術に関し、例えば画像中に通常の観察状態で
は認識困難な付加情報として電子透かし（ウォーターマ
ーク:Digital Watermarkingまたは、DataHidingとも呼
ばれる）を埋め込む処理を実行する電子透かし埋め込み
処理装置、電子透かし検出処理装置、および電子透かし
埋め込み処理方法、電子透かし検出処理方法、並びにプ
ログラム記憶媒体、およびプログラムに関する。

【０００２】

【従来の技術】デジタル技術の進歩に伴い、記録、再生
処理の繰り返し実行による画質劣化、音質劣化等の発生
しないデジタル記録再生装置が普及し、また一方では、
様々な画像、音楽等のデジタテルコンテンツがＤＶＤ，
ＣＤなどの媒体またはネットワーク等を通じて配信、流
通可能な状態となってきている。

【０００３】デジタル記録再生では、アナログ記録再生
と異なり、記録再生処理を繰り返し実行してもデータの
劣化が発生しないため、オリジナルデータと同様の品質
が保たれる。このようなデジタル記録再生技術の普及は
不正コピーの氾濫を招く結果となり、著作権の保護とい
う観点から大きな問題となっている。

【０００４】デジタルコンテンツについての不正な複製
（コピー）による著作権侵害に対処するため、デジタル
コンテンツに複製制御のための複製制御情報を付加し、
コンテンツの記録再生時に複製制御情報を読み取り、読
み取られた制御情報に従った処理を実行することにより
不正な複製を防止する構成が提案されている。

【０００５】コンテンツ複製制御態様には様々な態様が
あるが、例えば代表的方式として、ＣＧＭＳ（Ｃｏｐｙ
Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ Ｍａｎａｇｅｍｅｎｔ Ｓｙｓ
ｔｅｍ；コピー・ジェネレーション・マネージメント・
システム）方式がある。このＣＧＭＳ方式は、アナログ
映像信号（ＣＧＭＳ−Ａと呼ばれる）であれば、その輝
度信号の垂直ブランキング期間内の特定の１水平区間、
例えばＮＴＳＣ信号の場合には、第２０水平区間の有効
映像部分に重畳する２０ビットの付加情報のうちの２ビ
ットを複製制御用の情報として重畳し、また、デジタル
映像信号（ＣＧＭＳ−Ｄと呼ばれる）であれば、デジタ
ル映像データに挿入付加する付加情報として、複製制御
用の２ビットの情報を含めて伝送する方式である。

【０００６】このＣＧＭＳ方式の場合の２ビットの情報
（以下、ＣＧＭＳ情報という）の意味内容は、［００］
……複製可能［１０］……１回複製可能（１世代だけ複
製可能）［１１］……複製禁止（絶対複製禁止）であ
る。

【０００７】上述のＣＧＭＳ方式は代表的な複製制御方
式の１例であり、他にもコンテンツの著作権保護のため
の方式が様々ある。例えば放送局が行なうデジタル放送
などでは、デジタルデータを構成するトランスポートス
トリーム（ＴＳ）パケットに含まれる番組配列情報（Ｓ
Ｉ：Service Information）内にデジタル複製制御記述
子（Digital Copy Control Descriptor）を格納し、受
信機器において受信したデータを記録装置に記録する際
に記述子に従った複製世代制御を行なう方式がある。

【０００８】しかし、上述の制御情報は例えばコンテン
ツのヘッダ等にビットデータとして付加されるものであ
り、付加されたデータの改竄の可能性を完全に排除する
ことが困難である。データ改竄の可能性の排除という点
で有利な構成が電子透かし（ウォーターマーク）であ
る。電子透かし（ウォーターマーク）は、通常のコンテ
ンツ（画像データまたは音声データ）の再生状態では視
覚あるいは知覚困難であり、電子透かしの検出、埋め込
みは特定のアルゴリズムの実行、または特定のデバイス
による処理によってのみ可能となる。受信器、記録再生
装置等におけるコンテンツ処理時に電子透かし（ウォー
ターマーク（ＷＭ））を検出して、電子透かしに従った
制御を行なうことにより、より信頼度の高い制御が可能
となる。

【０００９】電子透かし（ウォーターマーク（ＷＭ））
によってコンテンツに埋め込まれる情報としては、上述
の複製制御情報に限らず、コンテンツの著作権情報、コ
ンテンツ加工情報、コンテンツ構成情報、コンテンツ処
理情報、コンテンツ編集情報、あるいはコンテンツ再生
処理方式等、様々な情報が埋め込み可能であり、例えば
コンテンツの編集処理時に編集情報を埋め込み、各編集
ステップにおいて、電子透かしを参照して処理ステップ
を確認することなどが行なわれる。このような編集情報
は、例えばコンテンツの編集ステップ毎にコンテンツに
対して新たな電子透かしとして埋め込まれ、最終的にコ
ンテンツから取り除かれるなどの処理が行なわれる。

【００１０】［電子透かしの埋め込み］データに対する
電子透かしの埋め込みおよび検出態様としては様々な手
法が提案されている。ここで適用する電子透かしは、元
信号としてのデータ、例えば画像のもつ統計的性質に基
づいた手法であり、この画像のもつ統計的性質に基づい
た電子透かしの埋め込み処理について説明する。電子透
かしの埋め込み対象となる元画像をＰ、元画像Ｐに対し
て埋め込む電子透かしパターンをＷとする。このとき、
電子透かしパターンＷは、下式の性質を満たすものとす
る。

【００１１】

【数１】

【００１２】例として、元画像Ｐと、電子透かしパター
ンＷを下式のようにおく。すなわち、

【００１３】

【数２】

【００１４】ただし、上記式では、簡単のため元画像Ｐ
の大きさを５×４ピクセルとしている。画像では隣り合
うピクセルは一般的に近い値を持つという性質があるこ
とから、元画像Ｐの隣り合う各要素を近い値として設定
してある。上記［数２］に示す例では、元画像Ｐと電子
透かしパターンＷの大きさを同じに設定したが、元画像
Ｐと電子透かしパターンＷの大きさは、必ずしも同じ大
きさである必要はない。同じ大きさでないときは元画像
と電子透かしパターンの重なっている部分について演算
を施すことになる。

【００１５】電子透かしの埋め込み処理は下式に基づい
て実行される。

【００１６】

【数３】Ｍ＝Ｐ＋Ｗ

【００１７】ここで、Ｍは元画像Ｐに対して電子透かし
パターンＷを埋め込んだ画像を示す。Ｍの値は、前記の
［数２］に示す例では次のように計算される。

【００１８】

【数４】

【００１９】［電子透かしの検出］電子透かしの検出は
この電子透かしパターンＷを用いる。電子透かしＷの埋
め込まれていない元画像Ｐに対する電子透かしの検出を
下式のように定義する。

【００２０】

【数５】ｘ＝Ｐ・Ｗ

【００２１】と定義する。ここで演算子“・”は行列の
内積であり、ｘは元画像Ｐと電子透かしパターンＷとの
内積値である。

【００２２】電子透かしパターンの要素の総和が０であ
ること（［数１］参照のこと）と、画像の隣り合うピク
セルは一般に近い値を持つ傾向があることから、内積値
Ｓは０の近傍値となる。上記［数２］に示した例では、
その内積値は以下のようになる。

【００２３】

【数６】

【００２４】次に、電子透かしの埋め込まれている画像
Ｍに対して同様の演算を施す。電子透かしＷの埋め込ま
れている画像Ｍに対する電子透かしの検出は、上記と同
様、下記式に従って内積値ｘ’を求める。

【００２５】

【数７】

【００２６】元画像Ｐと電子透かしパターンＷとの内積
値が０の近傍値になるのに対し、電子透かしの埋め込ま
れた画像Ｍと電子透かしパターンＷとの内積値ｘ’は、
電子透かしパターンＷ自身の内積値の近傍となる。すな
わち、

【００２７】

【数８】Ｗ・Ｗ

【００２８】上記式［数８］の近傍の値となる。この内
積値Ｗ・Ｗは電子透かしの埋め込み強度の尺度として利
用できる。電子透かしパターンを埋め込む際に目標とす
る内積値Ｗ・Ｗが大きいとき電子透かしの埋め込み強度
が「強い」と表現し、内積値Ｗ・Ｗが小さいとき電子透
かしの埋め込み強度が「弱い」と表現する。

【００２９】また、元画像Ｐと電子透かしパターンＷの
内積値ｘ、電子透かしの埋め込まれた画像Ｍと電子透か
しパターンＷとの内積値ｘ’の絶対値が大きな値となる
とき電子透かしの検出強度が「強い」と表現し、内積値
ｘや内積値ｘ’の絶対値が小さな値となるとき電子透か
しの検出強度が「弱い」と表現する。

【００３０】また、電子透かしの検出強度が強いことを
画像と電子透かしパターンとの相関が「大きい」又は
「高い」、電子透かしの検出強度が弱いことを画像と電
子透かしパターンとの相関が「小さい」又は「低い」と
表現することもある。

【００３１】元画像Ｐと電子透かしパターンＷの内積値
ｘ、電子透かしの埋め込まれた画像Ｍと電子透かしパタ
ーンＷとの内積値ｘ’を様々な画像において求めると、
それらの相対頻度分布は確率密度関数ｆとｆ’によって
表され、図１のようになる。

【００３２】画像に電子透かしが埋め込まれているかど
うかを判断する際は、電子透かしの埋め込まれていない
画像Ｐと電子透かしパターンＷとの内積値ｘが０を中心
に分布することと、電子透かしが埋め込まれている画像
Ｍと電子透かしパターンＷとの内積値ｘ’が電子透かし
パターンＷ自身の内積値であるＷ・Ｗを中心に分布する
ことを利用する。電子透かしの有無を確認したい画像と
電子透かしパターンＷとの内積値ｘ”を求め、ある閾値
（ｔｈ）に対する比較を行ない電子透かしパターンの有
無の判別を行なう。具体的には下式が適用可能である。

【００３３】

【数９】ｘ”＜ｔｈ then no-watermark ｘ”≧ｔｈ then watermarked

【００３４】上記式は、電子透かしの有無を確認したい
画像と電子透かしパターンＷとの内積値ｘ”が閾値（ｔ
ｈ）より小であるときは電子透かしパターンの埋め込み
なし。内積値ｘ”が閾値（ｔｈ）以上であるときは電子
透かしパターンの埋め込みありと判定することを示して
おり、図示すると図２のようになる。

【００３５】この閾値（ｔｈ）は内積値ｘの確率密度関
数ｆと内積値ｘ’の確率密度関数ｆ’の統計的性質から
定める値である。電子透かしが埋め込まれていないにも
かかわらず閾値（ｔｈ）を超えること、つまり電子透か
しが埋め込まれていないにもかかわらず電子透かしが埋
め込まれていると判定することを“false positive”と
いう。逆に電子透かしが埋め込まれているにもかかわら
ず閾値に満たないこと、つまり電子透かしが埋め込まれ
ているにもかかわらず電子透かしが埋め込まれていない
と判定することを“false negative”という。

【００３６】このような誤判定である“false positiv
e”になる確率ｐ_FPと“false negative”になる確率ｐ
_FNを定めると閾値（ｔｈ）は定まる。但し、確率密度関
数ｆ’の分布の中心位置Ｗ・Ｗが十分に大きくないと確
率ｐ_FPと確率ｐ_FNをともに満足させることが不可能にな
りうる。そこで、電子透かしパターンＷの元画像への埋
め込み処理を上記式［数３］から下式に変更する。すな
わち、

【００３７】

【数１０】Ｍ＝Ｐ＋ｃＷ

【００３８】に変更する。上記式において、ｃは負でな
いスカラー値である。この変更に伴い、電子透かしの埋
め込み強度を電子透かしパターンＷ自身の内積値Ｗ・Ｗ
から、スカラー値を乗じたｃＷ・Ｗとする。

【００３９】閾値を定めるためには、まず電子透かしを
用いるアプリケーションにて必要とされる確率ｐ_FPと確
率ｐ_FNを定め、そのときの境界値ｔｈ_FPと境界値ｔｈ_FN
を定める。このとき、下式が満足されていることが必要
である。

【００４０】

【数１１】ｔｈ_FP≦ｔｈ_FN

【００４１】次に、上記式ｔｈ_FP≦ｔｈ_FNを満たすよう
に確率密度関数ｆと確率密度関数ｆ’の統計的性質を勘
案しながら確率密度関数ｆ’の中心位置ｃＷ・Ｗを定め
る。最後に閾値（ｔｈ）を定める。閾値（ｔｈ）のとり
得る範囲は図３の通りである。

【００４２】電子透かしパターンＷを元画像Ｐに埋め込
む際、元画像Ｐに対する変更が多ければ多いほど、つま
りｃＷ・Ｗが大きければ大きいほど、画像の受けるダメ
ージは大きくなる。そこで、ｃＷ・Ｗが所望の確率ｐ_FP
と確率ｐ_FNを満たし、かつ、ｃＷ・Ｗが最小となるよう
にスカラー値ｃを定めることが一般的である。つまり下
式に示す関係が成立する。これは具体的には図４に示す
関係となる。

【００４３】

【数１２】ｔｈ_FP＝ｔｈ_FN＝ｔｈ

【００４４】電子透かしを用いるアプリケーションによ
っては、確率ｐ_FPと確率ｐ_FNに関して極めて小さな値が
求められることがある。特に確率ｐ_FPはその要求が著し
い。例えば、電子透かしを著作権保護に利用する場合、
違法複製画像を合法的な画像と誤って判断したとしても
ユーザークレームにはつながり難いのに対し、合法的な
画像を誤って違法複製画像だと判断するとユーザークレ
ームにつながる可能性が大きいためである。図４の例よ
りも確率ｐ_FPと確率ｐ_FNを小さくした例が図５である。

【００４５】確率ｐ_FPと確率ｐ_FNは限りなく０に近いこ
とが理想的である。しかしながら、そのように閾値（ｔ
ｈ）を定めると埋め込まなければならない電子透かしの
強度ｃＷ・Ｗが増大してしまい、電子透かしの埋め込み
による画質への影響が無視できなくなる。電子透かしの
検出の信頼性と電子透かしによる画質への影響はトレー
ドオフの関係にある。

【００４６】電子透かしの検出の信頼性を確保しつつ、
電子透かしの画質への影響を極力抑える種々の手法が提
案されている。広く採用されている基本的な方法とし
て、元画像内のエッジ部分に強く埋め込み平坦な部分に
は弱く埋め込むというものが挙げられる。ピクセル値の
変更が数値的に同じであるとき、平坦な部分ではその変
更が目立ちやすいが、エッジ部分ではその変更が目立ち
難いという人間の視覚特性を利用したものである。エッ
ジ部分と平坦部分で電子透かしの埋め込み強度に強弱を
つけた場合であっても、画像全体として一定量の電子透
かしパターンが埋め込まれていれば、その電子透かしの
検出の信頼性はほぼ同程度となる。

【００４７】［埋め込み情報の多ビット化］ここまでの
内容は画像に対しての電子透かしパターンの埋め込み処
理方法とその電子透かしの検出処理方法である。この電
子透かし埋め込み検出方法では、画像に電子透かしパタ
ーンが埋め込まれているのかそれとも埋め込まれていな
いのかの２通りしか判別ができない。言い換えれば１ビ
ットの情報しか表現できない。以下では埋め込む情報を
多ビット化する方法について触れる。

【００４８】多ビットの情報を電子透かしにて画像に埋
め込む方法は、複数の電子透かしパターンを用いる方法
と画像を小領域に分割する方法とこれらの複合に大別さ
れる。

【００４９】複数の電子透かしパターンを用いる方法で
は、複数の電子透かしパターンのそれぞれに異なる意味
を持たせ排他的に画像に埋め込むことによって所望の情
報を表現する方法と複数の電子透かしパターンを同時に
重ねて画像に埋め込みその組み合わせによって所望の情
報を表現する方法、そして、これら２つの方法を複合し
た方法が考えられる。複数の電子透かしパターンを元画
像に埋め込む様子を図６に示す。

【００５０】複数の電子透かしパターンのそれぞれに異
なる意味を持たせ排他的に画像に埋め込むことによって
所望の情報を表現する方法では、画像に埋め込みたい情
報のビット数をｂとしたとき、必要となる電子透かしパ
ターンの種類ｎはｎ＝２^bとなる。他方、複数の電子透
かしパターンを同時に重ねて画像に埋め込みその組み合
わせによって所望の情報を表現する方法では、必要とな
る電子透かしパターンの種類ｎはｎ＝ｂとなる。但し、
後者は電子透かしパターンの種類が少なくて済むもの
の、電子透かしパターンを画像に複数重ねて埋め込むた
め画像の劣化に対する適切な処置を必要とする場合が多
い。最後にこれら２つの方法を複合した方法では、必要
となる電子透かしパターンの種類ｎはｂ≦ｎ≦２^bとな
り、両方法の特徴を併せ持ったものとなる。

【００５１】画像を小領域に分割する方法は、多ビット
の情報を電子透かしにて画像に埋め込むもう１つの方法
であり、小領域毎に異なる役割を持たせることで画像の
中に複数の電子透かしを同時に存在させようというもの
である。小領域の配置の仕方は種々提案されている。こ
こでは図７のように小領域を格子状に配置した例で説明
を行なう。図７におけるｉ，ｊは負でない整数である。

【００５２】画像を小領域に分割する際に分割数が問題
になる。画像に埋め込みたい情報がｂビットであると
き、画像をｂ個の小領域に分割する方法がまず考えらる
が、様々な画像に対して電子透かしパターンを埋め込む
場合、画像の持つ視覚特性を考慮して電子透かしパター
ンを埋め込むことが多いことからこの方法は問題が発生
しやすい。例えば埋め込み画像のエッジ部分に強く、画
像の平坦部分に弱く埋め込むなどの処理を加えるとき、
あるビットに対応する小領域が偶然にも平坦部分であっ
た場合に、そこの領域に埋め込まれている電子透かしを
検出できない恐れがある。たとえ１つの領域でも電子透
かしの検出に失敗した領域があると、残りの領域に埋め
込まれている電子透かしが検出されたとしても、全体の
組み合わせとしての意味がなくなるという事態に陥る。
画像を小領域に分割するときには、ｂよりも多い小領域
に分割する方が、様々な画像に対して安定して電子透か
しの検出を行なえるという利点がある。たとえ１小領域
で電子透かしパターンの埋め込み強度が非常に弱くなっ
たとしても、同じビット情報を埋め込む残りの小領域で
必要な電子透かしパターンの埋め込み量が確保されてい
れば全体として電子透かしの検出が可能となるのであ
る。

【００５３】図８に埋め込み情報が８ビットであるとき
の小領域の分割例を示す。同じビットに対応する複数の
小領域が画像中に割り当てられている。

【００５４】［電子透かしパターンの埋め込みの流れ］
電子透かしパターンの画像への埋め込み処理を実行する
装置における処理例を図９に示す。電子透かしパターン
生成部１６０４は画像に埋め込む埋め込み情報１６０２
と電子透かしパターン生成キー（key)記憶部１６０３の
電子透かしパターン生成キー（key)から電子透かしパタ
ーンを生成する。

【００５５】埋め込み情報１６０２は、電子透かしとし
て埋め込む情報であり、複製制御情報、著作権情報、編
集情報などの任意な情報である。電子透かしパターン生
成キー（key）は、具体的には電子透かしパターンを画
像に埋め込む際の画像分割情報や、ビット配列情報など
であり、埋め込み情報１６０２を電子透かしパターンと
して生成するために必要となる加工情報である。

【００５６】電子透かしパターン埋め込み部１６０５で
は、電子透かしパターン生成部１６０４にて生成された
電子透かしパターンを元画像１６０１へ埋め込む。元画
像のエッジ部分や平坦部分での電子透かしパターンの埋
め込み強度を調整するのはこの電子透かしパターン埋め
込み部１６０５である。電子透かしパターンの埋め込ま
れた画像は電子透かし埋め込み画像１６０６として出力
される。

【００５７】［電子透かしの検出の流れ］電子透かしの
検出処理を実行する装置における処理例を図１０に示
す。電子透かしパターン生成部１７０３は電子透かしパ
ターン生成キー（key)記憶部１７０２の電子透かしパタ
ーン生成キー（key)から電子透かしパターンを生成す
る。

【００５８】電子透かしパターン生成キー（key）は、
具体的には電子透かしパターンを画像に埋め込む際の画
像分割情報や、ビット配列情報などであり、電子透かし
パターンの検出に必要となる情報である。

【００５９】電子透かしパターン修正部１７０４は、画
像情報検査部１７０５にて得られる入力画像１７０１の
画像フォーマットを用いて、電子透かしパターン生成部
１７０３で生成された電子透かしパターンを修正する。
ここで実行される修正処理は、例えば入力画像サイズが
７２０×４８０のＳＤ画像であるか、あるいは１９２０
×１０８０のＨＤ画像であるかに応じて、生成した電子
透かしパターンを適応させる処理である。この処理につ
いては、次に詳細に説明する。

【００６０】検出部１７０６では、電子透かしパターン
修正部１７０４にて修正された電子透かしパターンを用
いて、入力画像１７０１の電子透かしを検出する。検出
部１７０６にて検出された情報は検出情報１７０７とし
て出力される。

【００６１】［画像のフォーマット変換］昨今、テレビ
放送などに用いられる画像情報として、例えばハイビジ
ョン画像と呼ばれる高画質画像（ＨＤ:High Definitio
n）が様々な通信媒体あるいは記憶媒体を介して提供さ
れている。高画質画像（ＨＤ:High Definition）データ
は、従来の標準画像（ＳＤ：Standard Definition）と
異なるアスペクト比（画像の縦と横の長さの比）、異な
る周波数帯域を持つ画像であり、例えば再生装置側に高
画質画像（以下ＨＤ画像とする）の処理機能がない場合
は、ＨＤ画像を標準画像（以下ＳＤ画像とする）に変換
（ダウンコンバート）する処理が実行されて表示され
る。また、逆にＳＤ画像からＨＤ画像への変換処理（ア
ップコンバート）が実行されることもある。

【００６２】画像のサイズやアスペクト比等を変換する
ことを画像のフォーマット変換という。以下では、ＳＤ
画像からＨＤ画像へのアップコンバートや、ＨＤ画像か
らＳＤ画像へのダウンコンバートもフォーマット変換の
一種として扱うことにする。ある画像に対して電子透か
しパターンを埋め込み、その画像のフォーマットを変換
した場合、埋め込んだ電子透かしの検出は、例えば、図
１０で説明した電子透かしパターン修正部１７０４にて
修正された電子透かしパターンの適用により実行するこ
とがあるが、修正を行なった場合でも検出が困難になっ
たりエラーとなったりすることがある。

【００６３】例えば、図１１（ａ）は、ＳＤ(Standard
Definition)画像に電子透かしパターンを埋め込み、そ
の画像をアップコンバートしてＨＤ(High Definition)
画像にする様子を示している。元のＳＤ画像から電子透
かしを検出することは容易であるものの、ＨＤ画像から
の検出は容易であるとはいえない。理由として、画像の
フォーマット変換が整数にて行なわれていないことが挙
げられる。例えば、ＳＤ画像サイズを７２０×４８０、
ＨＤ画像サイズを１９２０×１０８０とすると、ＳＤ画
像からＨＤ画像への変換は、水平方向が８／３倍、垂直
方向が９／４倍という変換である。但し、画像サイズを
（水平方向のピクセル数）×（垂直方向のピクセル数）
と表記している。

【００６４】このように非整数倍の変換が行なわれる
と、画像に埋め込まれている電子透かしパターンも同様
に非整数倍の変換をされることになる。電子透かしの検
出は、電子透かしパターン埋め込み画像に対して電子透
かしパターンを乗じることで実現されるので、画像に埋
め込まれた電子透かしパターンが微妙な変形をしていた
場合には、電子透かしを検出するのに用いる電子透かし
パターンにも画像と同様の変形を施す必要がある。検出
に用いる電子透かしパターンに施す変形が適当なもので
なければ、電子透かしの検出が失敗する可能性がある。

【００６５】図１１（ｂ）は、図１１（ａ）とは逆に、
ＨＤ画像に電子透かしパターンを埋め込み、その画像を
ダウンコンバートしてＳＤ画像にし、このＳＤ画像から
電子透かしを検出する様子を示している。図１１（ａ）
と同様に、この変換は非整数倍の変換であり、適当な変
形を施された電子透かしパターンを検出に用いなけれ
ば、電子透かしの検出が失敗する可能性がある。

【００６６】画像がフォーマット変換されることで電子
透かしの検出がどのように難しくなるのかを、例を挙げ
ながら説明する。図１２にこれから説明する変換を示
す。ここでは元画像を７２０×４８０のＳＤ画像、変換
後の画像を１９２０×１０８０のＨＤ画像として説明す
るが、この組み合わせに限るものではない。

【００６７】ＳＤ画像をＨＤ画像にアップコンバートし
たときに、ＳＤ画像内の８×８ピクセルの小領域はＨＤ
画像内において図１３のように変換される。図１３の下
部に示す小領域がＳＤ画像の８×８ピクセルの小領域で
あり、この小領域がＨＤ画像に変換、すなわちアップコ
ンバートされると、ＳＤ画像の縦８ピクセルは、ＨＤ画
像において８×（１０８０／４８０）ピクセル、ＳＤ画
像の横８ピクセルは、ＨＤ画像において８×（１９２０
／７２０）ピクセルに変換されることになる。この図の
ようにピクセルサイズを分数で表現できれば問題は起き
ないが、現実には１／３ピクセルや１／４ピクセルなど
の端数をもったピクセルは存在しない。図１３におい
て、色分けは、白を値１、黒を値−１としている。図１
３の上段に示すＨＤ画像の各矩形領域には複数のピクセ
ルが存在し、その実体は、例えば図１４、または図１５
のようになる。

【００６８】ＳＤ画像内の８×８ピクセルの小領域が、
ＨＤ画像内において実際にどのようになるのかを示した
例の１つが図１４である。ＳＤ画像内で８×８ピクセル
であった小領域はＨＤ画像内で（８×（１９２０／７２
０））×（８×（１０８０／４８０））、すなわち（６
４／３）×１８ピクセルとなる。現実には１／３ピクセ
ルや１／４ピクセルなどの端数をもったピクセルは存在
しないので、ＨＤ画像のピクセルにおいて、白と黒の境
界に存在するピクセルは、白または黒のいずれかに設定
されることになる。１つの方法としては例えば白５０％
以上であれば白、黒５０％以上であれば黒として設定す
る。あるいは黒の設定がわずかでもあれば黒に設定する
などの方法がある。

【００６９】この結果、ＳＤからＨＤ変換した場合は、
ＳＤ画像のピクセル分布とＨＤ画像のピクセル分布とが
正確に一致しないという問題が発生する。ＳＤからＨＤ
変換した場合、垂直方向は８ピクセルであったものが１
８ピクセルになり、ＳＤ画像における１ピクセルは、Ｈ
Ｄ画像における１８／８＝９／４ピクセルとなる。その
結果、ＳＤ画像における１ピクセルあるいは２ピクセル
などの整数ピクセルをＨＤ画像において整数ピクセルと
して設定できず端数が生じてしまう。その結果、図１４
の上段に示すように白と黒の境界に存在するピクセルが
発生し、例えば白５０％以上であれば白、黒５０％以上
であれば黒として設定され、誤差が発生することにな
る。

【００７０】水平方向についても同様であり、ＳＤ画像
における１ピクセルは、ＨＤ画像における（６４／３）
／８＝８／３ピクセルとなり、ＳＤ画像における整数ピ
クセルをＨＤ画像において整数ピクセルとして設定でき
ず端数が生じてしまう。その結果、図１４の上段に示す
ように白と黒の境界に存在するピクセルが発生し、例え
ば白５０％以上であれば白、黒５０％以上であれば黒と
して設定され、誤差が発生することになる。

【００７１】図１５は、ＳＤ画像内の８×８ピクセルの
小領域が、ＨＤ画像内において実際にどのようになるの
かを示した他の例である。図１４の上段に示すＨＤ画像
では、左端部をＳＤ画像の左端部と一致させる処理と
し、右端に２／３ピクセルの余りピクセル領域を発生さ
せた場合の例であり、図１５（ａ）は、ＳＤ画像内の８
×８ピクセルの小領域をＨＤ画像の中央に設定し、両端
に１／３ピクセルの余りピクセル領域を発生させた場合
の例、図１５（ｂ）は、右端部をＳＤ画像の右端部と一
致させる処理とし、左端に２／３ピクセルの余りピクセ
ル領域を発生させた場合の例である。いずれの場合もＳ
Ｄ画像とＨＤ画像の変換において整数ピクセルから整数
ピクセルに変換することはできないので、結果として白
領域または黒領域の比率にずれが発生することになる。

【００７２】先に説明したように電子透かしの画像に対
する埋め込み処理においては、図７や図８のように画像
を小領域分割して、各小領域毎に電子透かしパターンの
埋め込みが行われる。この各小領域各々がＳＤ画像の８
×８ピクセルで定義されていると仮定する。すると、Ｓ
Ｄ画像を８×８ピクセル単位に図７や図８のように小領
域に分割したものは、ＨＤ画像では（６４／３）×１８
ピクセル単位の小領域に相当するものとなる。

【００７３】しかし、上述したように実際には端数ピク
セルは許されないため、ＨＤ画像における各分割小領域
の設定は、例えば、図１６のような設定になる。図１６
の斜線部分は、隣り合う小領域同士が互いに重なる部分
を示している。これは、図１４の横方向２２ピクセル中
の右側１ピクセルや図１５（ａ）の両側１ピクセルや、
図１５（ｂ）の左側１ピクセルの部分に相当する。

【００７４】ＨＤ画像では小領域が図１６のように設定
することが可能であることから、ＨＤ画像からの電子透
かしの検出を行なうとき、斜線部分を無視して検出する
という方法が考えられる。斜線部分のピクセルの値は、
斜線部分以外のピクセルの値ほど電子透かしパターンを
含んでいないため、斜線部分以外のピクセルのみを用い
て電子透かしの検出を行なうのである。

【００７５】また、ＳＤ画像をアップコンバートして得
られたＨＤ画像において、隣の小領域との重なりはある
ものの、図１７のように、図１６で示した小領域の境界
部の斜線部分をどちらかの小領域に含めるという処理方
法も考えられる。図１７では、斜線部分に占める割合の
多い小領域に斜線部分を含める処理を行なったものであ
る。このような処理により、ＳＤ画像の８×８ピクセル
の小領域はＨＤ画像の２１×１８ピクセルまたは２２×
１８ピクセルの小領域に対応することになる。

【００７６】

【発明が解決しようとする課題】上述のようにコンバー
ト処理された画像において、図１６や図１７のような小
領域の設定方法を実行して電子透かしを検出しようとす
る場合でっあっても、電子透かしパターンＷは［数１］
を満たさなければならないことに注意が必要である。

【００７７】例えば、図１７のＡの部分に当たる小領域
に図１４のようなパターンが埋め込まれていると仮定す
る。値としては、１と−１の２種類のみを用い、中間値
はこの２値に丸める。ＨＤ画像における電子透かしパタ
ーンＷを求めると、図１８のようになる。この２１×１
８ピクセルのパターンＷには、１（白ピクセル）が１８
０個あり、−１（黒ピクセル）が１９８個ある。この結
果、コンバートされたＨＤ画像においては、 Σ_i,jＷ_i,j≠０ となり、［数１］を満足しないものとなる。

【００７８】電子透かしパターンＷが［数１］を満たし
ていないとき、その検出結果は大きな誤差を伴う可能性
が大きい。例えば、±１にて構成される８×８ピクセル
の電子透かしパターンＷが埋め込まれていると仮定す
る。このとき、この小領域から検出される検出値ｘとし
て６４が期待できる。この６４は、電子透かしパターン
Ｗ同士の内積Ｗ・Ｗによって得られる値である（［数
７］、［数８］参照）。しかし、もし電子透かしパター
ンＷが［数１］を満足せず、電子透かしパターンＷの総
和が０でなく１であったとしたら、この１と画素値を乗
じた値が誤差として含まれることになる。

【００７９】すなわち、電子透かしの検出時に実行され
る処理、先に説明した［数７］の式に従って、電子透か
しの埋め込まれている画像Ｍと電子透かしＷの内積ｘ’
の演算が実行される。演算結果は、この数式に含まれる
Ｐ・Ｗの値の大きさがＷ・Ｗに対して相対的に無視でき
ないレベルで大となってしまう。ピクセル値はピクセル
が８ビットで表現されていれば、０，１，…２５５であ
る。この０，１，…２５５という誤差は電子透かしの検
出値として得られるはずの６４を無意味なものとするの
に十分な大きさである。

【００８０】ＨＤ画像における小領域の分割を図１６や
図１７のように定めた場合、図１８にて示したような電
子透かしパターンＷをどんなに緻密に求めても［数１］
を満たすことはない。それは、図１６や図１７のように
表現した時点で領域の丸めによる誤差が乗っているため
である。

【００８１】図１８にて示したような電子透かしパター
ンＷの中の値を調整することで電子透かしパターンＷが
［数１］を満たすようにすることができる。しかしなが
ら、元々領域の丸めによる誤差を含んでいるものを後か
ら調整しているため、電子透かしの正確な検出は期待で
きない。

【００８２】本発明は、上記従来技術の課題に鑑みてな
されたものであり、フォーマット変換（コンバート）処
理によって変換前後の画像の対応、すなわち画素（ピク
セル）が正確に対応しない場合であっても、変換後の画
像において正確な電子透かしの検出の実行を可能とした
電子透かし埋め込み処理装置、電子透かし検出処理装
置、および電子透かし埋め込み処理方法、電子透かし検
出処理方法、並びにプログラム記憶媒体、およびプログ
ラムを提供することを目的とする。

【００８３】

【課題を解決するための手段】本発明の第１の側面は、
データに対する電子透かしパターン埋め込み処理を実行
する電子透かし埋め込み処理装置であり、予め設定され
た第１の画像フォーマットに対応する電子透かしパター
ンを生成する電子透かしパターン生成手段と、前記電子
透かしパターン生成手段において生成した電子透かしパ
ターンに基づいて、前記第１の画像フォーマットと異な
る第２の画像フォーマットに対応する修正電子透かしパ
ターンを生成する処理を実行する電子透かしパターン修
正手段と、前記電子透かしパターン修正手段において修
正された電子透かしパターンをデータに埋め込む処理を
実行する電子透かしパターン埋め込み手段と、を有する
ことを特徴とする電子透かし埋め込み処理装置にある。

【００８４】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
装置の一実施態様において、前記電子透かしパターン修
正手段は、前記第１の画像フォーマットと、前記第２の
画像フォーマットの各サイズの最小公倍数画像サイズを
算出し、該最小公倍数画像サイズにおいて、前記電子透
かしパターン生成手段において生成した電子透かしパタ
ーンに対応する電子透かしパターンＷ_LCMを生成する電
子透かしパターンＷ_LCM生成手段と、前記電子透かしパ
ターンＷ_LCM生成手段の生成した電子透かしパターンＷ
_LCMに基づいて、前記第２の画像フォーマットに対応す
る電子透かしパターンを生成する処理を実行する電子透
かしパターンＷｂ生成手段とを有する構成であることを
特徴とする。

【００８５】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
装置の一実施態様において、前記電子透かしパターン修
正手段は、電子透かしパターンの各ピクセルに対する設
定値の総和を０とした修正電子透かしパターンを生成す
る構成であることを特徴とする。

【００８６】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
装置の一実施態様において、前記電子透かしパターン修
正手段は、隣接小領域との重なり領域を設定した小領域
を前記第２の画像フォーマットの電子透かしの埋め込み
領域としての小領域として適用する構成であることを特
徴とする。

【００８７】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
装置の一実施態様において、前記第１の画像フォーマッ
トおよび第２の画像フォーマットの各々は、ＨＤ（High
Definition）画像フォーマット、またはＳＤ（Standar
d Definition）画像フォーマットのいずれかであること
を特徴とする。

【００８８】さらに、本発明の第２の側面は、データに
対する電子透かしパターン埋め込み処理を実行する電子
透かし埋め込み処理方法であり、予め設定された第１の
画像フォーマットに対応する電子透かしパターンを生成
する電子透かしパターン生成ステップと、前記電子透か
しパターン生成ステップにおいて生成した電子透かしパ
ターンに基づいて、前記第１の画像フォーマットと異な
る第２の画像フォーマットに対応する修正電子透かしパ
ターンを生成する処理を実行する電子透かしパターン修
正ステップと、前記電子透かしパターン修正ステップに
おいて修正された電子透かしパターンをデータに埋め込
む処理を実行する電子透かしパターン埋め込みステップ
と、を有することを特徴とする電子透かし埋め込み処理
方法にある。

【００８９】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
方法の一実施態様において、前記電子透かしパターン修
正ステップは、前記第１の画像フォーマットと、前記第
２の画像フォーマットの各サイズの最小公倍数画像サイ
ズを算出し、該最小公倍数画像サイズにおいて、前記電
子透かしパターン生成ステップにおいて生成した電子透
かしパターンに対応する電子透かしパターンＷ_LCMを生
成する電子透かしパターンＷ_LCM生成ステップと、前記
電子透かしパターンＷ_LCM生成ステップの生成した電子
透かしパターンＷ_LCMに基づいて、前記第２の画像フォ
ーマットに対応する電子透かしパターンを生成する処理
を実行する電子透かしパターンＷｂ生成ステップと、を
含むことを特徴とする。

【００９０】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
方法の一実施態様において、前記電子透かしパターン修
正ステップは、電子透かしパターンの各ピクセルに対す
る設定値の総和を０とした修正電子透かしパターンを生
成するステップを含むことを特徴とする。

【００９１】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
方法の一実施態様において、前記電子透かしパターン修
正ステップは、隣接小領域との重なり領域を設定した小
領域を前記第２の画像フォーマットの電子透かしの埋め
込み領域としての小領域として適用することを特徴とす
る。

【００９２】さらに、本発明の電子透かし埋め込み処理
方法の一実施態様において、前記第１の画像フォーマッ
トおよび第２の画像フォーマットの各々は、ＨＤ（High
Definition）画像フォーマット、またはＳＤ（Standar
d Definition）画像フォーマットのいずれかであること
を特徴とする。

【００９３】さらに、本発明の第３の側面は、データか
らの電子透かしパターン検出処理を実行する電子透かし
検出処理装置であり、予め設定された第１の画像フォー
マットに対応する電子透かしパターンを生成する電子透
かしパターン生成手段と、前記電子透かしパターン生成
手段において生成した電子透かしパターンに基づいて、
前記第１の画像フォーマットと異なる第２の画像フォー
マットに対応する修正電子透かしパターンを生成する処
理を実行する電子透かしパターン修正手段と、前記電子
透かしパターン修正手段において修正された電子透かし
パターンに基づいて電子透かしパターンの検出処理を実
行する検出手段と、を有することを特徴とする電子透か
し検出処理装置にある。

【００９４】さらに、本発明の電子透かし検出処理装置
の一実施態様において、前記電子透かしパターン修正手
段は、前記第１の画像フォーマットと、前記第２の画像
フォーマットの各サイズの最小公倍数画像サイズを算出
し、該最小公倍数画像サイズにおいて、前記電子透かし
パターン生成手段において生成した電子透かしパターン
に対応する電子透かしパターンＷ_LCMを生成する電子透
かしパターンＷ_LCM生成手段と、前記電子透かしパター
ンＷ_LCM生成手段の生成した電子透かしパターンＷ_LCMに
基づいて、前記第２の画像フォーマットに対応する電子
透かしパターンを生成する処理を実行する電子透かしパ
ターンＷｂ生成手段と、を有する構成であることを特徴
とする。

【００９５】さらに、本発明の電子透かし検出処理装置
の一実施態様において、前記電子透かしパターン修正手
段は、電子透かしパターンの各ピクセルに対する設定値
の総和を０とした修正電子透かしパターンを生成する構
成であることを特徴とする。

【００９６】さらに、本発明の電子透かし検出処理装置
の一実施態様において、前記電子透かしパターン修正手
段は、隣接小領域との重なり領域を設定した小領域を前
記第２の画像フォーマットの電子透かし設定領域として
の小領域として適用する構成であることを特徴とする。

【００９７】さらに、本発明の電子透かし検出処理装置
の一実施態様において、前記第１の画像フォーマットお
よび第２の画像フォーマットの各々は、ＨＤ（High Def
inition）画像フォーマット、またはＳＤ（Standard De
finition）画像フォーマットのいずれかであることを特
徴とする。

【００９８】さらに、本発明の第４の側面は、データか
らの電子透かしパターン検出処理を実行する電子透かし
検出処理方法であり、予め設定された第１の画像フォー
マットに対応する電子透かしパターンを生成する電子透
かしパターン生成ステップと、前記電子透かしパターン
生成ステップにおいて生成した電子透かしパターンに基
づいて、前記第１の画像フォーマットと異なる第２の画
像フォーマットに対応する修正電子透かしパターンを生
成する処理を実行する電子透かしパターン修正ステップ
と、前記電子透かしパターン修正ステップにおいて修正
された電子透かしパターンに基づいて電子透かしパター
ンの検出処理を実行する検出ステップと、を有すること
を特徴とする電子透かし検出処理方法にある。

【００９９】さらに、本発明の電子透かし検出処理方法
の一実施態様において、前記電子透かしパターン修正ス
テップは、前記第１の画像フォーマットと、前記第２の
画像フォーマットの各サイズの最小公倍数画像サイズを
算出し、該最小公倍数画像サイズにおいて、前記電子透
かしパターン生成ステップにおいて生成した電子透かし
パターンに対応する電子透かしパターンＷ_LCMを生成す
る電子透かしパターンＷ_LCM生成ステップと、前記電子
透かしパターンＷ_LCM生成ステップの生成した電子透か
しパターンＷ_LCMに基づいて、前記第２の画像フォーマ
ットに対応する電子透かしパターンを生成する処理を実
行する電子透かしパターンＷｂ生成ステップと、を含む
ことを特徴とする。

【０１００】さらに、本発明の電子透かし検出処理方法
の一実施態様において、前記電子透かしパターン修正ス
テップは、電子透かしパターンの各ピクセルに対する設
定値の総和を０とした修正電子透かしパターンを生成す
るステップを含むことを特徴とする。

【０１０１】さらに、本発明の電子透かし検出処理方法
の一実施態様において、前記電子透かしパターン修正ス
テップは、隣接小領域との重なり領域を設定した小領域
を前記第２の画像フォーマットの電子透かしの設定領域
としての小領域として適用することを特徴とする。

【０１０２】さらに、本発明の電子透かし検出処理方法
の一実施態様において、前記第１の画像フォーマットお
よび第２の画像フォーマットの各々は、ＨＤ（High Def
inition）画像フォーマット、またはＳＤ（Standard De
finition）画像フォーマットのいずれかであることを特
徴とする。

【０１０３】さらに、本発明の第５の側面は、データに
対する電子透かしパターン埋め込み処理をコンピュータ
・システム上で実行せしめるコンピュータ・プログラム
を提供するプログラム記憶媒体であって、予め設定され
た第１の画像フォーマットに対応する電子透かしパター
ンを生成する電子透かしパターン生成ステップと、前記
電子透かしパターン生成ステップにおいて生成した電子
透かしパターンに基づいて、前記第１の画像フォーマッ
トと異なる第２の画像フォーマットに対応する修正電子
透かしパターンを生成する処理を実行する電子透かしパ
ターン修正ステップと、前記電子透かしパターン修正ス
テップにおいて修正された電子透かしパターンをデータ
に埋め込む処理を実行する電子透かしパターン埋め込み
ステップと、を有することを特徴とするプログラム記憶
媒体にある。

【０１０４】さらに、本発明の第６の側面は、データか
らの電子透かしパターン検出処理を実行する電子透かし
検出処理をコンピュータ・システム上で実行せしめるコ
ンピュータ・プログラムを提供するプログラム記憶媒体
であって、予め設定された第１の画像フォーマットに対
応する電子透かしパターンを生成する電子透かしパター
ン生成ステップと、前記電子透かしパターン生成ステッ
プにおいて生成した電子透かしパターンに基づいて、前
記第１の画像フォーマットと異なる第２の画像フォーマ
ットに対応する修正電子透かしパターンを生成する処理
を実行する電子透かしパターン修正ステップと、前記電
子透かしパターン修正ステップにおいて修正された電子
透かしパターンに基づいて電子透かしパターンの検出処
理を実行する検出ステップと、を有することを特徴とす
るプログラム記憶媒体にある。

【０１０５】さらに、本発明の第７の側面は、データに
対する電子透かしパターン埋め込み処理をコンピュータ
・システム上で実行せしめるプログラムであって、予め
設定された第１の画像フォーマットに対応する電子透か
しパターンを生成する電子透かしパターン生成ステップ
と、前記電子透かしパターン生成ステップにおいて生成
した電子透かしパターンに基づいて、前記第１の画像フ
ォーマットと異なる第２の画像フォーマットに対応する
修正電子透かしパターンを生成する処理を実行する電子
透かしパターン修正ステップと、前記電子透かしパター
ン修正ステップにおいて修正された電子透かしパターン
をデータに埋め込む処理を実行する電子透かしパターン
埋め込みステップと、を有することを特徴とするプログ
ラムにある。

【０１０６】さらに、本発明の第８の側面は、データか
らの電子透かしパターン検出処理を実行する電子透かし
検出処理をコンピュータ・システム上で実行せしめるプ
ログラムであって、予め設定された第１の画像フォーマ
ットに対応する電子透かしパターンを生成する電子透か
しパターン生成ステップと、前記電子透かしパターン生
成ステップにおいて生成した電子透かしパターンに基づ
いて、前記第１の画像フォーマットと異なる第２の画像
フォーマットに対応する修正電子透かしパターンを生成
する処理を実行する電子透かしパターン修正ステップ
と、前記電子透かしパターン修正ステップにおいて修正
された電子透かしパターンに基づいて電子透かしパター
ンの検出処理を実行する検出ステップと、を有すること
を特徴とするプログラムにある。

【０１０７】なお、本発明のプログラムは、例えば、様
々なプログラム・コードを実行可能な汎用コンピュータ
・システムに対して、コンピュータ可読な形式で提供す
る媒体、例えば、ＣＤやＦＤ、ＭＯなどの記憶媒体に格
納されて提供可能であり、本発明のプログラム記憶媒体
は、例えば、様々なプログラム・コードを実行可能な汎
用コンピュータ・システムに対して、コンピュータ・プ
ログラムをコンピュータ可読な形式で提供する媒体であ
る。媒体は、ＣＤやＦＤ、ＭＯなどの記録媒体、あるい
は、ネットワークなどの伝送媒体など、その形態は特に
限定されない。

【０１０８】このようなプログラムは、プロセッサ制御
の下でプログラムの読み取りに基づき、システムの有す
る各種機能の実行を規程するとともに、システム上の協
働的作用を発揮するものであり、本発明の他の側面と同
様の作用効果を得ることができるものである。

【０１０９】本発明のさらに他の目的、特徴や利点は、
後述する本発明の実施例や添付する図面に基づくより詳
細な説明によって明らかになるであろう。

【０１１０】

【発明の実施の形態】まず、本発明における電子透かし
の埋め込み処理と検出処理に適用される画像に対して実
行されるフォーマット変換処理について説明する。な
お、以下ではフォーマット変換の例としてテレビ放送な
どに用いられる例えばハイビジョン画像と呼ばれる高画
質画像（ＨＤ:High Definition）と、従来の標準画像
（ＳＤ：Standard Definition）との変換例を説明する
が、本発明は、ＨＤ画像とＳＤ画像間の変換処理のみに
適用されるものではなく、他の異なるアスペクト比（画
像の縦と横の長さの比）や画像サイズを持つ画像変換処
理においても適用可能である。

【０１１１】［画像のフォーマット変換］ＨＤ画像（高
画質画像（ＨＤ:High Definition））データは、従来の
ＳＤ画像（標準画像（ＳＤ：Standard Definition））
と異なるアスペクト比と画像サイズ（解像度）を持つ画
像であり、例えば再生装置側に高画質画像（以下ＨＤ画
像とする）の処理機能がない場合は、ＨＤ画像を標準画
像（以下ＳＤ画像とする）に変換（ダウンコンバート）
する処理が実行されて表示される。また、逆にＳＤ画像
からＨＤ画像への変換処理（アップコンバート）が実行
される。画像のサイズ（解像度）やアスペクト比等を変
換することを画像のフォーマット変換という。

【０１１２】図１９に電子透かし埋め込み画像のフォー
マット変換処理について説明する図を示す。図１９
（ａ）は、画像サイズ７２０×４８０のＳＤ(Standard
Definition)画像に電子透かしパターンを埋め込み、そ
の画像をアップコンバートして画像サイズ１９２０×１
０８０のＨＤ(High Definition)画像にした後、電子透
かしを検出する処理を示している。図１９（ｂ）は、
（ａ）の逆の処理であり、画像サイズ１９２０×１０８
０のＨＤ(High Definition)画像に電子透かしパターン
を埋め込み、その画像をダウンコンバートして画像サイ
ズ７２０×４８０のＳＤ(Standard Definition)画像に
した後、電子透かしを検出する処理を示している。

【０１１３】従来は、このような画像変換を行なうと、
先述したように電子透かしを埋め込んだ各小領域（例え
ばＳＤ画像の８×８ピクセル）がコンバート後の小領域
として設定されるピクセル数が整数値にならず、前述の
［数１］：Σ_i,jＷ_i,j＝０を満足せず、電子透かしの検
出エラーが発生してしまうという結果を招いていた。

【０１１４】本発明の構成は、このようなエラーの発生
しない構成を提供するものである。本発明の構成におい
て、ＳＤ画像で電子透かしを埋め込み、これをＨＤ画像
に変換する場合のＨＤ画像の小領域の設定構成例を図２
０を用いて説明する。

【０１１５】［小領域の設定および電子透かしパター
ン］図２０はＨＤ画像の小領域Ａ、Ｂ、Ｃを切り出した
構成を示している。図１６、図１７の小領域Ａ，Ｂ，Ｃ
と同様である。例えばＳＤ画像の各小領域（８×８ピク
セル）に電子透かしを埋め込み（図７，８参照）、その
後、ＳＤ画像からＨＤ画像へのアップコンバート処理を
実行した例であり、変換前のＳＤ画像の小領域（８×８
ピクセル）が変換後のＨＤ画像の２２×１８ピクセルの
小領域Ａ，Ｂ，Ｃに対応する。

【０１１６】図２０の各小領域は、重なった部分を両サ
イドの小領域両方に含めている。すなわち、例えば小領
域Ａと小領域Ｂの重なりの領域部分２００１は小領域Ａ
の電子透かしの検出のときにも、小領域Ｂの電子透かし
の検出のときにも使用されることになる。小領域Ｂと小
領域Ｃの重なりの領域部分２００２も同様である。小領
域Ｂの電子透かしの検出のときにも、小領域Ｃの電子透
かしの検出のときにも使用されることになる。

【０１１７】本発明の構成では、画像フォーマット変換
後の画像である図２０の画像中に設定される各小領域
Ａ，Ｂ，Ｃは一定サイズを有し、この決められたサイズ
の小領域毎に、画像フォーマット変換前の電子透かしパ
ターン埋め込み画像中の電子透かしと同様のパターンを
精度良く埋め込み、また検出することができる。

【０１１８】小領域Ａに当てはめる電子透かしパターン
Ｗ_HDの例を図２１に示す。図２１において、垂直方向は
１８ピクセルであるが、上９ピクセルと下９ピクセルは
同じ値を持つので上９ピクセルのみのパターン内の値を
示した。また、電子透かしパターンＷ_HDの要素値は±１
に限定していない。この電子透かしパターンＷ_HDは、Ｈ
Ｄ画像の小領域Ａに対応するＳＤ画像の小領域の電子透
かしパターンＷ_SDを完全に反映させており、電子透かし
パターンＷ_HDの各要素値の総和は０となる。

【０１１９】この図２１に示す電子透かしパターンＷ_HD
の定め方の例を図２２に示す。ＳＤ画像サイズ２１０１
をＨＤ画像サイズに変換するとき、ＳＤ画像サイズにお
けるピクセルはＨＤ画像サイズにおいて、水平方向に１
／３ピクセル、垂直方向に１／４ピクセルの端数を持
つ。すなわち、画像サイズ７２０×４８０のＳＤ(Stand
ard Definition)画像と画像サイズ１９２０×１０８０
のＨＤ(High Definition)画像において、ＳＤ画像サイ
ズにおける１ピクセルは、ＨＤ画像の水平方向におい
て、（１９２０／７２０）＝（２＋２／３）ピクセルと
なり、ＨＤ画像の垂直方向において、（１０８０／４８
０）＝（２＋１／４）ピクセルとなり、ＳＤ画像サイズ
における各ピクセルはＨＤ画像サイズにおいて、水平方
向に１／３ピクセル、垂直方向に１／４ピクセルの端数
を持つ。

【０１２０】この端数を整数で扱えるようにするため
に、ＨＤ画像サイズを水平方向に３倍、垂直方向に４倍
した画像サイズ２１０２を考える。この画像サイズ２１
０２は、ＨＤ画像が１９２０×１０８０であるから、
（１９２０×３）×（１０８０×４）、すなわち５７６
０×４３２０のサイズとなる。この５７６０×４３２０
のサイズは、ＳＤ画像サイズ７２０×４８０を水平方向
に８倍、垂直方向に９倍したものとなる。すなわちＨＤ
画像、ＳＤ画像の双方の整数倍の最小の画像サイズであ
り、最小公倍数の画像サイズである。

【０１２１】この最小公倍数の画像サイズ（５７６０×
４３２０）では例えばＳＤ画像サイズにおける３×４ピ
クセルは、２４×３６ピクセルに相当する。最小公倍数
の画像サイズ２１０２において２４×３６ピクセルは、
ＨＤ画像サイズでは８×９ピクセルとなる。

【０１２２】すなわち、ＳＤ画像サイズにおける３×４
ピクセルは、最小公倍数の画像サイズ（５７６０×４３
２０）では２４×３６ピクセル、ＨＤ画像サイズでは８
×９ピクセルとなり、すべて整数値として設定可能とな
る。

【０１２３】ＨＤ画像サイズにおける８×９ピクセルを
構成する各１ピクセルは、最小公倍数の画像サイズ（５
７６０×４３２０）においては、（２４／８）×（３６
／９）＝３×４ピクセルとなる。最小公倍数の画像サイ
ズ（５７６０×４３２０）における３×４ピクセルにお
ける各ピクセル値を白または黒の±１として設定する
と、３×４の１２ピクセルの取り得る値の総和は−１
２，…，＋１２となる。この最小公倍数の画像サイズ
（５７６０×４３２０）における３×４ピクセルにおけ
る総和として求められる値−１２，…，＋１２をＨＤ画
像サイズにおける８×９ピクセルを構成する各１ピクセ
ルに対応して設定することで、ＨＤ画像サイズにおける
電子透かしパターンの要素値が図２１に示したように−
１２，…，＋１２として設定される。

【０１２４】図２１と図２２で示したＨＤ画像における
電子透かしパターンＷ_HDの定め方を、画像サイズと埋め
込む電子透かしパターンの大きさが同じ場合について改
めて図２３を用いて説明する。

【０１２５】ＳＤ画像２２０１の水平方向サイズを
Ｘ_SD、垂直方向サイズをＹ_SDとし、ＨＤ画像２２０３の
水平方向サイズをＸ_HD、垂直サイズをＹ_HDとする。Ｘ_SD
とＸ_HDの最小公倍数をＸ_LCM＝lcm（Ｘ_SD，Ｘ_HD）と表
し、Ｙ_SDとＹ_HDの最小公倍数をＹ_{LC M}＝lcm（Ｙ_SD，
Ｙ_HD）と表すことにする。すると、水平方向サイズがＸ
_LCM、垂直方向がＹ_LCMである画像サイズ２２０２は、Ｓ
Ｄ画像サイズ２２０１からも、ＨＤ画像サイズ２２０３
からも整数倍で求まる画像サイズである。

【０１２６】この最小公倍数に対応する画像サイズ２２
０２を用いてＨＤ画像サイズ２２０３における電子透か
しパターンＷ_HDを求める。まず、ＳＤ画像サイズ２２０
１を最小公倍数に対応する画像サイズ２２０２に変換す
る。このとき、ＳＤ画像サイズにおける電子透かしパタ
ーンＷ_SDの要素値を画像サイズ２２０２における電子透
かしパターンＷ_LCMでもそのまま用いる。

【０１２７】次に、画像サイズ２２０２に拡大された電
子透かしパターンＷ_LCMを、ＨＤ画像サイズの電子透か
しパターンＷ_HDにおける１要素に対応する単位領域２２
０４ごとにまとめる。その単位領域２２０４のサイズ
は、水平方向はＸ_LCM／Ｘ_HDであり、垂直方向はＹ_LCM／
Ｙ_HDである。ＨＤ画像サイズ２２０３における電子透か
しパターンＷ_HDの１要素に対応する単位領域２２０４ご
とにまとめられた値はそのままＨＤ画像サイズの電子透
かしパターンＷ_HDの要素値となる。このようにして得ら
れる電子透かしパターンＷ_HDは、ＳＤ画像サイズの電子
透かしパターンＷ_SDをよく近似し、かつ、［数１］を満
たしたものとなる。画像に埋め込む電子透かしパターン
のサイズが画像サイズより小さい場合も考え方は同様で
ある。

【０１２８】ＳＤ画像サイズの電子透かしパターンＷ_SD
からＨＤ画像サイズの電子透かしパターンＷ_HDを求める
図２３に示した方法の処理の流れを図２４のフローチャ
ートを用いて説明する。

【０１２９】まずステップ２４０１でＳＤ画像サイズの
電子透かしパターンＷ_SDを準備する。続いて、２４０２
では、ＳＤ画像サイズとＨＤ画像サイズの最小公倍数と
なる画像サイズに電子透かしパターンＷ_SDを拡大して電
子透かしパターンＷ_LCMを求める。２４０３では、この
電子透かしパターンＷ_LCM内の要素を（Ｘ_LCM／Ｘ_HD）×
（Ｙ_LCM／Ｙ_HD）単位に総和を求める。ここで求めた各
々の総和を、２４０４ではＨＤ画像サイズの電子透かし
パターンＷ_HDの１つの要素の値として構成する。電子透
かしパターンＷ_HDの全要素の値が定まれば終了である。

【０１３０】図２３を用いた説明、および図２４の処理
フローはＳＤ画像サイズの電子透かしパターンＷ_SDから
ＨＤ画像サイズの電子透かしパターンＷ_HDを求める処理
例を示しているが、ＨＤ画像サイズの電子透かしパター
ンＷ_HDからＳＤ画像サイズの電子透かしパターンＷ_SDを
求める処理についても、同様に実行可能である。また、
例に示したＳＤ画像サイズ、ＨＤ画像サイズ以外の画像
間における処理も同様に実行できる。

【０１３１】また、図２３、図２４では、ＳＤ画像サイ
ズとＨＤ画像サイズの最小公倍数の画像サイズを用い
て、ＳＤ画像サイズの電子透かしパターンＷ_SDからＨＤ
画像サイズの電子透かしパターンＷ_HDを導いた。だが、
図２０のような重なりを許した小領域の設定方法を用い
れば、ＳＤ画像サイズの電子透かしパターンＷ_SDからＨ
Ｄ画像サイズの電子透かしパターンＷ_HDを直接求めるこ
とも可能である。例えば、精度の高い補間などである。
但し、電子透かしパターンＷ_HDは、前述の［数１］を満
たすように注意が必要である。

【０１３２】ここまでの例で用いてきたＳＤ画像サイズ
とＨＤ画像サイズでは、図１６のように全ての各小領域
間において重なりが生じるということはなかったが、一
般には全ての各小領域間において重なりが生じる可能性
がある。よって、重なりを考慮した場合、図８に示した
元画像サイズにおける各小領域は、画像フォーマットの
変換の後で図２５のように各隣接する小領域間に重なり
２５０１を持ったものになる。従って、この変換後の小
領域に合わせて、検出に用いる電子透かしパターンを用
意することになる。

【０１３３】画像フォーマットの変換後の画像から電子
透かしを検出するために用意された上記電子透かしパタ
ーンを、電子透かしの埋め込み時に利用することでコン
バート処理のなされた画像おいても正確で効率のよい電
子透かし検出が可能となる。

【０１３４】例えば、ＳＤ画像で最も効率良く電子透か
しを検出するために、図２３,図２４を用いて説明した
方法にてＨＤ画像用の電子透かしパターンＷ_HDを作成す
る。この電子透かしパターンＷ_HDをＨＤ画像に埋め込ん
だ場合、この電子透かしの埋め込まれたＨＤ画像がダウ
ンコンバートされて得られるＳＤ画像上の電子透かしパ
ターンは、ＳＤ画像にＳＤ画像用の電子透かしパターン
Ｗ_SDを埋め込んだ場合と同様なものとなる。

【０１３５】［電子透かし埋め込み処理装置］ＳＤ画像
またはＨＤ画像において埋め込まれた電子透かしをＨＤ
画像またはＳＤ画像に変換し、変換後の画像おいても正
確な電子透かし検出を可能とする電子透かしの埋め込み
処理装置の構成における処理例を図２６に示す。

【０１３６】元画像２６０１は、電子透かしパターンの
埋め込み対象画像であり例えばハードディスク、ＤＶＤ
などの記憶媒体から読み出されたり、あるいはスキャ
ナ、デジタルカメラなどの画像取り込み装置から供給さ
れた画像など、様々な画像が含まれる。

【０１３７】電子透かしパターン生成部２６０４は画像
に埋め込む埋め込み情報２６０２と電子透かしパターン
生成キー（key)記憶部２６０３の電子透かしパターン生
成キー（key)から電子透かしパターンを生成する。

【０１３８】埋め込み情報２６０２は、電子透かしとし
て埋め込む情報であり、複製制御情報、著作権情報、編
集情報など様々であり、任意な情報である。電子透かし
パターン生成キー（key）は、具体的には電子透かしパ
ターンを画像に埋め込む際の画像分割情報や、ビット配
列情報などであり、埋め込み情報２６０２を電子透かし
パターンとして生成するために必要となる加工情報であ
る。

【０１３９】電子透かしパターン修正部２６０５は電子
透かしパターン生成部２６０４にて生成された電子透か
しパターンを、画像情報検査部２６０６から得られる元
画像２６０１の画像フォーマットに従って修正する。

【０１４０】例えば、ＨＤ画像に電子透かしを埋め込む
処理である場合において、ＳＤ画像でも正確に効率良く
電子透かしを検出するために、図２３,図２４を用いて
説明した方法に従ってＳＤ画像用の電子透かしパターン
Ｗ_SDを修正し、ＨＤ画像用の電子透かしパターンＷ_HDを
得る。また、ＳＤ画像に電子透かしを埋め込む処理であ
る場合において、ＨＤ画像でも正確に効率良く電子透か
しを検出するために、図２３,図２４を用いて説明した
方法に従ってＨＤ画像用の電子透かしパターンＷ_HDを修
正し、ＳＤ画像用の電子透かしパターンＷ_SDを得る。

【０１４１】図２７に電子透かしパターン修正部２６０
５の詳細を示す。電子透かしパターン修正部２６０５
は、変換処理前後画像の最小公倍数画像における電子透
かしパターンＷ_LCM生成手段２６１１と、変換処理前
（埋め込み対象）画像の電子透かしパターンＷｂ生成手
段２６１２を有する。電子透かしパターン生成部２６０
４は、変換処理後画像に対応する電子透かしパターンＷ
ａを生成する。

【０１４２】電子透かしパターン修正部２６０５の電子
透かしパターンＷ_LCM生成手段２６１１は、電子透かし
を埋め込む画像情報の持つ画像サイズと、電子透かしパ
ターン生成部２６０４の生成した電子透かしパターンに
対応する変換後の画像サイズとから両画像の最小公倍数
画像における電子透かしパターンＷ_LCMを生成する。こ
れは図２４のフロー２４０２に従った処理である。

【０１４３】電子透かしパターンＷ_LCM生成手段２６１
１の生成した電子透かしパターンＷ_{L CM}は、電子透かし
パターンＷｂ生成手段２６１２に入力され、電子透かし
パターンＷｂ生成手段２６１２において、図２４のフロ
ー２４０３、２４０４に従った処理が実行されて変換処
理前（埋め込み対象）画像の電子透かしパターンＷｂが
生成され、生成された電子透かしパターンＷｂが電子透
かしパターン埋め込み部２６０７に出力される。なお、
この際、電子透かしが例えば多ビット構成であり小領域
に埋め込む方式が採用される場合は、図２２で説明した
重複領域を有する小領域の設定処理が実行され、設定さ
れた小領域に応じて電子透かしパターンＷｂが生成され
る。

【０１４４】電子透かしパターン埋め込み部２６０７で
は、電子透かしパターン修正部２６０５にて生成された
電子透かしパターンを元画像２６０１へ埋め込む。元画
像のエッジ部分や平坦部分での電子透かしパターンの埋
め込み強度を調整するのはこの電子透かしパターン埋め
込み部２６０７である。電子透かしパターンの埋め込ま
れた画像は電子透かし埋め込み画像２６０８として出力
される。

【０１４５】図２６、図２７の処理構成によれば、ＳＤ
画像で正確に電子透かしが検出できるようにＨＤ画像に
修正された電子透かしパターンを埋め込んだり、ＨＤ画
像で正確に電子透かしが検出できるようにＳＤ画像に修
正された電子透かしパターンを埋め込む処理が可能とな
る。

【０１４６】［電子透かし検出処理装置］次に、ＳＤ画
像またはＨＤ画像において埋め込まれた電子透かしをＨ
Ｄ画像またはＳＤ画像に変換が実行され、変換後の画像
おいても正確な電子透かし検出を可能とする電子透かし
の検出処理装置の構成における処理例を図２８に示す。

【０１４７】電子透かしパターン生成部２８０３は電子
透かしパターン生成キー（key)記憶部２８０２の電子透
かしパターン生成キー（key)から電子透かしパターンを
生成する。

【０１４８】電子透かしパターン生成キー（key）は、
具体的には電子透かしパターンを画像に埋め込む際の画
像分割情報や、ビット配列情報などであり、電子透かし
パターンの検出に必要となる情報である。

【０１４９】電子透かしパターン修正部２８０４は、画
像情報検査部２８０５にて得られる入力画像２８０１の
画像フォーマットを用いて、電子透かしパターン生成部
２８０３で生成された電子透かしパターンを修正する。

【０１５０】図２９に電子透かしパターン修正部２８０
４の詳細を示す。電子透かしパターン修正部２８０４
は、変換処理前後画像の最小公倍数画像における電子透
かしパターンＷ_LCM生成手段２８１１と、変換処理後
（検出対象）画像に適用する電子透かしパターンＷｂ生
成手段２８１２を有する。電子透かしパターン生成部２
８０４は、変換処理前画像に対応する電子透かしパター
ンＷａを生成する。

【０１５１】電子透かしパターン修正部２８０４の電子
透かしパターンＷ_LCM生成手段２８１１は、電子透かし
を検出する画像情報の持つ画像サイズと、電子透かしパ
ターン生成部２８０３の生成した電子透かしパターンに
対応する変換前の画像サイズとから両画像の最小公倍数
画像における電子透かしパターンＷ_LCMを生成する。こ
れは図２４のフロー２４０２に従った処理である。

【０１５２】電子透かしパターンＷ_LCM生成手段２８１
１の生成した電子透かしパターンＷ_{L CM}は、電子透かし
パターンＷｂ生成手段２８１２に入力され、電子透かし
パターンＷｂ生成手段２８１２において、図２４のフロ
ー２４０３、２４０４に従った処理が実行されて変換処
理後（検出対象）画像用の電子透かしパターンＷｂが生
成され、生成された電子透かしパターンＷｂが検出部２
８０６に出力される。なお、この際、電子透かしが例え
ば多ビット構成であり小領域に埋め込む方式が採用され
ている場合は、図２２で説明した重複領域を有する小領
域の設定処理が実行され、設定された小領域に応じて電
子透かしパターンＷｂが生成される。

【０１５３】なお、前述したように、各小領域間におけ
る重なりを考慮した場合、図８に示した元画像サイズに
おける各小領域は、画像フォーマットの変換の後で図２
５のように各隣接する小領域間に重なり２５０１を持っ
たものになる。従って、この変換後の小領域に合わせ
て、検出に用いる電子透かしパターンを用意することに
なる。

【０１５４】図２０のような重なりを許した小領域の設
定方法を用いれば、ＳＤ画像サイズの電子透かしパター
ンＷ_SDからＨＤ画像サイズの電子透かしパターンＷ_HDを
直接求めることも可能である。例えば、精度の高い補間
などである。但し、電子透かしパターンＷ_HDは、前述の
［数１］を満たすように注意が必要である。

【０１５５】検出部２８０６では、電子透かしパターン
修正部２８０４にて修正された電子透かしパターンＷｂ
を用いて、入力画像２８０１の電子透かしを検出する。
検出部２８０６にて検出された情報は検出情報２８０７
として出力される。

【０１５６】図２８、図２９の処理構成によれば、電子
透かしの埋め込み後にＳＤ画像、ＨＤ画像間の変換が実
行された画像であっても画像で正確に電子透かしが検出
できる。

【０１５７】［システム構成］上述の実施例で述べた一
連の処理は、ハードウェア、またはソフトウェア、ある
いは両者の複合構成によって実行することが可能であ
る。ソフトウェアによる処理を実行する場合は、処理シ
ーケンスを記録したプログラムを、専用のハードウェア
に組み込まれたデータ処理装置内のメモリにインストー
ルして実行させるか、あるいは、各種処理が実行可能な
汎用コンピュータにプログラムをインストールして実行
させることが可能である。一連の処理をソフトウェアに
よって行う場合には、そのソフトウェアを構成するプロ
グラムが、例えば汎用のコンピュータや１チップのマイ
クロコンピュータ等にインストールされる。図３０は、
上述した一連の処理、具体的には、電子透かしの生成、
埋め込み、検出の少なくともいずれかの処理を実行する
装置のシステム構成例を示している。

【０１５８】システムは、ＣＰＵ(Central Processing
Unit)２０２を有する。ＣＰＵ(Central processing Uni
t)２０２は、各種アプリケーションプログラムや、ＯＳ
（Operating System）を実際に実行する。ＲＯＭ（Read
-Only-Memory）２０３は、ＣＰＵ２０２が実行するプロ
グラム、あるいは演算パラメータとしての固定データを
格納する。ＲＡＭ（Random Access Memory）２０４は、
ＣＰＵ２０２の処理において実行されるプログラム、お
よびプログラム処理において適宜変化するパラメータの
格納エリア、ワーク領域として使用される。ＣＰＵ２０
２、ＲＯＭ２０３、ＲＡＭ２０４、およびハードディス
ク２０５はバス２０１によって接続されており、相互に
データ転送が実行可能である。さらに入出力インタフェ
ース２１１に接続された各種入出力装置とのデータ転送
が可能となっている。

【０１５９】キーボード２１２、マウス２１３はＣＰＵ
２０２に各種の指令を入力するためにユーザにより操作
され、コマンド入力データ入力などの際にユーザによっ
て操作され、キーボードマウスコントローラ２１１介し
て入力される。

【０１６０】ドライブ２０９は、フロッピー（登録商
標）ディスク、ＣＤ−ＲＯＭ(Compact Disc Read Only
Memory)，ＭＯ(Magneto optical)ディスク，ＤＶＤ(Dig
ital Versatile Disc)、磁気ディスク、半導体メモリな
どのリムーバブル記録媒体２１０の記録再生を実行する
ドライブであり、各リムーバブル記録媒体２１０からの
プログラムまたはデータ再生、リムーバブル記録媒体２
１０に対するプログラムまたはデータ格納を実行する。

【０１６１】ＣＰＵ２０２は、入出力インタフェース２
１０を介して、キーボード２１２やマウス２１３等を介
して指令が入力されると、入力にしたがって、ＲＯＭ(R
eadOnly Memory)２０３に格納されているプログラムを
実行する。

【０１６２】上述の実施例における電子透かしの埋め込
み対象となる画像、あるいは検出対象となる画像は、入
力部２０７に接続されたカメラ２０７１他の入力機器、
例えばスキャナ等のデータ入力装置、あるいはドライブ
２０９に接続されたフロッピーディスク、ＣＤ−ＲＯＭ
(Compact Disc Read Only Memory)，ＭＯ(Magneto opti
cal)ディスク，ＤＶＤ(Digital Versatile Disc)、磁気
ディスク、半導体メモリなどのリムーバブル記録媒体２
１０から入力可能である。なお、本システムは音声デー
タの入力もマイク２０７２を介して可能な構成である。
さらに、通信部２０８を介して受信するデータを電子透
かしの埋め込み対象とする画像データ、あるいは検出対
象となる画像データとして処理することも可能である。

【０１６３】ＣＰＵ２０２は、ＲＯＭ格納プログラムに
限らず、ハードディスク２０５に格納されているプログ
ラム、衛星若しくはネットワークから転送され、通信部
２０８で受信されてハードディスク２０５にインストー
ルされたプログラム、またはドライブ２０９に装着され
たリムーバブル記録媒体２１０から読み出されてハード
ディスク２０５にインストールされたプログラムを、Ｒ
ＡＭ(Random Access Memory)２０４にロードして実行す
ることも可能である。

【０１６４】図３０に示す構成を持つシステムにおい
て、ＣＰＵ２０２は、上述した各実施例にしたがった処
理、あるいは上述したブロック図、フローチャートに従
って行われる処理を行う。そして、ＣＰＵ２０２は、そ
の処理結果を、必要に応じて、例えば、入出力インタフ
ェース２１１を介して、ＬＣＤ(Liquid Crystal Displa
y)やＣＲＴなどの表示装置２０６１、スピーカ２０６２
に対して出力部２０６を介して出力する。また、処理デ
ータは通信部２０８からの送信、さらには、ハードディ
スク２０５等の記録媒体に対する格納処理が可能であ
る。

【０１６５】各種処理の実行プログラムは、システムに
内蔵されている記録媒体としてのハードディスク２０５
やＲＯＭ２０３に予め記録しておくことができる。ある
いは、プログラムはフロッピーディスク、ＣＤ−ＲＯＭ
(Compact Disc Read Only Memory)，ＭＯ(Magneto opti
cal)ディスク，ＤＶＤ(Digital Versatile Disc)、磁気
ディスク、半導体メモリなどのリムーバブル記録媒体２
１０に、一時的あるいは永続的に格納（記録）しておく
ことができる。このようなリムーバブル記録媒体２１０
は、いわゆるパッケージソフトウエアとして提供するこ
とができる。

【０１６６】なお、プログラムは、上述したようなリム
ーバブル記録媒体２１０からコンピュータにインストー
ルする他、ダウンロードサイトから、ディジタル衛星放
送用の人工衛星を介して、コンピュータに無線で転送し
たり、ＬＡＮ(Local Area Network)、インターネットと
いったネットワークを介して、コンピュータに有線で転
送し、コンピュータでは、そのようにして転送されてく
るプログラムを、通信部２０８で受信し、内蔵するハー
ドディスク２０５にインストールすることができる。

【０１６７】ここで、本明細書において、コンピュータ
に各種の処理を行わせるためのプログラムを記述する処
理ステップは、必ずしもフローチャートとして記載され
た順序に沿って時系列に処理する必要はなく、並列的あ
るいは個別に実行される処理（例えば、並列処理あるい
はオブジェクトによる処理）も含むものである。

【０１６８】また、プログラムは、１つのコンピュータ
により処理されるものであっても良いし、複数のコンピ
ュータによって分散処理されるものであっても良い。さ
らに、プログラムは、遠方のコンピュータに転送されて
実行されるものであっても良い。

【０１６９】以上、特定の実施例を参照しながら、本発
明について詳解してきた。しかしながら、本発明の要旨
を逸脱しない範囲で当業者が該実施例の修正や代用を成
し得ることは自明である。実施例では、電子透かしの埋
め込み、検出処理対象としてＨＤおよびＳＤ画像信号に
ついて説明してきたが、本発明の構成は、これらの特定
の画像信号に限定されず、フォーマット変換処理の実行
される可能性のある信号に対して適用可能である。すな
わち、例示という形態で本発明を開示してきたのであ
り、限定的に解釈されるべきではない。本発明の要旨を
判断するためには、冒頭に記載した特許請求の範囲の欄
を参酌すべきである。

【０１７０】なお、明細書に記載された各種の処理は、
記載に従って時系列に実行されるのみならず、処理を実
行する装置の処理能力あるいは必要に応じて並列的にあ
るいは個別に実行されてもよい。また、本明細書におい
てシステムとは、複数の装置の論理的集合構成であり、
各構成の装置が同一筐体内にあるものには限らない。

【０１７１】

【発明の効果】以上、説明してきた本発明の構成によれ
ば、以下に説明する様々な効果が得られる。画像フォー
マットが変換された画像においても、電子透かし埋め込
み画像の画像フォーマットが変換される前の電子透かし
パターンを精度良く近似することができることから、電
子透かしが埋め込まれた画像が画像フォーマットの変換
処理をされても、埋め込まれた電子透かしを確実に検出
することができる。

【０１７２】さらに、本発明の構成によれば、電子透か
しの埋め込みに際し、フォーマット変換前後の画像サイ
ズの最小公倍数画像サイズを設定し、最小公倍数画像に
おいて変換後の画像における電子透かしの値を設定し
て、その値に基づいて変換前の画像における電子透かし
を設定し、これを画像に埋め込むように構成したので電
子透かしを埋め込んだ画像のフォーマット変換処理がな
されても、変換後の画像から電子透かしを確実に検出す
ることができる。

【０１７３】さらに、本発明の構成によれば、電子透か
しが埋め込まれた画像のフォーマット変換処理がなされ
ても、電子透かしを確実に検出することができることか
ら、もっともスタンダードな画像フォーマットに基づい
て電子透かしパターンを埋め込んでおけば、その画像が
他の画像フォーマットに変換されても確実に検出できる
ことになるので、画像フォーマットは様々あるものの、
電子透かしパターンの埋め込みをもっともスタンダード
な画像フォーマットを前提にして行なうことができる。

【０１７４】さらに、本発明の構成によれば、例えばＳ
Ｄ画像で電子透かしの検出が必要である場合に、上述し
た方法に従ってＨＤ画像用の電子透かしパターンＷ_HDを
ＨＤ画像に埋め込んだとしても、電子透かしの埋め込ま
れたＨＤ画像がダウンコンバートされて得られるＳＤ画
像上の電子透かしパターンは、ＳＤ画像にＳＤ画像用の
電子透かしパターンＷ_SDを埋め込んだ場合と同様なもの
となる。このように、ＳＤ画像で正確に効率良く検出で
き、かつＨＤ画像用としても適用される電子透かしパタ
ーンが利用可能となる。これはＳＤ画像とＨＤ画像の間
だけでなく、様々な画像フォーマットの異なる画像間で
も適用可能となる。

【０１７５】さらに、本発明の構成によれば、電子透か
しパターンが埋め込まれる各小領域を重複を許して設定
することにより、画像フォーマットが変換された画像に
おいても、決められたサイズの小領域毎に、画像フォー
マットが変換される前の電子透かしパターン埋め込み画
像中の電子透かしと同様のパターンを精度良く埋め込み
または検出することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】元画像と電子透かしパターン、電子透かし埋め
込み画像と電子透かしパターンの内積値の相対頻度分布
を説明する図である。

【図２】電子透かしの有無の判別基準を説明する図であ
る。

【図３】電子透かしの検出に適用される閾値（ｔｈ）を
説明する図である。

【図４】電子透かし埋め込み量をもっとも少なくする閾
値（ｔｈ）を説明する図である。

【図５】確率ｐ_FPとｐ_FNが小さい場合の閾値（ｔｈ）を
説明する図である。

【図６】複数の電子透かしパターンの画像への埋め込み
処理を説明する図である。

【図７】元画像の小領域への分割を説明する図である。

【図８】同一情報ビットの複数小領域への割り当てを説
明する図である。

【図９】電子透かしパターンの埋め込み装置の処理につ
いて説明する図である。

【図１０】電子透かしの検出装置の処理について説明す
る図である。

【図１１】ＨＤ画像とＳＤ画像の変換処理について説明
する図である。

【図１２】ＨＤ画像とＳＤ画像の変換処理について説明
する図である。

【図１３】ＨＤ画像とＳＤ画像の変換処理について説明
する図である。

【図１４】ＨＤ画像とＳＤ画像の変換処理におけるピク
セルの対応について説明する図である。

【図１５】ＨＤ画像とＳＤ画像の変換処理におけるピク
セルの対応について説明する図である。

【図１６】ＨＤ画像とＳＤ画像の変換処理における小領
域設定調整について説明する図である。

【図１７】ＨＤ画像とＳＤ画像の変換処理における小領
域設定調整について説明する図である。

【図１８】ＨＤ画像とＳＤ画像の変換処理における小領
域設定の問題点について説明する図である。

【図１９】ＨＤ画像とＳＤ画像の変換処理について説明
する図である。

【図２０】ＨＤ画像とＳＤ画像の変換時の小領域設定処
理について説明する図である。

【図２１】ＳＤ画像からＨＤ画像へ変換した場合の電子
透かしの設定値について説明する図である。

【図２２】ＳＤ画像とＨＤ画像との変換処理において適
用される最小公倍数画像について説明する図である。

【図２３】ＳＤ画像とＨＤ画像との最小公倍数画像を用
いた変換処理について説明する図である。

【図２４】ＳＤ画像とＨＤ画像との最小公倍数画像を用
いた変換処理について説明するフロー図である。

【図２５】ＳＤ画像とＨＤ画像との変換処理において重
なり領域を持つ小領域構成について説明する図である。

【図２６】電子透かしパターンの修正を行なって埋め込
む処理を実行する電子透かしパターン埋め込み装置にお
ける処理例を説明する図である。

【図２７】電子透かしパターン埋め込み装置における電
子透かしパターン修正部を中心とした詳細構成図であ
る。

【図２８】電子透かしパターンの修正を行なって電子透
かし検出処理を実行する電子透かしパターン検出装置に
おける処理例を説明する図である。

【図２９】電子透かしパターン検出装置における電子透
かしパターン修正部を中心とした詳細構成図である。

【図３０】電子透かしの生成、埋め込み、検出の少なく
ともいずれかの処理を実行するシステム構成例を示す図
である。

【符号の説明】

２０２ ＣＰＵ ２０３ ＲＯＭ ２０４ ＲＡＭ ２０５ ハードディスク ２０６ 出力部 ２０７ 入力部 ２０８ 通信部 ２０９ ドライブ ２１０ リムーバブル記録媒体 ２１１ キーボードマウスコントローラ ２１２ キーボード ２１３ マウス ２０６１ 表示装置 ２０６２ スピーカ ２０７１ カメラ ２０７２ マイク １６０１ 元画像 １６０２ 埋め込み情報 １６０３ 電子透かしパターン生成キー記憶部 １６０４ 電子透かしパターン生成部 １６０５ 電子透かしパターン埋め込み部 １６０６ 電子透かし埋め込み画像 １７０１ 電子透かし検出対象画像 １７０２ 電子透かしパターン生成キー記憶部 １７０３ 電子透かしパターン生成部 １７０４ 電子透かしパターン修正部 １７０５ 画像情報検査部 １７０６ 検出部 １７０７ 検出情報 ２００１，２００２ 重なり領域 ２１０１ ＳＤ画像サイズ ２１０２ 最小公倍数画像 ２２０１ ＳＤ画像サイズ ２２０２ 最小公倍数画像 ２２０３ ＨＤ画像サイズ ２２０４ 単位領域 ２５０１ 重なり領域 ２６０１ 元画像 ２６０２ 埋め込み情報 ２６０３ 電子透かしパターン生成キー記憶部 ２６０４ 電子透かしパターン生成部 ２６０５ 電子透かしパターン修正部 ２６０６ 画像情報検査部 ２６０７ 電子透かしパターン埋め込み部 ２６０８ 電子透かし埋め込み画像 ２６１１ 電子透かしパターンＷ_LCM生成手段 ２６１２ 電子透かしパターンＷｂ生成手段 ２８０１ 電子透かし検出対象画像 ２８０２ 電子透かしパターン生成キー記憶部 ２８０３ 電子透かしパターン生成部 ２８０４ 電子透かしパターン修正部 ２８０５ 画像情報検査部 ２８０６ 検出部 ２８０７ 検出情報 ２８１１ 電子透かしパターンＷ_LCM生成手段 ２８１２ 電子透かしパターンＷｂ生成手段

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０４Ｎ 7/08 Ｈ０４Ｎ 7/08 Ｚ 7/081 (72)発明者 小橋 貴志 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 松村 祐樹 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 相馬 俊一 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 Ｆターム(参考） 5B057 CA12 CA16 CB12 CB16 CB19 CD05 CE08 CG07 CG10 CH18 5C063 BA06 CA23 CA29 CA36 CA40 DA07 DA20 DB09 5C076 AA14 AA21 AA22 BA06 5J104 AA14

Claims (24)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】データに対する電子透かしパターン埋め込
   み処理を実行する電子透かし埋め込み処理装置であり、 予め設定された第１の画像フォーマットに対応する電子
   透かしパターンを生成する電子透かしパターン生成手段
   と、 前記電子透かしパターン生成手段において生成した電子
   透かしパターンに基づいて、前記第１の画像フォーマッ
   トと異なる第２の画像フォーマットに対応する修正電子
   透かしパターンを生成する処理を実行する電子透かしパ
   ターン修正手段と、 前記電子透かしパターン修正手段において修正された電
   子透かしパターンをデータに埋め込む処理を実行する電
   子透かしパターン埋め込み手段と、 を有することを特徴とする電子透かし埋め込み処理装
   置。
2. 【請求項２】前記電子透かしパターン修正手段は、 前記第１の画像フォーマットと、前記第２の画像フォー
   マットの各サイズの最小公倍数画像サイズを算出し、該
   最小公倍数画像サイズにおいて、前記電子透かしパター
   ン生成手段において生成した電子透かしパターンに対応
   する電子透かしパターンＷ_LCMを生成する電子透かしパ
   ターンＷ_LCM生成手段と、 前記電子透かしパターンＷ_LCM生成手段の生成した電子
   透かしパターンＷ_LCMに基づいて、前記第２の画像フォ
   ーマットに対応する電子透かしパターンを生成する処理
   を実行する電子透かしパターンＷｂ生成手段と、 を有する構成であることを特徴とする請求項１に記載の
   電子透かし埋め込み処理装置。
3. 【請求項３】前記電子透かしパターン修正手段は、 電子透かしパターンの各ピクセルに対する設定値の総和
   を０とした修正電子透かしパターンを生成する構成であ
   ることを特徴とする請求項１に記載の電子透かし埋め込
   み処理装置。
4. 【請求項４】前記電子透かしパターン修正手段は、 隣接小領域との重なり領域を設定した小領域を前記第２
   の画像フォーマットの電子透かしの埋め込み領域として
   の小領域として適用する構成であることを特徴とする請
   求項１に記載の電子透かし埋め込み処理装置。
5. 【請求項５】前記第１の画像フォーマットおよび第２の
   画像フォーマットの各々は、ＨＤ（High Definition）
   画像フォーマット、またはＳＤ（Standard Definitio
   n）画像フォーマットのいずれかであることを特徴とす
   る請求項１に記載の電子透かし埋め込み処理装置。
6. 【請求項６】データに対する電子透かしパターン埋め込
   み処理を実行する電子透かし埋め込み処理方法であり、 予め設定された第１の画像フォーマットに対応する電子
   透かしパターンを生成する電子透かしパターン生成ステ
   ップと、 前記電子透かしパターン生成ステップにおいて生成した
   電子透かしパターンに基づいて、前記第１の画像フォー
   マットと異なる第２の画像フォーマットに対応する修正
   電子透かしパターンを生成する処理を実行する電子透か
   しパターン修正ステップと、 前記電子透かしパターン修正ステップにおいて修正され
   た電子透かしパターンをデータに埋め込む処理を実行す
   る電子透かしパターン埋め込みステップと、 を有することを特徴とする電子透かし埋め込み処理方
   法。
7. 【請求項７】前記電子透かしパターン修正ステップは、 前記第１の画像フォーマットと、前記第２の画像フォー
   マットの各サイズの最小公倍数画像サイズを算出し、該
   最小公倍数画像サイズにおいて、前記電子透かしパター
   ン生成ステップにおいて生成した電子透かしパターンに
   対応する電子透かしパターンＷ_LCMを生成する電子透か
   しパターンＷ_LCM生成ステップと、 前記電子透かしパターンＷ_LCM生成ステップの生成した
   電子透かしパターンＷ_{L CM}に基づいて、前記第２の画像
   フォーマットに対応する電子透かしパターンを生成する
   処理を実行する電子透かしパターンＷｂ生成ステップ
   と、 を含むことを特徴とする請求項６に記載の電子透かし埋
   め込み処理方法。
8. 【請求項８】前記電子透かしパターン修正ステップは、 電子透かしパターンの各ピクセルに対する設定値の総和
   を０とした修正電子透かしパターンを生成するステップ
   を含むことを特徴とする請求項６に記載の電子透かし埋
   め込み処理方法。
9. 【請求項９】前記電子透かしパターン修正ステップは、 隣接小領域との重なり領域を設定した小領域を前記第２
   の画像フォーマットの電子透かしの埋め込み領域として
   の小領域として適用することを特徴とする請求項６に記
   載の電子透かし埋め込み処理方法。
10. 【請求項１０】前記第１の画像フォーマットおよび第２
    の画像フォーマットの各々は、ＨＤ（High Definitio
    n）画像フォーマット、またはＳＤ（Standard Definiti
    on）画像フォーマットのいずれかであることを特徴とす
    る請求項６に記載の電子透かし埋め込み処理方法。
11. 【請求項１１】データからの電子透かしパターン検出処
    理を実行する電子透かし検出処理装置であり、 予め設定された第１の画像フォーマットに対応する電子
    透かしパターンを生成する電子透かしパターン生成手段
    と、 前記電子透かしパターン生成手段において生成した電子
    透かしパターンに基づいて、前記第１の画像フォーマッ
    トと異なる第２の画像フォーマットに対応する修正電子
    透かしパターンを生成する処理を実行する電子透かしパ
    ターン修正手段と、 前記電子透かしパターン修正手段において修正された電
    子透かしパターンに基づいて電子透かしパターンの検出
    処理を実行する検出手段と、 を有することを特徴とする電子透かし検出処理装置。
12. 【請求項１２】前記電子透かしパターン修正手段は、 前記第１の画像フォーマットと、前記第２の画像フォー
    マットの各サイズの最小公倍数画像サイズを算出し、該
    最小公倍数画像サイズにおいて、前記電子透かしパター
    ン生成手段において生成した電子透かしパターンに対応
    する電子透かしパターンＷ_LCMを生成する電子透かしパ
    ターンＷ_LCM生成手段と、 前記電子透かしパターンＷ_LCM生成手段の生成した電子
    透かしパターンＷ_LCMに基づいて、前記第２の画像フォ
    ーマットに対応する電子透かしパターンを生成する処理
    を実行する電子透かしパターンＷｂ生成手段と、 を有する構成であることを特徴とする請求項１１に記載
    の電子透かし検出処理装置。
13. 【請求項１３】前記電子透かしパターン修正手段は、 電子透かしパターンの各ピクセルに対する設定値の総和
    を０とした修正電子透かしパターンを生成する構成であ
    ることを特徴とする請求項１１に記載の電子透かし検出
    処理装置。
14. 【請求項１４】前記電子透かしパターン修正手段は、 隣接小領域との重なり領域を設定した小領域を前記第２
    の画像フォーマットの電子透かし設定領域としての小領
    域として適用する構成であることを特徴とする請求項１
    １に記載の電子透かし検出処理装置。
15. 【請求項１５】前記第１の画像フォーマットおよび第２
    の画像フォーマットの各々は、ＨＤ（High Definitio
    n）画像フォーマット、またはＳＤ（Standard Definiti
    on）画像フォーマットのいずれかであることを特徴とす
    る請求項１１に記載の電子透かし検出処理装置。
16. 【請求項１６】データからの電子透かしパターン検出処
    理を実行する電子透かし検出処理方法であり、 予め設定された第１の画像フォーマットに対応する電子
    透かしパターンを生成する電子透かしパターン生成ステ
    ップと、 前記電子透かしパターン生成ステップにおいて生成した
    電子透かしパターンに基づいて、前記第１の画像フォー
    マットと異なる第２の画像フォーマットに対応する修正
    電子透かしパターンを生成する処理を実行する電子透か
    しパターン修正ステップと、 前記電子透かしパターン修正ステップにおいて修正され
    た電子透かしパターンに基づいて電子透かしパターンの
    検出処理を実行する検出ステップと、 を有することを特徴とする電子透かし検出処理方法。
17. 【請求項１７】前記電子透かしパターン修正ステップ
    は、 前記第１の画像フォーマットと、前記第２の画像フォー
    マットの各サイズの最小公倍数画像サイズを算出し、該
    最小公倍数画像サイズにおいて、前記電子透かしパター
    ン生成ステップにおいて生成した電子透かしパターンに
    対応する電子透かしパターンＷ_LCMを生成する電子透か
    しパターンＷ_LCM生成ステップと、 前記電子透かしパターンＷ_LCM生成ステップの生成した
    電子透かしパターンＷ_{L CM}に基づいて、前記第２の画像
    フォーマットに対応する電子透かしパターンを生成する
    処理を実行する電子透かしパターンＷｂ生成ステップ
    と、 を含むことを特徴とする請求項１６に記載の電子透かし
    検出処理方法。
18. 【請求項１８】前記電子透かしパターン修正ステップ
    は、 電子透かしパターンの各ピクセルに対する設定値の総和
    を０とした修正電子透かしパターンを生成するステップ
    を含むことを特徴とする請求項１６に記載の電子透かし
    検出処理方法。
19. 【請求項１９】前記電子透かしパターン修正ステップ
    は、 隣接小領域との重なり領域を設定した小領域を前記第２
    の画像フォーマットの電子透かしの設定領域としての小
    領域として適用することを特徴とする請求項１６に記載
    の電子透かし検出処理方法。
20. 【請求項２０】前記第１の画像フォーマットおよび第２
    の画像フォーマットの各々は、ＨＤ（High Definitio
    n）画像フォーマット、またはＳＤ（Standard Definiti
    on）画像フォーマットのいずれかであることを特徴とす
    る請求項１６に記載の電子透かし検出処理方法。
21. 【請求項２１】データに対する電子透かしパターン埋め
    込み処理をコンピュータ・システム上で実行せしめるコ
    ンピュータ・プログラムを提供するプログラム記憶媒体
    であって、 予め設定された第１の画像フォーマットに対応する電子
    透かしパターンを生成する電子透かしパターン生成ステ
    ップと、 前記電子透かしパターン生成ステップにおいて生成した
    電子透かしパターンに基づいて、前記第１の画像フォー
    マットと異なる第２の画像フォーマットに対応する修正
    電子透かしパターンを生成する処理を実行する電子透か
    しパターン修正ステップと、 前記電子透かしパターン修正ステップにおいて修正され
    た電子透かしパターンをデータに埋め込む処理を実行す
    る電子透かしパターン埋め込みステップと、 を有することを特徴とするプログラム記憶媒体。
22. 【請求項２２】データからの電子透かしパターン検出処
    理を実行する電子透かし検出処理をコンピュータ・シス
    テム上で実行せしめるコンピュータ・プログラムを提供
    するプログラム記憶媒体であって、 予め設定された第１の画像フォーマットに対応する電子
    透かしパターンを生成する電子透かしパターン生成ステ
    ップと、 前記電子透かしパターン生成ステップにおいて生成した
    電子透かしパターンに基づいて、前記第１の画像フォー
    マットと異なる第２の画像フォーマットに対応する修正
    電子透かしパターンを生成する処理を実行する電子透か
    しパターン修正ステップと、 前記電子透かしパターン修正ステップにおいて修正され
    た電子透かしパターンに基づいて電子透かしパターンの
    検出処理を実行する検出ステップと、 を有することを特徴とするプログラム記憶媒体。
23. 【請求項２３】データに対する電子透かしパターン埋め
    込み処理をコンピュータ・システム上で実行せしめるプ
    ログラムであって、 予め設定された第１の画像フォーマットに対応する電子
    透かしパターンを生成する電子透かしパターン生成ステ
    ップと、 前記電子透かしパターン生成ステップにおいて生成した
    電子透かしパターンに基づいて、前記第１の画像フォー
    マットと異なる第２の画像フォーマットに対応する修正
    電子透かしパターンを生成する処理を実行する電子透か
    しパターン修正ステップと、 前記電子透かしパターン修正ステップにおいて修正され
    た電子透かしパターンをデータに埋め込む処理を実行す
    る電子透かしパターン埋め込みステップと、 を有することを特徴とするプログラム。
24. 【請求項２４】データからの電子透かしパターン検出処
    理を実行する電子透かし検出処理をコンピュータ・シス
    テム上で実行せしめるプログラムであって、 予め設定された第１の画像フォーマットに対応する電子
    透かしパターンを生成する電子透かしパターン生成ステ
    ップと、 前記電子透かしパターン生成ステップにおいて生成した
    電子透かしパターンに基づいて、前記第１の画像フォー
    マットと異なる第２の画像フォーマットに対応する修正
    電子透かしパターンを生成する処理を実行する電子透か
    しパターン修正ステップと、 前記電子透かしパターン修正ステップにおいて修正され
    た電子透かしパターンに基づいて電子透かしパターンの
    検出処理を実行する検出ステップと、 を有することを特徴とするプログラム。