JP2002319106A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
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- JP2002319106A JP2002319106A JP2001122440A JP2001122440A JP2002319106A JP 2002319106 A JP2002319106 A JP 2002319106A JP 2001122440 A JP2001122440 A JP 2001122440A JP 2001122440 A JP2001122440 A JP 2001122440A JP 2002319106 A JP2002319106 A JP 2002319106A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 優れた高周波特性を有する積層型磁気ヘッド
において、金属磁性膜の耐熱温度の制約から使用する接
着ガラスやモールドガラスに低融点のものを選択する必
要が有った。これらのガラスは機械的強度や耐水性など
信頼性に欠け、またＰｂ等の有害物質を多量に含むもの
であった。 【解決手段】 金属磁性膜を非磁性基板で挟持するとき
の接合ガラスを高融点化し、屈伏点以上軟化点以下のガ
ラス転移域で接合する。その後の巻線窓へのモールドは
接合ガラスの屈伏点以下の温度範囲で行う。使用するガ
ラスを高融点化でき信頼性が高まるとともにＰｂ等の有
害物質を含まないガラスの使用が可能となる。
において、金属磁性膜の耐熱温度の制約から使用する接
着ガラスやモールドガラスに低融点のものを選択する必
要が有った。これらのガラスは機械的強度や耐水性など
信頼性に欠け、またＰｂ等の有害物質を多量に含むもの
であった。 【解決手段】 金属磁性膜を非磁性基板で挟持するとき
の接合ガラスを高融点化し、屈伏点以上軟化点以下のガ
ラス転移域で接合する。その後の巻線窓へのモールドは
接合ガラスの屈伏点以下の温度範囲で行う。使用するガ
ラスを高融点化でき信頼性が高まるとともにＰｂ等の有
害物質を含まないガラスの使用が可能となる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高周波帯域で優れ
た電磁変換特性を有する積層型磁気ヘッドの信頼性およ
び歩留りを高めるとともに、Ｐｂ等の有害物質を含まな
いガラスの使用が可能な磁気ヘッドの製造方法に関する
ものである。
た電磁変換特性を有する積層型磁気ヘッドの信頼性およ
び歩留りを高めるとともに、Ｐｂ等の有害物質を含まな
いガラスの使用が可能な磁気ヘッドの製造方法に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、情報の大容量化に伴う記録の高密
度化、高転送レート化に対応するため、高周波特性に優
れた磁気ヘッドが開発されている。特に金属磁性膜と絶
縁膜とを交互に堆積した積層膜を非磁性基板で挟持した
構造の積層型磁気ヘッドは、高周波帯域での渦電流損失
を低減し高周波特性に優れるものである。中でも特開平
５−４７５５５号公報や特開平７−１３０５３６号公報
で開示されているように、絶縁層を挟んで隣接する金属
磁性膜の磁気異方性を交互に制御している積層型磁気ヘ
ッドは、膜全体として等方的に高周波透磁率が高く、極
めて優れた高周波特性を実現している。
度化、高転送レート化に対応するため、高周波特性に優
れた磁気ヘッドが開発されている。特に金属磁性膜と絶
縁膜とを交互に堆積した積層膜を非磁性基板で挟持した
構造の積層型磁気ヘッドは、高周波帯域での渦電流損失
を低減し高周波特性に優れるものである。中でも特開平
５−４７５５５号公報や特開平７−１３０５３６号公報
で開示されているように、絶縁層を挟んで隣接する金属
磁性膜の磁気異方性を交互に制御している積層型磁気ヘ
ッドは、膜全体として等方的に高周波透磁率が高く、極
めて優れた高周波特性を実現している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記のような積層型磁
気ヘッドの一般的な製造方法は、まず非磁性基板上に金
属磁性膜、絶縁膜を交互にトラック幅相当の膜厚分堆積
した積層体上、あるいは積層体とは逆の基板面に接着ガ
ラスを形成し、それらを１０〜２０枚程度重ね合わせて
加圧保持しながら熱処理することで積層ブロックを作製
する。このブロックから所定のアジマス角で積層プレー
トを切出し、巻線窓を形成してモールドガラスを溶融充
填する。その後積層プレートの突合わせ面を鏡面に研磨
し、ギャップ形成酸化物、ギャップ接合ガラスを順次堆
積して、一対の積層プレート同士を突合わせて加熱圧着
する。その後所定の形状となるよう外形加工を施し、非
磁性基板に挟持された金属磁性膜が主磁路をなす積層型
磁気ヘッドが得られる。
気ヘッドの一般的な製造方法は、まず非磁性基板上に金
属磁性膜、絶縁膜を交互にトラック幅相当の膜厚分堆積
した積層体上、あるいは積層体とは逆の基板面に接着ガ
ラスを形成し、それらを１０〜２０枚程度重ね合わせて
加圧保持しながら熱処理することで積層ブロックを作製
する。このブロックから所定のアジマス角で積層プレー
トを切出し、巻線窓を形成してモールドガラスを溶融充
填する。その後積層プレートの突合わせ面を鏡面に研磨
し、ギャップ形成酸化物、ギャップ接合ガラスを順次堆
積して、一対の積層プレート同士を突合わせて加熱圧着
する。その後所定の形状となるよう外形加工を施し、非
磁性基板に挟持された金属磁性膜が主磁路をなす積層型
磁気ヘッドが得られる。
【０００４】ところで現在、広く磁気ヘッド材料として
展開されている金属磁性膜としては、例えばＦｅを主成
分とする粒径が５０ｎｍ以下の微結晶構造を有するもの
や、Ｃｏを主成分とする非晶質構造を有するものがあ
る。これらの金属磁性膜が示す優れた軟磁気特性は微結
晶あるいは非晶質という構造に起因しており、必然的に
磁気ヘッドの製造工程における熱プロセスの上限に大き
な制約が伴う。この場合せいぜい５００〜６００℃程度
が構造を維持できる処理温度域である。そのため上記磁
気ヘッドの製造工程で使用する各種ガラスも低融点のも
のを選択する必要があるが、これらのガラスは機械的強
度や耐水性に欠けることが多く、ヘッドとしての信頼性
を十分に得ることが難しい。
展開されている金属磁性膜としては、例えばＦｅを主成
分とする粒径が５０ｎｍ以下の微結晶構造を有するもの
や、Ｃｏを主成分とする非晶質構造を有するものがあ
る。これらの金属磁性膜が示す優れた軟磁気特性は微結
晶あるいは非晶質という構造に起因しており、必然的に
磁気ヘッドの製造工程における熱プロセスの上限に大き
な制約が伴う。この場合せいぜい５００〜６００℃程度
が構造を維持できる処理温度域である。そのため上記磁
気ヘッドの製造工程で使用する各種ガラスも低融点のも
のを選択する必要があるが、これらのガラスは機械的強
度や耐水性に欠けることが多く、ヘッドとしての信頼性
を十分に得ることが難しい。
【０００５】一方、積層ブロックを作製する際の接着ガ
ラスには、特開昭６２−１４６４１３号公報で開示され
ているように結晶化ガラスを用いることが多い。このガ
ラスは固着する過程で一度結晶化するとガラス自身の軟
化点が向上し後工程での熱処理にも十分耐え得る接着性
を持つため、より高融点のモールドガラスを選択するこ
とができる。その反面、結晶化が部分的にしか進行せず
不均一な接着状態となることがあり、後工程で突発的に
はずれなどして歩留まりを落とす原因になっている。加
えて一般に低融点の結晶化ガラスはＰｂを含有しており
環境に対する負荷も大きいためＰｂを無くす取り組みが
全世界的に行われている。こうしたことからも結晶化ガ
ラスを用いた従来の積層型磁気ヘッドの製造方法を見直
す必要がある。
ラスには、特開昭６２−１４６４１３号公報で開示され
ているように結晶化ガラスを用いることが多い。このガ
ラスは固着する過程で一度結晶化するとガラス自身の軟
化点が向上し後工程での熱処理にも十分耐え得る接着性
を持つため、より高融点のモールドガラスを選択するこ
とができる。その反面、結晶化が部分的にしか進行せず
不均一な接着状態となることがあり、後工程で突発的に
はずれなどして歩留まりを落とす原因になっている。加
えて一般に低融点の結晶化ガラスはＰｂを含有しており
環境に対する負荷も大きいためＰｂを無くす取り組みが
全世界的に行われている。こうしたことからも結晶化ガ
ラスを用いた従来の積層型磁気ヘッドの製造方法を見直
す必要がある。
【０００６】本発明は上記問題点に鑑み、高周波特性に
優れた積層型磁気ヘッドの信頼性および歩留りを高め、
またＰｂを含まないガラスの使用が可能な磁気ヘッドの
製造方法を提供することを目的とする。
優れた積層型磁気ヘッドの信頼性および歩留りを高め、
またＰｂを含まないガラスの使用が可能な磁気ヘッドの
製造方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため、金属磁性膜の耐熱温度以上の軟化点をもつ接
着ガラスを用いて積層ブロックを作製する。すなわち接
着ガラスの屈伏点以上軟化点以下のガラス転移域で金属
磁性膜、接着ガラスを堆積した複数枚の基板を加熱圧着
し積層ブロックを作製する。従来のように低融点ガラス
を用いて軟化点以上の温度で接着する場合に比べ、同じ
処理温度であってもより高融点の接着ガラスが使用でき
るため機械的強度など信頼性が向上する。ガラス転移域
での接着は加圧力や熱処理時の温度勾配、保持時間によ
り最適化できるため、強固に固着させることが可能であ
る。
するため、金属磁性膜の耐熱温度以上の軟化点をもつ接
着ガラスを用いて積層ブロックを作製する。すなわち接
着ガラスの屈伏点以上軟化点以下のガラス転移域で金属
磁性膜、接着ガラスを堆積した複数枚の基板を加熱圧着
し積層ブロックを作製する。従来のように低融点ガラス
を用いて軟化点以上の温度で接着する場合に比べ、同じ
処理温度であってもより高融点の接着ガラスが使用でき
るため機械的強度など信頼性が向上する。ガラス転移域
での接着は加圧力や熱処理時の温度勾配、保持時間によ
り最適化できるため、強固に固着させることが可能であ
る。
【０００８】次に積層ブロックから切出した積層プレー
ト上に形成された巻線溝にモールドガラスを設置し、積
層時に用いた接着ガラスの屈伏点以下の温度で溶融充填
する。従来に比べ処理温度が高く設定できるため、より
高融点で信頼性の高いモールドガラスが使用できる一
方、接着ガラスが緩んで強度が低下することはない。加
えてモールドガラスに荷重をかけながら加熱し、巻線溝
に圧入充填する方法を用いると、更に高融点のモールド
ガラスを選択することができる。
ト上に形成された巻線溝にモールドガラスを設置し、積
層時に用いた接着ガラスの屈伏点以下の温度で溶融充填
する。従来に比べ処理温度が高く設定できるため、より
高融点で信頼性の高いモールドガラスが使用できる一
方、接着ガラスが緩んで強度が低下することはない。加
えてモールドガラスに荷重をかけながら加熱し、巻線溝
に圧入充填する方法を用いると、更に高融点のモールド
ガラスを選択することができる。
【０００９】最後にプレートの突合わせ面にギャップ形
成酸化物とギャップ接合ガラスを順次堆積した一対の積
層プレートを、モールドした温度以下で加熱圧着するこ
とにより接着ガラスは緩むことなく、またモールドガラ
スも流動することなく再固着するため強固にギャップ接
合することができる。
成酸化物とギャップ接合ガラスを順次堆積した一対の積
層プレートを、モールドした温度以下で加熱圧着するこ
とにより接着ガラスは緩むことなく、またモールドガラ
スも流動することなく再固着するため強固にギャップ接
合することができる。
【００１０】以上のように従来に比べ信頼性の高い積層
型磁気ヘッドを歩留り良く作製することができる。また
ガラスの熱膨張係数は基板材料や金属磁性膜に制約を受
けるが、現行ガラスと軟化点が同等でＰｂを他元素で置
き換えたガラスは熱膨張係数が大きいため従来工法で単
純なガラスの置換えは不可能であるが、上記のような工
法によりガラスを高融点化できるためＰｂを含まないガ
ラスの選択が可能となる。
型磁気ヘッドを歩留り良く作製することができる。また
ガラスの熱膨張係数は基板材料や金属磁性膜に制約を受
けるが、現行ガラスと軟化点が同等でＰｂを他元素で置
き換えたガラスは熱膨張係数が大きいため従来工法で単
純なガラスの置換えは不可能であるが、上記のような工
法によりガラスを高融点化できるためＰｂを含まないガ
ラスの選択が可能となる。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明の請求項１に記載の発明
は、非磁性基板に挟持された金属磁性膜が主磁路をなす
積層型磁気ヘッドの製造工程において、金属磁性膜およ
び接着ガラスを堆積した非磁性基板を複数枚重ね、Ｔ1
（Ｔｄ＜Ｔ1≦Ｔｓ、Ｔｄ：接着ガラスの屈伏点、Ｔ
ｓ：接着ガラスの軟化点）なる温度で加熱圧着し積層ブ
ロックを作製する工程と、前記積層ブロックより切出し
た積層プレート上に形成された巻線溝にモールドガラス
を設置し、Ｔ2（Ｔ2≦Ｔｄ）なる温度で巻線溝内に溶融
充填する工程、および積層プレートの突合わせ面にギャ
ップ形成酸化物とギャップ接合ガラスを順次形成した一
対の積層プレートをＴ3（Ｔ3≦Ｔ2）なる温度で加熱圧
着する工程、を含むことを特徴とする磁気ヘッドの製造
方法であり、接着ガラスは後工程で緩むなどして強度が
低下することなく、より高融点で信頼性の高いモールド
ガラス使用することができるため、従来に比べ信頼性お
よび歩留りの高い積層型の磁気ヘッドを作製することが
できる。また低融点の結晶化ガラスを用いないことで、
Ｐｂを含まないガラスの選択が可能となるものである。
は、非磁性基板に挟持された金属磁性膜が主磁路をなす
積層型磁気ヘッドの製造工程において、金属磁性膜およ
び接着ガラスを堆積した非磁性基板を複数枚重ね、Ｔ1
（Ｔｄ＜Ｔ1≦Ｔｓ、Ｔｄ：接着ガラスの屈伏点、Ｔ
ｓ：接着ガラスの軟化点）なる温度で加熱圧着し積層ブ
ロックを作製する工程と、前記積層ブロックより切出し
た積層プレート上に形成された巻線溝にモールドガラス
を設置し、Ｔ2（Ｔ2≦Ｔｄ）なる温度で巻線溝内に溶融
充填する工程、および積層プレートの突合わせ面にギャ
ップ形成酸化物とギャップ接合ガラスを順次形成した一
対の積層プレートをＴ3（Ｔ3≦Ｔ2）なる温度で加熱圧
着する工程、を含むことを特徴とする磁気ヘッドの製造
方法であり、接着ガラスは後工程で緩むなどして強度が
低下することなく、より高融点で信頼性の高いモールド
ガラス使用することができるため、従来に比べ信頼性お
よび歩留りの高い積層型の磁気ヘッドを作製することが
できる。また低融点の結晶化ガラスを用いないことで、
Ｐｂを含まないガラスの選択が可能となるものである。
【００１２】本発明の請求項２に記載の発明は、上記接
着ガラスがスパッタリングにより形成されていることを
特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドの製造方法であ
り、粉末ガラスを基板上に塗布して加熱圧着する方法よ
り接着層が均一で十分な強度を確保でき、かつ簡便な方
法を提供するものである。
着ガラスがスパッタリングにより形成されていることを
特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドの製造方法であ
り、粉末ガラスを基板上に塗布して加熱圧着する方法よ
り接着層が均一で十分な強度を確保でき、かつ簡便な方
法を提供するものである。
【００１３】本発明の請求項３に記載の発明は、上記接
着ガラスの厚みが３００ｎｍ〜３０００ｎｍであること
を特徴とする請求項１または２記載の磁気ヘッドの製造
方法であり、十分な接着強度が得られ、かつテープが接
触走行する磁気ヘッドの摺動面において偏摩耗によりイ
ンターフェイスに悪影響を及ぼさない範囲のものであ
る。
着ガラスの厚みが３００ｎｍ〜３０００ｎｍであること
を特徴とする請求項１または２記載の磁気ヘッドの製造
方法であり、十分な接着強度が得られ、かつテープが接
触走行する磁気ヘッドの摺動面において偏摩耗によりイ
ンターフェイスに悪影響を及ぼさない範囲のものであ
る。
【００１４】本発明の請求項４に記載の発明は、上記モ
ールドガラスを加圧しながら巻線溝内に圧入充填するこ
とを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドの製造方法で
あり、更に高融点の信頼性の高いガラスの選択を可能に
するものである。
ールドガラスを加圧しながら巻線溝内に圧入充填するこ
とを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドの製造方法で
あり、更に高融点の信頼性の高いガラスの選択を可能に
するものである。
【００１５】本発明の請求項５に記載の発明は、上記接
着ガラス、モールドガラス、ギャップ接合ガラスのうち
少なくとも一つがＰｂを含有しないガラスであることを
特徴とする請求項１〜４記載の磁気ヘッドの製造方法で
あり、使用するガラスを高融点化することによりＰｂを
含まない（他元素で置換えた）ガラスの選択を可能とす
るものである。
着ガラス、モールドガラス、ギャップ接合ガラスのうち
少なくとも一つがＰｂを含有しないガラスであることを
特徴とする請求項１〜４記載の磁気ヘッドの製造方法で
あり、使用するガラスを高融点化することによりＰｂを
含まない（他元素で置換えた）ガラスの選択を可能とす
るものである。
【００１６】本発明の請求項６に記載の発明は、上記金
属磁性膜がＦｅを主成分とする粒径が５０ｎｍ以下の微
結晶構造を有する磁性膜であることを特徴とする請求項
１記載の磁気ヘッドの製造方法であり、優れた軟磁気特
性をもつ金属磁性膜を用いた高性能の積層型磁気ヘッド
を作製できるものである。
属磁性膜がＦｅを主成分とする粒径が５０ｎｍ以下の微
結晶構造を有する磁性膜であることを特徴とする請求項
１記載の磁気ヘッドの製造方法であり、優れた軟磁気特
性をもつ金属磁性膜を用いた高性能の積層型磁気ヘッド
を作製できるものである。
【００１７】本発明の請求項７に記載の発明は、上記金
属磁性膜がＣｏを主成分とする非晶質構造を有する磁性
膜であることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドの
製造方法であり、優れた軟磁気特性をもつ金属磁性膜を
用いた高性能の積層型磁気ヘッドを作製できるものであ
る。
属磁性膜がＣｏを主成分とする非晶質構造を有する磁性
膜であることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドの
製造方法であり、優れた軟磁気特性をもつ金属磁性膜を
用いた高性能の積層型磁気ヘッドを作製できるものであ
る。
【００１８】以下、本発明の実施の形態について、図面
を用いて説明する。
を用いて説明する。
【００１９】（実施の形態１）図１は本実施の形態の磁
気ヘッドの製造方法を用いて製造された磁気ヘッドの斜
視図、図２〜図１０は本実施の形態の磁気ヘッドの製造
方法の過程を示す斜視図である。図において、１はＭｎ
−Ｚｎ非磁性フェライト基板、２及び３はＭｎ−Ｚｎ非
磁性フェライト基板１上に成膜されたＦｅＴａＮ磁性膜
及びＳｉＯ2膜、４は積層基板、５は積層ブロック、６
は積層プレート、７は巻線溝、８は積層プレートの突合
わせ面、９はギャップ形成酸化物、２０は接着ガラス、
２１はモールドガラス、２２はギャップ接合ガラスであ
る。
気ヘッドの製造方法を用いて製造された磁気ヘッドの斜
視図、図２〜図１０は本実施の形態の磁気ヘッドの製造
方法の過程を示す斜視図である。図において、１はＭｎ
−Ｚｎ非磁性フェライト基板、２及び３はＭｎ−Ｚｎ非
磁性フェライト基板１上に成膜されたＦｅＴａＮ磁性膜
及びＳｉＯ2膜、４は積層基板、５は積層ブロック、６
は積層プレート、７は巻線溝、８は積層プレートの突合
わせ面、９はギャップ形成酸化物、２０は接着ガラス、
２１はモールドガラス、２２はギャップ接合ガラスであ
る。
【００２０】以上のように構成された本実施の形態の磁
気ヘッドの製造方法について、以下詳細に説明する。
気ヘッドの製造方法について、以下詳細に説明する。
【００２１】図２に示すように鏡面に仕上げたＭｎ−Ｚ
ｎ非磁性フェライト基板１上に、ＦｅＴａＮ磁性膜２と
絶縁層としてＳｉＯ2膜３を交互にトラック幅相当分ス
パッタリングで成膜し、さらに連続してＢ2Ｏ3−ＺｎＯ
−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3−Ｋ2Ｏ系の接着ガラス２０を同様
にスパッタリングで７００ｎｍ成膜して、積層基板４と
した。このガラスの転移点は４８５℃、屈伏点は５４９
℃、軟化点は６２７℃であった。
ｎ非磁性フェライト基板１上に、ＦｅＴａＮ磁性膜２と
絶縁層としてＳｉＯ2膜３を交互にトラック幅相当分ス
パッタリングで成膜し、さらに連続してＢ2Ｏ3−ＺｎＯ
−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3−Ｋ2Ｏ系の接着ガラス２０を同様
にスパッタリングで７００ｎｍ成膜して、積層基板４と
した。このガラスの転移点は４８５℃、屈伏点は５４９
℃、軟化点は６２７℃であった。
【００２２】この積層基板４を図３に示すように１５
枚、最上段に何も成膜されていないＭｎ−Ｚｎ非磁性フ
ェライト基板１を１枚重ね合わせ、加圧治具に組み込み
８００Ｋｇ・ｆで加圧保持した。これを５℃／分で昇温
し、５６０℃で１時間保持した後、１℃／分で降温する
ことで積層基板４を接着し、図４に示すような積層ブロ
ック５を作製した。
枚、最上段に何も成膜されていないＭｎ−Ｚｎ非磁性フ
ェライト基板１を１枚重ね合わせ、加圧治具に組み込み
８００Ｋｇ・ｆで加圧保持した。これを５℃／分で昇温
し、５６０℃で１時間保持した後、１℃／分で降温する
ことで積層基板４を接着し、図４に示すような積層ブロ
ック５を作製した。
【００２３】次に図５において、この積層ブロック５か
らワイヤーソーを用いて所定のアジマスをつけた積層プ
レート６を切出し、図６のように砥石加工により半数の
積層プレートに巻線溝７を形成した。
らワイヤーソーを用いて所定のアジマスをつけた積層プ
レート６を切出し、図６のように砥石加工により半数の
積層プレートに巻線溝７を形成した。
【００２４】その後、図７に示すように巻線溝内にＢ2
Ｏ3−ＺｎＯ−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3−Ｂｉ2Ｏ3−Ｎａ2Ｏ
系のモールドガラス２１を設置し、１本につき１００ｇ
・ｆの荷重をかけながら５３０℃で３０分の熱処理を行
い、巻線溝内にモールドガラス２１を圧入充填した。こ
のモールドガラスの軟化点は４９７℃であった。
Ｏ3−ＺｎＯ−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3−Ｂｉ2Ｏ3−Ｎａ2Ｏ
系のモールドガラス２１を設置し、１本につき１００ｇ
・ｆの荷重をかけながら５３０℃で３０分の熱処理を行
い、巻線溝内にモールドガラス２１を圧入充填した。こ
のモールドガラスの軟化点は４９７℃であった。
【００２５】次に巻線溝の再加工で余分なモールドガラ
スを除去し、一対の積層プレートの突合わせ面８を所定
の面粗さに鏡面研磨した後、ギャップ形成酸化物９およ
び上記モールドガラス２１と同等の組成を有するギャッ
プ接合ガラス２２をスパッタリングにより図８のように
順次成膜した。ここで図８において、同図（ａ）は積層
プレート６の外観斜視図、同図（ｂ）は要部断面図であ
る。
スを除去し、一対の積層プレートの突合わせ面８を所定
の面粗さに鏡面研磨した後、ギャップ形成酸化物９およ
び上記モールドガラス２１と同等の組成を有するギャッ
プ接合ガラス２２をスパッタリングにより図８のように
順次成膜した。ここで図８において、同図（ａ）は積層
プレート６の外観斜視図、同図（ｂ）は要部断面図であ
る。
【００２６】この一対の積層プレートのトラック調整を
行った後、図９の矢印のように約４０ｇ・ｆで加圧保持
しながら５２５℃で３０分の熱処理を行い、ギャップボ
ンディングを行った。その後、図１０（ａ）〜（ｄ）に
示すように所定の外形加工を行うことで、図１に示す積
層型の磁気ヘッドを作製することができた。
行った後、図９の矢印のように約４０ｇ・ｆで加圧保持
しながら５２５℃で３０分の熱処理を行い、ギャップボ
ンディングを行った。その後、図１０（ａ）〜（ｄ）に
示すように所定の外形加工を行うことで、図１に示す積
層型の磁気ヘッドを作製することができた。
【００２７】以上のようにして作製した磁気ヘッドは、
製造工程での応力、加工負荷にも充分耐えることがで
き、従来では５〜１５％発生していた接着ガラス２０の
はがれやモールドガラス２１のクラックなどの不良率を
１．５％以下に押さえることができた。
製造工程での応力、加工負荷にも充分耐えることがで
き、従来では５〜１５％発生していた接着ガラス２０の
はがれやモールドガラス２１のクラックなどの不良率を
１．５％以下に押さえることができた。
【００２８】またギャップの接合強度も約３５％向上し
ており、極めて信頼性の高いものであった。さらに本実
施例においてはＰｂという環境負荷物質を含まない積層
型磁気ヘッドを作製することができた。
ており、極めて信頼性の高いものであった。さらに本実
施例においてはＰｂという環境負荷物質を含まない積層
型磁気ヘッドを作製することができた。
【００２９】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、従来に比
べ高融点のガラスを使用できるため信頼性の高い積層型
磁気ヘッドを歩留り良く作製することができる。またＰ
ｂを含まないガラスの選択が可能となるという優れた効
果を奏するものである。
べ高融点のガラスを使用できるため信頼性の高い積層型
磁気ヘッドを歩留り良く作製することができる。またＰ
ｂを含まないガラスの選択が可能となるという優れた効
果を奏するものである。
【図１】本発明の一実施の形態１の製造方法によってで
きた磁気ヘッドを示す斜視図
きた磁気ヘッドを示す斜視図
【図２】同実施の形態１による磁気ヘッドの製造方法に
おける積層基板の要部斜視図
おける積層基板の要部斜視図
【図３】同実施の形態１による磁気ヘッドの製造方法に
おける積層基板の斜視図
おける積層基板の斜視図
【図４】同実施の形態１による磁気ヘッドの製造方法に
おける積層ブロックの斜視図
おける積層ブロックの斜視図
【図５】同実施の形態１による磁気ヘッドの製造方法に
おける積層ブロックの斜視図
おける積層ブロックの斜視図
【図６】同実施の形態１による磁気ヘッドの製造方法に
おける積層プレートの斜視図
おける積層プレートの斜視図
【図７】同実施の形態１による磁気ヘッドの製造方法に
おける積層プレートの斜視図
おける積層プレートの斜視図
【図８】（ａ）同実施の形態１による磁気ヘッドの製造
方法におけるガラス皮膜をした積層プレートの斜視図 （ｂ）同実施の形態１による磁気ヘッドの製造方法にお
けるガラス皮膜をした積層プレートの要部断面図
方法におけるガラス皮膜をした積層プレートの斜視図 （ｂ）同実施の形態１による磁気ヘッドの製造方法にお
けるガラス皮膜をした積層プレートの要部断面図
【図９】同実施の形態１による磁気ヘッドの製造方法に
おける積層プレートの斜視図
おける積層プレートの斜視図
【図１０】同実施の形態１による磁気ヘッドの製造方法
における積層プレートの切断加工の流れを示す斜視図
における積層プレートの切断加工の流れを示す斜視図
１ Ｍｎ−Ｚｎ非磁性フェライト基板 ２ ＦｅＴａＮ磁性膜 ３ ＳｉＯ2 ４ 積層基板 ５ 積層ブロック ６ 積層プレート ７ 巻線溝 ８ 積層プレートの突合わせ面 ９ ギャップ形成酸化物 ２０ 接着ガラス ２１ モールドガラス ２２ ギャップ接合ガラス
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 5D093 BC07 BC18 BD01 BD08 FA12 FA16 FA17 FA21 FA27 HB15 HC03 HC05 JA01 JC06 JC12
Claims (7)
- 【請求項１】 非磁性基板に挟持された金属磁性膜が主
磁路をなす磁気ヘッドの製造方法であって、金属磁性膜
および接着ガラスを堆積した非磁性基板を複数枚重ねＴ
1（Ｔｄ＜Ｔ1≦Ｔｓ、Ｔｄ：接着ガラスの屈伏点、Ｔ
ｓ：接着ガラスの軟化点）なる温度で加熱圧着し積層ブ
ロックを作製する工程と、前記積層ブロックより切出し
た積層プレート上に形成された巻線溝にモールドガラス
を設置しＴ 2（Ｔ2≦Ｔｄ）なる温度で巻線溝内に溶融充
填する工程と、前記積層プレートの突合わせ面にギャッ
プ形成酸化物とギャップ接合ガラスを順次形成した一対
の積層プレートをＴ3（Ｔ3≦Ｔ2）なる温度で加熱圧着
する工程とを含むことを特徴とする磁気ヘッドの製造方
法。 - 【請求項２】 接着ガラスがスパッタリングにより形成
されていることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド
の製造方法。 - 【請求項３】 接着ガラスの厚みが３００ｎｍ〜３００
０ｎｍであることを特徴とする請求項１または２記載の
磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項４】 モールドガラスを加圧しながら巻線溝内
に圧入充填することを特徴とする請求項１記載の磁気ヘ
ッドの製造方法。 - 【請求項５】 接着ガラス、モールドガラス、ギャップ
接合ガラスのうち少なくとも一つがＰｂを含有しないガ
ラスであることを特徴とする請求項１〜４記載の磁気ヘ
ッドの製造方法。 - 【請求項６】 金属磁性膜がＦｅを主成分とする粒径が
５０ｎｍ以下の微結晶構造を有する磁性膜であることを
特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項７】 金属磁性膜がＣｏを主成分とする非晶質
構造を有する磁性膜であることを特徴とする請求項１記
載の磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001122440A JP2002319106A (ja) | 2001-04-20 | 2001-04-20 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001122440A JP2002319106A (ja) | 2001-04-20 | 2001-04-20 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002319106A true JP2002319106A (ja) | 2002-10-31 |
Family
ID=18972149
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001122440A Pending JP2002319106A (ja) | 2001-04-20 | 2001-04-20 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002319106A (ja) |
-
2001
- 2001-04-20 JP JP2001122440A patent/JP2002319106A/ja active Pending
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