JP2002301645A

JP2002301645A - 研削装置

Info

Publication number: JP2002301645A
Application number: JP2001107402A
Authority: JP
Inventors: Masashi Niifuku; 正志新福
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 2001-04-05
Filing date: 2001-04-05
Publication date: 2002-10-15

Abstract

(57)【要約】【課題】砥石の目詰まりを抑制でき、砥石のドレッシン
グおよびプリカット作業の頻度を低減して加工効率の高
い研削装置を提供する。【解決手段】ウェーハＷを保持面に保持する回転可能な
保持テーブルと、ウェーハＷの表面を研削する研削面を
もつ柱状の複数の砥石２２と、回転軸２１ｂを中心に回
転可能に保持され、回転軸２１ｂに直交しかつ保持面に
対向する対向面２１ａをもち、対向面２１ａの所定の円
周上に複数の砥石２２が互いに離隔して配列された砥石
ヘッド２１と、を備え、砥石ヘッド２１および保持テー
ブルを回転させ、ウェーハＷの表面に複数の砥石２２の
内周面２２ｂ側から研削液を供給し、砥石２２の研削面
２２ａをウェーハＷの表面に当接させて研削する研削装
置であって、複数の砥石２２は、研削液ＰＬが砥石２２
の内周面２２ｂ側から砥石２２間を通じて外周面２２ｅ
側へ流出しやすい形状に成形されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、たとえば、半導体
装置の製造に用いられるウェーハ等の被研削体を研削す
る研削装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】たとえば、半導体装置の製造に用いられ
るウェーハは、所定形状に研削されたシリコン等からな
るインゴットをスライシングマシンによって切断するこ
とによって製造される。通常、インゴットを切断するこ
とによって得られたウェーハあるいは素子が形成された
ウェーハの厚さをさらに薄くするために、研削装置を用
いてウェーハの裏面研削が行われる。ウェーハの裏面の
研削に用いられる研削装置としては、たとえば、図８に
示すように、ウェーハＷを保持するテーブル１０１と、
複数の砥石１０３が下面に固定された砥石ヘッド１０２
とを有する研削装置が知られている。テーブル１０１
は、たとえば、真空吸着によりウェーハＷをチャキング
可能であり、また、回転可能となっている。砥石ヘッド
１０２は、ウェーハＷの直径よりも大きい直径を有して
おり、ウェーハＷを研削する際には、図９に示すよう
に、砥石ヘッド１０２の回転中心Ｒａとテーブル１０１
の回転中心Ｒｂとを偏心させた状態で、砥石ヘッド１０
２およびテーブル１０１を回転させながら、砥石１０３
をウェーハＷの表面に当接させる。なお、砥石ヘッド１
０２およびテーブル１０１の回転方向は、通常、逆向き
に設定される。互いに偏心した状態にある回転する砥石
ヘッド１０２およびウェーハＷを当接させることによ
り、ウェーハＷの表面の全体が研削される。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な研削装置では、ウェーハＷと砥石１０３との摩擦によ
る発熱を抑えるために、図９に示すように、砥石ヘッド
１０２の内周側から純水からなる研削液ＰＬをウェーハ
Ｗの表面に供給しながら研削を行っている。一方、図１
０は、砥石ヘッド１０２のウェーハＷに対向する側の構
成を示す図である。図１０に示すように、研削ヘッド１
０２のウェーハＷに対向する環状の対向面１０２ａに
は、図１１に示すような形状の砥石１０３が周方向に沿
って複数配列されている。図１１に示す砥石１０３は、
砥粒としてダイヤモンド粒子をバインダで結合して柱状
に成形されたものである。砥石１０３のウェーハＷを研
削する研削面１０３ａは、矩形状となっている。このよ
うな形状の砥石１０３を研削ヘッド１０２の環状の対向
面１０２ａに固着している。砥石１０３の高さは、たと
えば、５ｍｍ程度である。上記のような形状の砥石１０
３を研削ヘッド１０２のウェーハＷに対向する環状の対
向面１０２ａに配列し、研削ヘッド１０２の内周側から
研削液ＰＬをウェーハＷの表面に供給しながら研削を行
う。このとき、研削液ＰＬは砥石１０３の内周面１０３
ｂ側からこの内周面１０３ｂに隣接する側面１０３ｃ，
１０３ｄの間を通じて外周面１０３ｅ側に流出しようと
するが、研削ヘッド１０２は回転しているため、図１０
に示すように、互いに隣接する砥石１０３の側面１０３
ｃ，１０３ｄの間に研削液ＰＬが滞留しやすい。

【０００４】互いに隣接する砥石１０３の側面１０３
ｃ，１０３ｄの間に研削液ＰＬが滞留すると、研削液Ｐ
Ｌには研削屑が含まれ、この研削屑によって砥石１０３
の研削面１０３ａが目詰まりを起こしやすいという問題
があった。砥石１０３が目詰まりを起こすと、ウェーハ
Ｗの被研削面の品質が粗くなり、また、ウェーハＷの割
れ（破損）が発生しやすくなるという問題がある。目詰
まりを起こした砥石１０３の研削面１０３ａを再生させ
るためには、研削面１０３ａのドレッシングおよびプリ
カット（ツルーイング）が必要である。このドレッシン
グおよびツルーイング作業は、研削装置の稼働率を低下
させるため、砥石１０３の研削面１０３ａの目詰まりを
抑制することが必要であった。

【０００５】本発明は、上述の問題に鑑みて成されたも
のであって、砥石の目詰まりを抑制でき、砥石のドレッ
シングおよびプリカット作業等の研削面の再生作業の頻
度を低減して加工効率の高い研削装置を提供することを
目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の研削装置は、被
研削体を保持面に保持する保持テーブルと、前記被研削
体の表面を研削する研削面をもつ柱状の複数の砥石と、
所定の回転軸を中心に回転可能に保持され、前記回転軸
に直交しかつ前記保持面に対向する対向面をもち、当該
対向面の所定の円周上に前記複数の砥石が互いに離隔し
て配列された砥石ヘッドと、を備え、前記砥石ヘッドを
回転させ、前記被研削体の表面に前記複数の砥石の内周
側から研削液を供給し、前記砥石の研削面を前記保持テ
ーブルに保持された被研削体の表面に当接させ、当該砥
石ヘッドと保持テーブルとを前記保持面に沿って相対移
動させて研削する研削装置であって、前記複数の砥石
は、前記研削液が当該砥石の内周側から当該砥石間を通
じて外周側へ流出しやすい形状に成形されている。

【０００７】好適には、前記砥石は、四角柱からなり、
内周側の側面に隣接する各側面が、当該砥石の内周側か
ら当該砥石間を通じて外周側へ流出しやすい方向を向い
ている。

【０００８】さらに好適には、前記砥石の内周側の側面
に隣接する各側面は、当該砥石の内周側から外周側にか
けて、前記砥石ヘッドの回転方向側に向いている。

【０００９】具体的には、前記砥石は、研削面が菱形形
状を有する。

【００１０】好適には、前記砥石は、内周側の側面が前
記対向面の半径方向に略直交している。

【００１１】本発明では、回転する砥石ヘッドの対向面
に設けた複数の砥石の形状を、複数の砥石の内周側から
被研削体の表面に供給される研削液が砥石の内周側から
砥石間を通じて外周側へ流出しやすい形状に成形してい
る。このため、被研削体の表面の砥石の間に研削屑を含
む研削液が滞留しにくくなる。この結果、砥石の目詰ま
りが発生しにくくなる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。図１は、本発明が適用され
る研削装置の概略構成の一例を示す斜視図である。図１
に示す研削装置１は、被研削体としてのウェーハＷをそ
れぞれ保持可能な２つの保持テーブル２およびこれらの
上方に配置された２つの砥石ヘッド２１を備えており、
それぞれウェーハＷの粗研削および仕上研削が可能とな
っている。また、研削装置１は、ウェーハＷの搬送を行
う搬送ロボット１１や、研削後のウェーハＷを乾燥させ
る乾燥装置２５、搬出装置２９等を備えている。

【００１３】保持テーブル２は、回転可能に保持されて
おり、研削装置１に内蔵された駆動機構により回転され
る。この保持テーブル２は、ウェーハＷの保持面が、た
とえば、ポーラスセラミックス板で形成されており、ポ
ーラスセラミックス板に載置されたウェーハＷをポーラ
スセラミックス板の背面側から研削装置１に内蔵された
減圧装置によって減圧する。これにより、ポーラスセラ
ミックス板にウェーハＷを吸着させ、ウェーハＷをチャ
ッキングすることができる。

【００１４】搬送ロボット１１は、たとえば、カセット
に収容されたウェーハＷを粗研削用の保持テーブル２に
載置したり、粗研削用の保持テーブル２に載置されたウ
ェーハＷを仕上研削用の保持テーブル２に移し代えた
り、仕上研削用の保持テーブル２に載置されたウェーハ
Ｗを乾燥装置２５に搬入したりする。搬出装置２９は、
乾燥装置２５で乾燥されたウェーハＷをカセットに収納
し、研削装置１外に搬出する。

【００１５】砥石ヘッド２１は、保持テーブル２上に回
転可能に保持されており、下面（ウェーハＷに対向する
対向面）に複数の砥石が固着されている。この砥石ヘッ
ド２１は、回転駆動部２４によって所望の回転数で回転
される。回転駆動部２４は、スピンドルモータ等を内蔵
しており、スライダ機構２６によって上下方向（ｚ軸方
向）に移動可能になっている。回転駆動部２４を下降さ
せ、ｚ軸方向の所定の位置に位置決めすることにより、
砥石ヘッド２１に固着された砥石とウェーハＷとが当接
する。

【００１６】図２は、砥石ヘッド２１と保持テーブル２
との関係の一例を示す側面図である。図２に示すよう
に、砥石ヘッド２１のウェーハＷに対向する対向面２１
ａには、複数の砥石２２が固着されている。この砥石ヘ
ッド２１の上側には、研削液ＰＬを砥石ヘッド２１に供
給するための供給管２３が砥石ヘッド２１の回転軸２１
ｂ上に設けられている。保持テーブル２上のウェーハＷ
の中心は、保持テーブル２の回転軸２ｂに一致するよう
に、保持テーブル２の保持面２ａに保持される。

【００１７】砥石ヘッド２１の回転軸２１ｂと保持テー
ブル２の回転軸２ｂとは偏心している。この偏心量は、
砥石ヘッド２１の回転軸２１ｂと砥石２２との距離と砥
石ヘッド２１および保持テーブル２を共に回転させるこ
とにより、砥石ヘッド２１に固着された砥石２２により
ウェーハＷの全面を研削する。なお、砥石ヘッド２１の
回転方向Ｒ１と、保持テーブル２の回転方向Ｒ２は逆向
きであっても、同じ向きであってもよいが、通常、逆向
きとしている。

【００１８】図３は、砥石ヘッド２１において研削液Ｐ
Ｌを供給する構造の一例を示す断面図である。上述した
ように、砥石ヘッド２１には、供給管２３を通じて研削
液ＰＬが供給される。研削液ＰＬには、たとえば、純水
が用いられる。砥石ヘッド２１は、内腔２１ｃを有して
おり、この内腔２１ｃ内に供給管２３を通じて研削液Ｐ
Ｌが供給される。供給管２３を通じて供給される研削液
ＰＬは、砥石ヘッド２１が回転している場合には、遠心
力の作用によって内腔２１ｃの全域に拡がる。

【００１９】図４は砥石ヘッド２１の対向面側の構成を
示す図であり、図５は砥石２２の形状の一例を示す斜視
図である。図４に示すように、砥石ヘッド２１のウェー
ハＷに対向する対向面２１ａは、たとえば、環状を有し
ており、この対向面２１ａの周方向に沿って複数の砥石
２２が配列されている。砥石ヘッド２１の対向面２１ａ
は、砥石ヘッド２１の回転軸２１ｃに直交している。

【００２０】図５に示すように、砥石２２は柱状に形成
されている。具体的には、四角柱であり、砥石２２の断
面形状、すなわち、研削面２２ａの外形は菱形となって
いる。砥石２２の高さＨは、たとえば、５ｍｍ程度であ
り、各砥石２２は、砥石ヘッド２１の対向面２１ａから
突出している。砥石２２は、たとえば、ダイヤモンド等
の砥粒を結合剤によって結合し、柱状に成形したもので
ある。砥石２２は、研削面２２ａに相対する固着面２２
ｆが砥石ヘッド２１の対向面２１ａに固着される。

【００２１】砥石２２は、砥石ヘッド２１の回転軸２１
ｂを中心とする円周に沿って等間隔に配列されており、
砥石２２の研削面２２ａおよび固着面２２ｆを除く４つ
の面２２ｂ，２２ｃ，２２ｄおよび２２ｅのうち、面２
２ｂと面２２ｃ、面２２ｄと面２２ｅがなす角θ₁ は、
たとえば、６０度の鋭角となっている。面２２ｂと面２
２ｄ、面２２ｃと面２２ｅがなす角θ₂ は１２０度とな
っている。

【００２２】砥石２２の面２２ｃは、回転軸２１ｂを中
心とする円周の接線に沿った向きに配置されている。こ
のように砥石２２を砥石ヘッド２１の対向面２１ａに固
着することにより、砥石２２の砥石２２の面２２ｃに隣
接する各面２２ｃ，２２ｄは、砥石２２の面２２ｃ側か
ら外周側に位置する面２２ｅにかけて、砥石ヘッド２１
の回転方向Ｒ ₁ 側に向いている（砥石ヘッド２１の半径
方向に対して回転方向Ｒ₁ 側に傾いている）。

【００２３】なお、上記した構成の砥石２２が固着され
た砥石ヘッド２１は、研削装置１の２の粗研削および仕
上研削の双方に用いてもよいし、粗研削および仕上研削
のいずれか一方に用いてもよい。また、粗研削および仕
上研削のいずれに用いるかは、使用する砥石や、ウェー
ハＷの材質等に応じて発生する研削面の荒れやウェーハ
Ｗの破損の状況等に応じて決定することができる。

【００２４】次に、上記構成の砥石ヘッド２１を用いた
ウェーハＷの研削加工の一例について説明する。図６
は、本実施形態の研削装置の研削開始前の状態を説明す
るための図である。まず、図６に示すように、保持テー
ブル２の保持面２ａにウェーハＷを吸着保持する。この
ウェーハＷは、たとえば、所定の半導体製造工程を経て
素子が形成されたウェーハである。このウェーハＷの裏
面を砥石ヘッド２１側に向けて保持テーブル２の保持面
２ａに吸着保持する。また、ウェーハＷを保持した保持
テーブル２を、たとえば、数ｒｐｍ〜数十ｒｐｍの回転
数で所定の回転方向Ｒ２に回転させる。

【００２５】一方、保持テーブル２の上方に位置する砥
石ヘッド２１を、たとえば、数十ｒｐｍ〜数千ｒｐｍの
回転数で所定の回転方向Ｒ１に回転させる。また、供給
管２３を通じて、砥石ヘッド２１内に研削液ＰＬを供給
する。

【００２６】次いで、砥石ヘッド２１が回転し、この砥
石ヘッド２１に研削液ＰＬが供給された状態で、砥石ヘ
ッド２１をｚ軸方向に下降させ、砥石ヘッド２１の対向
面２１ａに固着された砥石２２の研削面２２ａをウェー
ハＷに当接させる。このとき、砥石ヘッド２１は、たと
えば、砥石２２の研削面２２ａとウェーハＷの表面との
間に一定圧力が作用するように、ｚ軸方向に位置決めす
る。

【００２７】図７は、砥石ヘッド２１に固着された砥石
２２によってウェーハＷの裏面を研削中の研削液の流れ
を説明するための図であって、砥石ヘッド２１の対向面
２１ａ側から見た図である。砥石２２の研削面２２ａが
ウェーハＷに当接し、研削している間は、供給管２３を
通じて研削液ＰＬが砥石ヘッド２１内に供給される。砥
石ヘッド２１内に供給された研削液２１は、砥石ヘッド
２１の回転によって拡がり、ウェーハＷの表面に供給さ
れる。

【００２８】ウェーハＷの表面に供給された研削液ＰＬ
は、砥石２２の研削面２２ａがウェーハＷを研削するこ
とによって生じた研削屑を含みながら、図７に示すよう
に、砥石ヘッド２１の外周側に向かって流出しようとす
る。

【００２９】このとき、砥石２２の内周側から互いに隣
接する砥石２２間を通過して外周側に向けて流出しよう
とする研削液ＰＬは、鋭角をなす砥石２２の面２２ｂお
よび面２２ｃに向かうため、研削液ＰＬの流れが妨げら
れにくく、研削液ＰＬは速やかに外周側に流出する。

【００３０】また、砥石ヘッド２１に供給された研削液
ＰＬは、その流出方向が、図７に示すように、砥石ヘッ
ド２１が回転しているため、砥石ヘッド２１の半径方向
に対して回転方向Ｒ１に傾いている。一方、砥石２２の
側面２２ｃおよび側面２２ｄは、内周側の面２２ｂ側か
ら外周側に位置する面２２ｅにかけて、砥石ヘッド２１
の半径方向に対して回転方向Ｒ₁ 側に傾いている。この
ため、砥石２２の側面２２ｃと側面２２ｄとの間を通過
しようとする研削液ＰＬの流出方向と、砥石２２の側面
２２ｃおよび側面２２ｄの向きが略一致し、砥石ヘッド
２１の外周に向けて流出しようとする研削液ＰＬが砥石
２２の側面２２ｃおよび側面２２ｄによって妨げられに
くくなる。

【００３１】研削液ＰＬが砥石２２の内周面２２ｂ側か
ら外周面２２ｅ側に向けて、側面２２ｃおよび側面２２
ｄの間を速やかに通過することにより、研削屑を含む研
削液ＰＬがウェーハＷ上に滞留しにくくなる。この結
果、研削屑を含む研削液ＰＬが研削面２ａとウェーハＷ
の表面の間に侵入しにくくなる。研削屑を含む研削液Ｐ
Ｌが研削面２ａとウェーハＷの表面の間に侵入しにくく
なるなることにより、ウェーハＷの表面の品質が低下し
たり、ウェーハＷが破損することが抑制され、安定した
研削を行うことが可能となる。

【００３２】以上のように、本実施形態によれば、回転
する砥石ヘッド２１の対向面２１ａの円周方向に配列さ
れた複数の砥石２２の形状を、研削中に砥石ヘッド２１
の内周側から供給される研削液ＰＬが砥石２２の間を通
過しやすいように、砥石２２の形状を工夫することによ
り、研削屑を含む研削液ＰＬが砥石２２の間に滞留する
ことに起因する種々の問題を解消することができる。

【００３３】研削屑を含む研削液ＰＬが研削面２ａとウ
ェーハＷの表面の間に侵入しにくくなるため、研削面２
ａが目詰まりしにくくなり、研削面２ａをドレッシング
やプリカットすることによる研削面２ａの再生作業の頻
度を低減することが可能になる。研削面２ａの再生作業
の頻度を低減することができるため、砥石２２の寿命を
延ばすことが可能となる。

【００３４】さらに、研削屑を含む研削液ＰＬは、砥石
２２の間を速やかに通過して流通するため、連続的に供
給される研削液ＰＬによってウェーハＷ上に存在する研
削屑を含む研削液ＰＬは効率良く押し流される。このた
め、研削加工後にウェーハＷに研削屑が残留することが
少なくなり、ウェーハＷに形成された素子への影響を低
減することができる。また、研削屑を含む研削液ＰＬが
効率良く押し流されることにより、保持テーブル２の保
持面２ａも研削屑を含む研削液ＰＬによっては汚れにく
くなる。

【００３５】なお、本発明は上述した実施形態に限定さ
れない。上述した実施形態では、砥石２２の断面形状
（研削面２２ａの形状）を菱形としたが、たとえば、平
行四辺形等の他の形状を採用することも可能である。し
かしながら、菱形形状によって砥石２２の４つの面２２
ｂ，２２ｃ，２２ｄ，２２ｅの長さが等しくしたほう
が、研削液ＰＬが砥石２２間を通過しやすい。

【００３６】また、上述した実施形態では、砥石２２の
面２２ｂと面２２ｃ、面２２ｄと面２２ｅがなす角θ₁
を６０度の鋭角としたが、本発明はこれに限定されな
い。しかしながら、角θ₁ を６０度程度とすることによ
り、研削面２ａの研削効率および研削液ＰＬの流出性の
双方を最適化することができる。

【００３７】また、上述した実施形態では、砥石２２
を、面２２ｃが砥石ヘッド２１の回転軸２１ｂを中心と
する円周の接線に沿った向きに配置する構成としたが、
本発明はこれに限定されない。たとえば、砥石ヘッド２
１の回転数あるいは砥石ヘッド２１および保持テーブル
２の回転数に応じて、砥石２２間を研削液ＰＬがより通
過しやすい向きに配置することも可能である。さらに、
上述した実施形態では、砥石ヘッド２１の中心部に供給
管２３を設けて、砥石ヘッド２１の中心部に研削液ＰＬ
を供給する構成としたが、たとえば、砥石ヘッド２１の
内腔２１ｂにも研削液ＰＬを導く導入路を設け、この導
入路を通じて砥石２２の内周面側に研削液ＰＬをダイレ
クトに供給する構成とすることも可能である。

【００３８】

【発明の効果】本発明によれば、砥石の目詰まりを抑制
でき、砥石のドレッシングおよびプリカット作業の頻度
を低減して加工効率の高い研削装置が得られる。また、
本発明によれば、砥石の目詰まりを抑制できるため、シ
リコンウェーハ等の被研削体の破損の発生を抑制するこ
とができる。また、本発明によれば、砥石の目詰まりを
抑制できるため、ドレッシングやプリカット等の砥石の
研削面を再生させる作業の頻度を削減できる。また、本
発明によれば、研削屑を含む研削液をウェーハ上に滞留
させることなく砥石の外周側に効率良く流出させること
ができるので、結果的に、ウェーハを保持する保持テー
ブルが汚れるのを防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明が適用される研削装置の概略構成の一例
を示す斜視図である。

【図２】砥石ヘッド２１と保持テーブル２との位置関係
を示す側面図である。

【図３】砥石ヘッド２１において研削液ＰＬを供給する
構造の一例を示す断面図である。

【図４】砥石ヘッド２１の対向面側の構成を示す図であ
る。

【図５】砥石２２の形状の一例を示す斜視図である。

【図６】本実施形態の研削装置の研削開始前の状態を説
明するための図である。

【図７】研削中の研削液の流れを説明するための図であ
る。

【図８】ウェーハの裏面の研削に用いられる研削装置の
要部構成を示す斜視図である。

【図９】図８に示した研削装置において研削液の供給方
法を説明するための図である。

【図１０】図８に示した研削装置の砥石ヘッドの対向面
側の構成を示す図である。

【図１１】砥石の形状の一例を示す斜視図である。

【符号の説明】

１…研削装置、２…保持テーブル、２ａ…保持面、２１
…砥石ヘッド、２２…砥石、２４…回転駆動部、Ｗ…ウ
ェーハ、ＰＬ…研削液。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被研削体を保持面に保持する回転可能な保
持テーブルと、前記被研削体の表面を研削する研削面を
もつ柱状の複数の砥石と、所定の回転軸を中心に回転可
能に保持され、前記回転軸に直交しかつ前記保持面に対
向する対向面をもち、当該対向面の所定の円周上に前記
複数の砥石が互いに離隔して配列された砥石ヘッドと、
を備え、前記砥石ヘッドおよび保持テーブルを回転さ
せ、前記被研削体の表面に前記複数の砥石の内周面側か
ら研削液を供給し、前記砥石の研削面を前記保持テーブ
ルに保持された被研削体の表面に当接させて研削する研
削装置であって、前記複数の砥石は、前記研削液が当該
砥石の内周面側から当該砥石間を通じて外周面側へ流出
しやすい形状に成形されている研削装置。
【請求項２】前記砥石は、四角柱からなり、内周面に隣
接する各側面が、当該砥石の内周面側から当該砥石の側
面間を通じて外周面側へ流出しやすい方向を向いている
請求項１に記載の研削装置。
【請求項３】前記砥石の内周面に隣接する各側面は、当
該砥石の内周面側から外周面側にかけて、前記砥石ヘッ
ドの回転方向側に向いている請求項２に記載の研削装
置。
【請求項４】前記砥石は、研削面が菱形形状を有する請
求項１に記載の研削装置。
【請求項５】前記砥石は、内周面が前記円周の接線方向
に沿っている請求項４に記載の研削装置。
【請求項６】前記研削液は、純水である請求項１に記載
の研削装置。