JP2002299038A - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
- Publication number
- JP2002299038A JP2002299038A JP2001095749A JP2001095749A JP2002299038A JP 2002299038 A JP2002299038 A JP 2002299038A JP 2001095749 A JP2001095749 A JP 2001095749A JP 2001095749 A JP2001095749 A JP 2001095749A JP 2002299038 A JP2002299038 A JP 2002299038A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating chamber
- bottom plate
- plate
- heating
- heated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
- Electric Ovens (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高周波加熱装置において、加熱室底板とチョ
−クカバ−を溶接又はカシメをした後で別途電気絶縁材
を塗装し、その後電気絶縁材を焼成する必要があり、ス
ポット溶接の必要のない簡単な構造で、製造工程の簡略
化と電波漏洩を防止すること。 【解決手段】 本発明の高周波加熱装置は、金属加工メ
−カ−でＰＣＭ鋼板の両面に電気絶縁材１１、１３を設
けたものを加熱室底板に用い、加熱室底板とチョ−クカ
バ−１０のカシメを行う際に突起１４を4ヶ所設ける構
成とした。従って、ＰＣＭ鋼板を素材としたプレス加工
のみで後塗装が不要なオ−ブン成型ができ、生産も極め
て簡素な工程となりコストの大幅な低減と安定した品質
が得られ、設備面からも成型後の塗装設備が不要のため
環境問題の対策も必要とせず間接的なコストの低減が図
れる。
−クカバ−を溶接又はカシメをした後で別途電気絶縁材
を塗装し、その後電気絶縁材を焼成する必要があり、ス
ポット溶接の必要のない簡単な構造で、製造工程の簡略
化と電波漏洩を防止すること。 【解決手段】 本発明の高周波加熱装置は、金属加工メ
−カ−でＰＣＭ鋼板の両面に電気絶縁材１１、１３を設
けたものを加熱室底板に用い、加熱室底板とチョ−クカ
バ−１０のカシメを行う際に突起１４を4ヶ所設ける構
成とした。従って、ＰＣＭ鋼板を素材としたプレス加工
のみで後塗装が不要なオ−ブン成型ができ、生産も極め
て簡素な工程となりコストの大幅な低減と安定した品質
が得られ、設備面からも成型後の塗装設備が不要のため
環境問題の対策も必要とせず間接的なコストの低減が図
れる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は，食品を加熱する高
周波加熱装置に関するもので，特に加熱室の底面を構成
する加熱室底板の加工に関するものである。
周波加熱装置に関するもので，特に加熱室の底面を構成
する加熱室底板の加工に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図５は従来の高周波加熱装置を示すもの
である。図５において，加熱室１５の側面には導波管１
６を介して高周波加熱手段であるマグネトロン１７が結
合されており，被加熱物１８はマグネトロン１７による
高周波加熱或いは下部ヒ−タ１９（図６）による輻射加
熱により加熱される。
である。図５において，加熱室１５の側面には導波管１
６を介して高周波加熱手段であるマグネトロン１７が結
合されており，被加熱物１８はマグネトロン１７による
高周波加熱或いは下部ヒ−タ１９（図６）による輻射加
熱により加熱される。
【０００３】図６は図５の断面図であり加熱室１５の底
面には被加熱物１８を保持する皿受台２１及びこの皿受
台２１を保持し回転させるタ−ンテ−ブル２２，このタ
−ンテ−ブル２２を駆動するタ−ンテ−ブルモ−タ２３
が構成されている。また，加熱室１５の底面にはパンチ
ングを有する加熱室底板１５ｄで構成され，その下部に
は加熱室底板１５ｄのパンチングからの電波漏洩を防ぐ
ためにチョ−クカバ−２４が構成されている。上記加熱
室底板１５ｄには，オ−ブン壁の内面となる表面に耐食
性を良くする処理を施したＰＣＭ鋼板を用いていた。こ
のＰＣＭ鋼板の金属板には鉄−亜鉛合金化表面処理鋼板
（ＧＡ（ガルバナイズドアロイ）材系素材）１２が使用
されている。図７に上記加熱室底板１５ｄのＰＣＭ鋼板
の材料構成を示す。この金属板２６の表側（オ−ブン庫
内側）には，耐食性を良くする目的で電気絶縁材２５が
施されている。図８は加熱室底板１５ｄとチョ−クカバ
−２４の結合部を示すもので，上記ヒ−タ１９の熱反射
性能が高く調理性能を良くする目的で加熱室底板１５ｄ
とチョ−クカバ−２４を溶接又はカシメをした後で，別
途電気絶縁材２７を塗装していた。従って，加熱室底板
１５ｄの金属板（導伝部）２５とチョ−クカバ−の導伝
部が確実にア−スされており，加熱室底板１５ｄの金属
板（導伝部）２５とチョ−クカバ−２４の導伝部の隙間
からの電波漏洩が抑えられていた。
面には被加熱物１８を保持する皿受台２１及びこの皿受
台２１を保持し回転させるタ−ンテ−ブル２２，このタ
−ンテ−ブル２２を駆動するタ−ンテ−ブルモ−タ２３
が構成されている。また，加熱室１５の底面にはパンチ
ングを有する加熱室底板１５ｄで構成され，その下部に
は加熱室底板１５ｄのパンチングからの電波漏洩を防ぐ
ためにチョ−クカバ−２４が構成されている。上記加熱
室底板１５ｄには，オ−ブン壁の内面となる表面に耐食
性を良くする処理を施したＰＣＭ鋼板を用いていた。こ
のＰＣＭ鋼板の金属板には鉄−亜鉛合金化表面処理鋼板
（ＧＡ（ガルバナイズドアロイ）材系素材）１２が使用
されている。図７に上記加熱室底板１５ｄのＰＣＭ鋼板
の材料構成を示す。この金属板２６の表側（オ−ブン庫
内側）には，耐食性を良くする目的で電気絶縁材２５が
施されている。図８は加熱室底板１５ｄとチョ−クカバ
−２４の結合部を示すもので，上記ヒ−タ１９の熱反射
性能が高く調理性能を良くする目的で加熱室底板１５ｄ
とチョ−クカバ−２４を溶接又はカシメをした後で，別
途電気絶縁材２７を塗装していた。従って，加熱室底板
１５ｄの金属板（導伝部）２５とチョ−クカバ−の導伝
部が確実にア−スされており，加熱室底板１５ｄの金属
板（導伝部）２５とチョ−クカバ−２４の導伝部の隙間
からの電波漏洩が抑えられていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の高周波加熱装置では、加熱室底板とチョ−クカバ−を
溶接又はカシメをした後で別途電気絶縁材を塗装し，そ
の後電気絶縁材を焼成する必要があり，焼成時の高温に
よる熱変形を防止するため，形状をシンプルにする必要
があった。焼成する設備の維持管理も必要であり，コス
トにも非常に不利という課題があった。本発明は上記課
題を解決するもので，スポット溶接の必要のない簡単な
構造で，製造工程の簡略化と電波漏洩を防止することを
目的している。
の高周波加熱装置では、加熱室底板とチョ−クカバ−を
溶接又はカシメをした後で別途電気絶縁材を塗装し，そ
の後電気絶縁材を焼成する必要があり，焼成時の高温に
よる熱変形を防止するため，形状をシンプルにする必要
があった。焼成する設備の維持管理も必要であり，コス
トにも非常に不利という課題があった。本発明は上記課
題を解決するもので，スポット溶接の必要のない簡単な
構造で，製造工程の簡略化と電波漏洩を防止することを
目的している。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために，本発明は，第一手段として金属加工メ−カ
−でプリコ−ト鋼板の両面に電気絶縁材を設けたものを
加熱室底板に用い，加熱室底板とチョ−クカバ−のカシ
メを行う際に突起を4ヶ所設ける構成としたものであ
る。
するために，本発明は，第一手段として金属加工メ−カ
−でプリコ−ト鋼板の両面に電気絶縁材を設けたものを
加熱室底板に用い，加熱室底板とチョ−クカバ−のカシ
メを行う際に突起を4ヶ所設ける構成としたものであ
る。
【０００６】そして上記構成により、加熱室底板の金属
板（導伝部）とチョ−クカバ−のカシメを行う際に，チ
ョ−クカバ−に突起を加工することにより，加熱室底板
の金属板（導伝部）とチョ−クカバ−の導伝部が確実に
ア−スされており，加熱室底板の金属板（導伝部）とチ
ョ−クカバ−の導伝部の隙間からの電波漏洩を抑えるこ
とができる。
板（導伝部）とチョ−クカバ−のカシメを行う際に，チ
ョ−クカバ−に突起を加工することにより，加熱室底板
の金属板（導伝部）とチョ−クカバ−の導伝部が確実に
ア−スされており，加熱室底板の金属板（導伝部）とチ
ョ−クカバ−の導伝部の隙間からの電波漏洩を抑えるこ
とができる。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明の請求項１にかかる高周波
加熱装置は、被加熱物を収納する加熱室と、これに高周
波エネルギ−を供給する高周波発生装置と、加熱室の上
面を形成する加熱室上板と、加熱室の側面を形成する加
熱室側壁と、加熱室の裏面を形成する加熱室裏板と、プ
リコ−ト鋼板から成り加熱室の底面を形成する加熱室底
板と、加熱室底板からの電波漏洩を防ぐためのチョ−ク
カバ−と、被加熱物を載置する回転皿と、前記被加熱物
を加熱するヒ−タと、前記ヒ−タからの電磁波を前記被
加熱物に向かって収束させる反射板と、回転皿を回転す
る為の駆動モ−タと、前記加熱室底板の両側の表面に電
気絶縁材が設けられており、加熱室底板の金属板（導伝
部）とチョ−クカバ−のカシメを行う際にチョ−クカバ
−に突起を４ヶ所加工して、加熱室底板とチョ−クカバ
−を確実にア−スする構成とした。
加熱装置は、被加熱物を収納する加熱室と、これに高周
波エネルギ−を供給する高周波発生装置と、加熱室の上
面を形成する加熱室上板と、加熱室の側面を形成する加
熱室側壁と、加熱室の裏面を形成する加熱室裏板と、プ
リコ−ト鋼板から成り加熱室の底面を形成する加熱室底
板と、加熱室底板からの電波漏洩を防ぐためのチョ−ク
カバ−と、被加熱物を載置する回転皿と、前記被加熱物
を加熱するヒ−タと、前記ヒ−タからの電磁波を前記被
加熱物に向かって収束させる反射板と、回転皿を回転す
る為の駆動モ−タと、前記加熱室底板の両側の表面に電
気絶縁材が設けられており、加熱室底板の金属板（導伝
部）とチョ−クカバ−のカシメを行う際にチョ−クカバ
−に突起を４ヶ所加工して、加熱室底板とチョ−クカバ
−を確実にア−スする構成とした。
【０００８】そして、加熱室底板の金属板（導伝部）と
チョ−クカバ−のカシメを行う際に，チョ−クカバ−に
突起を加工することにより，加熱室底板の金属板（導伝
部）とチョ−クカバ−の導伝部が確実にア−スされてお
り，加熱室底板の金属板（導伝部）とチョ−クカバ−の
導伝部の隙間からの電波漏洩を抑えることができる。
チョ−クカバ−のカシメを行う際に，チョ−クカバ−に
突起を加工することにより，加熱室底板の金属板（導伝
部）とチョ−クカバ−の導伝部が確実にア−スされてお
り，加熱室底板の金属板（導伝部）とチョ−クカバ−の
導伝部の隙間からの電波漏洩を抑えることができる。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
ながらするものである。
ながらするものである。
【００１０】（実施例１）図１は，本発明の実施例１の
高周波加熱装置の斜視図を示すものである。図１におい
て，加熱室１の側面には導波管２を介して高周波加熱手
段であるマグネトロン３が結合されており，被加熱物４
はマグネトロン３による高周波加熱，或いは下部ヒ−タ
５（図２）からの電磁波を前記被加熱物４に向かって収
束させる反射板６による輻射加熱によって加熱される。
高周波加熱装置の斜視図を示すものである。図１におい
て，加熱室１の側面には導波管２を介して高周波加熱手
段であるマグネトロン３が結合されており，被加熱物４
はマグネトロン３による高周波加熱，或いは下部ヒ−タ
５（図２）からの電磁波を前記被加熱物４に向かって収
束させる反射板６による輻射加熱によって加熱される。
【００１１】図２は図１の断面図であり加熱室１の底面
には被加熱物４を保持する皿受台７及びこの皿受台を保
持し回転させるタ−ンテ−ブル８，このタ−ンテ−ブル
８を駆動するタ−ンテ−ブルモ−タ９が構成されてい
る。また，加熱室１の底面にはパンチングを有する加熱
室底板１ｄで構成され，その下部には加熱室底板１ｄの
パンチングからの電波漏洩を防ぐためにチョ−クカバ−
１０が構成されている。
には被加熱物４を保持する皿受台７及びこの皿受台を保
持し回転させるタ−ンテ−ブル８，このタ−ンテ−ブル
８を駆動するタ−ンテ−ブルモ−タ９が構成されてい
る。また，加熱室１の底面にはパンチングを有する加熱
室底板１ｄで構成され，その下部には加熱室底板１ｄの
パンチングからの電波漏洩を防ぐためにチョ−クカバ−
１０が構成されている。
【００１２】この加熱室底板１ｄはＰＣＭ鋼板（Ｐre-C
oated Ｍetal：以下ＰＣＭと称する）を素材としてプレ
ス加工されたものである。
oated Ｍetal：以下ＰＣＭと称する）を素材としてプレ
ス加工されたものである。
【００１３】図３に上記加熱室底板１ｄのＰＣＭの材料
構成を示す。このＰＣＭの金属板には鉄−亜鉛合金化表
面処理鋼板（ＧＡ（ガルバナイズドアロイ）材系素材）
１２が使用されている。この金属板１２の表側（オ−ブ
ン庫内側）には，耐食性を良くする目的で電気絶縁材１
１が施されている。更に金属板の裏側（オ−ブン外面
側）には，上記ヒ−タ５の熱反射性能が高く調理性能を
良くする目的で別途電気絶縁材１３が施されている。
構成を示す。このＰＣＭの金属板には鉄−亜鉛合金化表
面処理鋼板（ＧＡ（ガルバナイズドアロイ）材系素材）
１２が使用されている。この金属板１２の表側（オ−ブ
ン庫内側）には，耐食性を良くする目的で電気絶縁材１
１が施されている。更に金属板の裏側（オ−ブン外面
側）には，上記ヒ−タ５の熱反射性能が高く調理性能を
良くする目的で別途電気絶縁材１３が施されている。
【００１４】図４は加熱室底板１ｄとチョ−クカバ−１
０の結合部を示すもので，加熱室底板１ｄの金属板（導
伝部）１２とチョ−クカバ−１０のカシメを行う際にチ
ョ−クカバ−１０に突起１４を加工して，加熱室底板１
ｄとチョ−クカバ−１０が確実にア−スされている。
０の結合部を示すもので，加熱室底板１ｄの金属板（導
伝部）１２とチョ−クカバ−１０のカシメを行う際にチ
ョ−クカバ−１０に突起１４を加工して，加熱室底板１
ｄとチョ−クカバ−１０が確実にア−スされている。
【００１５】次に動作、作用について説明すると，加熱
室底板１ｄの金属板（導伝部）１２とチョ−クカバ−１
０のカシメを行う際にチョ−クカバ−１０に突起１４を
加工して，この突起１４の先端が前記電気絶縁材１１に
傷をつけて加熱室底板１ｄの金属板（導伝部）１２とチ
ョ−クカバ−１０の導電部の間に直接の電気的接触をす
ることにより外部への電波の漏洩を減少させる。本実施
例の突起については３ヶ所或いは２ヶ所であってもよ
い。
室底板１ｄの金属板（導伝部）１２とチョ−クカバ−１
０のカシメを行う際にチョ−クカバ−１０に突起１４を
加工して，この突起１４の先端が前記電気絶縁材１１に
傷をつけて加熱室底板１ｄの金属板（導伝部）１２とチ
ョ−クカバ−１０の導電部の間に直接の電気的接触をす
ることにより外部への電波の漏洩を減少させる。本実施
例の突起については３ヶ所或いは２ヶ所であってもよ
い。
【００１６】なお，本実施例の金属製材料には鉄−亜鉛
合金化表面処理鋼板を用いたが，鉄−亜鉛非合金メッキ
化表面処理鋼板を用いてもよい。また，他の材料を用い
てもよい。
合金化表面処理鋼板を用いたが，鉄−亜鉛非合金メッキ
化表面処理鋼板を用いてもよい。また，他の材料を用い
てもよい。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように本発明の請求項１に
係る高周波加熱装置によれば、ＰＣＭ鋼板を素材とした
プレス加工のみで後塗装が不要なオ−ブン成型ができる
ため，生産も極めて簡素な工程となりコストの大幅な低
減が図れると共に，安定した品質が得られ，また，設備
面からも成型後の塗装設備が不要のため環境問題の対策
も必要とせず間接的なコストの低減が図れる。
係る高周波加熱装置によれば、ＰＣＭ鋼板を素材とした
プレス加工のみで後塗装が不要なオ−ブン成型ができる
ため，生産も極めて簡素な工程となりコストの大幅な低
減が図れると共に，安定した品質が得られ，また，設備
面からも成型後の塗装設備が不要のため環境問題の対策
も必要とせず間接的なコストの低減が図れる。
【図１】本発明の実施例１における高周波加熱装置の斜
視図
視図
【図２】同高周波加熱装置の断面図
【図３】同高周波加熱装置の加熱室底板に用いられるＰ
ＣＭ鋼板の材料構成図
ＣＭ鋼板の材料構成図
【図４】同高周波加熱装置における加熱室底板とチョ−
クカバ−のカシメ部の拡大断面図
クカバ−のカシメ部の拡大断面図
【図５】従来の高周波加熱装置の斜視図
【図６】従来の高周波加熱装置の断面図
【図７】従来の高周波加熱装置の加熱室底板に用いられ
るＰＣＭ鋼板の材料構成図
るＰＣＭ鋼板の材料構成図
【図８】従来の高周波加熱装置の加熱室底板とチョ−ク
カバ−のカシメ部の拡大断面図
カバ−のカシメ部の拡大断面図
１ 加熱室 １ａ 加熱室上板 １ｂ 加熱室側壁 １ｃ 加熱室裏板 １ｄ 加熱室底板 ２ 導波管 ３ 高周波発生装置（マグネトロン） ４ 被加熱物 ５ ヒ−タ ６ 反射板 ７ 皿受台 ８ タ−ンテ−ブル ９ タ−ンテ−ブルモ−タ １０ チョ−クカバ− １１ 電気絶縁材 １２ＧＡ材系素材 １３ 電気絶縁材 １４ 突起 １５ 加熱室 １５ａ 加熱室上板 １５ｂ 加熱室側壁 １５ｃ 加熱室裏板 １５ｄ 加熱室底板 １６ 導波管 １７ 高周波発生装置（マグネトロン） １８ 被加熱物 １９ ヒ−タ ２０ 反射板 ２１ 皿受台 ２２ タ−ンテ−ブル ２３ タ−ンテ−ブルモ−タ ２４ チョ−クカバ− ２５ 電気絶縁材 ２６ ＧＡ材系素材 ２７ 電気絶縁材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 3K090 AA12 AA15 AA20 CA01 EA01 KA02 LA04 3L086 AA01 BA08 BB03 BB20 DA23 DA26
Claims (1)
- 【請求項１】 被加熱物を収納する加熱室と、これに高
周波エネルギ−を供給する高周波発生装置と、加熱室の
上面を形成する加熱室上板と、加熱室の側面を形成する
加熱室側壁と、加熱室の裏面を形成する加熱室裏板と、
プリコ−ト鋼板から成り加熱室の底面を形成する加熱室
底板と、加熱室底板からの電波漏洩を防ぐためのチョ−
クカバ−と、被加熱物を載置する回転皿と、前記被加熱
物を加熱するヒ−タと、前記ヒ−タからの電磁波を前記
被加熱物に向かって収束させる反射板と、回転皿を回転
する為の駆動モ−タと、前記加熱室底板の両側の表面に
電気絶縁材が設けられており、加熱室底板の金属板（導
伝部）とチョ−クカバ−のカシメを行う際にチョ−クカ
バ−に突起を４ヶ所加工して、加熱室底板とチョ−クカ
バ−を確実にア−スする高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001095749A JP4797269B2 (ja) | 2001-03-29 | 2001-03-29 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001095749A JP4797269B2 (ja) | 2001-03-29 | 2001-03-29 | 高周波加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002299038A true JP2002299038A (ja) | 2002-10-11 |
| JP4797269B2 JP4797269B2 (ja) | 2011-10-19 |
Family
ID=18949760
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001095749A Expired - Fee Related JP4797269B2 (ja) | 2001-03-29 | 2001-03-29 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4797269B2 (ja) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6243203U (ja) * | 1985-09-03 | 1987-03-16 | ||
| JPS63226538A (ja) * | 1987-03-17 | 1988-09-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 加熱調理器 |
| JPH0536205U (ja) * | 1991-10-15 | 1993-05-18 | シヤープ株式会社 | 高周波加熱調理器 |
| JPH09159182A (ja) * | 1995-12-07 | 1997-06-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 加熱調理器 |
| JPH118060A (ja) * | 1997-06-18 | 1999-01-12 | Toshiba Corp | 電子レンジ |
-
2001
- 2001-03-29 JP JP2001095749A patent/JP4797269B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6243203U (ja) * | 1985-09-03 | 1987-03-16 | ||
| JPS63226538A (ja) * | 1987-03-17 | 1988-09-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 加熱調理器 |
| JPH0536205U (ja) * | 1991-10-15 | 1993-05-18 | シヤープ株式会社 | 高周波加熱調理器 |
| JPH09159182A (ja) * | 1995-12-07 | 1997-06-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 加熱調理器 |
| JPH118060A (ja) * | 1997-06-18 | 1999-01-12 | Toshiba Corp | 電子レンジ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4797269B2 (ja) | 2011-10-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4316069A (en) | Microwave oven excitation system | |
| WO2004098241A1 (ja) | 高周波加熱装置及びその制御方法 | |
| US6392203B1 (en) | Baking oven with baking oven muffle | |
| KR900008545B1 (ko) | 히이터부착 전자레인지 | |
| JP2002299038A (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JPH08138864A (ja) | 加熱調理器 | |
| JP4321137B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JP2004335361A (ja) | 高周波加熱装置及びその制御方法 | |
| JP2003133053A (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JP2006308114A (ja) | 高周波加熱装置 | |
| KR100433334B1 (ko) | 고주파가열조리기및그제조방법 | |
| JP2002310109A (ja) | カシメ方法 | |
| JP3985339B2 (ja) | 加熱調理器 | |
| JPWO2012073457A1 (ja) | 加熱調理器 | |
| JP2013015254A (ja) | 加熱調理器 | |
| JP2542678Y2 (ja) | 電子レンジ | |
| JPS61291835A (ja) | 加熱装置 | |
| JP2017211106A (ja) | 加熱調理器 | |
| JP2003120942A (ja) | 加熱調理器 | |
| JPH09320756A (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JP3604540B2 (ja) | 加熱調理器 | |
| JPS6155889A (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JPS5833446Y2 (ja) | ヒ−タを備えた高周波加熱装置 | |
| JPH06257760A (ja) | 電子レンジ | |
| CN101676633A (zh) | 微波炉导风罩 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080220 |
|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20080312 |
|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20091119 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101008 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101109 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110107 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110705 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110718 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140812 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140812 Year of fee payment: 3 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |