JP2002296186A - ガス中の不純物分析方法及び装置 - Google Patents
ガス中の不純物分析方法及び装置Info
- Publication number
- JP2002296186A JP2002296186A JP2001100284A JP2001100284A JP2002296186A JP 2002296186 A JP2002296186 A JP 2002296186A JP 2001100284 A JP2001100284 A JP 2001100284A JP 2001100284 A JP2001100284 A JP 2001100284A JP 2002296186 A JP2002296186 A JP 2002296186A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- nitrogen
- impurity
- sample gas
- discharge tube
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Abstract
の濃度を連続的に測定することが可能なガス中の不純物
分析方法及び装置を提供する。 【解決手段】 試料ガス中に含まれる不純物よりもイオ
ン化ポテンシャルの高い不活性ガスと試料ガスとを混合
して放電管内に導入し、放電により生じた光を集光し、
前記不純物に特有の発光波長を抽出して検出器に導入
し、検出された光の強度に応じて不純物濃度を連続的に
測定する。
Description
析方法及び装置に関し、詳しくは、クリプトン(K
r)、キセノン(Xe)、酸素(O2)中に含まれてい
る微量不純物を連続的に測定することが可能なガス中の
不純物分析方法及び装置に関する。
製造分野や電機部品製造分野等の電気産業の様々な分野
で、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノ
ン、酸素等が利用されているが、特に半導体製造分野で
は、大規模集積回路の製造のため、高純度なガスの供給
が要求されている。ガスの純度は、半導体製造プロセス
の歩留まりに大きな影響を与えるため、連続的にそれら
の純度を監視する必要がある。
窒素は、配管のパージ等に使用され、また、空気の主成
分でもあるため、外部からプロセスガス中に混入しやす
く、さらに、不活性であるため、精製器による除去が最
も困難で、除去能力を早く低下させる不純物として知ら
れている。
ン中の不純物窒素を監視するためには、測定に使用する
ガスの消費量が少なく、かつ、連続的に監視できる微量
窒素濃度モニターの必要性が高まっている。
量窒素の測定には、GC−MS(ガスクロマトグラフィ
ー質量分析計)が用いられていたが、GC−MSは高価
である上に、間欠的にしか測定できないため、窒素濃度
のリアルタイム連続監視には不向きであった。
(熱伝導度検出器ガスクロマトグラフィー)やGC−P
ID(光イオン化検出器ガスクロマトグラフィー)も利
用されているが、これらも間欠的にしか測定できないた
め、不純物濃度のリアルタイム連続監視には不向きであ
った。
定する方法として、グロー放電を利用した発光分析法が
ある。この方法は、放電管内部に陽極及び陰極からなる
一対の金属電極を備え、その間に試料ガスを供給し、直
流電圧を印加することによって試料ガスを放電させ、そ
れによって生じた窒素の発光を分離して検出する方法で
ある。
体の正イオンが陰極に衝突し、二次電子を放出させると
同時に、陰極表面を分解して金属粒子を放出することが
あるため、ガスを汚染するおそれがあるだけでなく、時
間経過とともに電極が劣化してしまい、安定した発光を
得ることが困難であるという問題点があった。
がガラス等の絶縁物質で覆われており、試料ガスと金属
電極とを接触させることなく放電させるタイプのアルゴ
ン又はヘリウム用簡易型窒素分析計が市販されている。
この分析計は、放電を維持するのに十分高い交流電圧が
電極に印加されており、試料ガスは、一定流量で放電管
内に供給され、放電管内において電子衝突によりエネル
ギーを吸収することによって励起される。これは気体分
子が高いエネルギー準位から低いエネルギー準位に落下
する際に、輻射エネルギーの放出つまり発光をもたら
す。
有であるため、窒素の発光波長のみを干渉フィルターで
透過させることにより、ガス中の窒素濃度を測定するこ
とができる。特に、この簡易型窒素分析計で利用される
アルゴン中の窒素濃度は、337nm±5nmや357
nm±5nmの波長の光を干渉フィルターで分離し、電
気信号に変換することにより測定している。
計だけでは、クリプトンやキセノン、酸素中の窒素濃度
を測定することが困難であり、アルゴンやヘリウムとい
った希ガス中の窒素しか測定できなかった。さらに、酸
素ガスは支燃性ガスであるため、高電圧の印加された放
電セルに導入して放電させることは、保安上危険を伴う
などの問題点があった。
リプトンやキセノン、酸素中の窒素濃度を測定するため
には、前段にGCを取付けてクリプトンやキセノン、酸
素中の窒素をキャリヤーガスとして用いるアルゴン又は
へリウム中の窒素となるように濃縮変換して測定する必
要があり、リアルタイムで窒素濃度を測定することがで
きないばかりでなく、装置コストが高くなるという問題
点があった。
分析計を使用して、クリプトンやキセノン、酸素中の不
純物窒素の濃度を連続的に測定することが可能なガス中
の不純物分析方法及び装置を提供することを目的として
いる。
め、本発明のガス中の不純物分析方法は、試料ガス中に
含まれる測定対象不純物よりもイオン化ポテンシャルの
高い不活性ガスと試料ガスとを混合して放電管内に導入
し、放電により生じた光を集光し、前記不純物に特有の
発光波長を抽出して検出器に導入し、検出された光の強
度に応じて不純物濃度を連続的に測定することを特徴と
している。
は、前記試料ガスが、クリプトン、キセノン、酸素のい
ずれか一種又はこれらの混合ガスであること、前記不純
物が、窒素、水分、メタンの少なくとも一種であるこ
と、前記不活性ガスが、アルゴン、ヘリウム、ネオン、
クリプトン、キセノン、窒素のいずれか一種又はこれら
の混合ガスであることを特徴とし、さらに、前記不活性
ガスと試料ガスとが混合した混合ガス中の試料ガスの濃
度が1〜10%であることを特徴としている。
は、試料ガスの経路と、該試料ガス中に含まれる不純物
よりもイオン化ポテンシャルの高い不活性ガスの経路
と、前記試料ガスと不活性ガスとを混合する混合手段
と、該混合手段で混合した混合ガスを放電管内に導入す
る経路と、放電管内での放電により生じた光を集光する
手段と、前記不純物に特有の発光波長を抽出する手段
と、抽出された光の強度を検出する検出器とを備えてい
ることを特徴としている。
析装置における実験用装置の一形態例を示す系統図であ
る。この分析装置は、ガラスで覆われた内部電極11
と、その外周側に配置された外部電極12とを有する放
電管13に、試料ガスを導入する試料ガス導入経路14
と、該試料ガス中に含まれる不純物よりもイオン化ポテ
ンシャルの高い不活性ガスを導入する不活性ガス導入経
路15と、前記試料ガスと不活性ガスとを混合する混合
部16と、該混合部16で混合した混合ガスを放電管1
3内に導入する混合ガス導入経路17と、放電管13か
ら混合ガスを導出する排気経路18と、放電管13内で
の放電により生じた光を集光する手段であるレンズ19
と、集光された光の強度を検出する分光器21とを備え
ている。
活性ガス導入経路15には、試料ガス及び不活性ガスの
流量を設定するための流量制御器22,23がそれぞれ
設けられており、前記排気経路18には、放電管13内
の圧力を安定化させるための圧力制御器24が設けられ
ている。また、前記内部電極11と外部電極12とは、
放電用高圧電源25に接続されている。
は、試料ガス導入経路14から流量制御器22を通って
所定流量で導入され、前記不純物を実質的に含まない不
活性ガスは、不活性ガス導入経路15から流量制御器2
3を通って所定流量で導入される。試料ガスと不活性ガ
スとは、前記混合部16で混合した後、混合ガス導入経
路17を通って放電管13内に導入される。
ら内部電極11及び外部電極12に印加された高電圧交
流によって放電が発生し、この放電によってガスが発光
する。放電管13内の発光は、放電管13の一端に設け
られた石英窓13aを通り、レンズ19で集光されて分
光器21に入射する。分光器21からは、入射光の強度
が電気信号に変換されて出力される。
料ガスとして窒素を含有するアルゴンを導入して発光ス
ペクトルを測定すると、図3に示すように、337nm
付近に窒素の発光による大きなシグナルが得られる。一
方、試料ガスとして窒素を含有するクリプトンを導入し
た場合は、図4に示すように、窒素の発光による大きな
シグナルを得ることができない。また、試料ガスとして
窒素を含むキセノンや、窒素を含む酸素を導入した場合
も、クリプトンのときと同様に窒素を分析可能なシグナ
ルを得ることができない。
純物である窒素よりもイオン化ポテンシャルの高い不活
性ガス、この場合は、窒素のイオン化ポテンシャル1
5.58eVよりも高いイオン化ポテンシャルを有する
アルゴン(15.76eV)やヘリウム(24.59e
V)、ネオン(21.56eV)といった希ガスを単独
で、あるいは混合して前記試料ガスに添加混合して同様
に発光スペクトルを測定すると、図5に示すように、3
16nm付近、337nm付近、357nm付近、38
0nm付近に、窒素の発光によるシグナルを得ることが
できる。
のような試料ガス中に不純物として含まれている窒素を
分析する際には、窒素のイオン化ポテンシャルよりも高
いイオン化ポテンシャルを有するアルゴン、ヘリウム、
ネオンのいずれか一種又はこれらの混合ガスを添加混合
した状態で放電管13内に導入することにより、前記波
長付近、具体的には、316±1nm、337±1n
m、357±5nm、380±5nmのうち少なくとも
一つの波長の発光強度を測定することにより、不純物窒
素の分析を行うことができる。このとき、試料ガスは、
放電管13に連続して供給した状態で上記分析を行える
ので、窒素濃度のリアルタイム連続監視が可能となる。
さらに、試料ガスが酸素の場合であっても、前記アルゴ
ンやヘリウム、ネオンによって希釈された状態になるの
で、高電圧の印加された放電管13に導入して放電させ
たときの保安上の問題も解決できる。
ための分析装置の一形態例を示す系統図である。なお、
以下の説明において、前記形態例の構成要素と同一の構
成要素には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
レンズ19で集光した光の中で、測定対象不純物に特有
の発光波長を抽出する手段として干渉フィルター20を
設けるとともに、該干渉フィルター20で抽出された光
の強度を検出して電気信号に変換する検出器31と、該
検出器31からの電気信号を増幅するアンプ32と、ア
ンプ32からの信号を表示する表示部33と、検出器3
1の駆動用電源34とを設けている。
性ガスは、前記試料ガス導入経路14及び不活性ガス導
入経路15から流量制御器22,23でそれぞれ所定の
流量に調節されて導入され、前記混合部16で混合した
後、混合ガス導入経路17を通って放電管13内に導入
される。放電管13内のガスは、該放電管13内の圧力
を安定化させるための圧力制御器24を通って排気経路
18から導出される。
1及び外部電極12には、放電用高圧電源25から高電
圧が印加されており、両電極間の放電によってガスが発
光する。放電によって発生した光は、放電管13に設け
られた石英窓13aを通り、レンズ19で集光されて干
渉フィルター20に至る。この干渉フィルター20で
は、測定対象不純物に対応した波長を抽出して透過させ
る。前記検出器31は、干渉フィルター20を透過した
光の強度を電気信号に変換し、この電気信号が前記アン
プ32によって信号増幅された後、前記表示部33に出
力される。
物に特有の発光波長を選択的に透過するものが用いら
れ、試料ガス中に存在する他のガス成分からの発光に影
響されず、かつ、測定対象が窒素の場合は、前述の31
6±1nm、337±1nm、357±5nm、380
±5nmの少なくとも一つの波長、測定対象が水分の場
合は308±5nm及び280±5nmのいずれか又は
双方の波長、測定対象がメタンの場合は430±5nm
の波長を透過するものが用いられる。また、これらの半
値幅は、一つの発光ピークのみを抽出する場合は、1〜
5nmが好ましいが、複数の発光ピークをまとめて抽出
したいときは、5〜30nmの広範囲の干渉フィルター
を利用してもよい。また、干渉フィルター20の代わり
に、分光器等の他の特定波長抽出手段を利用してもよ
い。
は、前記波長で測定を行うと発光強度が強すぎて検出器
31を飽和させ、正確な測定結果が得られないことがあ
る。このような場合には、発光強度が弱くなるように、
放電電圧を低下させたり、検出器31への入射光量を低
減したり、低感度な波長、例えば窒素の場合は316±
1nm、357±5nm、380±5nmを使用して測
定するなどの方法を採用すればよい。
測される不純物濃度やガス流量、放電管13の構成や検
出器31の能力等によって適当に設定すればよいが、通
常は、不活性ガスと試料ガスとが混合した混合ガス中の
試料ガスの濃度が1〜10%の範囲になるように両者の
流量を調節することが好ましい。この混合ガス中の試料
ガス濃度が1%未満であったり、試料ガス濃度が10%
を超えたりすると、いずれの場合も発光強度が低下する
傾向にあるため、高精度な分析が困難となることがあ
る。
試料ガス供給源における試料ガスの流量や圧力によって
任意に選択できるが、一般的には、放電管13内に導入
するガスの総流量を、管内のガスの線速度が1cc/m
in(25℃、1atm)以上になるようにすればよ
く、放電管13内の圧力は、1kPa〜0.3MPaの
範囲が適当である。
定対象不純物の濃度が数ppbレベルの高純度な精製ガ
スであることが好ましいが、必要な検出下限が高い場合
には、一般的な純度(不純物濃度:<0.5ppm)の
ものであってもよい。
試料ガスの種類及び測定対象不純物の種類に応じて選択
すればよく、試料ガス及び測定対象不純物と同じもので
はなく、これらとは別種のガスで、測定対象不純物より
も高いイオン化ポテンシャルを有している不活性ガスな
らばよい。
量線を作成しておき、同一条件で測定したときの発光強
度から算出することができる。不純物濃度を求める方法
は、表示部33に演算装置を組込み、その演算機能によ
り濃度を算出して表示してもよいし、表示部33の代わ
りにパソコンを用いて演算させてもよい。
とが望ましいが、フォトダイオードやフォトダイオード
アレイを用いて光信号を電気信号に変換してもよい。ま
た、検出器31と検出器駆動用電源34、アンプ32の
代わりに、これらが一体化した検出器モジュールを使用
してもよい。
るため、排気経路18に圧力制御器24を設けることが
好ましいが、比較的ラフな濃度測定や装置のコストダウ
ンを図りたいときなどは、これを設置しなくても測定は
可能である。また、混合部16は、単に配管を接続する
だけでもよいが、ガス同士を均一に混合するためのガス
混合器を設置することもできる。
純物窒素の分析を、窒素よりイオン化ポテンシャルの高
い不活性ガス、すなわち、アルゴン、ヘリウム、ネオン
のいずれか一種又はこれらの混合ガスを所定の混合割合
で試料ガスに添加混合し、この混合ガスをガラス等で遮
断された電極を備えた放電管13内に導入するととも
に、放電を維持するのに十分高い交流電圧を電極に印加
することにより、窒素特有の発光波長を得ることができ
る。
ンズにより集光し、干渉フィルターで特定波長のみを抽
出透過させて検出器31で発光強度を測定することによ
り、クリプトンやキセノンあるいは酸素中に微量に存在
する不純物窒素をリアルタイムで連続的に分析すること
ができる。また、不活性ガスを混合するだけであり、大
気圧下での分析が可能であるから、低コストかつ安定し
た状態で分析することが可能となる。
不活性ガス導入経路15からアルゴン、ヘリウム、ネオ
ンのような窒素よりも高いイオン化ポテンシャルを有す
る不活性ガスを導入することにより、従来はGCを必要
としていたクリプトン、キセノン、酸素のような試料ガ
ス中の不純物窒素を分析することができ、しかも、試料
ガスがアルゴン、ヘリウム、ネオンのときの不純物窒素
も、不活性ガス導入経路15からの不活性ガスの導入を
行うことなく分析することができる。
造分野等で用いられているアルゴン、ヘリウム、ネオ
ン、クリプトン、キセノン、酸素中に含まれている微量
の不純物窒素を1台の分析装置で分析することができ
る。これにより、アルゴン、ヘリウム、ネオン用の窒素
分析装置と、クリプトン、キセノン、酸素用の窒素分析
装置とそれぞれ備えておく必要がなくなり、管理する手
間や装置コストを大幅に削減することができる。
リプトンやキセノン中の窒素を分析するためには、GC
を別途必要としており、装置コストが高くなるだけでな
く、リアルタイム分析が困難であったが、本発明の分析
装置では、GCを必要とせずに、各種試料ガスにおける
各種不純物分析を、リアルタイムにかつ高精度で行える
という利点もある。
少なくて済むので、例えば、クリプトンやキセノンは、
これらに比べて安価なアルゴンに対して2%程度を混合
すればよく、試料ガス量として0.02cc/min程
度であっても十分な分析を行うことが可能であるため、
高価なクリプトンやキセノンの消費量を極めて低く抑え
ることができ、これらを使用する各種装置におけるガス
コストの低減を図ることもできる。
窒素を含まないアルゴンと、窒素を0.44%含むアル
ゴンとをそれぞれ放電管13内に導入し、それぞれの発
光スペクトルを測定した。放電電圧は交流10000
V、放電管内圧力は大気圧、放電管に供給するガスの総
流量は50cc/minとした。その結果、窒素を含む
アルゴンの場合には、図3に示すように、337nm付
近や357nm付近に強い発光シグナルが得られた。
窒素を含まないクリプトン、窒素を0.45%含むクリ
プトンとをそれぞれ放電管13内に導入し、それぞれの
発光スペクトルを測定した。放電電圧は交流10000
V、放電管内圧力は大気圧、放電管に供給するガスの総
流量は50cc/minとした。その結果、図4に示す
ように、窒素を含むクリプトンの場合であっても明確な
シグナルを得ることができなかった。すなわち、参考例
1,2から、アルゴン中の窒素はそのまま分析できる
が、クリプトン中の窒素はそのままでは分析できないこ
とがわかる。
窒素を0.45%含むクリプトンを、不活性ガス導入経
路15からアルゴンをそれぞれ供給した。混合後の混合
ガスにおけるクリプトンの濃度が2%になるように流量
を調節した。放電電圧は交流10000V、放電管内圧
力は大気圧、放電管に供給するガスの総流量は50cc
/minとした。その結果、図5に示すように、窒素を
0.45%含むクリプトンにアルゴンを混合した混合ガ
スからは、337nm付近や357nm付近に窒素特有
の強い発光シグナルが得られた。この発光シグナルは、
参考例2では見られなかったものであるから、窒素を含
むクリプトンにアルゴンを添加混合したことによって発
生したものであることがわかる。
窒素を540ppm含むクリプトンを、不活性ガス導入
経路15からアルゴンをそれぞれ供給した。そして、流
量制御器22,23により、混合ガス中のクリプトンの
濃度を1〜10%に変化させ、クリプトンの濃度と窒素
の発光強度との関係を調べた。放電電圧は交流1000
0V、放電管内圧力は大気圧、放電管に供給するガスの
総流量は100cc/min、測定波長は337nmと
した。その結果、図6に示すように、クリプトンの濃度
が2%付近のときに最も発光強度が強くなることがわか
る。
窒素を含むクリプトンを、不活性ガス導入経路15から
アルゴンをそれぞれ供給した。そして、クリプトン中の
窒素濃度を0ppm、90ppm、180ppmに変化
させて窒素濃度と発光強度との関係を調べた。放電電圧
は交流10000V、放電管内圧力は大気圧、放電管に
供給するガスの総流量は50cc/min、混合ガス中
のクリプトンの濃度は2%、測定波長は337nmとし
た。その結果、図7に示すように、クリプトン中の窒素
濃度と発光強度とには直線性があることから、比例関係
があることがわかる。これにより、クリプトン中の不純
物窒素を高精度で分析できることがわかる。また、クリ
プトンをキセノンに代えて同様の実験を行ったが、同様
の結果を得ることができた。
従来はGCで分離するなどの前処理操作を必要としてい
たクリプトンやキセノン、酸素中の窒素濃度を連続的に
リアルタイムで分析することが可能となる。また、分析
装置も、試料ガスに混合する不活性ガスの経路を追加す
るだけでよいので、装置コストの上昇もほとんどない。
さらに、本発明の分析装置は、様々な試料ガス中の各種
不純物の分析にも対応することができる。
統図である。
の一形態例を示す系統図である。
ペクトルを示す図である。
スペクトルを示す図である。
ガス中の窒素の発光スペクトルを示す図である。
濃度と窒素の発光強度との関係を示す図である。
窒素の発光強度との関係を示す図である。
a…石英窓、14…試料ガス導入経路、15…不活性ガ
ス導入経路、16…混合部、17…混合ガス導入経路、
18…排気経路、19…レンズ、20…干渉フィルタ
ー、21…分光器、22,23…流量制御器、24…圧
力制御器、25…放電用高圧電源、31…検出器、32
…アンプ、33…表示部、34…駆動用電源
Claims (6)
- 【請求項1】 試料ガス中に含まれる測定対象不純物よ
りもイオン化ポテンシャルの高い不活性ガスと試料ガス
とを混合して放電管内に導入し、放電により生じた光を
集光し、前記不純物に特有の発光波長を抽出して検出器
に導入し、検出された光の強度に応じて不純物濃度を連
続的に測定することを特徴とするガス中の不純物分析方
法。 - 【請求項2】 前記試料ガスが、クリプトン、キセノ
ン、酸素のいずれか一種又はこれらの混合ガスであるこ
とを特徴とするガス中の不純物分析方法。 - 【請求項3】 前記不純物が、窒素、水分、メタンの少
なくとも一種であることを特徴とする請求項1記載のガ
ス中の不純物分析方法。 - 【請求項4】 前記不活性ガスが、アルゴン、ヘリウ
ム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素のいずれか一
種又はこれらの混合ガスであることを特徴とする請求項
1記載のガス中の不純物分析方法。 - 【請求項5】 前記不活性ガスと試料ガスとが混合した
混合ガス中の試料ガスの濃度が1〜10%であることを
特徴とする請求項1記載のガス中不純物分析方法。 - 【請求項6】 試料ガスの経路と、該試料ガス中に含ま
れる測定対象不純物よりもイオン化ポテンシャルの高い
不活性ガスの経路と、前記試料ガスと不活性ガスとを混
合する混合手段と、該混合手段で混合した混合ガスを放
電管内に導入する経路と、放電管内での放電により生じ
た光を集光する手段と、前記不純物に特有の発光波長を
抽出する手段と、抽出された光の強度を検出する検出器
とを備えていることを特徴とするガス中の不純物分析装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001100284A JP4580119B2 (ja) | 2001-03-30 | 2001-03-30 | ガス中の不純物分析方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001100284A JP4580119B2 (ja) | 2001-03-30 | 2001-03-30 | ガス中の不純物分析方法及び装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002296186A true JP2002296186A (ja) | 2002-10-09 |
JP4580119B2 JP4580119B2 (ja) | 2010-11-10 |
Family
ID=18953740
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001100284A Expired - Fee Related JP4580119B2 (ja) | 2001-03-30 | 2001-03-30 | ガス中の不純物分析方法及び装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4580119B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005249551A (ja) * | 2004-03-03 | 2005-09-15 | Taiyo Nippon Sanso Corp | 混合ガス中の不純物の分析方法及び装置 |
JP2006201106A (ja) * | 2005-01-24 | 2006-08-03 | Taiyo Nippon Sanso Corp | 混合ガス中の不純物の分析方法及び装置 |
WO2007097211A1 (ja) * | 2006-02-20 | 2007-08-30 | Taiyo Nippon Sanso Corporation | 窒素分析装置 |
KR101417944B1 (ko) | 2013-03-13 | 2014-07-10 | 지투산업 주식회사 | 복층유리의 가스농도 측정 장치 |
JP2019074486A (ja) * | 2017-10-19 | 2019-05-16 | 大陽日酸株式会社 | 二酸化炭素ガス中の窒素ガス分析方法及び装置 |
CN113281374A (zh) * | 2021-07-13 | 2021-08-20 | 宝武清洁能源鄂州有限公司 | 一种在线分析粗氦氖中的氦、氖含量的方法 |
CN115598266A (zh) * | 2022-12-12 | 2023-01-13 | 山东非金属材料研究所(Cn) | 一种惰性气体分析方法 |
CN114136721B (zh) * | 2021-11-29 | 2024-05-14 | 华能核能技术研究院有限公司 | 一种氦气中的水痕量检测方法及检测系统 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62217145A (ja) * | 1986-01-17 | 1987-09-24 | ザ・ビ−オ−シ−・グル−プ・インコ−ポレ−テツド | ガス状混合物を分析する方法および装置およびそのための可視発光スペクトル発生器 |
JPH06281580A (ja) * | 1993-03-29 | 1994-10-07 | Shimadzu Corp | 発光分光分析装置 |
JPH11326219A (ja) * | 1998-03-06 | 1999-11-26 | Praxair Technol Inc | 一気体発行スペクトル分析のための改善されたサンプルセル |
-
2001
- 2001-03-30 JP JP2001100284A patent/JP4580119B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62217145A (ja) * | 1986-01-17 | 1987-09-24 | ザ・ビ−オ−シ−・グル−プ・インコ−ポレ−テツド | ガス状混合物を分析する方法および装置およびそのための可視発光スペクトル発生器 |
JPH06281580A (ja) * | 1993-03-29 | 1994-10-07 | Shimadzu Corp | 発光分光分析装置 |
JPH11326219A (ja) * | 1998-03-06 | 1999-11-26 | Praxair Technol Inc | 一気体発行スペクトル分析のための改善されたサンプルセル |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005249551A (ja) * | 2004-03-03 | 2005-09-15 | Taiyo Nippon Sanso Corp | 混合ガス中の不純物の分析方法及び装置 |
JP2006201106A (ja) * | 2005-01-24 | 2006-08-03 | Taiyo Nippon Sanso Corp | 混合ガス中の不純物の分析方法及び装置 |
WO2007097211A1 (ja) * | 2006-02-20 | 2007-08-30 | Taiyo Nippon Sanso Corporation | 窒素分析装置 |
JP2007218816A (ja) * | 2006-02-20 | 2007-08-30 | Taiyo Nippon Sanso Corp | 窒素分析装置 |
US7957003B2 (en) | 2006-02-20 | 2011-06-07 | Taiyo Nippon Sanso Corporation | Nitrogen analyzing apparatus |
KR101417944B1 (ko) | 2013-03-13 | 2014-07-10 | 지투산업 주식회사 | 복층유리의 가스농도 측정 장치 |
JP2019074486A (ja) * | 2017-10-19 | 2019-05-16 | 大陽日酸株式会社 | 二酸化炭素ガス中の窒素ガス分析方法及び装置 |
CN113281374A (zh) * | 2021-07-13 | 2021-08-20 | 宝武清洁能源鄂州有限公司 | 一种在线分析粗氦氖中的氦、氖含量的方法 |
CN113281374B (zh) * | 2021-07-13 | 2024-04-12 | 宝武清洁能源鄂州有限公司 | 一种在线分析粗氦氖中的氦、氖含量的方法 |
CN114136721B (zh) * | 2021-11-29 | 2024-05-14 | 华能核能技术研究院有限公司 | 一种氦气中的水痕量检测方法及检测系统 |
CN115598266A (zh) * | 2022-12-12 | 2023-01-13 | 山东非金属材料研究所(Cn) | 一种惰性气体分析方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4580119B2 (ja) | 2010-11-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6333632B1 (en) | Alternating current discharge ionization detector | |
JP4024494B2 (ja) | ガス中の窒素測定方法及び装置 | |
CN103403536A (zh) | 放电电离电流检测器 | |
White et al. | Development of a portable time-of-flight membrane inlet mass spectrometer for environmental analysis | |
Cao et al. | Recombination of N+ 4 ions with electrons | |
JP5987968B2 (ja) | 放電イオン化電流検出器及びその調整方法 | |
JPH05242858A (ja) | ガス分析装置 | |
KR0169753B1 (ko) | 기체 발광 분광기 및 분광법을 이용한 기체 분석 방법 | |
Červený et al. | Determination of mercury in water samples by electrochemical cold vapor generation coupled to microstrip microwave induced helium plasma optical emission spectrometry | |
Tachibana et al. | Excitation of the O2 (a 1Δg) state by low energy electrons | |
JP4580119B2 (ja) | ガス中の不純物分析方法及び装置 | |
Hoffmann et al. | Analysis of gaseous reaction products of wet chemical silicon etching by conventional direct current glow discharge optical emission spectrometry (DC-GD-OES) | |
Li et al. | Determination of ultratrace nitrogen in pure argon gas by dielectric barrier discharge-molecular emission spectrometry | |
Heidner III et al. | Kinetic study of electronically excited oxygen atoms, O (21D2), by time-resolved atomic absorption spectroscopy in the vacuum ultra-violet (λ= 115.2 nm, O (31D02← 21D2)) | |
JP2004158296A (ja) | 化学剤の探知装置及び探知方法 | |
Nunome et al. | Development of soft ionization using direct current pulse glow discharge plasma source in mass spectrometry for volatile organic compounds analysis | |
US3454828A (en) | Photoionization detector for gases and vapors | |
Goode et al. | Some fundamental measurements of the atmospheric-pressure, microwave-induced discharge | |
CN108169321B (zh) | 高纯氮气检测方法及装置 | |
Pouvesle et al. | Atomic rare gas metastable monitoring through nitrogen emission in atmospheric pressure plasma jets | |
JP5871057B2 (ja) | 放電イオン化電流検出器を備えた分析装置 | |
CN107195529B (zh) | 一种基于激发态质子电子协同转移反应的离子化方法及其装置 | |
JP2005249551A (ja) | 混合ガス中の不純物の分析方法及び装置 | |
JPH04303759A (ja) | 電子捕獲検出器 | |
SU1122107A1 (ru) | Способ измерени концентрации примесей в газах |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080228 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100406 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100713 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100716 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100810 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100827 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130903 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4580119 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130903 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130903 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |