JP2002284518A - ボロン及びボロン化合物結晶とそれらの製造方法 - Google Patents
ボロン及びボロン化合物結晶とそれらの製造方法Info
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Abstract
用な、より熱伝導度が高められたボロン結晶及びボロン
化合物結晶と、それらの製造方法を提供する。 【解決手段】 11Bまたは10Bいずれかの濃度が90原
子%以上であって、11Bおよび10B以外の不純物濃度が
0.1重量%以下とされているボロン結晶、およびその
ボロンの化合物結晶とする。
Description
びボロン化合物結晶とその製造方法に関するものであ
る。さらに詳しくは、この出願の発明は、原子力、電
子、エネルギー関連材料などに有用な、より熱伝導度が
高められたボロン及びボロン化合物結晶とそれらの製造
方法に関するものである。
Bの同位体がそれぞれ自然存在度80.1%、19.9
%で存在する元素であって、高純度品はケイ素半導体の
ドーピング剤等として用いられている。また、その半導
体的特性により、ボロンは、BP,AlB,YB等のボ
ロン化合物とともに、X線,赤外線,中性子線等の半導
体検出器材料として、さらには超伝導材料等としての利
用が期待されている。
用されるため、検出器に用いる材料としては冷却が容易
な熱伝導性が高いものであることが要求される。また、
超伝導材料の添加元素についても、熱伝導性が高いもの
であることが好まれる。そのため、従来よりこのような
用途で使用される材料は、熱伝導度を高めるために、不
純物濃度を下げる、あるいは単結晶化して欠陥濃度を下
げるといった工夫等がなされている。しかしながら、材
料の熱伝導度は、材料の組成あるいは構造によって必然
的に決定されるため、上記の対策以外に、更に熱伝導度
を向上させる方法は原理的にないものと考えられてい
た。
事情に鑑みてなされたものであり、原子力、電子、エネ
ルギー関連材料などに有用で、材料の組成あるいは構造
によらずに熱伝導度が高められた新規なボロン結晶及び
ボロン化合物結晶と、それらの製造方法を提供すること
を課題としている。
は、上記の課題を解決するものとして、以下の通りの発
明を提供する。
は、11Bまたは10Bいずれかの濃度が90原子%以上で
あって、11Bおよび10B以外の不純物濃度が0.1重量
%以下とされていることを特徴とするボロン結晶を提供
する。
記第1の発明のボロンと金属が化合されていることを特
徴とするボロン化合物結晶を、第3には、金属がP、A
l、Yのいずれか1種あるいは2種以上であることを特
徴とするボロン化合物結晶を提供する。
第1の発明のボロンを製造する方法であって、11Bおよ
び10B粉末をいずれかの濃度が90原子%以上となるよ
うに配合して混合、成形し、Arガス雰囲気で焼結した
後、焼結体の一部を帯状に溶融し、その融帯を一端から
他端に移動させることで、不純物が0.1%以下に低減
されたボロン結晶とすることを特徴とするボロン結晶の
製造方法や、第5には、その方法において、11Bおよび
10B粉末に金属粉末を配合してボロン化合物結晶とする
ことを特徴とするボロン化合物結晶の製造方法をも提供
する。
特徴を持つものであるが、以下にその実施の形態につい
て説明する。
低下させる原因として、不純物の存在、結晶粒界および
結晶における欠陥の存在に加えて、同位体効果に着目し
た。つまり、多くの元素は単一の同位体から構成されて
いるわけではなく、複数の同位体から構成されており、
たとえば、ボロン(B)は、自然存在度が約80%の 11
Bと約20%の10Bから構成されている。このような材
料の内部では同位体効果により各種の物性値が影響を受
けるが、原子量の小さいボロンについてはその影響が大
きく、熱伝導度についても同位体散乱により影響を受け
ることを見出すに至った。
結晶は、11Bまたは10Bいずれかの濃度が90原子%以
上であって、11Bおよび10B以外の不純物濃度が0.1
重量%以下とされていることを特徴としている。同位体
組成をなるべく単一の同位体に揃えることにより、熱伝
導度に対する同位体散乱の影響を低減させることができ
る。同位体組成は、11Bに揃えられていても、10Bに揃
えられていてもよい。 11Bまたは10Bのいずれかの濃度
を90原子%以上とすることで、熱伝導度に対する同位
体散乱の影響を指数関数的に低減させることができ、熱
伝導度が高められる。また、不純物濃度については、
0.1重量%を超過すると、不純物の存在による熱伝導
度の低下が顕著になってしまうため、不純物濃度は0.
1重量%以下とする。これによって、ボロン結晶の熱伝
導度をおよそ40%以上も向上させることが可能とな
る。
化合物結晶は、上記のボロンと金属が化合されているこ
とを特徴としている。このボロンと化合される金属とし
ては、各種の金属元素であってよいが、同位体存在度が
100%あるいは100%に近いのもであることが好ま
しい。このボロンと化合される同位体存在度が100%
の金属としては、たとえば、Be,Sc,Mn,Co,
As,Nb,Rh,Pr,Tb,Ho,Tm,Au,T
h等を例示することができる。なかでも、例えば、ボロ
ンとの相性のよいP,Al,Y等であることが好まし
い。このBP,AlB,YB等のボロン化合物結晶にお
いては、その半導体的特性に加えて高い熱伝導度を備え
ることから、様々な構造材料や機能材料としての利用が
期待される。
としては、N(14N:99.635%、15N:0.36
5%),V(50V:0.25%、51V:99.75%)
等を例示することができる。このBNおよびVB等につ
いても、様々な構造材料や機能材料としてさらなる利用
が期待される。
びボロン化合物は、材料の組成や構造によらずに熱伝導
度の向上が実現されたものである。
よび10Bとしては、鋳塊等のブロック状、粉末状、ある
いはBF4,BCl3等の気体等を用いることができる。
そして、たとえば11Bおよび10B粉末を用いる場合に
は、いずれかの濃度が90原子%以上となるように配合
して混合、成形し、Arガス雰囲気で焼結した後、焼結
体の一部を帯状に溶融し、その融帯を一端から他端に移
動させることで製造することができる。ボロン化合物結
晶の場合には、たとえば、11Bおよび10B粉末に、所望
の金属粉末を配合すること等で同様に製造することがで
きる。
分離法、蒸留法等の従来の同位体分離方法により得た粉
末等を用いることができる。混合および成形の過程で
は、不純物の混入がないようにすることが好ましく、成
形は、後工程の溶融処理を容易に行うために棒状体に成
形することが好ましい。この成形体を焼結して焼結体と
する。焼結の雰囲気は、真空とするかAr等の不活性雰
囲気とすることが好ましい。
帯域溶融法、浮遊帯域溶融法(FZ法)等の溶融処理に
より焼結体の一部を帯状に溶融し、その融帯を一端から
他端に移動させることで精製および結晶化を行い、不純
物濃度が低減されたボロン結晶あるいはボロン化合物結
晶を得ることができる。
態についてさらに詳しく説明する。
9%11B,99%10Bおよび99%天然B(80%11B
20%10B)を原料とし、11B,10Bを3通りの任意の
配合で混合し、天然Bはそのままで用いて、0.2MP
aの静水圧下で8mmφ×80mmの棒状に成形し、次
いで1600Kの真空中で焼結した。これらを、帯域溶
融法(FZ法)によりArガス雰囲気中で溶解し、(0
01)方位の種結晶上に成長させて同位体ボロン単結晶
を製造し、試料A〜Cおよび試料Nとした。
果、製造した全ての試料は、均一なβ型単結晶であるこ
とが確認された。また、これらの試料について、その同
位体濃度および不純物分析を行なった結果を表1に示し
た。全ての試料の不純物濃度は0.1重量%以下である
ことが確認された。
試料C並びに試料Nから、5.3×3.7×15mmの
角柱を切り出して試験片とし、液体ヘリウム温度から3
00Kの温度範囲で定常法によって熱伝導度を測定し
た。その結果を図1に示した。
なり、その差も最大となった。試料Aおよび試料Cは、
試料Nに比べて約40%程度高い値を示した。特に、試
料Aについては、570W/mKという最大値を示し
た。この値は、過去に報告されているボロン単結晶の中
で最も高い値である。また、試料Aは、100Kにおい
ても試料Nに比べて約20%高い値であった。
位体散乱因子の関係を図2に示した。熱伝導度に対する
同位体の寄与は、同位体組成が90%以上のとき指数関
数的に減少する。
成を90%以上に高めることで、同位体散乱効果を低減
させることができ、熱伝導度を高められることが示され
た。
るものではなく、細部については様々な態様が可能であ
ることは言うまでもない。
って、原子力、電子、エネルギー関連材料などに有用
な、より熱伝導度が高められたボロン結晶及びボロン化
合物結晶と、それらの製造方法が提供される。
示した図である。
散乱因子との関係を例示した図である。
Claims (5)
- 【請求項1】 11Bまたは10Bいずれかの濃度が90原
子%以上であって、11Bおよび10B以外の不純物濃度が
0.1重量%以下とされていることを特徴とするボロン
結晶。 - 【請求項2】 請求項1記載のボロン結晶と金属が化合
されていることを特徴とするボロン化合物結晶。 - 【請求項3】 金属がP、Al、Yのいずれか1種ある
いは2種以上であることを特徴とする請求項2記載のボ
ロン化合物結晶。 - 【請求項4】 請求項1記載のボロンを製造する方法で
あって、11Bおよび10B粉末をいずれかの濃度が90原
子%以上となるように配合して混合、成形し、焼結した
後、焼結体の一部を帯状に溶融し、その融帯を一端から
他端に移動させることで、不純物が0.1%以下に低減
されたボロン結晶とすることを特徴とするボロン結晶の
製造方法。 - 【請求項5】 請求項4の方法において、11Bおよび10
B粉末に金属粉末を配合してボロン化合物結晶とするこ
とを特徴とするボロン化合物結晶の製造方法。
Priority Applications (1)
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JP2001090695A JP2002284518A (ja) | 2001-03-27 | 2001-03-27 | ボロン及びボロン化合物結晶とそれらの製造方法 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004196588A (ja) * | 2002-12-18 | 2004-07-15 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 単結晶ホウ素ナノベルトの製造方法 |
JP2015182936A (ja) * | 2014-03-25 | 2015-10-22 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 高純度ホウ素及びその製造方法 |
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-
2001
- 2001-03-27 JP JP2001090695A patent/JP2002284518A/ja active Pending
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