JP2002277775A - 光走査装置及び走査装置を備えた画像形成装置 - Google Patents
光走査装置及び走査装置を備えた画像形成装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 被走査面への走査領域を分割するシステムに
おいて、隣接する領域のつなぎ目の位置調整を高精度で
行う。 【解決手段】 複数のＬＤユニット１ａ，２ａ、３ａか
ら各々出射された光ビームを、それぞれ第１の導光素子
群を介して同一の偏向装置４へ導き、偏向装置４で偏向
された光ビームを、第２の導光素子群及びｆθレンズか
ら成る結像素子群を介して被走査体５の同一の被走査面
上に導き結像する。
おいて、隣接する領域のつなぎ目の位置調整を高精度で
行う。 【解決手段】 複数のＬＤユニット１ａ，２ａ、３ａか
ら各々出射された光ビームを、それぞれ第１の導光素子
群を介して同一の偏向装置４へ導き、偏向装置４で偏向
された光ビームを、第２の導光素子群及びｆθレンズか
ら成る結像素子群を介して被走査体５の同一の被走査面
上に導き結像する。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は光走査装置、及び該
光走査装置を備えた複写機，プリンタ，ＦＡＸ等の画像
形成装置に関するものである。 【０００２】 【従来技術】複写機のレーザー光走査装置において，被
走査面に対する走査幅が拡いものが用いられてきている
が、走査幅を広げるに従って、（１）光路長が長くなる
ことによりレーザービームの高パワー化、（２）レンズ
の大型化、（３）ミラーの長尺化、（４）１〜３に伴う
書き込みユニットの大型化等の問題が生じ、これらはい
ずれも高コスト要因となっている。そのため、これを解
決するため従来は分割して走査することが提案されてい
る。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】同一の被走査面に複数
の走査ビームにより走査する構成において複数のポリゴ
ンミラーを用いると，走査方向に垂直な方向（副走査方
向）に被走査面が移動する装置に対して，隣接する走査
線の副走査位置を合わせるためには，ポリゴンミラーを
同期して回転させる機構が必要となる。 【０００４】また，同一の被走査面を複数の走査ビーム
により走査する走査装置では，隣接する走査ビームの走
査方向が同じであると，被走査面が副走査方向に移動す
る装置に対しては，隣接する走査線をつなぎ合わせるた
めの機構が必要となる。広角型の光走査装置における光
路長の変動による主走査方向のビーム走査位置の変動と
いう課題（被走査面の走査方向に対する走査線の入射角
が９０度にあたる位置では走査位置の変化は発生しない
が，それ以外の走査位置は光路長の変動に従い変化す
る）に対しては，被走査面で隣接した領域とのつなぎ目
では，隣接する画素間の位置変動が生じるため，これを
防ぐには、光路長変動に対して高い精度で走査できるよ
うにすることが要求される。 【０００５】被走査面に対する走査方向に分割して走査
する光走査装置を用いるシステムでは一般に被走査面は
走査方向に長いため，被走査面のたわみや偏心により光
路長の変動が発生しやすく、光路長の変動を小さくする
か、または光路長の変動に従って走査位置を補正する機
構が別途必要になる。そのため装置が複雑化しかつコス
トも上昇するという問題がある。本発明はこれらの問題
を解決するものであって、本発明の目的は、被走査面へ
の走査領域を分割するシステムにおいて、隣接する領域
のつなぎ目に対する高精度な位置制御機構を要すること
なく位置整合を可能にすることである。 【０００６】 【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、複数
の偏向面を有し回転する偏向装置と、複数の光源装置
と、該光源装置から各々出射された光ビームを前記偏向
装置へ導く第１の導光素子群と，偏向装置により偏向さ
れた光ビームを被走査面上に導き結像する第２の導光素
子群及び結像素子群からなる光走査装置において，前記
偏向装置により偏光された光ビームが被走査面上のセン
ター領域と該センター領域に隣接する領域において、同
一の被走査面上に結像されるよう構成されていることを
特徴とする光走査装置である。 【０００７】請求項２の発明は、請求項１の光走査装置
において，隣接する領域を走査する光ビームの走査方向
が対向方向となるよう構成されていることを特徴とする
光走査装置である。 【０００８】請求項３の発明は、請求項１及び２の光走
査装置において，隣接する領域を走査する光ビームの走
査始点を，共通の走査タイミング検知手段によって制御
することを特徴とする光走査装置である。 【０００９】請求項４の発明は、請求項１乃至３のいず
れかに記載された光走査装置を備えた画像形成装置であ
る。 【００１０】 【発明の実施の形態】本発明の１実施形態について添付
図面を参照して説明する。図１は本発明の実施形態を示
す概略斜視図である。３個のＬＤユニット（１ａ，２
ａ，３ａ）は図示されていないＬＤ駆動制御装置により
駆動され、画像信号に応じて変調されたレーザー光を出
射する。このＬＤユニット（１ａ，２ａ，３ａ）は、ア
レー構成で複数のレーザー光を出射するもの、或いは単
一のＬＤと光学素子を組み合わせて複数のレーザー光を
出射等任意である。それぞれのＬＤユニット（１ａ，２
ａ，３ａ）から出射したレーザービームは、コリメート
レンズ（１ｂ，２ｂ，３ｂ）で平行光とされ，シンドリ
カルレンズ（１ｃ，２ｃ，３ｃ）を経て偏向装置である
共通のポリゴンミラー４に入射する。 【００１１】レーザービームは、ポリゴンミラー４で偏
向・走査され、ｆθレンズ（１ｄ，１ｅ，２ｄ，２ｅ，
３ｄ，３ｅ）によって等角速度走査光から等速度走査光
に偏光され，折り返しミラー（１ｆ，１ｇ，１ｈ，１
ｉ，２ｆ，３ｆ）によって被走査体５に導かれる。 【００１２】同期検知装置（１ｊ，２ｇ，３ｇ）は、走
査タイミング検出手段として走査領域外に設けられ、前
記ポリゴンミラーからの偏向を検出し，その検出に基づ
き被走査体に対する走査毎の走査開始位置を制御してい
る。このようにレーザー光を前記被走査面上で走査する
ことによって、被走査面上には画像処理部からの画像情
報に基づく潜像が形成される。なお、本実施形態の構成
では，被走査面上の各領域を走査するための各光学素子
を共通に使用できるようにするため、各領域とも光路長
が同じになるように各レンズ及び折り返しミラーを配置
している。 【００１３】図２は広角型の光走査装置における被走査
面上への光路長の変動による走査方向の変動を示したも
のである。同図から明らかなように、被走査面に対する
光ビームの走射角がαであるときに光路長がΔＬ変動す
ると、走査位置はΔＬｃｏｓαだけ外側に変動する，ま
た、走射角がβ（≒９０度）であるときはｃｏｓβ≒０
となり光路長の変動に関係なく走査位置は変動しない。 【００１４】ところで、被走査面のたわみや偏芯による
光路長の変動は，被走査面における走査方向の距離が長
くなるに従って発生し易くなる。従って、被走査面を両
端部で支持する構成であると、支持部から最も離れた被
走査面の中心部が最も前記変動が大きくなるので，被走
査面への走査領域を分割するシステムでは，中心に近い
ところで走査領域を分割することは、光路長の変動に対
して最も不利となる。本実施形態では、被走査面に対す
る走射角を最も変動の大きい中央領部で垂直になるよう
にして、上述のように、走査領域を中央部とその隣接部
の３つに分割した構成を採って、光路長の変動に関係な
く走査位置は変動しないようにしている。これにより、
被走査面への走査領域を分割するシステムを採用しつ
つ、隣接する領域のつなぎ目に対する高精度な位置制御
機構を要することなく位置整合が可能なシステムを実現
したのである。 【００１５】他方、被走査面に一直線（１ライン）の画
像を形成する場合には，各領域のつなぎ目（各走査ビー
ムのつなぎ目）の走査方向に垂直な方向（被走査面の移
動方向）の位置を所定の精度で合わせる必要がある。つ
まり、異なる偏向装置を用いて被走査面上の走査領域を
それぞれ分割して１ライン走査する場合においては、被
走査面が移動しない場合の光ビームの軌跡は，その走査
方向が同一でかつ走査領域の境界で隣接する画素の位置
合わせがうまくできれば，とぎれのない直線を形成する
ことができる。しかし，被走査面が走査方向に垂直な方
向つまり副走査方向に移動する場合には，隣接する偏向
装置が同期して走査を行わないと、各ビームは被走査面
の移動方向に対して異なる位置に走査することになるた
め、異なる偏向装置は同期していることが不可欠であ
る。本発明では同一の偏向装置を用いているため、同期
機能を要することなく同期走査を行うことができ、被走
査面が走査方向に垂直な方向に移動する場合にも、とぎ
れのないビーム軌跡を得ることができる。 【００１６】ところで、同一の偏向装置を用いた場合に
は，被走査面で隣接する走査ビームの走査方向が同じで
あると，被走査面の移動により各領域の光ビーム軌跡は
平行線となる。平行線とならないように各領域の境界の
画像つなぎ目を合わせるには，被走査面の移動スピード
と走査スピードから求められる走査ラインタイミングの
ディレイもしくは走査位置の調整が不可欠である。図３
は、図１に示す本発明の光走査装置において，移動する
被走査面上を走査する光ビームの軌跡を平面で示したも
のである。本発明では、図３に示すように、隣接する光
走査ビームの走査方向を対向方向にし、走査始点Ａを合
わせることにより領域１と領域２，走査始点ＡとＤを合
わせることにより領域１と領域３の境界部において、同
一ラインに対する被走査面の移動方向へのズレをなくす
ことができる。つまり、走査始点Ａ、及び走査始点Ｄを
合わせるだけで走査位置の調整を行うことができるか
ら、別途走査ラインタイミングのディレイもしくは走査
位置の調整を行う必要がはない。 【００１７】また，本発明の光装置走査では、複数のレ
ーザー光源に対して同一の偏向装置を用いているため、
当然のことながら各領域の走査タイミングが一定であ
り、そのため、図１の各走査領域に配された走査タイミ
ング検出手段である同期検知装置（１ｊ，２ｇ，３ｇ）
の検知結果を共通に使用することができる。これにより
システム構成を簡素化できる。この光走査装置を画像形
成装置に搭載することにより、全体の構造を簡素化でき
かつ全体的にも従来のものよりも低廉な画像形成装置を
提供することができる。 【００１８】 【発明の効果】請求項１に対応する効果：複数の光源か
らの光ビームを同一の偏向装置で偏向して走査する構成
を採ったため、被走査面への走査領域を分割するシステ
ムを採用しつつ、隣接する領域のつなぎ目に対する高精
度な位置制御機構を要することなく位置整合が可能であ
る。 【００１９】請求項２に対応する効果：走査方向が反対
向きの各走査始点を合わせるだけで走査位置の調整を行
うことができるから、別途走査ラインタイミングのディ
レイもしくは走査位置の調整等、煩雑な操作を行う必要
がない。 【００２０】請求項３に対応する効果：本発明の光装置
走査では、複数のレーザー光源に対して同一の偏向装置
を用いているため、当然のことながら各領域の走査タイ
ミングが一定であり、そのため、走査タイミング検出手
段の検知結果を共通に使用することができる。これによ
りシステム構成を簡素化することができる。 【００２１】請求項４に対応する効果：本発明の光走査
装置を画像形成装置に搭載することにより、全体の構造
を簡素化できかつ全体的にも従来のものよりも低廉な画
像形成装置を提供することができる。
光走査装置を備えた複写機，プリンタ，ＦＡＸ等の画像
形成装置に関するものである。 【０００２】 【従来技術】複写機のレーザー光走査装置において，被
走査面に対する走査幅が拡いものが用いられてきている
が、走査幅を広げるに従って、（１）光路長が長くなる
ことによりレーザービームの高パワー化、（２）レンズ
の大型化、（３）ミラーの長尺化、（４）１〜３に伴う
書き込みユニットの大型化等の問題が生じ、これらはい
ずれも高コスト要因となっている。そのため、これを解
決するため従来は分割して走査することが提案されてい
る。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】同一の被走査面に複数
の走査ビームにより走査する構成において複数のポリゴ
ンミラーを用いると，走査方向に垂直な方向（副走査方
向）に被走査面が移動する装置に対して，隣接する走査
線の副走査位置を合わせるためには，ポリゴンミラーを
同期して回転させる機構が必要となる。 【０００４】また，同一の被走査面を複数の走査ビーム
により走査する走査装置では，隣接する走査ビームの走
査方向が同じであると，被走査面が副走査方向に移動す
る装置に対しては，隣接する走査線をつなぎ合わせるた
めの機構が必要となる。広角型の光走査装置における光
路長の変動による主走査方向のビーム走査位置の変動と
いう課題（被走査面の走査方向に対する走査線の入射角
が９０度にあたる位置では走査位置の変化は発生しない
が，それ以外の走査位置は光路長の変動に従い変化す
る）に対しては，被走査面で隣接した領域とのつなぎ目
では，隣接する画素間の位置変動が生じるため，これを
防ぐには、光路長変動に対して高い精度で走査できるよ
うにすることが要求される。 【０００５】被走査面に対する走査方向に分割して走査
する光走査装置を用いるシステムでは一般に被走査面は
走査方向に長いため，被走査面のたわみや偏心により光
路長の変動が発生しやすく、光路長の変動を小さくする
か、または光路長の変動に従って走査位置を補正する機
構が別途必要になる。そのため装置が複雑化しかつコス
トも上昇するという問題がある。本発明はこれらの問題
を解決するものであって、本発明の目的は、被走査面へ
の走査領域を分割するシステムにおいて、隣接する領域
のつなぎ目に対する高精度な位置制御機構を要すること
なく位置整合を可能にすることである。 【０００６】 【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、複数
の偏向面を有し回転する偏向装置と、複数の光源装置
と、該光源装置から各々出射された光ビームを前記偏向
装置へ導く第１の導光素子群と，偏向装置により偏向さ
れた光ビームを被走査面上に導き結像する第２の導光素
子群及び結像素子群からなる光走査装置において，前記
偏向装置により偏光された光ビームが被走査面上のセン
ター領域と該センター領域に隣接する領域において、同
一の被走査面上に結像されるよう構成されていることを
特徴とする光走査装置である。 【０００７】請求項２の発明は、請求項１の光走査装置
において，隣接する領域を走査する光ビームの走査方向
が対向方向となるよう構成されていることを特徴とする
光走査装置である。 【０００８】請求項３の発明は、請求項１及び２の光走
査装置において，隣接する領域を走査する光ビームの走
査始点を，共通の走査タイミング検知手段によって制御
することを特徴とする光走査装置である。 【０００９】請求項４の発明は、請求項１乃至３のいず
れかに記載された光走査装置を備えた画像形成装置であ
る。 【００１０】 【発明の実施の形態】本発明の１実施形態について添付
図面を参照して説明する。図１は本発明の実施形態を示
す概略斜視図である。３個のＬＤユニット（１ａ，２
ａ，３ａ）は図示されていないＬＤ駆動制御装置により
駆動され、画像信号に応じて変調されたレーザー光を出
射する。このＬＤユニット（１ａ，２ａ，３ａ）は、ア
レー構成で複数のレーザー光を出射するもの、或いは単
一のＬＤと光学素子を組み合わせて複数のレーザー光を
出射等任意である。それぞれのＬＤユニット（１ａ，２
ａ，３ａ）から出射したレーザービームは、コリメート
レンズ（１ｂ，２ｂ，３ｂ）で平行光とされ，シンドリ
カルレンズ（１ｃ，２ｃ，３ｃ）を経て偏向装置である
共通のポリゴンミラー４に入射する。 【００１１】レーザービームは、ポリゴンミラー４で偏
向・走査され、ｆθレンズ（１ｄ，１ｅ，２ｄ，２ｅ，
３ｄ，３ｅ）によって等角速度走査光から等速度走査光
に偏光され，折り返しミラー（１ｆ，１ｇ，１ｈ，１
ｉ，２ｆ，３ｆ）によって被走査体５に導かれる。 【００１２】同期検知装置（１ｊ，２ｇ，３ｇ）は、走
査タイミング検出手段として走査領域外に設けられ、前
記ポリゴンミラーからの偏向を検出し，その検出に基づ
き被走査体に対する走査毎の走査開始位置を制御してい
る。このようにレーザー光を前記被走査面上で走査する
ことによって、被走査面上には画像処理部からの画像情
報に基づく潜像が形成される。なお、本実施形態の構成
では，被走査面上の各領域を走査するための各光学素子
を共通に使用できるようにするため、各領域とも光路長
が同じになるように各レンズ及び折り返しミラーを配置
している。 【００１３】図２は広角型の光走査装置における被走査
面上への光路長の変動による走査方向の変動を示したも
のである。同図から明らかなように、被走査面に対する
光ビームの走射角がαであるときに光路長がΔＬ変動す
ると、走査位置はΔＬｃｏｓαだけ外側に変動する，ま
た、走射角がβ（≒９０度）であるときはｃｏｓβ≒０
となり光路長の変動に関係なく走査位置は変動しない。 【００１４】ところで、被走査面のたわみや偏芯による
光路長の変動は，被走査面における走査方向の距離が長
くなるに従って発生し易くなる。従って、被走査面を両
端部で支持する構成であると、支持部から最も離れた被
走査面の中心部が最も前記変動が大きくなるので，被走
査面への走査領域を分割するシステムでは，中心に近い
ところで走査領域を分割することは、光路長の変動に対
して最も不利となる。本実施形態では、被走査面に対す
る走射角を最も変動の大きい中央領部で垂直になるよう
にして、上述のように、走査領域を中央部とその隣接部
の３つに分割した構成を採って、光路長の変動に関係な
く走査位置は変動しないようにしている。これにより、
被走査面への走査領域を分割するシステムを採用しつ
つ、隣接する領域のつなぎ目に対する高精度な位置制御
機構を要することなく位置整合が可能なシステムを実現
したのである。 【００１５】他方、被走査面に一直線（１ライン）の画
像を形成する場合には，各領域のつなぎ目（各走査ビー
ムのつなぎ目）の走査方向に垂直な方向（被走査面の移
動方向）の位置を所定の精度で合わせる必要がある。つ
まり、異なる偏向装置を用いて被走査面上の走査領域を
それぞれ分割して１ライン走査する場合においては、被
走査面が移動しない場合の光ビームの軌跡は，その走査
方向が同一でかつ走査領域の境界で隣接する画素の位置
合わせがうまくできれば，とぎれのない直線を形成する
ことができる。しかし，被走査面が走査方向に垂直な方
向つまり副走査方向に移動する場合には，隣接する偏向
装置が同期して走査を行わないと、各ビームは被走査面
の移動方向に対して異なる位置に走査することになるた
め、異なる偏向装置は同期していることが不可欠であ
る。本発明では同一の偏向装置を用いているため、同期
機能を要することなく同期走査を行うことができ、被走
査面が走査方向に垂直な方向に移動する場合にも、とぎ
れのないビーム軌跡を得ることができる。 【００１６】ところで、同一の偏向装置を用いた場合に
は，被走査面で隣接する走査ビームの走査方向が同じで
あると，被走査面の移動により各領域の光ビーム軌跡は
平行線となる。平行線とならないように各領域の境界の
画像つなぎ目を合わせるには，被走査面の移動スピード
と走査スピードから求められる走査ラインタイミングの
ディレイもしくは走査位置の調整が不可欠である。図３
は、図１に示す本発明の光走査装置において，移動する
被走査面上を走査する光ビームの軌跡を平面で示したも
のである。本発明では、図３に示すように、隣接する光
走査ビームの走査方向を対向方向にし、走査始点Ａを合
わせることにより領域１と領域２，走査始点ＡとＤを合
わせることにより領域１と領域３の境界部において、同
一ラインに対する被走査面の移動方向へのズレをなくす
ことができる。つまり、走査始点Ａ、及び走査始点Ｄを
合わせるだけで走査位置の調整を行うことができるか
ら、別途走査ラインタイミングのディレイもしくは走査
位置の調整を行う必要がはない。 【００１７】また，本発明の光装置走査では、複数のレ
ーザー光源に対して同一の偏向装置を用いているため、
当然のことながら各領域の走査タイミングが一定であ
り、そのため、図１の各走査領域に配された走査タイミ
ング検出手段である同期検知装置（１ｊ，２ｇ，３ｇ）
の検知結果を共通に使用することができる。これにより
システム構成を簡素化できる。この光走査装置を画像形
成装置に搭載することにより、全体の構造を簡素化でき
かつ全体的にも従来のものよりも低廉な画像形成装置を
提供することができる。 【００１８】 【発明の効果】請求項１に対応する効果：複数の光源か
らの光ビームを同一の偏向装置で偏向して走査する構成
を採ったため、被走査面への走査領域を分割するシステ
ムを採用しつつ、隣接する領域のつなぎ目に対する高精
度な位置制御機構を要することなく位置整合が可能であ
る。 【００１９】請求項２に対応する効果：走査方向が反対
向きの各走査始点を合わせるだけで走査位置の調整を行
うことができるから、別途走査ラインタイミングのディ
レイもしくは走査位置の調整等、煩雑な操作を行う必要
がない。 【００２０】請求項３に対応する効果：本発明の光装置
走査では、複数のレーザー光源に対して同一の偏向装置
を用いているため、当然のことながら各領域の走査タイ
ミングが一定であり、そのため、走査タイミング検出手
段の検知結果を共通に使用することができる。これによ
りシステム構成を簡素化することができる。 【００２１】請求項４に対応する効果：本発明の光走査
装置を画像形成装置に搭載することにより、全体の構造
を簡素化できかつ全体的にも従来のものよりも低廉な画
像形成装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の光走査装置の１実施形態を示す概略
斜視図である。 【図２】 光走査装置における被走査面上への光路長の
変動による走査方向の変動を説明する図である。 【図３】 光走査装置において，移動する被走査面上を
走査する光ビームの軌跡を平面で示した図である。 【符号の説明】 １ａ，２ａ、３ａ…ＬＤユニット、１ｂ、２ｂ、３ｂ…
コリメートレンズ、１ｃ、２ｃ、３ｃ…シリンドリカル
レンズ、１ｄ，１ｅ，２ｄ，２ｅ，３ｄ，３ｅ…ｆθレ
ンズ、１ｆ，１ｇ，１ｈ，１ｉ、２ｆ、３ｆ…折り返し
ミラー、１ｊ、２ｇ、３ｇ…同期検知装置、４…ポリゴ
ンミラー、５…被走査体。
斜視図である。 【図２】 光走査装置における被走査面上への光路長の
変動による走査方向の変動を説明する図である。 【図３】 光走査装置において，移動する被走査面上を
走査する光ビームの軌跡を平面で示した図である。 【符号の説明】 １ａ，２ａ、３ａ…ＬＤユニット、１ｂ、２ｂ、３ｂ…
コリメートレンズ、１ｃ、２ｃ、３ｃ…シリンドリカル
レンズ、１ｄ，１ｅ，２ｄ，２ｅ，３ｄ，３ｅ…ｆθレ
ンズ、１ｆ，１ｇ，１ｈ，１ｉ、２ｆ、３ｆ…折り返し
ミラー、１ｊ、２ｇ、３ｇ…同期検知装置、４…ポリゴ
ンミラー、５…被走査体。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｈ０４Ｎ 1/113 Ｈ０４Ｎ 1/04 １０４Ａ
Ｆターム(参考） 2C362 BA49 BA53 BA69 BA70 BA82
BA85 BA90 BB30 BB31 BB32
BB38 DA03
2H045 AA01 BA22 BA36 CA88 CA98
5C051 AA02 CA07 DA02 DB02 DB08
DB22 DB24 DB30 DC02 DC04
DE02 FA01
5C072 AA03 BA02 DA02 DA04 DA21
HA02 HA06 HA09 HA13 HB11
XA01 XA05
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 複数の偏向面を有し回転する偏向装置
と、複数の光源装置と、該光源装置から各々出射された
光ビームを前記偏向装置へ導く第１の導光素子群と，偏
向装置により偏向された光ビームを被走査面上に導き結
像する第２の導光素子群及び結像素子群からなる光走査
装置において，前記偏向装置により偏光された光ビーム
が被走査面上のセンター領域と該センター領域に隣接す
る領域において、同一の被走査面上に結像されるよう構
成されていることを特徴とする光走査装置。 【 請求項２】 請求項１の光走査装置において，隣接
する領域を走査する光ビームの走査方向が対向方向とな
るよう構成されていることを特徴とする光走査装置。 【請求項３】 請求項１及び２の光走査装置において，
隣接する領域を走査する光ビームの走査始点を，共通の
走査タイミング検知手段によって制御することを特徴と
する光走査装置。 【請求項４】 請求項１乃至３のいずれかに記載された
光走査装置を備えた画像形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001074362A JP2002277775A (ja) | 2001-03-15 | 2001-03-15 | 光走査装置及び走査装置を備えた画像形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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| JPH09134135A (ja) * | 1995-11-09 | 1997-05-20 | Mitsubishi Electric Corp | レーザ投影表示装置 |
| JP2000267027A (ja) * | 1999-03-19 | 2000-09-29 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置および画像形成装置 |
-
2001
- 2001-03-15 JP JP2001074362A patent/JP2002277775A/ja active Pending
Patent Citations (3)
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|---|---|---|---|---|
| JPH03257416A (ja) * | 1990-03-08 | 1991-11-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光ビーム走査装置 |
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