JP2002273169A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2002273169A5 JP2002273169A5 JP2001081777A JP2001081777A JP2002273169A5 JP 2002273169 A5 JP2002273169 A5 JP 2002273169A5 JP 2001081777 A JP2001081777 A JP 2001081777A JP 2001081777 A JP2001081777 A JP 2001081777A JP 2002273169 A5 JP2002273169 A5 JP 2002273169A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- halogen
- discharge
- containing gas
- water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001081777A JP4549563B2 (ja) | 2001-03-22 | 2001-03-22 | ハロゲン含有ガスの処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001081777A JP4549563B2 (ja) | 2001-03-22 | 2001-03-22 | ハロゲン含有ガスの処理装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009277414A Division JP5258739B2 (ja) | 2009-12-07 | 2009-12-07 | ハロゲン含有ガスの処理装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002273169A JP2002273169A (ja) | 2002-09-24 |
JP2002273169A5 true JP2002273169A5 (de) | 2006-12-28 |
JP4549563B2 JP4549563B2 (ja) | 2010-09-22 |
Family
ID=18937815
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001081777A Expired - Fee Related JP4549563B2 (ja) | 2001-03-22 | 2001-03-22 | ハロゲン含有ガスの処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4549563B2 (de) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB0403797D0 (en) * | 2004-02-20 | 2004-03-24 | Boc Group Plc | Gas abatement |
JP5229203B2 (ja) * | 2004-06-29 | 2013-07-03 | 三菱電機株式会社 | 揮発性有機化合物処理装置 |
JP2006278236A (ja) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Ngk Insulators Ltd | プラズマ発生電極及びプラズマ反応器 |
JP2006314869A (ja) * | 2005-05-10 | 2006-11-24 | L'air Liquide Sa Pour L'etude & L'exploitation Des Procede S Georges Claude | 半導体プロセスチャンバからの排ガスを除害するためのシステム |
GB0602506D0 (en) * | 2006-02-08 | 2006-03-22 | Boc Group Plc | Method of treating a gas stream |
JP4588726B2 (ja) * | 2007-02-08 | 2010-12-01 | クリーン・テクノロジー株式会社 | 排ガス処理装置 |
JP4733779B1 (ja) * | 2010-07-12 | 2011-07-27 | エドワーズ株式会社 | ガス処理装置及びガス処理システム |
KR102351585B1 (ko) | 2014-03-06 | 2022-01-13 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 플라즈마 포어라인 열 반응기 시스템 |
-
2001
- 2001-03-22 JP JP2001081777A patent/JP4549563B2/ja not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4458775B2 (ja) | 吸着精製プロセスを用いるフッ素の回収方法 | |
US7407635B2 (en) | Processes and apparatuses for treating halogen-containing gases | |
EP1297891A1 (de) | Vorrichtung zur objektbehandlung und diese beinhaltende plasmaeinrichtung | |
US20060130649A1 (en) | Treatment of effluent gases | |
US20070079849A1 (en) | Integrated chamber cleaning system | |
KR20090113360A (ko) | 공정 가스의 회수 및 재사용 방법 및 장치 | |
JP7198676B2 (ja) | 希ガス回収システムおよび希ガス回収方法 | |
JP5088375B2 (ja) | 誘電体バリア放電装置 | |
JP4549563B2 (ja) | ハロゲン含有ガスの処理装置 | |
US6905663B1 (en) | Apparatus and process for the abatement of semiconductor manufacturing effluents containing fluorine gas | |
TWI400354B (zh) | 處理氣流的方法 | |
JP2002273169A5 (de) | ||
JP3217034B2 (ja) | 過弗化物の処理方法及びその処理装置 | |
JP5258739B2 (ja) | ハロゲン含有ガスの処理装置 | |
JP2019195758A (ja) | ガス分離装置及びガス分離方法 | |
US20100074821A1 (en) | Apparatus and method for treating a gas stream | |
JP4699919B2 (ja) | 排ガス処理方法および処理装置 | |
KR20150058739A (ko) | 공정 설비에서 발생되는 배기가스 처리 설비 | |
KR100347746B1 (ko) | 고온 플라즈마를 이용한 프레온가스 분해장치 | |
JP2008124356A (ja) | 表面処理方法及び装置 | |
KR101514449B1 (ko) | 육불화황(sf6) 농축 및 열분해장치 | |
JP4558176B2 (ja) | ハロゲン含有ガス処理方法及び処理装置 | |
GB2588908A (en) | Inert gas recovery from a semiconductor manufacturing tool | |
JP2010058009A (ja) | 三フッ化窒素分解処理方法および三フッ化窒素分解処理装置 | |
JP3817428B2 (ja) | 過弗化物の分解処理装置 |