JP4193478B2
(ja)
*
|
2001-12-03 |
2008-12-10 |
住友化学株式会社 |
スルホニウム塩及びその用途
|
US7303852B2
(en)
|
2001-12-27 |
2007-12-04 |
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. |
Photoacid generating compounds, chemically amplified positive resist materials, and pattern forming method
|
JP2004085657A
(ja)
*
|
2002-08-23 |
2004-03-18 |
Toray Ind Inc |
ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法
|
JP4448705B2
(ja)
|
2004-02-05 |
2010-04-14 |
富士フイルム株式会社 |
感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法
|
JP4469692B2
(ja)
|
2004-09-14 |
2010-05-26 |
富士フイルム株式会社 |
感光性組成物、該感光性組成物に用いられる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法
|
US7960087B2
(en)
|
2005-03-11 |
2011-06-14 |
Fujifilm Corporation |
Positive photosensitive composition and pattern-forming method using the same
|
JP4579019B2
(ja)
*
|
2005-03-17 |
2010-11-10 |
富士フイルム株式会社 |
ポジ型レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法
|
JP4724465B2
(ja)
|
2005-05-23 |
2011-07-13 |
富士フイルム株式会社 |
感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法
|
JP4677293B2
(ja)
*
|
2005-06-20 |
2011-04-27 |
富士フイルム株式会社 |
ポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法
|
JP2007003619A
(ja)
|
2005-06-21 |
2007-01-11 |
Fujifilm Holdings Corp |
感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いる化合物
|
JP4562628B2
(ja)
|
2005-09-20 |
2010-10-13 |
富士フイルム株式会社 |
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
|
US8426101B2
(en)
|
2005-12-21 |
2013-04-23 |
Fujifilm Corporation |
Photosensitive composition, pattern-forming method using the photosensitve composition and compound in the photosensitive composition
|
JP4866605B2
(ja)
|
2005-12-28 |
2012-02-01 |
富士フイルム株式会社 |
感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物
|
US8404427B2
(en)
|
2005-12-28 |
2013-03-26 |
Fujifilm Corporation |
Photosensitive composition, and pattern-forming method and resist film using the photosensitive composition
|
JP4682057B2
(ja)
|
2006-02-20 |
2011-05-11 |
富士フイルム株式会社 |
感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物
|
JP4682064B2
(ja)
|
2006-03-09 |
2011-05-11 |
富士フイルム株式会社 |
感光性組成物、該組成物を用いたパターン形成方法及び該組成物に用いる化合物
|
US8003294B2
(en)
|
2007-03-09 |
2011-08-23 |
Fujifilm Corporation |
Photosensitive composition, compound used for photosensitive composition and pattern-forming method using photosensitive composition
|
JP5358102B2
(ja)
*
|
2007-03-09 |
2013-12-04 |
富士フイルム株式会社 |
感光性組成物、該感光性組成物に用いられる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法
|
JP5159141B2
(ja)
*
|
2007-03-30 |
2013-03-06 |
富士フイルム株式会社 |
インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版
|
EP2264007A4
(en)
|
2008-03-13 |
2011-11-23 |
Central Glass Co Ltd |
NOVEL SALT HAVING CARBANION STRUCTURE CONTAINING FLUORINE, DERIVATIVE THEREOF, PHOTOACID GENERATOR, RESIST MATERIAL USING THE PHOTOACID GENERATOR, AND METHOD OF FORMING A PATTERN
|
JP2010159256A
(ja)
*
|
2010-01-18 |
2010-07-22 |
Fujifilm Corp |
感光性組成物に有用な酸及びその塩
|
JP2011008293A
(ja)
*
|
2010-09-15 |
2011-01-13 |
Fujifilm Corp |
ポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法
|
JP6240409B2
(ja)
*
|
2013-05-31 |
2017-11-29 |
サンアプロ株式会社 |
スルホニウム塩および光酸発生剤
|
KR102554985B1
(ko)
|
2015-01-16 |
2023-07-12 |
도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 |
레지스트 조성물 및 레지스트 패턴 형성 방법
|
JP6482286B2
(ja)
*
|
2015-01-16 |
2019-03-13 |
東京応化工業株式会社 |
レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
|
JP6484500B2
(ja)
*
|
2015-05-11 |
2019-03-13 |
住友化学株式会社 |
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|
US10324377B2
(en)
|
2015-06-15 |
2019-06-18 |
Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. |
Resist composition and method of forming resist pattern
|
JP7373307B2
(ja)
|
2018-06-20 |
2023-11-02 |
住友化学株式会社 |
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
|