JP2002265030A - 搬送装置 - Google Patents

搬送装置

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JP2002265030A
JP2002265030A JP2001069914A JP2001069914A JP2002265030A JP 2002265030 A JP2002265030 A JP 2002265030A JP 2001069914 A JP2001069914 A JP 2001069914A JP 2001069914 A JP2001069914 A JP 2001069914A JP 2002265030 A JP2002265030 A JP 2002265030A
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Koyo Thermo Systems Co Ltd
Senju Metal Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 被処理物の搬送速度を従来の装置に比して速
くすることができ、被処理物の温度分布を好ましい状態
にすることができる搬送装置を提供する。 【解決手段】少なくとも上下に移動する一対のビーム４
で被処理物を被処理物載置部から持ち上げおよび被処理
物載置部に下げて置くウォーキングビーム式搬送装置２
である。ビーム４の上下位置を検出する位置検出手段Ｓ
１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４を備え、位置検出手段Ｓ１，Ｓ
２，Ｓ３，Ｓ４により検出されたビーム４の上下位置に
基づいてビーム４の上下移動速度を制御する制御手段Ｉ
とを備え、ビーム４が被処理物Ｐを載置部５から持ち上
げるさいおよび載置部５に下げて置くさいのビーム４の
上下移動速度が遅くなるようになされている。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、炉などの連続熱処
理装置に用いられる搬送装置に関する。特に、半導体基
板、ＬＣＤパネルやプラズマディスプレーパネルなどの
ガラス基板やプリント配線基板などの板状被処理物の処
理のためにクリーンルーム内などで用いられる炉などの
処理装置用の搬送装置に関する。
【０００２】なお、本明細書において前後左右は被処理
物の移動方向を基準にいうものとする。
【０００３】
【従来の技術】クリーンルーム内などで用いられる炉な
どの処理装置用の搬送装置は発塵が少ないことが要求さ
れる。このような要求を満たす搬送装置の１つとして、
ウォーキングビーム式搬送装置がある。
【０００４】ウォーキングビーム式搬送装置は、左右に
間隔をおいて設けられかつ前後方向に伸びた一対の移動
ビームと、移動ビーム間に左右に間隔をおいて配された
一対の固定ビームとを備え、以下のようにして被処理物
を搬送する。
【０００５】まず、固定ビームより低い位置にある移動
ビームが上方向に移動して固定ビーム上の載置位置にあ
る被処理物を持ち上げる。ついで、持ち上げた被処理物
が次の載置位置に達するまで移動ビームが前方に移動す
る。そして、移動ビームが下方に移動して被処理物が固
定ビーム上の次の載置位置に載せられる。この後、移動
ビームは後方へと移動する。
【０００６】上記の一連動作が繰り返されて被処理物が
順次固定ビーム上を順次前方の載置位置へと載せ替えら
れて搬送される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の反応装置に
おいては、クリーンルーム内で処理される被処理物は、
半導体基板やガラス基板であり、搬送中に破損する恐れ
があるため、載置部から被処理物を上方に移動させる速
度および被処理物を下方に移動させて載置部に載せる速
度には一定の制限が生じる。すなわち、被処理物が破損
する恐れが生じるほどには被処理物を上下方に移動させ
る速度を速くすることができない。このため、全体とし
て搬送速度を速くすることが困難であるという問題があ
る。ところで、搬送速度は、被処理物の温度分布にも影
響を及ぼす場合があるため、搬送速度を速くできない
と、被処理物の温度分布を好ましい状態にすることが困
難な場合もある。
【０００８】本発明は上記問題を解決することを課題と
し、被処理物の搬送速度を従来の装置に比して速くする
ことができ、被処理物の温度分布を好ましい状態にする
ことができる搬送装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段および発明の効果】上記課
題を解決するために本発明の搬送装置は、少なくとも上
下に移動する一対のビームで被処理物を被処理物載置部
から持ち上げおよび被処理物載置部に下げて置くウォー
キングビーム式搬送装置において、前記ビームの上下位
置を検出する位置検出手段を備え、位置検出手段により
検出されたビームの上下位置に基づいてビームの上下移
動速度を制御する制御手段とを備え、ビームが被処理物
を載置部から持ち上げるさいおよび載置部に下げて置く
さいのビームの上下移動速度が遅くなるようになされて
いるものである。
【００１０】この装置によれば、被処理物を載置部から
持ち上げるさいおよび被処理物を載置部に下げ置くさい
の速度を遅くし、被処理物が載置部から離れているとき
の速度を速くして被処理物を上下方に移動させる速度が
一定である場合に比し、被処理物を上下方に移動させる
速度を速くすることができる。従って、被処理物の搬送
速度の設定範囲が広くなり、被処理物の温度分布を好ま
しい状態にすることができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の搬
送装置の１実施形態について説明する。
【００１２】図１には本発明の搬送装置を実施する搬送
装置(2)を備えた連続炉(1)が示され、図２には後述する
移動ビーム(4)の上下移動速度を制御するための位置検
出手段および制御手段の概念が示されている。
【００１３】ここで、搬送装置(2)は、左右に間隔をお
いて設けられた一対の移動ビーム(4)と、移動ビーム(4)
間に左右に間隔をおいて設けられた一対の固定ビーム
(5)とを備えている。移動ビーム(4)の間隔および固定ビ
ーム(5)の間隔は被処理物(P)の幅より小さく、被処理物
(P)を載せることができるようになっている。
【００１４】移動ビーム(4)の炉体から後方に突出した
部分にはビーム(4)から下方に突出した前後スライド板
(7)が取り付けられ、スライド板(7)に上下動板(6)が取
り付けられている。
【００１５】前後スライド板(7)は図示しないモータに
よって前後に駆動され、上下動板(6)に対して前後に移
動し、移動ビーム(4)を前進位置と後進位置との間を移
動させる。一方、上下動板(6)は、モータ(M)によって上
下に駆動され、前後スライド板(7)および移動ビーム(4)
を一体に上下に動かして移動ビーム(4)を固定ビーム(5)
より上の上昇位置および固定ビーム(5)より下の下降位
置の間を移動させるものである。モータ(M)によって上
下動板(6)を駆動する機構およびモータによって前後ス
ライド板(7)を駆動する機構は公知のものであり詳細な
説明は省略する。
【００１６】上下動板(6)には、これから後方に突出し
た遮光板(6a)が設けられている。また、４つの遮光スイ
ッチ(S1)(S2)(S3)(S4)が、遮光板(6a)の上下動により光
が遮られる位置に上下に間隔をおいて設けられている。
【００１７】遮光スイッチ(S1)は移動ビーム(4)が上昇
位置に達したことを検出するためのものであり、遮光ス
イッチ(S4)は移動ビーム(4)が下降位置に達したことを
検出するためのものである。そして、両スイッチ(S1)(S
4)間に２つのスイッチ(S2)(S3)が配されている。両スイ
ッチ(S2)(S3)は以下のような位置に設けられる。すなわ
ち、遮光板(6a)が２つのスイッチ(S2)(S3)間を動いてい
る間に移動ビーム(4)が固定ビーム(5)から被処理物(P)
を持ち上げるおよび固定ビーム(5)に被処理物(P)を下げ
置くような位置に設けられる。
【００１８】図２に示すようにスイッチ(S1)(S2)(S3)(S
4)はプロクラムロジックコントローラ(PLC)に接続され
ている。そして、プロクラムロジックコントローラ(PL
C)によって制御されるインバータ(INV)によりモータ(M)
がインバータ駆動される。なお、プロクラムロジックコ
ントローラ(PLC)によってインバータ(INV)を制御する構
成及び遮光スイッチ(S1)(S2)(S3)(S4)の構成は公知のも
のであり、詳細な説明は省略する。
【００１９】以下、移動ビーム(4)の動作について説明
する。
【００２０】移動ビーム(4)は、まず後退位置かつ上昇
位置にある初期状態をとる。この状態の移動ビーム(4)
に被処理物(P)が載せられる。
【００２１】被処理物(P)が載せられた移動ビーム(4)は
前進位置まで前進して停止する。ついで、移動ビーム
(4)が下降する。移動ビーム(4)が下降して遮光板(6a)が
スイッチ(S2)の光を遮ると、インバータ(I)によりモー
タ(M)に供給される電力が低くなって移動ビーム(4)の下
降速度がそれまでより遅くなる。さらに移動ビーム(4)
が下降して被処理物(P)が固定ビーム(5)に載せ替えられ
た後、遮光板(6a)がスイッチ(S3)の光を遮るとインバー
タ(I)によりモータ(M)に供給される電力が高くなって移
動ビーム(4)の下降速度がそれまでより速くなる。
【００２２】移動ビーム(4)が固定ビーム(5)より下方の
下降位置まで下降すると移動ビーム(4)は後退位置まで
後退する。
【００２３】後退位置まで後退した移動ビーム(4)は、
上昇位置まで上昇し初期状態を取る。この際、固定ビー
ム(5)上の被処理物(P)は移動ビーム(4)に載せ替えられ
て持ち上げられるが、遮光板(6a)がスイッチ(S2)(S3)間
を移動している間の移動ビーム(4)の上昇速度は、その
他の時の上昇速度に比して遅くなる。これは上記と同様
に遮光スイッチ(S1)(S2)(S3)(S4)によって移動ビーム
(4)の位置を検出し、この位置に基づきインバータ(I)か
らモータ(M)に供給される電力が変化することにより行
われる。
【００２４】上記搬送装置は、一方のビーム(4)が上下
および前後に移動し、他方のビーム(5)が固定されたも
のであるが、本発明の搬送装置はこれに限られず、両方
のビームが交互に移動して被処理物(P)が搬送されるも
のや、一方のビームが上下に移動し、他方のビームが前
後に移動して被処理物(P)が搬送されるものも含まれ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】ａは本発明の搬送装置を実施する搬送装置を備
えた炉の縦断面図、ｂは同搬送装置の要部の横断面図で
ある。
【図２】同搬送装置の速度制御手段の概念図である。
【符号の説明】
(1) 炉 (2) 搬送装置 (4) 移動ビーム (5) 固定ビーム (I) 制御手段（インバータ） (P) 被処理物 (S1)(S2)(S3)(S4) 位置検出手段（遮光スイッチ）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中村 秀樹 東京都足立区千住橋戸町23番地 千住金属 工業株式会社内 Ｆターム(参考） 3F036 CB02

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 少なくとも上下に移動する一対のビーム
    で被処理物を被処理物載置部から持ち上げおよび被処理
    物載置部に下げて置くウォーキングビーム式搬送装置に
    おいて、 前記ビームの上下位置を検出する位置検出手段を備え、 位置検出手段により検出されたビームの上下位置に基づ
    いてビームの上下移動速度を制御する制御手段とを備
    え、 ビームが被処理物を載置部から持ち上げるさいおよび載
    置部に下げて置くさいのビームの上下移動速度が遅くな
    るようになされているウォーキングビーム式搬送装置。
JP2001069914A 2001-03-13 2001-03-13 搬送装置 Expired - Lifetime JP4922495B2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100622451B1 (ko) 2005-05-26 2006-09-13 현대제철 주식회사 워킹빔 장치의 빌릿 이상낙하 감지 방법

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5598990A (en) * 1979-01-19 1980-07-28 Voith Gmbh J M Regeneration of waste paper

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