JP2002260999A - 対物レンズの少なくとも１つの内部空間を気体洗浄するシステム - Google Patents
対物レンズの少なくとも１つの内部空間を気体洗浄するシステムInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 対物レンズの少なくとも１つの内部空間を気
体洗浄するものであって、一方においては気体洗浄のた
めに不活性ガスの使用を可能にすると共に、他方におい
ては屈折率の変化が生じないようなシステム等を提供す
る。 【解決手段】 特には半導体リソグラフィ用の露光投影
対物レンズのような対物レンズの少なくとも１つの内部
空間を気体洗浄（フラッシング）するシステムにおい
て、該気体洗浄は、少なくとも２つの不活性ガスを、混
合の結果生じる屈折率が空気の屈折率に少なくとも略一
致するように混合することにより実施される。
体洗浄するものであって、一方においては気体洗浄のた
めに不活性ガスの使用を可能にすると共に、他方におい
ては屈折率の変化が生じないようなシステム等を提供す
る。 【解決手段】 特には半導体リソグラフィ用の露光投影
対物レンズのような対物レンズの少なくとも１つの内部
空間を気体洗浄（フラッシング）するシステムにおい
て、該気体洗浄は、少なくとも２つの不活性ガスを、混
合の結果生じる屈折率が空気の屈折率に少なくとも略一
致するように混合することにより実施される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、対物レンズの少な
くとも１つの内部空間を気体洗浄（フラッシング）する
システムに関する。
くとも１つの内部空間を気体洗浄（フラッシング）する
システムに関する。
【０００２】更に詳細には、本発明は、半導体を製造す
るためのマイクロリソグラフ投影露光対物レンズの少な
くとも１つの内部空間を気体洗浄するシステムに関する
ものである。
るためのマイクロリソグラフ投影露光対物レンズの少な
くとも１つの内部空間を気体洗浄するシステムに関する
ものである。
【０００３】
【従来の背景】対物レンズ、特に半導体を製造するため
の露光投影対物レンズを周囲環境から封止し、外部から
の汚染を防止するために該対物レンズの内部空間（又は
複数の内部空間）をフラッシングガスの助けにより気体
洗浄し、該動作が僅かな過圧で以って行われることは普
通に知られている。
の露光投影対物レンズを周囲環境から封止し、外部から
の汚染を防止するために該対物レンズの内部空間（又は
複数の内部空間）をフラッシングガスの助けにより気体
洗浄し、該動作が僅かな過圧で以って行われることは普
通に知られている。
【０００４】不活性ガスの化学的安定性から、気体洗浄
を斯様なガスの助けにより実行することは既に提案され
ている。
を斯様なガスの助けにより実行することは既に提案され
ている。
【０００５】通常の従来技術については、この点に関し
米国特許第5,157,555号を参照することができ、該特許
においては隣接する表面間の可変空隙により球面収差の
補正を実施することが提案されている。
米国特許第5,157,555号を参照することができ、該特許
においては隣接する表面間の可変空隙により球面収差の
補正を実施することが提案されている。
【０００６】米国特許第6,252,648号は、マイクロリソ
グラフィにおける露光装置及び露光方法を記載し、汚染
を防止すると共に洗浄するために、対物レンズにおいて
閉じられた空間に不活性ガスと酸素との混合気が導入さ
れる。
グラフィにおける露光装置及び露光方法を記載し、汚染
を防止すると共に洗浄するために、対物レンズにおいて
閉じられた空間に不活性ガスと酸素との混合気が導入さ
れる。
【０００７】米国特許第4,871,237号は、対物レンズの
光学結像精度を、対物レンズの内部空間の気圧を変化す
ることにより向上させることを提案している。ガス混合
気における屈折率を変化させるために、上記内部空間用
の媒体として種々のガス及びガス混合気が提案されてい
る。
光学結像精度を、対物レンズの内部空間の気圧を変化す
ることにより向上させることを提案している。ガス混合
気における屈折率を変化させるために、上記内部空間用
の媒体として種々のガス及びガス混合気が提案されてい
る。
【０００８】不活性ガスの助けによる気体洗浄は比較的
高いコストに繋がり、これは対物レンズの作動の間には
許容することができるが、調整及び取り付けの段階にお
いてかなりの費用の出費となる。かくして、この取り付
け及び調整の段階においては対物レンズをコスト有効的
なフラッシング空気ガスで動作させることが望ましく、
その結像は空気を用いた気体洗浄に対して計算される。
しかしながら、最終的な固有の使用においては、該対物
レンズは非常に高価な不活性ガスを用いて気体洗浄しな
ければならず、これらのガスが空気の屈折率とは大幅に
ずれた屈折率を有するという問題が生じる。この結果、
該対物レンズの不調に繋がるような収差が生じる。
高いコストに繋がり、これは対物レンズの作動の間には
許容することができるが、調整及び取り付けの段階にお
いてかなりの費用の出費となる。かくして、この取り付
け及び調整の段階においては対物レンズをコスト有効的
なフラッシング空気ガスで動作させることが望ましく、
その結像は空気を用いた気体洗浄に対して計算される。
しかしながら、最終的な固有の使用においては、該対物
レンズは非常に高価な不活性ガスを用いて気体洗浄しな
ければならず、これらのガスが空気の屈折率とは大幅に
ずれた屈折率を有するという問題が生じる。この結果、
該対物レンズの不調に繋がるような収差が生じる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、対物レンズの少なくとも１つの内部空間を気体洗浄
するシステムであって、一方においては気体洗浄のため
の不活性ガスの使用を可能にすると共に、他方において
は屈折率の変化が生じないようなシステムを作製するこ
とにある。
は、対物レンズの少なくとも１つの内部空間を気体洗浄
するシステムであって、一方においては気体洗浄のため
の不活性ガスの使用を可能にすると共に、他方において
は屈折率の変化が生じないようなシステムを作製するこ
とにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、この目
的は、対物レンズの少なくとも１つの閉じた内部空間を
気体洗浄するシステムであって、該気体洗浄が少なくと
も２つの不活性ガスを、混合の結果としての屈折率が空
気の屈折率に少なくとも略一致するように混合すること
により実行されるようなシステムにより達成される。
的は、対物レンズの少なくとも１つの閉じた内部空間を
気体洗浄するシステムであって、該気体洗浄が少なくと
も２つの不活性ガスを、混合の結果としての屈折率が空
気の屈折率に少なくとも略一致するように混合すること
により実行されるようなシステムにより達成される。
【００１１】本発明によれば、不活性ガスは、混合の結
果としての屈折率が空気の屈折率に一致するように混合
される。これの結果は、当該対物レンズを先ず非常に有
利な空気ガスを用いて動作させ、調整及び取り付けるこ
とができるということである。本来の位置での該対物レ
ンズの最終調整及び／又は最終的な固有の使用に到って
初めて、不活性ガス混合気を用いた気体洗浄への変更が
なされる。この場合、長い動作期間にわたる化学的安定
性という利点がある。該対物レンズの不調に繋がるよう
な収差は、該屈折率の適応化により高信頼度で防止され
る。
果としての屈折率が空気の屈折率に一致するように混合
される。これの結果は、当該対物レンズを先ず非常に有
利な空気ガスを用いて動作させ、調整及び取り付けるこ
とができるということである。本来の位置での該対物レ
ンズの最終調整及び／又は最終的な固有の使用に到って
初めて、不活性ガス混合気を用いた気体洗浄への変更が
なされる。この場合、長い動作期間にわたる化学的安定
性という利点がある。該対物レンズの不調に繋がるよう
な収差は、該屈折率の適応化により高信頼度で防止され
る。
【００１２】実験は、目標の組が、２種の不活性ガスの
使用の場合に、これらガスとして窒素及びヘリウムが使
用され、窒素が９５ないし９９．５体積％、好ましくは
９８．８体積％で主構成成分を構成する場合に非常に有
効に経済的に達成することができ、該混合気をヘリウム
と共に空気の屈折率に殆ど一致するような屈折率を生成
するために使用することができることを実際に示してい
る。
使用の場合に、これらガスとして窒素及びヘリウムが使
用され、窒素が９５ないし９９．５体積％、好ましくは
９８．８体積％で主構成成分を構成する場合に非常に有
効に経済的に達成することができ、該混合気をヘリウム
と共に空気の屈折率に殆ど一致するような屈折率を生成
するために使用することができることを実際に示してい
る。
【００１３】勿論、本発明の範囲内において、他のガス
組成との更に他の不活性ガスの混合気が可能である。
組成との更に他の不活性ガスの混合気が可能である。
【００１４】適切な適応化又は混合比により、もし特別
に必要なら、屈折率変化を、発生する収差を補正する目
的で設定することも可能である。
に必要なら、屈折率変化を、発生する収差を補正する目
的で設定することも可能である。
【００１５】このことは、もし必要なら、既に実際に使
用されている対物レンズを、このガス混合により改善す
ることも可能であることを意味している。
用されている対物レンズを、このガス混合により改善す
ることも可能であることを意味している。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の例示的実施例を図
面を参照して説明する。
面を参照して説明する。
【００１７】図１は、半導体リソグラフィ用の投影対物
レンズ１を部分的に且つ本質的にのみ示している（斯か
る構成は基本的に既知である）。対物レンズ１は複数の
レンズ２を有し、これらレンズは当該対物レンズにフレ
ーム又は保持部３を介して接続されている。
レンズ１を部分的に且つ本質的にのみ示している（斯か
る構成は基本的に既知である）。対物レンズ１は複数の
レンズ２を有し、これらレンズは当該対物レンズにフレ
ーム又は保持部３を介して接続されている。
【００１８】該対物レンズの内部は、外部環境に対して
閉じられるか、又は少なくとも大部分を封止され、レン
ズ２の間には、通常、複数の個別内部空間４が存在す
る。内部空間４は僅かな過圧状態であり、非常に小さな
開口５、即ち入口開口を構成する開口５ａ及び出口開口
を構成する開口５ｂ、を介して気体洗浄される。
閉じられるか、又は少なくとも大部分を封止され、レン
ズ２の間には、通常、複数の個別内部空間４が存在す
る。内部空間４は僅かな過圧状態であり、非常に小さな
開口５、即ち入口開口を構成する開口５ａ及び出口開口
を構成する開口５ｂ、を介して気体洗浄される。
【００１９】該気体洗浄は、概ね、下記の方法で実行さ
れる。
れる。
【００２０】該気体洗浄は、９８．８％の体積分率の窒
素と、１．２％の体積分率の不活性ガスとしてのヘリウ
ムとからなる混合気により実行することができる。もし
適切なら、ヘリウムの代わりの他の不活性ガスの使用も
可能であり、その場合は、勿論、当該対物レンズ１が計
算された空気の屈折率に一致するような内部空間４内の
屈折率が全体として生成されるように組成が適切に変更
されねばならない。
素と、１．２％の体積分率の不活性ガスとしてのヘリウ
ムとからなる混合気により実行することができる。もし
適切なら、ヘリウムの代わりの他の不活性ガスの使用も
可能であり、その場合は、勿論、当該対物レンズ１が計
算された空気の屈折率に一致するような内部空間４内の
屈折率が全体として生成されるように組成が適切に変更
されねばならない。
【００２１】空気の屈折率への適応化の目的で、窒素と
ヘリウムとの混合気の屈折率を整合させるための計算
は、下記の式に基づいて行われる。
ヘリウムとの混合気の屈折率を整合させるための計算
は、下記の式に基づいて行われる。
【００２２】Ｎmix ＝ ｎ１＊ｑ１＋ｎ２＊ｑ２ ここで、ｑ１＋ｑ２＝１である。また、Ｎmixは該混合
気の屈折率であり；ｎ１、ｎ２は各々第１ガス及び第２
ガスの屈折率であり；ｑ１、ｑ２は各々第１ガス及び第
２ガスの分率である。
気の屈折率であり；ｎ１、ｎ２は各々第１ガス及び第２
ガスの屈折率であり；ｑ１、ｑ２は各々第１ガス及び第
２ガスの分率である。
【００２３】空気とは、本発明の範囲内の或る範囲内
で、勿論、変動することができる窒素と酸素との組成と
して理解される。このことは、本出願において使用され
る“空気”なる表現は、非常に広い形で空気に似た組成
を意味することを意味している。このように、例えば、
窒素の分率が体積で７８％と８０％との間にあり、酸素
の分率が体積で２０％と２２％との間にある合成空気を
空気として使用することができる。
で、勿論、変動することができる窒素と酸素との組成と
して理解される。このことは、本出願において使用され
る“空気”なる表現は、非常に広い形で空気に似た組成
を意味することを意味している。このように、例えば、
窒素の分率が体積で７８％と８０％との間にあり、酸素
の分率が体積で２０％と２２％との間にある合成空気を
空気として使用することができる。
【００２４】
【実施例】具体的な実施例が、例示としてのみ特定され
た波長に関して以下に示される。各場合において、屈折
率データは２２℃なる温度及び９５０mbarなる圧力に関
するものである。他の温度及び圧力に関する屈折率は、
ローレンツ・ローレンツの式の助けにより変換すること
ができる（例えば、１９８０年、ペルガモン、ロンドン
のM. Born、E. Wolfによる「光学の原理」第６編の第８
７〜９８頁参照）。
た波長に関して以下に示される。各場合において、屈折
率データは２２℃なる温度及び９５０mbarなる圧力に関
するものである。他の温度及び圧力に関する屈折率は、
ローレンツ・ローレンツの式の助けにより変換すること
ができる（例えば、１９８０年、ペルガモン、ロンドン
のM. Born、E. Wolfによる「光学の原理」第６編の第８
７〜９８頁参照）。
【００２５】１）248.4 nmにおける空気の窒素／ヘリウ
ム混合気による置換 F. Kohlrauschの「実用物理学」第１巻、5.1.1.2.3節
（B.G. Teubner、シュツットガルト、１９６８年）によ
る1.0002763なる空気の屈折率に従う７９．５体積％の
窒素（Ｎ）及び２０．５体積％の酸素（Ｏ２）の乾燥空
気に関する屈折率；U. Griesmann, J.H. Burnettの「真
空紫外における窒素ガスの屈折率」、光学知識、第２４
巻、第２３号（１９９９年１２月）による1.0002797な
る窒素の屈折率に従う窒素に関する屈折率；及びR. Abj
ean, A. Mehu, A. Johannin-Gillesの「紫外におけるヘ
リウム及びネオンの屈折率の干渉測定」、C.R. Acad、S
c パリ、t271（１９７０年１０月１９日）、シリーズB-
835による1.0000314なるヘリウムの屈折率に従うヘリウ
ムに関する屈折率から、混合気比率は１．３６％のヘリ
ウム対９８．６４％の窒素と計算される。
ム混合気による置換 F. Kohlrauschの「実用物理学」第１巻、5.1.1.2.3節
（B.G. Teubner、シュツットガルト、１９６８年）によ
る1.0002763なる空気の屈折率に従う７９．５体積％の
窒素（Ｎ）及び２０．５体積％の酸素（Ｏ２）の乾燥空
気に関する屈折率；U. Griesmann, J.H. Burnettの「真
空紫外における窒素ガスの屈折率」、光学知識、第２４
巻、第２３号（１９９９年１２月）による1.0002797な
る窒素の屈折率に従う窒素に関する屈折率；及びR. Abj
ean, A. Mehu, A. Johannin-Gillesの「紫外におけるヘ
リウム及びネオンの屈折率の干渉測定」、C.R. Acad、S
c パリ、t271（１９７０年１０月１９日）、シリーズB-
835による1.0000314なるヘリウムの屈折率に従うヘリウ
ムに関する屈折率から、混合気比率は１．３６％のヘリ
ウム対９８．６４％の窒素と計算される。
【００２６】２）248.4 nmにおける合成空気の窒素／ヘ
リウム混合気による置換 ａ）８０％の窒素と２０％の酸素との合成空気。該合成
空気（８０％のＮ２、２０％のＯ２）の屈折率は、1.00
02797なる窒素の屈折率という１）の結果に従う窒素に
関する屈折率、及びR. Ladenburg, G. WolfsohnのZ. Ph
ys. 79、[1932]、42/61、53による1.0002642なる酸素の
屈折率に従う酸素に関する屈折率から、1.0002766と求
められる。当該置換混合気の混合比は、1.0000314なる
１）に関する結果に従うヘリウムに関する屈折率の助け
により１．２４％のヘリウム対９８．７６％の窒素と算
出される。
リウム混合気による置換 ａ）８０％の窒素と２０％の酸素との合成空気。該合成
空気（８０％のＮ２、２０％のＯ２）の屈折率は、1.00
02797なる窒素の屈折率という１）の結果に従う窒素に
関する屈折率、及びR. Ladenburg, G. WolfsohnのZ. Ph
ys. 79、[1932]、42/61、53による1.0002642なる酸素の
屈折率に従う酸素に関する屈折率から、1.0002766と求
められる。当該置換混合気の混合比は、1.0000314なる
１）に関する結果に従うヘリウムに関する屈折率の助け
により１．２４％のヘリウム対９８．７６％の窒素と算
出される。
【００２７】ｂ）７８％の窒素と２２％の酸素との合成
空気。該合成空気（７８％のＮ２、２２％のＯ２）の屈
折率は、1.0002797なる２ａ）の結果に従う窒素に関す
る屈折率、及び1.0002642なる２ａ）の結果に従う酸素
に関する屈折率から、1.0002763と求められる。当該置
換混合気の混合比は、1.0000314なる１）に関する結果
に従うヘリウムに関する屈折率の助けにより１．３７％
のヘリウム対９８．６３％の窒素と算出される。
空気。該合成空気（７８％のＮ２、２２％のＯ２）の屈
折率は、1.0002797なる２ａ）の結果に従う窒素に関す
る屈折率、及び1.0002642なる２ａ）の結果に従う酸素
に関する屈折率から、1.0002763と求められる。当該置
換混合気の混合比は、1.0000314なる１）に関する結果
に従うヘリウムに関する屈折率の助けにより１．３７％
のヘリウム対９８．６３％の窒素と算出される。
【００２８】他の波長の場合は、適切なら、他の窒素／
不活性ガス混合気を設けなければならない。これは、例
えば、１９３nmにおける（合成）空気の置換の場合に当
てはまる。この場合は、例えばヘリウムに代えて、クリ
プトン及びキセノンを代替え不活性ガスとして使用する
ことができる。
不活性ガス混合気を設けなければならない。これは、例
えば、１９３nmにおける（合成）空気の置換の場合に当
てはまる。この場合は、例えばヘリウムに代えて、クリ
プトン及びキセノンを代替え不活性ガスとして使用する
ことができる。
【００２９】半導体リソグラフィ用の投影対物レンズ
は、動作中又は移送中に、結像特性がしばしば変化す
る。したがって、これらの特性は機械的操作子により、
折々、補正されなければならない。大抵は対物レンズの
残部から封止されている１以上の気体空間について、異
なる屈折率のガスの助けにより特定の不均一な気体洗浄
が実施されれば、場合によっては、機械的操作子を省略
することが可能となる。この目的のため、周部に適切な
分散で配置されたノズルが、対物レンズの気体空間中に
異なるガスを噴射することができる。導入されるガスに
依存し、この結果として、上記周部にわたり分散された
態様で、当該空気又はガス空間における異なる局部屈折
領域に従うような異なるガスの屈折率が得られる。これ
らの局部的に相違する屈折領域は、この場合、当該ガス
の流入の位置及び方向の関数となる。このように、例え
ば特定のガスのノズル領域の近傍では流入ガスの屈折率
に一致する領域が生成される一方、他の領域においては
他のガス、さもなければ複数の他のガスとの対応する混
合気が存在し、その結果に対応して、この領域では他の
屈折率が得られる。当該投影対物レンズの動作中の収差
は、このようにして操作することができ、その結果は、
ｚ及びｘ／ｙ操作子又は能動レンズの作用に対応するよ
うな効果となる。
は、動作中又は移送中に、結像特性がしばしば変化す
る。したがって、これらの特性は機械的操作子により、
折々、補正されなければならない。大抵は対物レンズの
残部から封止されている１以上の気体空間について、異
なる屈折率のガスの助けにより特定の不均一な気体洗浄
が実施されれば、場合によっては、機械的操作子を省略
することが可能となる。この目的のため、周部に適切な
分散で配置されたノズルが、対物レンズの気体空間中に
異なるガスを噴射することができる。導入されるガスに
依存し、この結果として、上記周部にわたり分散された
態様で、当該空気又はガス空間における異なる局部屈折
領域に従うような異なるガスの屈折率が得られる。これ
らの局部的に相違する屈折領域は、この場合、当該ガス
の流入の位置及び方向の関数となる。このように、例え
ば特定のガスのノズル領域の近傍では流入ガスの屈折率
に一致する領域が生成される一方、他の領域においては
他のガス、さもなければ複数の他のガスとの対応する混
合気が存在し、その結果に対応して、この領域では他の
屈折率が得られる。当該投影対物レンズの動作中の収差
は、このようにして操作することができ、その結果は、
ｚ及びｘ／ｙ操作子又は能動レンズの作用に対応するよ
うな効果となる。
【００３０】このための前提条件は、勿論、動作中に静
止した若しくは少なくとも略静止した動作が設定される
こと、又は結像特性の補正に関して再現可能な比が生成
されるように、一定のガス組成で以って対応して再現可
能な領域がガス空間内に生成されることである。このこ
とは、閉じたガス空間内においてガスの特定の安定した
混合勾配を呈することが可能でなければならないことを
意味する。
止した若しくは少なくとも略静止した動作が設定される
こと、又は結像特性の補正に関して再現可能な比が生成
されるように、一定のガス組成で以って対応して再現可
能な領域がガス空間内に生成されることである。このこ
とは、閉じたガス空間内においてガスの特定の安定した
混合勾配を呈することが可能でなければならないことを
意味する。
【００３１】このことは、設計的には、図１に示す入口
開口５ａ及び出口開口５ｂは、対物レンズ１におけるそ
れらの周にわたり対応して分散されるように配置される
べきであり、且つ、局部的に異なるガスが該入口開口を
介して導入されるべきであることを意味する。
開口５ａ及び出口開口５ｂは、対物レンズ１におけるそ
れらの周にわたり対応して分散されるように配置される
べきであり、且つ、局部的に異なるガスが該入口開口を
介して導入されるべきであることを意味する。
【００３２】図２は、図１の図に従う投影対物レンズ１
を有するような投影露光マシンの概要図である。該例示
的実施例による投影露光マシンは本質的に既知である
（例えば、ドイツ国特許出願公開第DE1000226A1号参
照）ので、この構成は以下に簡単にのみ説明する。該マ
シンは、光源６、照明系７、レチクルとも呼ばれる構造
マスク８、縮小対物レンズとして設計された投影対物レ
ンズ１、及び特にウェファ９のような露光されるべき物
体を有している。例えばエキシマレーザを光源６として
使用することができる。照明系７に設けられるものは、
ビーム整形用、ビーム均一化用、並びに構造マスク８及
び投影対物レンズ１の正しい照明用の光学要素である。
露光されるべき上記物体は、フォトレジストで被覆され
たシリコンウェファ９であり得る。
を有するような投影露光マシンの概要図である。該例示
的実施例による投影露光マシンは本質的に既知である
（例えば、ドイツ国特許出願公開第DE1000226A1号参
照）ので、この構成は以下に簡単にのみ説明する。該マ
シンは、光源６、照明系７、レチクルとも呼ばれる構造
マスク８、縮小対物レンズとして設計された投影対物レ
ンズ１、及び特にウェファ９のような露光されるべき物
体を有している。例えばエキシマレーザを光源６として
使用することができる。照明系７に設けられるものは、
ビーム整形用、ビーム均一化用、並びに構造マスク８及
び投影対物レンズ１の正しい照明用の光学要素である。
露光されるべき上記物体は、フォトレジストで被覆され
たシリコンウェファ９であり得る。
【図１】図１は、半導体リソグラフィ用の投影露光マシ
ンの投影対物レンズを示す。
ンの投影対物レンズを示す。
【図２】図２は、本発明による投影対物レンズを有する
投影露光マシンの概要図である。
投影露光マシンの概要図である。
１：投影対物レンズ ２：レンズ ３：保持部 ４：内部空間 ５ａ：入口開口 ５ｂ：出口開口 ６：光源 ７：照明系 ８：構造マスク ９：露光されるべき物体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１５Ｄ ５１６Ｆ (71)出願人 500545919 Ｄ−89518 Ｈｅｉｄｅｎｈｅｉｍ ／ Ｇｅｒｍａｎｙ (72)発明者 ゲラルド リヒター ドイツ国 ディー−73433 アーレン−ホ ーフェン、 アム シュテーク ９ (72)発明者 ディーター シュメレク ドイツ国 ディー−73433 アーレン−ホ ーフェン、 ブルンネンヴィエセンヴェグ １／１ (72)発明者 ウヴェ シューベルト ドイツ国 ディー−73431 アーレン、 ケッテラーシュトラーセ 20 (72)発明者 マリア ヨハンナ アグネス ルビンヒ オランダ国 エヌエル−5642 エヌヴィ アインドホフェン、 プレジデント ライ ツラーン 36 (72)発明者 ウィレム ファン スハイク オランダ国 エヌエル−5231 ジーエルズ ヘルトヘンボッス、 ファイフデ ブル テンペパーズ ２ (72)発明者 シーベ ラントヒール オランダ国 エヌエル−5614 シーケー アインドホフェン、 シント フベルトウ ストラート 52 Ｆターム(参考） 2H044 AD00 AJ04 AJ06 2H087 KA21 NA09 NA17 5F046 AA22 BA03 CB12 CB25 DA12 DA27
Claims (16)
- 【請求項１】 対物レンズの少なくとも１つの閉じた内
部空間を気体洗浄するシステムにおいて、該気体洗浄が
少なくとも２つの不活性ガスを、混合の結果としての屈
折率が空気の屈折率に少なくとも略一致するように混合
することにより実施されること特徴とするシステム。 - 【請求項２】 請求項１に記載のシステムにおいて、空
気、又は７８〜８０体積パーセントの窒素（Ｎ２）及び
２０〜２２体積パーセントの酸素（Ｏ２）を有する合成
空気が供給されることを特徴とするシステム。 - 【請求項３】 請求項１に記載のシステムにおいて、前
記対物レンズが半導体リソグラフィ用の露光投影対物レ
ンズとして設けられることを特徴とするシステム。 - 【請求項４】 請求項１に記載のシステムにおいて、２
つの不活性気体洗浄ガスが使用される場合、第１気体洗
浄ガスの屈折率が空気の屈折率よりも高く、第２気体洗
浄ガスの屈折率が空気の屈折率よりも低いことを特徴と
するシステム。 - 【請求項５】 請求項４に記載のシステムにおいて、第
１気体洗浄ガスとして窒素が使用され、第２気体洗浄ガ
スとして不活性ガスが使用されることを特徴とするシス
テム。 - 【請求項６】 請求項４に記載のシステムにおいて、不
活性ガスとしてヘリウムが使用されることを特徴とする
システム。 - 【請求項７】 請求項４に記載のシステムにおいて、不
活性ガスとしてクリプトンが使用されることを特徴とす
るシステム。 - 【請求項８】 請求項４に記載のシステムにおいて、不
活性ガスとしてキセノンが使用されることを特徴とする
システム。 - 【請求項９】 請求項６に記載のシステムにおいて、９
５ないし９９．５％の体積分率の窒素と、０．５ないし
５％の体積分率のヘリウムとが使用されることを特徴と
するシステム。 - 【請求項１０】 請求項９に記載のシステムにおいて、
１．１ないし１．３％、好ましくは１．２％の体積分率
のヘリウムが使用されることを特徴とするシステム。 - 【請求項１１】 対物レンズの少なくとも１つの閉じた
内部空間を気体洗浄する方法において、少なくとも２つ
の不活性ガスの混合気が少なくとも１つの入口開口を介
して前記少なくとも１つの内部空間に導入され、前記混
合気の結果としての屈折率は空気の屈折率に少なくとも
略一致し、その後、前記混合気が前記内部空間から少な
くとも１つの出口開口を介して再び除去されることを特
徴とする方法。 - 【請求項１２】 対物レンズの少なくとも１つの閉じた
内部空間を気体洗浄する方法において、少なくとも２つ
の不活性ガスが少なくとも１つの入口開口を介して前記
内部空間へと、前記ガスの混合気から生じる屈折率が空
気の屈折率に少なくとも略一致するように通過され、そ
の後、前記混合気が少なくとも１つの出口開口を介して
除去されることを特徴とする方法。 - 【請求項１３】 請求項１１に記載の方法において、前
記対物レンズが半導体リソグラフィ用の投影対物レンズ
として設けられることを特徴とする方法。 - 【請求項１４】 請求項１２に記載の方法において、前
記対物レンズが半導体リソグラフィ用の投影対物レンズ
として設けられることを特徴とする方法。 - 【請求項１５】 半導体を製造するためのリソグラフィ
ック投影装置において、該リソグラフィック投影装置の
露光投影対物レンズの少なくとも１つの閉じた内部空間
を気体洗浄するために、少なくとも２つの不活性ガスの
混合気が、該混合気の結果としての屈折率が空気の屈折
率に少なくとも略一致するように供給されることを特徴
とするリソグラフィック投影装置。 - 【請求項１６】 露光投影対物レンズの助けにより微細
構造部品を製造する方法において、前記露光投影対物レ
ンズの少なくとも１つの閉じた内部空間が、少なくとも
２つの不活性ガスの混合気により、該混合気から生じる
屈折率が空気の屈折率に少なくとも略一致するように気
体洗浄されることを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (4)
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|---|---|---|---|
| DE10061480.9 | 2000-08-21 | ||
| DE10061480A DE10061480A1 (de) | 2000-12-08 | 2000-12-08 | System zum Spülen wenigstens eines Innenraumes eines Objektives |
| DE10145075.3 | 2001-09-13 | ||
| DE10145075A DE10145075A1 (de) | 2000-12-08 | 2001-09-13 | System zum Spülen wenigstens eines Innenraumes eines Objektives |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002260999A true JP2002260999A (ja) | 2002-09-13 |
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ID=26007923
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001361877A Pending JP2002260999A (ja) | 2000-12-08 | 2001-11-28 | 対物レンズの少なくとも１つの内部空間を気体洗浄するシステム |
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| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6825914B2 (ja) |
| JP (1) | JP2002260999A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US8446563B2 (en) | 2004-08-19 | 2013-05-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| CN105807567A (zh) * | 2014-12-29 | 2016-07-27 | 上海微电子装备有限公司 | 一种投影物镜倍率调整系统和方法 |
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| US20060126195A1 (en) * | 2002-08-08 | 2006-06-15 | Johannes Rau | Device for receiving an optical module in an imaging unit |
| DE10344178B4 (de) * | 2003-09-24 | 2006-08-10 | Carl Zeiss Smt Ag | Halte- und Positioniervorrichtung für ein optisches Element |
| US7085080B2 (en) * | 2003-12-06 | 2006-08-01 | Carl Zeiss Smt Ag | Low-deformation support device of an optical element |
| DE10359576A1 (de) * | 2003-12-18 | 2005-07-28 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zur Herstellung einer optischen Einheit |
| US7184123B2 (en) * | 2004-03-24 | 2007-02-27 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic optical system |
| DE102008000967B4 (de) | 2008-04-03 | 2015-04-09 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Mikrolithographie |
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| US5157555A (en) | 1991-12-04 | 1992-10-20 | General Electric Company | Apparatus for adjustable correction of spherical aberration |
| JPH05210049A (ja) | 1992-01-31 | 1993-08-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 投影レンズ倍率補正方法およびその装置 |
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-
2001
- 2001-11-28 JP JP2001361877A patent/JP2002260999A/ja active Pending
- 2001-12-07 US US10/020,561 patent/US6825914B2/en not_active Expired - Fee Related
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| US6825914B2 (en) | 2004-11-30 |
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| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20080117 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080701 |