JP2002260854A - 転写材料及び有機薄膜素子の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 生産性の高い湿式有機薄膜形成法による高分
子型有機EL素子の転写材料、及びそれを用いた有機薄膜
素子の製造方法を提供する。 【解決手段】 仮支持体111上に湿式法により青、緑及
び赤の３色の発光画素がパターニングされた有機薄膜層
112を設けてなる転写材料110を基板支持体101上の透明
導電層102の被成膜面に対面させ、転写材料110と被成膜
面とに挟まれた空間を減圧することにより両者を密着さ
せ、加熱した後仮支持体111を引き剥がし、青、緑及び
赤の３色の発光画素がパターニングされた有機薄膜層11
2を転写する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、有機EL素子等の有
機薄膜素子の有機薄膜層をパターニングするための転写
材料、及びかかる転写材料を使用する有機薄膜素子の製
造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】有機EL
素子等の有機発光素子は容易に面状発光素子に適用し得
るため、新たな光デバイスとして注目されている。具体
的には、固体発光型の安価な大面積フルカラー表示素子
や書きこみ光源アレイとしての用途が有望視され、多く
の開発が行なわれている。一般に有機発光素子は、発光
層及び前記発光層を挟んだ一対の対向電極（背面電極及
び透明電極）から構成されている。前記有機発光素子に
おいて、一対の対向電極間に電界が印加されると、有機
発光素子内に背面電極から電子が注入されるとともに、
透明電極から正孔が注入される。電子と正孔とが前記発
光層中で再結合し、エネルギー準位が伝導帯から価電子
帯に戻る際にエネルギーが光として放出され、発光す
る。

【０００３】有機EL素子の有機薄膜形成の多くは蒸着方
式により製造されている。カラー画像を得るためのパタ
ーニング方式も提案されている。たとえば、米国特許第
5294869号に示されるシャドウマスクを用いた方法があ
る。ところが、この方法は複雑な蒸着装置を必要とする
ため製造効率が悪く、またパターニングの位置精度も悪
い。

【０００４】この点を解決する手段として、特開平9-16
7684号は、マイカ仮基板上に予め有機層を均一に蒸着プ
ロセスで形成し、次いで基板と有機層を近接させ、パタ
ーン上に選択的に加熱蒸着する方式を提案している。ま
た特開2000-195665号は、フイルム仮基板に予め有機層
を均一に蒸着プロセスで形成し、次いでマスクを介して
基板と有機層を近接させ、マスクのパターン状に蒸着パ
ターンを形成する方式を提案している。これらの方式
は、蒸着源を仮基板に形成すること以外は、蒸着プロセ
スを用いる必要があるため、製造効率が悪く、また有機
薄膜用に低分子有機化合物しか使用できない。

【０００５】また緑色の発光を示すポリパラフェニレン
ビニレン（「ネイチャー」、347巻、539頁、1990年）、
赤橙色の発光を示すポリ（3-アルキルチオフェン）（ジ
ャパニーズ・ジャーナル・オブ・アプライド・フィジク
ス、30巻、L1938頁、1991年）、青色発光素子としてポ
リアルキルフルオレン（ジャパニーズ・ジャーナル・オ
ブ・アプライド・フィジクス、30巻、L1941頁、1991
年）等の高分子の発光薄膜や低分子化合物をバインダー
樹脂に分散させた発光薄膜を用いた高分子型素子も知ら
れている。これらの高分子型素子は大面積化に有利であ
り、またフレキシブルなディスプレイ用途として期待さ
れているが、有機発光薄膜の形成に蒸着プロセスを適応
できない。そのため、通常湿式法により薄膜形成が行わ
れている。

【０００６】高分子型素子の薄膜パターニング形成方法
として、インクジェット法や印刷法等が提案されてい
る。ところが、これらの方式では、湿式法のため溶液の
表面張力により有機薄膜の膜厚均一性が不十分であり、
また有機薄膜層を積層する場合に各有機薄膜層の界面で
溶解してしまうという問題がある。このため、この方法
により得られた有機薄膜素子は発光効率や素子耐久性に
劣るという問題があった。

【０００７】また有機発光素子の基板材料として、高分
子型素子と組み合わせたフレキシブルなディスプレイ用
途が期待されている。しかし酸素や水分に極めて弱いた
め、プラスチックフイルム製は今のところ実用化に不向
きであり、ガラス製が主流である。ところがプラスチッ
クフイルムに比べてガラスのハンドリングは困難である
ため、湿式塗布の生産性が悪いという問題点がある。

【０００８】その上、プラスチックフイルム製基板を用
いる場合、透明電極や薄膜トランジスターも基板上に積
層するので、単価が高いという問題もある。このような
基板上に有機薄膜層を塗布することは、歩留まりや経済
性の観点から不利である。このため、基板上への安価な
高分子型素子の薄膜パターニング方式が望まれている。

【０００９】WO 00/41893号は、有機薄膜と光熱変換層
を有するドナーシートを用いて、レーザにより所望のパ
ターンに熱転写する方式を提案している。ところがWO 0
0/41893号のような熱転写法の場合、有機薄膜層の接合
界面に気体の巻き込みの問題がある。有機薄膜層の界面
の状態により、有機EL素子の発光効率や耐久性、更に発
光面状の均一性が異なり、有機薄膜層の接合界面に気体
の巻き込みがあると、素子性能は悪化する。

【００１０】またプリント技術分野で利用されている熱
ヘッドやレーザを用いたパターン状の熱書き込みの場
合、熱拡散性によりパターンの周辺に温度分布が生じ
て、有機薄膜パターンの輪郭がきれいにドナー側から切
断されない。このため発光量のばらつきが生じたり、ま
た電気的不良や薄膜破片による欠陥が起こり、更に耐久
性も悪くなるという問題がある。また基板と熱ヘッドや
レーザとの位置合わせの不良により、歩留まり低下の問
題もある。

【００１１】従って本発明の目的は、生産性の高い湿式
有機薄膜形成法による高分子型有機EL素子の転写材料、
及びそれを用いた有機薄膜素子の製造方法を提供するこ
とである。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記目的に鑑み鋭意研究
の結果、本発明者は、青、緑及び赤の３原色の発光画素
をパターニングした有機薄膜層を仮支持体に湿式法によ
り塗布し、その有機薄膜層を基板の被成膜面に転写する
ことにより、効率良く有機薄膜素子を低コストで製造で
きることを発見し、本発明に想到した。

【００１３】すなわち、本発明の有機薄膜素子形成用の
転写材料は、仮支持体上に、湿式法により、青、緑及び
赤の３色の発光画素がパターニングされた有機薄膜層を
設けたことを特徴とする。

【００１４】また本発明の一実施例による有機薄膜素子
の製造方法は、仮支持体上に湿式法により青、緑及び赤
の３色の発光画素がパターニングされた有機薄膜層を設
けてなる転写材料を基板の被成膜面に対面させ、前記転
写材料を前記被成膜面に貼り合わせて密着させ、加熱し
た後前記仮支持体を引き剥がし、青、緑及び赤の３色の
発光画素がパターニングされた有機薄膜層を前記基板に
転写することを特徴とする。

【００１５】本発明の他の実施例による有機薄膜素子の
製造方法は、仮支持体上に湿式法により青、緑及び赤の
３色の発光画素がパターニングされた有機薄膜層を設け
てなる転写材料を基板の被成膜面に対面させ、前記転写
材料と前記被成膜面とに挟まれた空間を減圧することに
より両者を密着させ、加熱した後前記仮支持体を引き剥
がし、青、緑及び赤の３色の発光画素がパターニングさ
れた有機薄膜層を前記基板に転写することを特徴とす
る。

【００１６】

【発明の実施の形態】[1] 転写材料 (1) 仮支持体 本発明に使用する仮支持体は、化学的及び熱的に安定で
あって、可撓性を有する材料により構成されるべきであ
り、具体的にはフッ素樹脂［例えば４フッ化エチレン樹
脂（PTFE）、３フッ化塩化エチレン樹脂（PCTFE））、
ポリエステル（例えばポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレンナフタレート（PEN）］、ポリアリレート、
ポリカーボネート、ポリオレフィン（例えばポリエチレ
ン、ポリプロピレン）、ポリエーテルスルホン（PES）
等の薄いシート、又はこれらの積層体が好ましい。仮支
持体の厚さは１μｍ〜300μｍが適当であり、特に微細
パターン状の有機薄膜層を形成する場合、３μｍ〜20μ
ｍであるのが好ましい。

【００１７】(2) 仮支持体への有機薄膜層の形成 バインダーとして高分子化合物を含む有機薄膜層は、湿
式法により仮支持体に形成するのが好ましい。これに
は、有機薄膜層用材料を有機溶剤に所望の濃度に溶解
し、得られた溶液を仮支持体に塗布する。塗布法として
は、有機薄膜層の乾燥膜厚が200 nm以下で均一な膜厚分
布が得られれば特に制限はなく、スピンコート法、スク
リーン印刷法、グラビアコート法（例えばマイクログラ
ビアコート法）、ディップコート法、キャスト法、ダイ
コート法、ロールコート法、バーコート法、エクストロ
ージェンコート法、インクジェット塗布法等が挙げられ
る。中でも、パターニングに好ましいマイクログラビア
コート法及びインクジェット法が好ましい。

【００１８】また各色の発光性化合物を含有する塗布液
をマスクを介して順次所定のパターンに塗布することに
より、青、緑及び赤の３色の発光画素がパターニングさ
れた有機薄膜層を形成することもできる。マスクの材質
は限定的でないが、金属、ガラス、セラミック、耐熱性
樹脂等の耐久性があって安価なものが好ましい。またこ
れらの材料を組み合わせて使用することもできる。また
機械的強度及び有機薄膜層の発光画素のパターン精度の
観点から、マスクの厚さは２〜100μｍであるのが好ま
しく、５〜60μｍがより好ましい。

【００１９】[2] 有機薄膜素子の製造方法 (1) 第一の態様 図１及び図２は本発明の第一の態様による有機薄膜素子
の製造方法を実施するための装置を示す。この装置は、
基板支持体101と、その上に設けられた透明導電層102
と、透明導電層102を包囲するように基板支持体101上に
設けられたマスク枠103とを有する。マスク枠103には透
明導電層102と転写材料110との間の空間105に連通する
減圧孔104が設けられており、減圧孔104はパイプ115に
より真空装置（図示せず）に接続している。

【００２０】転写材料110は仮支持体111の片面に、青、
緑及び赤の３色の発光画素がパターニングされた有機薄
膜層112を有する。ロール113に巻かれた転写材料110を
巻き戻し、マスク枠103の上をそれに接するようにして
移動させる。これにより、転写材料110とマスク枠103及
び透明導電層102を有する基板支持体101とに挟まれた閉
空間105ができる（図１）。転写材料110がマスク枠103
に接した状態で真空装置を作動させると、閉空間105は
減圧状態になるため、転写材料110は透明導電層102に密
着し、図２に示す状態になる。この状態で、熱ヘッド等
により転写材料110の有機薄膜層112を加熱すると、有機
薄膜層112は透明導電層102に接着するので、仮支持体11
1を引き剥がし、さらにマスク枠103を取り外すと、透明
導電層102上に有機薄膜層112が形成された有機薄膜素子
が得られる（図４）。

【００２１】(2) 第二の態様 図３は本発明の第二の態様による有機薄膜素子の製造方
法を実施するための装置を示す。転写材料110の巻回用
ロール116を移動させる機構を有し、かつマスク枠103上
をそれと接するようにして、ロール116と同期して移動
し得る遮蔽板120を有する。基板支持体101上の透明導電
層102及びマスク枠103と、遮蔽板120と、転写材料110と
により包囲された空間は、マスク枠103に設けられた減
圧孔104に連通している。そのため第一の態様と同様に
前記空間を減圧することにより、転写材料110の有機薄
膜層112は透明導電層102に密着し、後は上記と同じ方法
で加熱し、仮支持体111を剥離することにより、透明導
電層102上に有機薄膜層112が連続面状に形成された積層
体が得られる。

【００２２】この方法では、転写材料110が小面積で透
明導電層102と接触するので、転写材料110の有機薄膜層
112と透明導電層102との間に空気が残留する恐れは非常
に小さくなる。

【００２３】(3) 剥離転写法 本発明は有機薄膜層の形成に剥離転写法を使用する。剥
離転写法は、加熱により有機薄膜層を軟化させて、下地
の透明導電層又は他の有機薄膜層に接着させた後、仮支
持体を剥離することにより有機薄膜層だけを残留させ
る、すなわち転写する方法である。加熱手段としては、
ラミネータ、赤外線ヒータ、レーザ、熱ヘッド等を利用
することができる。熱ヘッドとしては、例えばファース
トラミネータVA-400III（大成ラミネータ（株）製）や
熱転写プリント用の熱ヘッド等を用いることができる。
転写用の温度は特に限定的でなく、有機薄膜層の材質に
おいて変更することができるが、一般に40〜200℃が好
ましく、特に60〜150℃が好ましい。

【００２４】(4) 基板 図1に示すように、基板は基板支持体101とその上に形成
された透明導電層102とからなる。基板支持体101及び透
明導電層102の詳細は後述する。

【００２５】[3]有機薄膜層の例 (1) 単層の例 図４は本発明の方法により得られる有機薄膜素子の有機
薄膜層の一例を示す。この有機薄膜層112は、青色の発
光性有機化合物部分（青色の発光画素）121、緑色の発
光性有機化合物部分（緑色の発光画素）122、及び赤色
の発光性有機化合物部分（赤色の発光画素）123からな
る発光画素単位領域112ａが、透明導電層102の全面に均
一に形成されている。図４(b) に示すように、各発光画
素121〜123は帯状でも良いが、二次元的に格子状にする
こともできる。

【００２６】(2) 積層型有機薄膜層の層構成の例 本発明のパターニング済み転写材料から剥離転写した有
機薄膜層に組み合わせて、基板上に他の有機薄膜層を積
層することができる。他の有機薄膜層を積層する方法に
は制限はなく、基板上に湿式法により有機薄膜を塗布す
る方法を組み合わせて用いることもできるし、仮支持体
に均一面状の有機薄膜層を形成した後、基板への剥離転
写を行うことにより積層することもできる。あるいはパ
ターニングされた有機薄膜層の上に別の有機薄膜層を湿
式法により積層した転写材料を用いて、基板上に多層の
有機薄膜層を形成し、次いで仮支持体を剥離することに
より多層の有機薄膜層の転写を行うこともできる。また
これらの剥離転写を繰り返すことにより積層化しても良
い。その積層方法に制限はないが、隣接する２層の溶剤
溶解性が類似している場合、剥離転写を繰り返して積層
するのが好ましい。図５(a) 〜(d) は、このような多層
の有機薄膜層の構成例を示すが、これらに限定されるも
のではない。

【００２７】(a) 第一の例 図５(a) は本発明の方法により得られる有機薄膜層の別
の例を示す。この有機薄膜層310は、基板支持体301上の
透明導電層302の上面に、ホール輸送性有機薄膜層311、
発光性有機薄膜層312及び電子輸送性有機薄膜層313が形
成されたものである。この発光性有機薄膜層312は、
青、緑及び赤の発光画素312a，312b，312cからなる。

【００２８】ホール輸送性有機薄膜層311、発光性有機
薄膜層312及び電子輸送性有機薄膜層313の各々は仮支持
体を使用する剥離転写法により形成する。具体的には、
まず仮支持体の片面にホール輸送性有機薄膜層311を塗
布した第一の転写材料を使用して、透明導電層302の上
面にホール輸送性有機薄膜層311を剥離転写法により形
成し、次いで仮支持体の片面に発光性有機薄膜層312
（青、緑及び赤の発光画素312a，312b，312cを有するよ
うにパターニングする。）を塗布した第二の転写材料を
使用して、ホール輸送性有機薄膜層311の上面に発光性
有機薄膜層312を剥離転写法により形成し、最後に仮支
持体の片面に電子輸送性有機薄膜層313を塗布した第三
の転写材料を使用して、発光性有機薄膜層312の上面に
電子輸送性有機薄膜層313を剥離転写法により形成す
る。

【００２９】(b) 第二の例 図５(b) は本発明の方法により得られる有機薄膜層のさ
らに別の例を示す。この有機薄膜層320の層構成自体は
第一の例と同じであるが、製造方法が異なる。層構成に
関しては、有機薄膜層320は、基板支持体301上の透明導
電層302の上面に、ホール輸送性有機薄膜層321、発光性
有機薄膜層322及び電子輸送性有機薄膜層323が形成され
たものである。この発光性有機薄膜層322は、青、緑及
び赤の発光画素322a，322b，322cからなる。

【００３０】この例では、発光性有機薄膜層322だけ剥
離転写法により形成し、ホール輸送性有機薄膜層321及
び電子輸送性有機薄膜層323は湿式塗布法により形成す
る。具体的には、まず湿式塗布法によりホール輸送性有
機薄膜層321を透明導電層302の上面に形成し、次いで仮
支持体の片面に発光性有機薄膜層322（青、緑及び赤の
発光画素322a，322b，322cを有するようにパターニング
する。）を塗布した転写材料を使用して、ホール輸送性
有機薄膜層321の上面に発光性有機薄膜層322を剥離転写
法により形成し、最後に湿式塗布法により電子輸送性有
機薄膜層323を発光性有機薄膜層322の上面に形成する。

【００３１】(c) 第三の例 図５(c) は本発明の方法により得られる有機薄膜層のさ
らに別の例を示す。この有機薄膜層330の層構成自体は
第一の例と同じであるが、製造方法が異なる。層構成に
関しては、有機薄膜層330は、基板支持体301上の透明導
電層302の上面に、ホール輸送性有機薄膜層331、発光性
有機薄膜層332及び電子輸送性有機薄膜層333が形成され
たものである。この発光性有機薄膜層332は、青、緑及
び赤の発光画素332a，332b，332cからなる。

【００３２】ホール輸送性有機薄膜層331及び発光性有
機薄膜層332は仮支持体を使用する剥離転写法によりま
とめて形成し、電子輸送性有機薄膜層333は湿式塗布法
により形成する。具体的には、まず仮支持体の片面に湿
式塗布法によりホール輸送性有機薄膜層331を形成した
後で、その上に青、緑及び赤の発光画素332a，332b，33
2cを有するようにパターニングした発光性有機薄膜層33
2を形成することにより転写材料を作製し、この転写材
料を用いて剥離転写法によりホール輸送性有機薄膜層33
1及び発光性有機薄膜層332からなる有機薄膜層335を透
明導電層302の上面に形成し、次いで電子輸送性有機薄
膜層333を発光性有機薄膜層332の上面に湿式塗布法によ
り形成する。

【００３３】(d) 第四の例 図５(d) は本発明の方法により得られる有機薄膜層のさ
らに別の例を示す。この有機薄膜層340の層構成自体は
第一の例と同じであるが、製造方法が異なる。層構成に
関しては、有機薄膜層340は、基板支持体301上の透明導
電層302の上面に、ホール輸送性有機薄膜層341、発光性
有機薄膜層342及び電子輸送性有機薄膜層343が形成され
たものである。この発光性有機薄膜層342は、青、緑及
び赤の発光画素342a，342b，342cからなる。

【００３４】ホール輸送性有機薄膜層341は湿式塗布法
により形成し、発光性有機薄膜層342及び電子輸送性有
機薄膜層343は仮支持体を使用する剥離転写法によりま
とめて形成する。すなわち、ホール輸送性有機薄膜層34
1を湿式塗布法により透明導電層302の上面に形成し、次
いで仮支持体の片面に青、緑及び赤の発光画素342a，34
2b，342cを有するようにパターニングした発光性有機薄
膜層342を形成した後で、その上に電子輸送性有機薄膜
層343を湿式塗布法により形成することにより転写材料
を作製し、この転写材料を用いて剥離転写法によりホー
ル輸送性有機薄膜層341の上面に発光性有機薄膜層342及
び電子輸送性有機薄膜層343からなる有機薄膜層345を形
成する。

【００３５】[4] 有機薄膜素子の構成 有機薄膜素子の全体構成は、基板支持体上に透明導電層
／発光性有機薄膜層／背面電極、透明導電層／発光性有
機薄膜層／電子輸送性有機薄膜層／背面電極、透明導電
層／ホール輸送性有機薄膜層／発光性有機薄膜層／電子
輸送性有機薄膜層／背面電極、透明導電層／ホール輸送
性有機薄膜層／発光性有機薄膜層／背面電極、透明導電
層／発光性有機薄膜層／電子輸送性有機薄膜層／電子注
入層／背面電極、透明導電層／ホール注入層／ホール輸
送性有機薄膜層／発光性有機薄膜層／電子輸送性有機薄
膜層／電子注入層／背面電極等をこの順に積層した構
成、これらを逆に積層した構成等であってよい。発光性
有機薄膜層は燐光発光性化合物を含有し、通常、透明導
電層から発光が取り出される。各層に用いる化合物の具
体例については、例えば「月刊ディスプレイ」1998年10
月号別冊の「有機ELディスプレイ」（テクノタイムズ
社）等に記載されている。

【００３６】(1) 基板 (a) 基板支持体 基板支持体は、ジルコニア安定化イットリウム（YS
Z）、ガラス等の無機材料、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタ
レート等のポリエステルやポリスチレン、ポリカーボネ
ート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、アリル
ジグリコールカーボネート、ポリイミド、ポリシクロオ
レフィン、ノルボルネン樹脂、ポリ(クロロトリフルオ
ロエチレン)、テフロン（登録商標）、ポリテトラフル
オロエチレン−ポリエチレン共重合体等の高分子材料等
からなるものであってよい。基板支持体は単一材料で形
成しても、２種以上の材料で形成してもよい。中でも、
フレキシブルな有機薄膜素子を形成するためには高分子
材料が好ましく、耐熱性、寸法安定性、耐溶剤性、電気
絶縁性及び加工性に優れ、且つ低通気性及び低吸湿性で
あるポリエステル、ポリカーボネート、ポリエーテルス
ルホンや、ポリ(クロロトリフルオロエチレン)、テフロ
ン、ポリテトラフルオロエチレン−ポリエチレン共重合
体等のフッ素原子を含む高分子材料がより好ましい。

【００３７】基板支持体の形状、構造、大きさ等は有機
薄膜素子の用途及び目的に応じて適宜選択することがで
きる。形状は板状とするのが一般的である。構造は単層
構造であっても積層構造であってもよい。基板支持体は
単一の部材で形成しても、２以上の部材で形成してもよ
い。また、基板支持体は無色透明であっても有色透明で
あってもよいが、発光性有機薄膜層から発せられる光を
散乱又は減衰させることがない点で無色透明であるのが
好ましい。

【００３８】基板支持体の電極側の面、電極と反対側の
面又はその両方に透湿防止層（ガスバリア層）を設けて
もよい。透湿防止層を構成する材料としては窒化ケイ
素、酸化ケイ素等の無機物を用いるのが好ましい。透湿
防止層は高周波スパッタリング法等により成膜できる。
また、基板支持体には必要に応じてハードコート層やア
ンダーコート層を設けてもよい。

【００３９】(b) 透明導電層（透明電極） 透明導電層は有機化合物層にホール（正孔）を供給する
陽極としての機能を有するが、陰極として機能させるこ
ともできる。以下、透明導電層を陽極とする場合につい
て説明する。

【００４０】透明導電層の形状、構造、大きさ等は特に
制限されず、有機薄膜素子の用途及び目的に応じて適宜
選択することができる。透明導電層を形成する材料とし
ては、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、こ
れらの混合物等を用いることができ、好ましくは仕事関
数が４eV以上の材料を用いる。具体例としては、アンチ
モンをドープした酸化スズ（ATO）、フッ素をドープし
た酸化スズ（FTO）、半導性金属酸化物（酸化スズ、酸
化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムスズ（IT
O）、酸化亜鉛インジウム（IZO）等）、金属（金、銀、
クロム、ニッケル等）、これら金属と導電性金属酸化物
との混合物又は積層物、無機導電性物質（ヨウ化銅、硫
化銅等）、有機導電性材料（ポリアニリン、ポリチオフ
ェン、ポリピロール等）及びこれとITOとの積層物等が
挙げられる。

【００４１】透明導電層は印刷法、コーティング法等の
湿式方法、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ
ーティング法等の物理的方法、CVD、プラズマCVD法等の
化学的方法等によって基板支持体上に形成することがで
きる。形成方法は透明導電層材料との適性を考慮して適
宜選択すればよい。例えば、透明導電層の材料としてIT
Oを用いる場合には、直流又は高周波スパッタ法、真空
蒸着法、イオンプレーティング法等を用いればよい。ま
た透明導電層の材料として有機導電性材料を用いる場合
には、湿式製膜法を用いてよい。

【００４２】透明導電層のパターニングはフォトリソグ
ラフィー等による化学的エッチング、レーザ等を用いた
物理的エッチング等により行うことができる。またマス
クを用いた真空蒸着やスパッタリング、リフトオフ法、
印刷法等によりパターニングしてもよい。

【００４３】透明導電層の形成位置は有機薄膜素子の用
途及び目的に応じて適宜選択してよいが、基板支持体上
に形成するのが好ましい。このとき透明導電層は基板支
持体の表面全体に形成しても一部のみに形成してもよ
い。

【００４４】透明導電層の厚さはその材料に応じて適宜
選択すればよいが、通常10nm〜50μmであり、好ましく
は50nm〜20μmである。透明導電層の抵抗値は10³Ω／□
以下とするのが好ましく、10²Ω／□以下とするのがよ
り好ましい。透明導電層は無色透明であっても有色透明
であってもよい。透明導電層側から発光を取り出すため
には、その透過率は60％以上とするのが好ましく、70％
以上とするのがより好ましい。透過率は分光光度計を用
いた公知の方法に従って測定することができる。

【００４５】また、「透明導電膜の新展開」（沢田豊監
修、シーエムシー刊、1999年）等に詳細に記載されてい
る電極も本発明に適用できる。特に耐熱性の低いプラス
チック基板支持体を用いる場合は、透明導電層材料とし
てITO又はIZOを使用し、150℃以下の低温で製膜するの
が好ましい。

【００４６】(2) 背面電極 背面電極は有機化合物層に電子を注入する陰極としての
機能を有するが、陽極として機能させることもできる。
以下、背面電極を陰極とする場合について説明する。

【００４７】背面電極の形状、構造、大きさ等は特に制
限されず、有機薄膜素子の用途及び目的に応じて適宜選
択することができる。背面電極を形成する材料として
は、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、これ
らの混合物等を用いることができ、好ましくは仕事関数
が4.5eV以下の材料を用いる。具体例としては、アルカ
リ金属（Li、Na、K、Cs等）、アルカリ土類金属（Mg、C
a等）、金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム−カリ
ウム合金、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム
−銀合金、インジウム、希土類金属（イッテルビウム
等）等が挙げられる。これらは単独で使用してもよい
が、安定性と電子注入性とを両立させるためには２種以
上を併用するのが好ましい。これら材料の中で、電子注
入性の観点からはアルカリ金属及びアルカリ土類金属が
好ましく、保存安定性の観点からはアルミニウムを主体
とする材料が好ましい。ここでアルミニウムを主体とす
る材料とは、アルミニウム単独、アルミニウムと0.01〜
10質量％のアルカリ金属又はアルカリ土類金属との合金
又は混合物（リチウム−アルミニウム合金、マグネシウ
ム−アルミニウム合金等）を指す。背面電極の材料とし
ては、特開平2-15595号、特開平5-121172号等に詳述さ
れているものも使用できる。

【００４８】背面電極は印刷法、コーティング法等の湿
式方法、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレー
ティング法等の物理的方法、CVD、プラズマCVD法等の化
学的方法等によって形成することができる。形成方法は
背面電極材料との適性を考慮して適宜選択すればよい。
例えば、背面電極の材料として２種以上の金属等を用い
る場合には、その材料を同時又は順次にスパッタして形
成できる。

【００４９】背面電極のパターニングはフォトリソグラ
フィー等による化学的エッチング、レーザ等を用いた物
理的エッチング等により行うことができる。また、マス
クを用いた真空蒸着やスパッタリング、リフトオフ法、
印刷法等によりパターニングしてもよい。

【００５０】背面電極の形成位置は有機薄膜素子の用途
及び目的に応じて適宜選択してよいが、有機化合物層上
に形成するのが好ましい。このとき背面電極は有機化合
物層の表面全体に形成しても一部のみに形成してもよ
い。また、背面電極と有機化合物層との間にアルカリ金
属又はアルカリ土類金属のフッ化物等からなる誘電体層
を0.1〜５nmの厚さで設置してもよい。誘電体層は真空
蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等
により形成することができる。

【００５１】背面電極の厚さはその材料に応じて適宜選
択すればよいが、通常10nm〜５μmであり、好ましくは5
0nm〜１μmである。背面電極は透明であっても不透明で
あってもよい。透明背面電極は、上述した材料の層を１
〜10nmの厚さに薄く製膜し、更にITOやIZO等の透明導電
性材料を積層して形成してよい。

【００５２】(3) 発光性有機薄膜層 発光性有機薄膜層は少なくとも一種の発光性化合物を含
有する。発光性化合物は特に限定的ではなく、蛍光発光
性化合物であっても燐光発光性化合物であってもよい。
また蛍光発光性化合物及び燐光発光性化合物を同時に用
いてもよい。本発明においては、発光輝度及び発光効率
の点から燐光発光性化合物を用いることが好ましい。

【００５３】蛍光発光性化合物としては、ベンゾオキサ
ゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ベンゾチア
ゾール誘導体、スチリルベンゼン誘導体、ポリフェニル
誘導体、ジフェニルブタジエン誘導体、テトラフェニル
ブタジエン誘導体、ナフタルイミド誘導体、クマリン誘
導体、ペリレン誘導体、ペリノン誘導体、オキサジアゾ
ール誘導体、アルダジン誘導体、ピラリジン誘導体、シ
クロペンタジエン誘導体、ビススチリルアントラセン誘
導体、キナクリドン誘導体、ピロロピリジン誘導体、チ
アジアゾロピリジン誘導体、スチリルアミン誘導体、芳
香族ジメチリデン化合物、金属錯体（8-キノリノール誘
導体の金属錯体、希土類錯体等）、高分子発光性化合物
（ポリチオフェン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリ
フェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体等）
等が使用できる。これらは単独で用いても二種以上を混
合して用いてもよい。

【００５４】燐光発光性化合物は、好ましくは三重項励
起子から発光することができる化合物であり、オルトメ
タル化錯体及びポルフィリン錯体が好ましい。ポルフィ
リン錯体の中ではポルフィリン白金錯体が好ましい。燐
光発光性化合物は単独で使用しても２種以上を併用して
もよい。

【００５５】本発明でいうオルトメタル化錯体とは、山
本明夫著「有機金属化学 基礎と応用」, 150頁及び232
頁, 裳華房社（1982年）、H. Yersin著「Photochemistr
y and Photophysics of Coordination Compounds」, 71
〜77頁及び135〜146頁, Springer-Verlag社（1987年）
等に記載されている化合物群の総称である。オルトメタ
ル化錯体を形成する配位子は特に限定されないが、2-フ
ェニルピリジン誘導体、7,8-ベンゾキノリン誘導体、2-
(2-チエニル)ピリジン誘導体、2-(1-ナフチル)ピリジン
誘導体又は2-フェニルキノリン誘導体であるのが好まし
い。これら誘導体は置換基を有してもよい。また、これ
らのオルトメタル化錯体形成に必須の配位子以外に他の
配位子を有していてもよい。オルトメタル化錯体を形成
する中心金属としては、遷移金属であればいずれも使用
可能であり、本発明ではロジウム、白金、金、イリジウ
ム、ルテニウム、パラジウム等を好ましく用いることが
できる。このようなオルトメタル化錯体を含む有機化合
物層は、発光輝度及び発光効率に優れている。オルトメ
タル化錯体については、特願2000-254171号の段落番号0
152〜0180にもその具体例が記載されている。

【００５６】本発明で用いるオルトメタル化錯体は、In
org. Chem., 30, 1685, 1991、Inorg. Chem., 27, 346
4, 1988、Inorg. Chem., 33, 545, 1994、Inorg. Chim.
Acta, 181, 245, 1991、J. Organomet. Chem., 335, 2
93, 1987、J. Am. Chem. Soc., 107, 1431, 1985 等に
記載の公知の手法で合成することができる。

【００５７】発光性有機薄膜層中の発光性化合物の含有
量は特に制限されないが、例えば0.1〜70質量％であ
り、１〜20質量％であるのが好ましい。発光性化合物の
含有量が0.1質量％未満であるか、70質量％を超える
と、その効果が十分に発揮されない場合がある。

【００５８】発光性有機薄膜層は必要に応じてホスト化
合物、ホール輸送材料、電子輸送材料、電気的に不活性
なポリマーバインダー等を含有してもよい。

【００５９】ホスト化合物とはその励起状態から発光性
化合物へエネルギー移動が起こり、その結果該発光性化
合物を発光させる化合物である。その具体例としては、
カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾー
ル誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導
体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、
ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリー
ルアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリル
アントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン
誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第
三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメ
チリデン化合物、ポルフィリン化合物、アントラキノジ
メタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘
導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘
導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラ
ジン誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカル
ボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、8-キノリノール
誘導体の金属錯体、メタルフタロシアニン、ベンゾオキ
サゾールやベンゾチアゾール等を配位子とする金属錯
体、ポリシラン化合物、ポリ(N-ビニルカルバゾール)誘
導体、アニリン共重合体、チオフェンオリゴマー、ポリ
チオフェン等の導電性高分子、ポリチオフェン誘導体、
ポリフェニレン誘導体、ポリフェニレンビニレン誘導
体、ポリフルオレン誘導体等が挙げられる。ホスト化合
物は１種単独で使用しても２種以上を併用してもよい。

【００６０】ホール輸送材料は陽極からホールを注入す
る機能、ホールを輸送する機能、及び陰極から注入され
た電子を障壁する機能のいずれかを有しているものであ
れば特に限定されず、低分子材料であっても高分子材料
であってもよい。その具体例としては、カルバゾール誘
導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキ
サジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリー
ルアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導
体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導
体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン
誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチ
ルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化
合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリデン化合
物、ポルフィリン化合物、ポリシラン化合物、ポリ(N-
ビニルカルバゾール)誘導体、アニリン共重合体、チオ
フェンオリゴマー、ポリチオフェン等の導電性高分子、
ポリチオフェン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリフ
ェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体等が挙
げられる。これらは単独で使用しても２種以上を混合し
て使用してもよい。

【００６１】電子輸送材料は陰極から電子を注入する機
能、電子を輸送する機能、及び陽極から注入されたホー
ルを障壁する機能のいずれかを有しているものであれば
特に限定されず、例えばトリアゾール誘導体、オキサゾ
ール誘導体、オキサジアゾール誘導体、フルオレノン誘
導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導
体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘
導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン
誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレンペリレ
ン等の複素環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン
誘導体、8-キノリノール誘導体の金属錯体、メタロフタ
ロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾール等
を配位子とする金属錯体、アニリン共重合体、チオフェ
ンオリゴマー、ポリチオフェン等の導電性高分子、ポリ
チオフェン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリフェニ
レンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体等が使用可
能である。

【００６２】ポリマーバインダーとしては、ポリ塩化ビ
ニル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメ
タクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリエステ
ル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリブタ
ジエン、炭化水素樹脂、ケトン樹脂、フェノキシ樹脂、
ポリアミド、エチルセルロース、酢酸ビニル、ABS樹
脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、不飽和ポリエステ
ル、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、ポリ
ビニルブチラール、ポリビニルアセタール等が使用可能
である。ポリマーバインダーを含有する発光性有機薄膜
層は、湿式製膜法によって、容易に且つ大面積に塗布形
成することができる。

【００６３】発光性有機薄膜層の厚さは10〜200nmとす
るのが好ましく、20〜80nmとするのがより好ましい。厚
さが200nmを超えると駆動電圧が上昇する場合があり、1
0nm未満であると有機薄膜素子が短絡する場合がある。

【００６４】(4) ホール輸送性有機薄膜層 有機薄膜素子は、必要に応じて上述したホール輸送材料
からなるホール輸送性有機薄膜層を有してよい。ホール
輸送性有機薄膜層は上述のポリマーバインダーを含有し
てもよい。ホール輸送性有機薄膜層の厚さは10〜200nm
とするのが好ましく、20〜80nmとするのがより好まし
い。厚さが200nmを越えると駆動電圧が上昇する場合が
あり、10nm未満であると有機薄膜素子が短絡する場合が
ある。

【００６５】(5) 電子輸送性有機薄膜層 有機薄膜素子は、必要に応じて上述した電子輸送材料か
らなる電子輸送性有機薄膜層を有してよい。電子輸送性
有機薄膜層は上述のポリマーバインダーを含有してもよ
い。電子輸送性有機薄膜層の厚さは10〜200nmとするの
が好ましく、20〜80nmとするのがより好ましい。厚さが
200nmを越えると駆動電圧が上昇する場合があり、10nm
未満であると有機薄膜素子が短絡する場合がある。

【００６６】(6) その他の層 有機薄膜素子は、特開平7-85974号、同7-192866号、同8
-22891号、同10-275682号、同10-106746号等に記載の保
護層を有していてもよい。保護層は有機薄膜素子の最上
面に形成する。ここで最上面とは、基板支持体、透明導
電層、有機化合物層及び背面電極をこの順に積層する場
合には背面電極の外側表面を指し、基板支持体、背面電
極、有機化合物層及び透明導電層をこの順に積層する場
合には透明導電層の外側表面を指す。保護層の形状、大
きさ、厚さ等は特に限定されない。保護層をなす材料
は、水分や酸素等の有機薄膜素子を劣化させ得るものが
素子内に侵入又は透過するのを抑制する機能を有してい
るものであれば特に限定されず、酸化ケイ素、二酸化ケ
イ素、酸化ゲルマニウム、二酸化ゲルマニウム等が使用
できる。

【００６７】保護層の形成方法は特に限定はなく、例え
ば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリン
グ法、分子センエピタキシ法、クラスターイオンビーム
法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、プラズ
マCVD法、レーザCVD法、熱CVD法、コーティング法等が
適用できる。

【００６８】また有機薄膜素子には水分や酸素の侵入を
防止するための封止層を設けるのが好ましい。封止層を
形成する材料としては、テトラフルオロエチレンと少な
くとも１種のコモノマーとの共重合体、共重合主鎖に環
状構造を有する含フッ素共重合体、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリメチルメタクリレート、ポリイミド、
ポリユリア、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロ
トリフルオロエチレン、ポリジクロロジフルオロエチレ
ン、クロロトリフルオロエチレン又はジクロロジフルオ
ロエチレンと他のコモノマーとの共重合体、吸水率１％
以上の吸水性物質、吸水率0.1％以下の防湿性物質、金
属（In、Sn、Pb、Au、Cu、Ag、Al、Tl、Ni等）、金属酸
化物（MgO、SiO、SiO₂、Al₂O₃、GeO、NiO、CaO、BaO、F
e₂O₃、Y₂O ₃、TiO₂等）、金属フッ化物（MgF₂、LiF、AlF
₃、CaF₂等）、液状フッ素化炭素（パーフルオロアルカ
ン、パーフルオロアミン、パーフルオロエーテル等）、
該液状フッ素化炭素に水分や酸素の吸着剤を分散させた
もの等が使用可能である。

【００６９】本発明においては、外部からの水分や酸素
を遮断する目的で、有機化合物層を封止板、封止容器等
の封止部材により封止する。本発明では、封止部材を背
面電極側のみに設置しても、発光積層体全体を封止部材
で覆ってもよい。有機化合物層を封止でき外部の空気を
遮断することができれば、封止部材の形状、大きさ、厚
さ等は特に限定されない。封止部材に用いる材料として
は、ガラス、ステンレス、金属（アルミ等）、プラスチ
ック（ポリ(クロロトリフルオロエチレン)、ポリエステ
ル、ポリカーボネート等）、セラミック等が使用でき
る。

【００７０】封止部材を発光積層体に設置する際には、
適宜封止剤（接着剤）を用いてよい。発光積層体全体を
封止部材で覆う場合は、封止剤を用いずに封止部材同士
を熱融着してもよい。封止剤としては紫外線硬化樹脂、
熱硬化樹脂、二液型硬化樹脂等が使用可能である。

【００７１】さらに本発明においては、封止容器と有機
薄膜素子の間の空間に水分吸収剤又は不活性液体を挿入
してもよい。水分吸収剤は特に限定されず、具体例とし
ては酸化バリウム、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸
化カルシウム、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸
マグネシウム、五酸化リン、塩化カルシウム、塩化マグ
ネシウム、塩化銅、フッ化セシウム、フッ化ニオブ、臭
化カルシウム、臭化バナジウム、モレキュラーシーブ、
ゼオライト、酸化マグネシウム等が挙げられる。不活性
液体としてはパラフィン類、流動パラフィン類、フッ素
系溶剤（パーフルオロアルカン、パーフルオロアミン、
パーフルオロエーテル等）、塩素系溶剤、シリコーンオ
イル類等が使用可能である。

【００７２】

【実施例】本発明を以下の実施例によりさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるも
のではない。

【００７３】実施例１ 仮支持体上におけるパターニングした発光性有機薄膜層
の形成 ポリビニルカルバゾール（Ｍｗ＝63000、アルドリッチ
社製）と、オルトメタル化錯体としてのトリス（2-フェ
ニルピリジン）イリジウム錯体とを40：１の重量比でジ
クロロエタンに溶解し、得られた塗布液を厚さ５μｍの
PETフィルム（帝人（株）製）からなる仮支持体にマイ
クログラビアコータを用いて塗布し、乾燥させることに
より、縦300μｍ及び横600μｍのパターン状で、厚さが
40 nmの青色発光層（発光画素）を得た。

【００７４】ポリビニルカルバゾール（Ｍｗ＝63000、
アルドリッチ社製）と、オルトメタル化錯体としてのト
リス（2-フェニルピリジン）イリジウム錯体とを40：１
の重量比でジクロロエタンに溶解した。得られた塗布液
を、上記仮支持体の表面で青色発光画素間の空隙の半分
の部分に、マイクログラビアコータを用いて塗布し、乾
燥させることにより、縦300μｍ及び横600μｍのパター
ン状で、厚さが40 nmの緑色発光層（発光画素）を得
た。

【００７５】ポリビニルカルバゾール（Ｍｗ＝63000、
アルドリッチ社製）と、オルトメタル化錯体としてのト
リス（2-フェニルピリジン）イリジウム錯体とを40：１
の重量比でジクロロエタンに溶解した。得られた塗布液
を、上記仮支持体表面の空隙部分にマイクログラビアコ
ータを用いて塗布し、乾燥させることにより、縦300μ
ｍ及び横600μｍのパターン状で、厚さが40 nmの赤色発
光層（発光画素）を得た。

【００７６】このようにして、仮支持体に青、緑及び赤
の発光画素をパターン状に形成した第一の転写材料を作
製した。

【００７７】実施例２ 仮支持体におけるホール輸送性有機薄膜層の作製 ポリビニルブチラール（Ｍｗ＝50000，アルドリッチ社
製）と下記一般式：

【化１】 により表される化合物とを10：20の重量比で、1-ブタノ
ールに溶解して得た塗布液を、厚さ５μｍのPETフィル
ム（帝人（株）製）からなる仮支持体にエクストルージ
ョン型塗布機を用いて塗布し、80℃で２時間真空乾燥さ
せることにより、厚さ60 nmのキャリア輸送層（電子輸
送性有機薄膜層）を仮支持体に形成した第二の転写材料
を作製した。

【００７８】実施例３ 有機EL素子の作製 基板支持体として厚さ0.5ｍｍで2.5ｃｍ角のガラス板を
用い、この基板支持体を真空チャンバー内に導入し、Sn
O₂含有率が10質量％のITOターゲット（インジウム：錫
＝95：５（モル比））を用いて、ＤＣマグネトロンスパ
ッタ（条件：基板支持体の温度250℃、酸素圧１×10^-3
Ｐａ）により、ITO薄膜（厚さ0.2μｍ）からなる透明電
極を形成した。ITO薄膜の表面抵抗は10Ω／□であっ
た。

【００７９】透明電極を形成したガラス板を洗浄容器に
入れ、イソプロピルアルコール(IPA)により洗浄した
後、これに酸素プラズマ処理を行った。処理した透明電
極の表面に、ポリ（エチレンジオキシチオフェン）・ポ
リスチレンスルホン酸の水性分散液（BAYER社製、Baytr
on P：固形分1.3質量％）をスピンコートした後、150℃
で２時間真空乾燥し、厚さ100 nmのキャリア輸送層（ホ
ール輸送性有機薄膜層）を形成した。

【００８０】得られたホール輸送性有機薄膜層上に、実
施例１で作製した第一の転写材料を用い、図３に示す装
置により第一の転写材料を透明導電層の表面に接触さ
せ、真空吸引により第一の転写材料と基板とを密着させ
た。第一の転写材料側から赤外線ランプで加熱し、仮支
持体を引き剥がすことにより、青、緑及び赤の発光画素
を有するパターニングされた発光性有機薄膜層を得た。

【００８１】この発光性有機薄膜層上に、実施例２で得
られた第二の転写材料を図３に示す装置により発光性有
機薄膜層の表面に接触させ、真空吸引により第二の転写
材料と発光性有機薄膜層とを密着させた後、第二の転写
材料側から赤外線ランプで加熱し、仮支持体を引き剥が
すことにより、発光性有機薄膜層上に電子輸送性有機薄
膜層を積層した。

【００８２】この電子輸送性有機薄膜層上にパターニン
グした蒸着用のマスク（発光面積が５ｍｍ×５ｍｍとな
るマスク）を設置し、蒸着装置内でマグネシウム：銀＝
10：１（モル比）を0.25μｍ蒸着し、銀を0.3μｍ蒸着
して背面電極を形成した。透明電極（陽極として機能す
る）及び背面電極よりそれぞれアルミニウムのリード線
を結線し、積層構造体を形成した。

【００８３】得られた積層構造体を、窒素ガスで置換し
たグローブボックス内に入れ、ガラス製の封止容器で紫
外線硬化型接着剤（長瀬チバ（株）製、XNR5493）を用
いて封止した。このようにして有機EL素子を作製した。

【００８４】得られた有機EL素子を以下の方法により評
価した。まずソースメジャーユニット2400型（東洋テク
ニカ（株）製）を用いて、直流電圧を有機EL素子に印加
し、発光させた。200 Cd/m²時の発光効率は1.2％であ
り、2000 Cd/m²時の発光効率は3.1％であった。

【００８５】

【発明の効果】上記の通り、本発明により有機薄膜素子
を構成する有機薄膜層を仮支持体に湿式法により塗布
し、その有機薄膜層を基板に転写することにより、発光
効率、発光量の均一性及び耐久性に優れた有機EL素子等
の有機薄膜素子を低コストで製造できる。特に青、緑及
び赤の３色の発光画素がパターニングされた有機薄膜層
を仮支持体に形成してなる転写材料を使用するので、フ
ルカラーの有機EL素子でも精度良く簡単に製造すること
ができる。また有機薄膜層を仮支持体に一旦湿式塗布し
てなる転写材料を採用しているので、有機薄膜層を非常
に薄膜化できるという利点もある。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の一実施例による有機薄膜素子の製造
方法を実施する装置を示し、(a) は概略断面図であり、
(b) はマスク枠及び透明導電層を示す平面図である。

【図２】 図１に示す方法において、基板と転写材料と
の間の閉空間を減圧した状態を示す概略断面図である。

【図３】 本発明の別の実施例による有機薄膜素子の製
造方法を実施する装置を示す概略断面図である。

【図４】 本発明の方法により得られる有機薄膜素子の
一例を示し、(a) は概略断面図であり、(b) は平面図で
ある。

【図５】 本発明の方法により得られる有機薄膜素子の
別の例を示す概略断面図である。

【符号の説明】

101，301・・・基板支持体 102，302・・・透明導電層 103・・・マスク枠 104・・・減圧孔 105，106・・・閉空間 110・・・転写材料 111・・・仮支持体 112，310，320，330，340・・・有機薄膜層 112a・・・発光単位領域 113，116・・・転写材料巻回用ロール 114・・・仮支持体巻回用ロール 115・・・パイプ 120・・・遮蔽板 121，312a，322a，332a，342a・・・青色の発光性有機
薄膜層（発光画素） 122，312b，322b，332b，342b・・・緑色の発光性有機
薄膜層（発光画素） 123，312c，322c，332c，342c・・・赤色の発光性有機
薄膜層（発光画素） 311，321，331，341・・・ホール輸送性有機薄膜層 312，322，332，342・・・発光性有機薄膜層 313，323，333，343・・・電子輸送性有機薄膜層

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 仮支持体上に、湿式法により、青、緑及
   び赤の３色の発光画素がパターニングされた有機薄膜層
   を設けたことを特徴とする転写材料。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の転写材料を基板の被成
   膜面に対面させ、前記転写材料を前記被成膜面に貼り合
   わせて密着させ、加熱した後前記仮支持体を引き剥が
   し、青、緑及び赤の３色の発光画素がパターニングされ
   た有機薄膜層を前記基板に転写することを特徴とする有
   機薄膜素子の製造方法。
3. 【請求項３】 請求項１に記載の転写材料を基板の被成
   膜面に対面させ、前記転写材料と前記被成膜面とに挟ま
   れた空間を減圧することにより両者を密着させ、加熱し
   た後前記仮支持体を引き剥がし、青、緑及び赤の３色の
   発光画素がパターニングされた有機薄膜層を前記基板に
   転写することを特徴とする有機薄膜素子の製造方法。