JP2002258587A - 画像形成装置 - Google Patents

画像形成装置

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JP2002258587A
JP2002258587A JP2001052990A JP2001052990A JP2002258587A JP 2002258587 A JP2002258587 A JP 2002258587A JP 2001052990 A JP2001052990 A JP 2001052990A JP 2001052990 A JP2001052990 A JP 2001052990A JP 2002258587 A JP2002258587 A JP 2002258587A
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Takahiro Nakase
貴大 中瀬
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ムラや罫線跡の発生が無く、カブリの発生や
濃度変化が起きにくい、良質な画像を高速に出力するこ
とができる高品質の画像形成装置を提供する。 【解決手段】 感光体1はa−Si感光体であり、露光
手段は、入射光束幅に対して狭い面で反射する回転多面
鏡により露光するオーバーフィルドスキャナ方式による
ものであり、かつ、画像明部に露光するバックエリア露
光により静電潜像を形成し、該像担持体と逆帯電極性ト
ナーで現像する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、シート等の記録媒
体上に画像を形成する機能を備えた、例えば、複写機、
プリンタ、あるいは、ファクシミリ装置などの画像形成
装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の画像形成装置として、多
くのデジタル画像形成装置は、画像暗部にレーザ露光を
行うIAE方式(イメージエリア露光、図12に示す)
を用いている。IAE方式で露光する理由は、光量を大
きくすることで線幅が太くでき、レーザ照射時間が短い
ためレーザの寿命が長いからである。
【0003】また、レーザ走査光学系には入射光束幅に
対してポリゴンミラーの面が広いUFS(アンダーフィ
ルドスキャナ、図9,10に示す)方式が、用いられて
いる。UFS方式はポリゴンミラーで反射するレーザ光
束幅が一定であるため、レーザ光量が長手方向で均一で
ある利点がある。
【0004】これらの理由から、従来の画像形成装置は
IAE方式のレーザ露光を、UFS方式のポリゴンミラ
ーを用いて行うことが多い。
【0005】しかし、画像形成装置の高速化に伴い、U
FSはポリゴンミラーが大きいため昇温や騒音が問題と
なってきた。
【0006】この対策としては、ポリゴンミラーの小さ
なOFS(オーバーフィルドスキャナ、図7,8に示
す)というものがある。
【0007】OFSは、入射光束幅に対してポリゴンミ
ラーの面が狭く、UFSと比較して小型であるため、発
熱、騒音を低く押さえることができ、立ち上がりも早
く、スポット径を小さくできるため、高速化、高精細化
に優れている。さらに図16,17に示すように、ポリ
ゴンミラーの面全体を使用できるOFSはポリゴンミラ
ー面の一部を使用するUFSに比べて有効走査角度が大
きいをいう利点がある(α<β)。
【0008】さらに、高耐久性であるa−Si感光体は
OFSとの相性が非常に良い。
【0009】このような背景から、最近の高速デジタル
画像形成装置ではIAE方式を、OFSを用いてa−S
i感光体で行っているものもある。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来技術の場合には、下記のような問題が生じて
いた。
【0011】OFSは図7、図8に示すように光束の一
部を使用して感光体へ照射するため、レーザがポリゴン
ミラーに入射する角度により反射される光束幅が異な
り、結果としてレーザ光量が長手方向で不均一である。
【0012】具体的には、図4に示すようにUFS方式
では感光体上の長手方向端部におけるレーザ光量は中央
部と比較してほとんど低下がないのに対し、OFS方式
では、中央部に対し端部側で5から10%程度レーザ光
量が低下するという欠点がある。
【0013】この対策として、レーザの光量を感光体の
長手方向中央部照射時には下げ、端部照射時には上げる
ようにレーザ光量を制御する方法や、ポリゴンミラーに
より走査された光線が感光体に照射されるまでのレンズ
やミラーにコートを施して中央部の光量を落とすという
方法がある。
【0014】しかし、精度を必要とするレーザ光量制御
やレーザ照射精度を上げる方法や特殊な形状のレンズを
用いる方法にはコストがかかる。レンズやミラーにコー
トを施す方法ではコストがかかる上に光量のロスが大き
く、レーザ光量が不足する場合がある。
【0015】また、ポリゴンミラーを用いて走査された
レーザ光によって作られる静電画像のレーザ露光部に
は、ポリゴンの回転周期や感光体の駆動ギアの回転周期
などで感光体ドラム周方向にピッチ状に電位ムラができ
る(図11)。
【0016】すなわち、該レーザ露光部を画像暗部とす
るIAE方式には画像暗部にピッチ状のムラや白線、黒
線がでるという欠点がある。
【0017】この対策としてはポリゴンミラーの面倒れ
等を減少し、感光体へのレーザ照射精度を上げる方法
や、感光体の周期ムラを防止するためフライホイールを
用いたり、駆動ギアの材質を変えたり、噛み合わせを変
えたりする方法や、現像コントラスト(VCONT)を高く
してトナーを多く乗せることでムラを目立たなくさせる
方法がある。
【0018】しかし、現像コントラストVCONT(=|画
像部電位VL−現像バイアスDC成分VDC|)を高くす
る方法はトナーの乗り量が増すために濃度が高くなりす
ぎ、飛び散りやトナー飛散、トナー消費量が多くなる。
さらに、罫線跡問題もあり不利である。
【0019】罫線跡現象はa−Si感光体においてIA
E方式でレーザ露光を行う場合に発生する。
【0020】具体的には図14,15に示すように、感
光体と同極性の転写残トナーがクリーニングブレード1
7やクリーニングマグローラ16等の転写残トナーを除
去するクリーニング手段と衝突する際に摩擦帯電でさら
にチャージアップし、トナーと同じ帯電極性をもつ感光
層を破壊してしまう。特に感光体周方向に伸びる罫線画
像などを大量に出力した場合には長手方向の、罫線画像
を出力した位置のみが著しく感光層が破壊される。そし
てその後の出力画像に感光層の破壊された位置が感光せ
ずに周方向に伸びる罫線の跡となって出てしまう現象を
罫線跡現象と言う。
【0021】本発明は上記の従来技術の課題を解決する
ためになされたもので、その目的とするところは、ムラ
や罫線跡の発生が無く、カブリの発生や濃度変化が起き
にくい、良質な画像を高速に出力することができる高品
質の画像形成装置を提供することにある。
【0022】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明にあっては、像担持体上に静電潜像を形成する
露光手段と、前記露光手段により像担持体上に形成され
た静電潜像を現像剤による現像手段により現像して得ら
れた現像画像を転写材に転写する画像形成手段と、を備
えた画像形成装置において、前記像担持体は、アモルフ
ァスシリコン(a−Si)感光体であり、前記露光手段
は、入射光束幅に対して狭い面で反射する回転多面鏡に
より露光するオーバーフィルドスキャナ方式によるもの
であり、かつ、画像明部に露光するバックエリア露光に
より静電潜像を形成するものであり、前記現像剤の帯電
極性は、前記像担持体の帯電極性と逆であることを特徴
とする。
【0023】前記像担持体の表面電位を検出する電位検
出手段と、前記現像手段に現像バイアスを印加する現像
バイアス電源と、前記電位検出手段による検出結果に応
じて前記現像バイアス電源により印加される現像バイア
スのDC成分値を制御する画像形成条件演算手段と、を
備え、前記画像形成条件演算手段は、前記現像バイアス
のDC成分値を、前記電位検出手段により検出された前
記像担持体の表面電位のうち前記露光手段により露光さ
れた露光部の電位に所定値を加えた値として算出するこ
とも好適である。
【0024】前記電位検出手段は、前記像担持体の画像
域長手方向端部以外の領域の電位を検出するように配設
され、前記画像形成条件演算手段は、前記露光手段によ
り照射される光量の特性に基づいて、前記電位検出手段
により検出された前記像担持体の表面電位から該像担持
体の画像域長手方向端部電位を予測して、予測した該端
部電位に所定値を加えた値として前記現像バイアスのD
C成分値を算出することも好適である。
【0025】前記画像形成条件演算手段は、検出または
予測された前記像担持体の画像域長手方向端部電位の絶
対値が所定の電位より大きいと判断した場合に、該端部
電位が前記所定の電位となるように前記露光手段が照射
する前記像担持体表面への光量を制御することも好適で
ある。
【0026】前記像担持体はポジ帯電であり、前記現像
剤はネガ帯電トナーであることも好適である。
【0027】
【発明の実施の形態】以下に図面を参照して、この発明
の好適な実施の形態を例示的に詳しく説明する。ただ
し、この実施の形態に記載されている構成部品の寸法、
材質、形状それらの相対配置などは、発明が適用される
装置の構成や各種条件により適宜変更されるべきもので
あり、この発明の範囲を以下の実施の形態に限定する趣
旨のものではない。
【0028】(実施の形態1)図1は、実施の形態1に
係る画像形成装置の要部の概略断面図である。本実施の
形態の特徴的な構成として、露光手段は、OFS方式の
ポリゴンミラーを用い、かつ、非レーザ露光部を画像暗
部とし、画像明部(白部)にレーザ露光を行うBAE
(バックエリア露光)方式(これを図2に示す)を用
い、ネガ帯電a−Si感光体にポジ帯電トナーで現像し
ている。
【0029】以下に、画像形成手段による画像形成動作
について概略説明する。
【0030】一次帯電装置2で一様に−500V(非露
光部電位VD)に帯電したa−Si感光体1に対し、露
光手段は、デジタル信号発生装置11及びレーザ12に
より画像情報に応じて変調を加えたレーザ光3を回転多
面鏡としてのポリゴンミラー13でOFS方式で感光体
1表面に投影して、BAE方式を用いてデジタル静電潜
像を形成する。
【0031】そして、前記デジタル静電潜像を現像手段
としての現像装置6でポジトナーを用いて現像バイアス
DC成分VDCを−250V印加することで正規現像し、
前記トナー像を転写装置7によって転写材10に転写
し、分離装置8で分離した後、不図示の定着装置で該ト
ナーを転写材10に定着し、画像として出力する。尚、
転写材10に転写されなかったトナーはクリーナ9によ
って除去される。
【0032】ここで、端部余白にレーザ照射が必要なB
AEでは、UFSに比べて走査域の広いOFSを用いる
ことは有利である。しかし、OFSは中央部に比べ端部
ではレーザ露光量が落ちるため、デジタル静電潜像が形
成された感光体1表面のレーザ露光部電位VLは、中央
部で−70V、端部で−100Vとなる。
【0033】画像明部にレーザ露光を行うBAE方式の
場合、出力画像明部のトナー付着による反射率低下量
(以後、カブリと呼ぶ)がある値以上にならないように
カブリコントラストVBACK(=|現像バイアスDC成分
DC−レーザ露光部電位VL|)の値を設定しなければ
ならない。このカブリは図3に示すようにカブリコント
ラストVBACKに依存する。
【0034】本実施の形態においては、図3に示すよう
に、ポリゴンミラーの走査ムラによる電位ムラも考慮に
入れて、カブリを2%以下に抑えるのに必要なカブリコ
ントラストVBACKは150Vである。
【0035】例えば、電位検出手段としての電位検出セ
ンサ4が感光体1表面の画像域長手方向中央部に設けら
れた場合には、電位検出センサ4はレーザ露光部電位V
Lを読み取り、画像形成条件演算手段としての画像形成
条件演算装置14は、カブリを2%に抑えるために必要
なカブリコントラストVBACK150Vを定数としてレー
ザ露光部電位VL(−70V)に加え現像バイアスDC
成分VDCを−220Vとする。
【0036】しかしながら、露光部電位VLは長手方向
で不均一なのに対し、現像バイアスDC成分VDCは均一
である。このため、端部でのカブリコントラストVBACK
は120V{=|VDC(−220)−VL(−100)
|}と減少してしまい、中央部においてのカブリは1.
5%であるが、端部では3.0%となってしまい2.0
%を超えてしまう(図3)。
【0037】そこで、画像形成条件演算装置14は、図
4に示すようなレーザ光量の分布に基づいて、端部の電
位を予測している。
【0038】すなわち、電位検出センサ4が読み取った
レーザ露光部電位VL−70Vに基づいて、端部の電位
を−100Vと予測する。そして、端部のカブリを2.
0%に抑えるために必要な定数として150Vを加え、
現像バイアスDC成分VDCを−250Vと決定すること
で、端部でもカブリを2%以内に抑えることが可能とな
る。
【0039】さらに、中央部に設けられた電位検出セン
サ4で読み取り予測した端部のレーザ露光部電位VL
または、端部に設けられた電位検出センサ4で読み取っ
た端部のレーザ露光部電位VLが、所定の電位(中央部
で−70V、端部で−100V)より低くなった場合に
は、画像形成条件演算装置14は端部のレーザ露光部電
位VLが前記の所定電位になるようにレーザ12の光量
を上げるように制御する。
【0040】また、画像形成条件演算装置14は、設定
されているカブリコントラストVBA CKが150Vよりも
小さくなった場合にレーザ光量の制御だけでなく、現像
バイアスDC成分VDCを制御してもよい。
【0041】現像バイアス電源としての現像バイアス制
御装置15が、画像形成条件演算装置14によりカブリ
コントラストVBACKを端部でも150Vを保つように電
像バイアスDC成分VDCを−250Vとして現像装置6
に印加することにより現像を行う。
【0042】これにより、ポリゴンミラーの走査ムラに
よるカブリの発生は2%以下にすることができ、画像明
部に走査ムラが発生することは無い。また、IAE方式
ではポリゴンミラーの走査ムラにより画像暗部に濃度ム
ラが出るが、BAE方式では画像暗部は一次帯電装置2
で一様に−500Vで帯電されており、画像暗部も濃度
ムラは発生しない。
【0043】さらに、スポット径を小さくできるOFS
方式を用いているので、高精細な画像を毎分50枚と高
速に出力することができる。
【0044】そして、耐久が進み、感光体1の帯電特
性、感光特性が変化して、非露光部電位VDが−490
V、レーザ露光部電位VLが−110Vになったとす
る。本制御によれば、カブリの発生を防ぐためにカブリ
コントラストVBACKを耐久前と同じ値150Vを用いる
ので、現像バイアスDC成分VDCは−260Vとなる。
【0045】耐久前の現像コントラストVCONTが250
V(=500−250)であったのに対し、耐久後の現
像コントラストVCONTは230V(=490−260)
である。図13に示すように現像コントラストVCONT
画像暗部の濃度を決定する重要なパラメータである。
【0046】ここで、一般的に多く使われているOPC
(有機感光体)について説明する。
【0047】OPC感光体は安価であるというメリット
があるが、耐久が進むに連れて帯電特性や感光特性が劣
化する事が多く、非露光部電位(VD)や露光部電位
(VL)に変化が起こる。
【0048】図6に一例として、OPC感光体にBAE
方式を用いた場合における耐久に伴う帯電特性と感光特
性の劣化現象を示す。
【0049】実線が帯電特性の劣化(画像暗部である非
露光部電位VDの低下)、破線が感光特性の劣化(画像
明部であるレーザ露光部電位VLの上昇)を示す。ま
た、画像明部へのトナーの付着(カブリ)を防止するた
めに現像バイアスDC成分は画像明部の電位より絶対値
を50V大きくしてあり、これを一点鎖線で示す。初期
には500Vあった現像コントラストVCONTが10万枚
耐久後には350Vまで低下することが図よりわかる。
【0050】このように、OPC感光体は、耐久による
電位の変化が非露光部電位VD、レーザ露光部電位VL
々で100V程あるが、a−Si感光体においては現像
コントラストVCONTの変化がほとんど無い。
【0051】すなわち、a−Si感光体を用いることに
より、耐久による画像濃度への影響をほとんどなくすこ
とができる。さらに、a−Si感光体におけるIAE方
式で感光体と同極性トナーを用いることにより発生する
罫線跡の問題は、本実施の形態のようにBAE方式で感
光体と逆極性のトナーを用いることにより、原理的に発
生することは全く無くなる。
【0052】以上のように本実施の形態によれば、画像
暗部にムラが無く、耐久によるカブリの発生や濃度変化
がおきにくく、罫線跡が出ずに良質な画像を高速に出力
することができる。
【0053】(実施の形態2)実施の形態2では、a−
Si感光体での帯電極性がポジでトナーの帯電極性がネ
ガである場合を説明する。なお、実施の形態1と同様の
構成部分については同一の符号を付して、その説明は省
略する。
【0054】a−Si感光体を用いる高速機ではその高
耐久性を活かすため、非接触であるコロナ放電方式を一
次帯電装置2、転写装置7および分離装置8などに用い
ることが有効である。
【0055】コロナ放電をする際に発生するオゾンによ
り生成されるNOX等の活性物質は感光体表面に堆積し
吸湿する。その結果として表面抵抗が下がり、表面電荷
が横方向に移動し、いわゆる画像流れが生ずるという問
題がある。このオゾンの発生量はポジ帯電に対してネガ
帯電で5倍程度発生するため、ポジ帯電a−Siにネガ
帯電トナーで現像する方が画像流れに対しては有利であ
る。
【0056】これにより、かぶりの発生、罫線跡、さら
に画像流れ防ぎ、高速に良質な画像を出力することがで
きる。
【0057】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
像担持体はa−Si感光体であり、露光手段は、入射光
束幅に対して狭い面で反射する回転多面鏡により露光す
るオーバーフィルドスキャナ方式によるものであり、か
つ、画像明部に露光するバックエリア露光により静電潜
像を形成し、像担持体と逆の帯電極性トナーにて現像す
るため、高精細な画像を高速に出力し、カブリ、および
画像暗部の走査ムラの発生を、コストを抑えて実現する
ことができる。さらに、罫線跡の発生もなく、耐久によ
る画像濃度への影響がほとんどない初期状態に近い良質
な画像を得ることができる。
【0058】また、電位検出手段による検出結果に応じ
て前記現像バイアス電源により印加される現像バイアス
のDC成分値を制御する画像形成条件演算手段を備えた
ので、カブリの発生、画像明部の走査ムラを防ぐことが
できる。
【0059】さらにポジ帯電a−Si感光体にBAEで
潜像形成し、ネガ帯電トナーにて正規現像をすること
で、画像流れも防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施の形態に係る画像形成装置の概略断面図。
【図2】BAE方式の露光部と画像部の相関図。
【図3】カブリラチチュードを示す図。
【図4】感光体表面に到達するレーザ光量の図(感光体
長手方向)。
【図5】BAE方式におけるVLムラの影響の図(感光
体周方向)。
【図6】OPC感光体の耐久に伴う帯電特性及び感光特
性の劣化の過程を示す図。
【図7】OFSへの入射光束幅と反射されるビーム光束
とミラー面幅の関係を示す図。
【図8】ポリゴンミラーが図7より回転した際のOFS
への入射光束幅と反射されるビーム光束との関係を示す
図。
【図9】UFSへの入射光束幅と反射されるビーム光束
とミラー面幅の関係を示す図。
【図10】ポリゴンミラーが図9より回転した際のUF
Sへの入射光束幅と反射されるビーム光束との関係を示
す図。
【図11】IAE方式におけるVLムラの影響の図(感
光体周方向)。
【図12】IAE方式の露光部と画像部の相関図。
【図13】VCONTと画像暗部濃度の相関図。
【図14】罫線跡発生メカニズムの説明図(周方向)。
【図15】罫線跡発生メカニズムの説明図(長手方
向)。
【図16】UFSの有効走査角度の図。
【図17】OFSの有効走査角度の図。
【符号の説明】
1 感光体 2 一次帯電装置 3 レーザ光 4 電位検出センサ 5 現像スリーブ 6 現像装置 7 転写装置 8 分離装置 9 クリーナ 10 転写材 11 デジタル信号発生装置 12 レーザ 13 ポリゴンミラー 14 画像形成条件演算装置 15 現像バイアス制御装置 16 クリーニングマグローラ 17 クリーニングブレード
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03G 15/08 502 H04N 1/29 H 2H077 H04N 1/113 B41J 3/00 D 5C072 1/29 H04N 1/04 104A 5C074 Fターム(参考) 2C362 AA54 AA56 AA63 AA66 BA05 CB59 CB80 2H027 DA02 DE07 EA02 EA05 EC06 EC07 EC20 ED04 ED09 EE07 EF09 2H068 DA00 2H073 AA03 AA05 BA04 BA13 BA23 2H076 AB05 AB12 DA06 DA21 2H077 AD06 AD36 DB08 DB13 DB14 EA00 5C072 AA03 BA03 BA18 HA02 HA13 HB04 HB20 5C074 AA09 BB03 BB26 CC22 CC26 DD08 EE20 GG11 GG12 HH02

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】像担持体上に静電潜像を形成する露光手段
    と、 前記露光手段により像担持体上に形成された静電潜像を
    現像剤による現像手段により現像して得られた現像画像
    を転写材に転写する画像形成手段と、 を備えた画像形成装置において、 前記像担持体は、アモルファスシリコン(a−Si)感
    光体であり、 前記露光手段は、入射光束幅に対して狭い面で反射する
    回転多面鏡により露光するオーバーフィルドスキャナ方
    式によるものであり、かつ、画像明部に露光するバック
    エリア露光により静電潜像を形成するものであり、 前記現像剤の帯電極性は、前記像担持体の帯電極性と逆
    であることを特徴とする画像形成装置。
  2. 【請求項2】前記像担持体の表面電位を検出する電位検
    出手段と、 前記現像手段に現像バイアスを印加する現像バイアス電
    源と、 前記電位検出手段による検出結果に応じて前記現像バイ
    アス電源により印加される現像バイアスのDC成分値を
    制御する画像形成条件演算手段と、を備え、 前記画像形成条件演算手段は、前記現像バイアスのDC
    成分値を、前記電位検出手段により検出された前記像担
    持体の表面電位のうち前記露光手段により露光された露
    光部の電位に所定値を加えた値として算出することを特
    徴とする請求項1に記載の画像形成装置。
  3. 【請求項3】前記電位検出手段は、前記像担持体の画像
    域長手方向端部以外の領域の電位を検出するように配設
    され、 前記画像形成条件演算手段は、前記露光手段により照射
    される光量の特性に基づいて、前記電位検出手段により
    検出された前記像担持体の表面電位から該像担持体の画
    像域長手方向端部電位を予測して、予測した該端部電位
    に所定値を加えた値として前記現像バイアスのDC成分
    値を算出することを特徴とする請求項2に記載の画像形
    成装置。
  4. 【請求項4】前記画像形成条件演算手段は、検出または
    予測された前記像担持体の画像域長手方向端部電位の絶
    対値が所定の電位より大きいと判断した場合に、該端部
    電位が前記所定の電位となるように前記露光手段が照射
    する前記像担持体表面への光量を制御することを特徴と
    する請求項2または3に記載の画像形成装置。
  5. 【請求項5】前記像担持体はポジ帯電であり、前記現像
    剤はネガ帯電トナーであることを特徴とする請求項1乃
    至4のいずれか1項に記載の画像形成装置。
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