JP2002258079A - ボード内光インターコネクション方法と装置 - Google Patents
ボード内光インターコネクション方法と装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 演算プロセッサ等の高速化・大容量化に必要
な配線容量を確保できる光インターコネクション方法及
びこの方法を用いた装置を提供する。 【解決手段】 特定の光波長を有する光源からの空間光
１０を、複合光導波路に設けた入力グレーティング７に
より複合光導波路を伝搬するスーパーモード光１２に結
合させ、主光導波路３に設けた反射グレーティング４に
より反射させると共に主光導波路３を伝搬する基本モー
ド導波光１３に結合させ、且つ、主光導波路３を伝搬す
る複数の波長の基本モード導波光１３の内、特定の波長
を有する基本モード導波光１３を、主光導波路３に設け
た反射グレーティング４により反射させると共に複合光
導波路を伝搬するスーパーモード光１２に結合させ、複
合光導波路に設けた出力グレーティング８により空間光
１１に結合させ、光検出器に入射させる。
な配線容量を確保できる光インターコネクション方法及
びこの方法を用いた装置を提供する。 【解決手段】 特定の光波長を有する光源からの空間光
１０を、複合光導波路に設けた入力グレーティング７に
より複合光導波路を伝搬するスーパーモード光１２に結
合させ、主光導波路３に設けた反射グレーティング４に
より反射させると共に主光導波路３を伝搬する基本モー
ド導波光１３に結合させ、且つ、主光導波路３を伝搬す
る複数の波長の基本モード導波光１３の内、特定の波長
を有する基本モード導波光１３を、主光導波路３に設け
た反射グレーティング４により反射させると共に複合光
導波路を伝搬するスーパーモード光１２に結合させ、複
合光導波路に設けた出力グレーティング８により空間光
１１に結合させ、光検出器に入射させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ボード上に配列し
た電子集積回路（ＩＣ）チップ間の接続を光配線で接続
する光インターコネクション技術に関する。
た電子集積回路（ＩＣ）チップ間の接続を光配線で接続
する光インターコネクション技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】情報技術（ＩＴ）が急進展する近年、演
算プロセッサの高速化・大容量化は極めて重要である
が、その性能向上は配線容量で律速され、その容量確保
が、電気配線を使用する現状技術の延長では困難となる
ことが予測されている。例えば、演算プロセッサとメモ
リーの間は、データーバスと呼ばれる電気配線で結合さ
れているが、演算プロセッサの高速化・大容量化のため
には、データバスの配線容量、すなわち、データーバス
を構成する配線本数を増やさなければならない。個々の
配線を微細化して、本数を増やす従来法では、電気配線
であるために、配線遅延、クロストーク、あるいは電気
信号の反射といった問題が顕著になり、限界が生じる。
算プロセッサの高速化・大容量化は極めて重要である
が、その性能向上は配線容量で律速され、その容量確保
が、電気配線を使用する現状技術の延長では困難となる
ことが予測されている。例えば、演算プロセッサとメモ
リーの間は、データーバスと呼ばれる電気配線で結合さ
れているが、演算プロセッサの高速化・大容量化のため
には、データバスの配線容量、すなわち、データーバス
を構成する配線本数を増やさなければならない。個々の
配線を微細化して、本数を増やす従来法では、電気配線
であるために、配線遅延、クロストーク、あるいは電気
信号の反射といった問題が顕著になり、限界が生じる。
【０００３】このような状況の中で、光は、伝搬速度が
大きく、同一空間を伝搬する光であっても波長が異なれ
ば分離できる、といった光超並列性を有するため、装置
間、電子集積回路（ＩＣ）チップを搭載したボード間、
又は、ＩＣチップ間の情報伝送を光によって行う、すな
わち、光インターコネクト技術がこの課題を解決する手
段として注目され、伝送距離の長い部分から開発・実用
化されている。例えば、装置間の光インターコネクト技
術の例として、面発光レーザー、マルチモードファイ
バ、及びフォトダイオードで構成した光モジュールがあ
る。この光モジュールは、伝送距離１００ｍ、チャネル
数１０以上で、転送速度Ｇｂｐｓから数十Ｇｂｐｓを実
現している。また、ＩＣチップを多数搭載したボード間
の光インターコネクト技術の例としては、これらのボー
ドを搭載するマザーボードに光導波路を形成し、ボード
間の情報の受け渡しを光信号で行う例がある。また、ボ
ード間の情報の受け渡しを、ボード上部に設けた光送信
部と光受信部を介した自由空間光で行う例もある。ま
た、ボード間の情報の受け渡しを、複数のボードの背後
に設けたホログラムとミラーを介した自由空間光で行う
例もある。
大きく、同一空間を伝搬する光であっても波長が異なれ
ば分離できる、といった光超並列性を有するため、装置
間、電子集積回路（ＩＣ）チップを搭載したボード間、
又は、ＩＣチップ間の情報伝送を光によって行う、すな
わち、光インターコネクト技術がこの課題を解決する手
段として注目され、伝送距離の長い部分から開発・実用
化されている。例えば、装置間の光インターコネクト技
術の例として、面発光レーザー、マルチモードファイ
バ、及びフォトダイオードで構成した光モジュールがあ
る。この光モジュールは、伝送距離１００ｍ、チャネル
数１０以上で、転送速度Ｇｂｐｓから数十Ｇｂｐｓを実
現している。また、ＩＣチップを多数搭載したボード間
の光インターコネクト技術の例としては、これらのボー
ドを搭載するマザーボードに光導波路を形成し、ボード
間の情報の受け渡しを光信号で行う例がある。また、ボ
ード間の情報の受け渡しを、ボード上部に設けた光送信
部と光受信部を介した自由空間光で行う例もある。ま
た、ボード間の情報の受け渡しを、複数のボードの背後
に設けたホログラムとミラーを介した自由空間光で行う
例もある。
【０００４】一方、ボード内の電子集積回路チップ間の
光配線は、伝送距離が短く、光の伝搬速度の優位性があ
まりないことからあまり注目されていない。しかしなが
ら、将来のペタＦＬＯＰＳの演算速度やテラｂｐｓのス
ループットを実現するためには、超並列演算プロセッサ
によるコンピュータシステムを必要とし、クロック周波
数を大きくする必要がある。しかしながら、クロック周
波数が数ＧＨｚを越えると、光であってもクロックあた
りの伝送距離がｃｍ程度となり、伝搬遅延時間差の問題
が生じる。光の超並列性を利用すれば、クロック周波数
をあまり大きくせずに、同等の演算速度を実現すること
ができ、伝搬遅延時間差の問題を緩和することができ
る。
光配線は、伝送距離が短く、光の伝搬速度の優位性があ
まりないことからあまり注目されていない。しかしなが
ら、将来のペタＦＬＯＰＳの演算速度やテラｂｐｓのス
ループットを実現するためには、超並列演算プロセッサ
によるコンピュータシステムを必要とし、クロック周波
数を大きくする必要がある。しかしながら、クロック周
波数が数ＧＨｚを越えると、光であってもクロックあた
りの伝送距離がｃｍ程度となり、伝搬遅延時間差の問題
が生じる。光の超並列性を利用すれば、クロック周波数
をあまり大きくせずに、同等の演算速度を実現すること
ができ、伝搬遅延時間差の問題を緩和することができ
る。
【０００５】ボード内のＩＣチップ間を光配線する方法
には、電気→光変換素子であるＥ／Ｏ素子と、光→電気
変換素子であるＯ／Ｅ素子と、ＩＣとからなるＭＣＭ
（マルチチップ・モジュール）を基本単位とし、ボード
上に配列した複数のＭＣＭ間を光配線する方法がある。
この方法においては、Ｅ／Ｏ素子及びＯ／Ｅ素子の光入
出力方向は、一般に、ＭＣＭの表面に垂直方向である。
このため、ボード面に配列したＭＣＭのＥ／Ｏ素子部分
において、Ｅ／Ｏ素子からの発光を９０°曲げてボード
面に沿った方向に伝搬させること（以後、アドと呼
ぶ）、また、Ｏ／Ｅ素子部分において、ボード面に沿っ
て伝搬してきた光を９０°曲げてＯ／Ｅ素子に入射させ
ること（以後、ドロップと呼ぶ）が必要である。
には、電気→光変換素子であるＥ／Ｏ素子と、光→電気
変換素子であるＯ／Ｅ素子と、ＩＣとからなるＭＣＭ
（マルチチップ・モジュール）を基本単位とし、ボード
上に配列した複数のＭＣＭ間を光配線する方法がある。
この方法においては、Ｅ／Ｏ素子及びＯ／Ｅ素子の光入
出力方向は、一般に、ＭＣＭの表面に垂直方向である。
このため、ボード面に配列したＭＣＭのＥ／Ｏ素子部分
において、Ｅ／Ｏ素子からの発光を９０°曲げてボード
面に沿った方向に伝搬させること（以後、アドと呼
ぶ）、また、Ｏ／Ｅ素子部分において、ボード面に沿っ
て伝搬してきた光を９０°曲げてＯ／Ｅ素子に入射させ
ること（以後、ドロップと呼ぶ）が必要である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従来のＭＣＭ間の光配
線の例には、図６に示したものがある。図６（Ａ）は、
ＭＣＭ間の相互の接続をプリズムを介して光結合する例
を示している。この例では、光の進行方向を９０°曲げ
るためにバルク型のプリズムを使用しているが、個別部
品を後付するため、製造工程が複雑化し、また振動によ
って脱落しやすく、信頼性も低い。また、図６（Ｂ）
は、光導波路を形成したボードの表面にＭＣＭを搭載
し、これらのＭＣＭのＥ／Ｏ及びＯ／Ｅ間をボード表面
に形成した光導波路を介して光結合する例を示してい
る。この例では、光の進行方向を９０°曲げるために、
曲がり光導波路を使用しているが、光導波路の曲がり部
分の放射損失が大きく、また、光配線用ボード上に、深
さ方向で曲がる光導波路を形成することは、プロセス
上、容易ではない。
線の例には、図６に示したものがある。図６（Ａ）は、
ＭＣＭ間の相互の接続をプリズムを介して光結合する例
を示している。この例では、光の進行方向を９０°曲げ
るためにバルク型のプリズムを使用しているが、個別部
品を後付するため、製造工程が複雑化し、また振動によ
って脱落しやすく、信頼性も低い。また、図６（Ｂ）
は、光導波路を形成したボードの表面にＭＣＭを搭載
し、これらのＭＣＭのＥ／Ｏ及びＯ／Ｅ間をボード表面
に形成した光導波路を介して光結合する例を示してい
る。この例では、光の進行方向を９０°曲げるために、
曲がり光導波路を使用しているが、光導波路の曲がり部
分の放射損失が大きく、また、光配線用ボード上に、深
さ方向で曲がる光導波路を形成することは、プロセス
上、容易ではない。
【０００７】また、図６（Ｃ）は、ボードに搭載したＭ
ＣＭの表面を平坦な透明光学媒質で覆い、光学媒質上に
導波路を形成し、導波路の端面を斜めに形成したミラー
によって、光の進行方向を９０°曲げてＭＣＭ間の光配
線を行う例を示している。この例では、光導波路端面を
斜めに形成しなければならず、十分制御された角度で、
再現性良く形成することは難しい。これらの従来技術に
おいては、光の進行方向を９０°曲げるために、すなわ
ち、光アド及び光ドロップを行うために、プリズム等の
個別部品を搭載したり、曲がり光導波路を形成したり、
光導波路端面を斜めに形成したりするので、製造工程が
複雑化し、製造歩留りが低く、また、信頼性に欠けると
いった課題がある。また、これらの従来例においては、
比較的容易にかつ歩止まり良く作製するために、多モー
ド光導波路を用いている。このため光導波路の幅が大き
く、光導波路の集積度を上げることができない。また、
従来の光導波路を用いる光インターコネクション技術に
おいては、任意の波長の光を選択してアド及びドロップ
する機能を有していない。このため光の超並列性を活用
した波長多重ができず、従って高容量の光配線は不可能
である。
ＣＭの表面を平坦な透明光学媒質で覆い、光学媒質上に
導波路を形成し、導波路の端面を斜めに形成したミラー
によって、光の進行方向を９０°曲げてＭＣＭ間の光配
線を行う例を示している。この例では、光導波路端面を
斜めに形成しなければならず、十分制御された角度で、
再現性良く形成することは難しい。これらの従来技術に
おいては、光の進行方向を９０°曲げるために、すなわ
ち、光アド及び光ドロップを行うために、プリズム等の
個別部品を搭載したり、曲がり光導波路を形成したり、
光導波路端面を斜めに形成したりするので、製造工程が
複雑化し、製造歩留りが低く、また、信頼性に欠けると
いった課題がある。また、これらの従来例においては、
比較的容易にかつ歩止まり良く作製するために、多モー
ド光導波路を用いている。このため光導波路の幅が大き
く、光導波路の集積度を上げることができない。また、
従来の光導波路を用いる光インターコネクション技術に
おいては、任意の波長の光を選択してアド及びドロップ
する機能を有していない。このため光の超並列性を活用
した波長多重ができず、従って高容量の光配線は不可能
である。
【０００８】上記課題に鑑み本発明は、光導波路の集積
度が高く、任意の波長の光を選択してアド及びドロップ
ができ、光の超並列性を生かした波長多重ができ、した
がって、演算プロセッサ等の高速化・大容量化に必要な
配線容量を確保でき、かつ、製造工程が複雑化せず、信
頼性が高い光インターコネクション方法を提供すること
を一目的している。また、本発明の他の目的は、この方
法による光インターコネクション装置を提供することに
ある。
度が高く、任意の波長の光を選択してアド及びドロップ
ができ、光の超並列性を生かした波長多重ができ、した
がって、演算プロセッサ等の高速化・大容量化に必要な
配線容量を確保でき、かつ、製造工程が複雑化せず、信
頼性が高い光インターコネクション方法を提供すること
を一目的している。また、本発明の他の目的は、この方
法による光インターコネクション装置を提供することに
ある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明のボード内光インターコネクション方法は、
特定の光波長を有する光源からの空間光を、複合光導波
路に設けた入力グレーティングにより複合光導波路を伝
搬するスーパーモード光に結合させ、主光導波路に設け
た反射グレーティングにより反射させると共に主光導波
路を伝搬する基本モード導波光に結合させ、及び、主光
導波路を伝搬する複数の波長の基本モード導波光の内、
特定の波長を有する基本モード導波光を、主光導波路に
設けた反射グレーティングにより反射させると共に複合
光導波路を伝搬するスーパーモード光に結合させ、複合
光導波路に設けた出力グレーティングにより空間光に結
合させ、光検出器に入射させることを特徴とする。この
構成によれば、反射グレーティングの波長選択性と、基
本モード導波光及びスーパーモード光の伝搬定数の離散
性から、主光導波路を伝搬する特定の波長の基本モード
導波光のみをスーパーモード光に反射結合させ、他の波
長の基本モード導波光をそのまま主光導波路を伝搬させ
ることが可能となり、波長アド、ドロップ機能が実現で
きる。また、入出力グレーティング層での基本モード導
波光の界は小さく、グレーティング層でのスーパーモー
ド光の界は大きいので、入出力グレーティングは基本モ
ード導波光にはほとんど影響を及ぼさず、スーパーモー
ド光のみを空間光と結合することが可能である。
に、本発明のボード内光インターコネクション方法は、
特定の光波長を有する光源からの空間光を、複合光導波
路に設けた入力グレーティングにより複合光導波路を伝
搬するスーパーモード光に結合させ、主光導波路に設け
た反射グレーティングにより反射させると共に主光導波
路を伝搬する基本モード導波光に結合させ、及び、主光
導波路を伝搬する複数の波長の基本モード導波光の内、
特定の波長を有する基本モード導波光を、主光導波路に
設けた反射グレーティングにより反射させると共に複合
光導波路を伝搬するスーパーモード光に結合させ、複合
光導波路に設けた出力グレーティングにより空間光に結
合させ、光検出器に入射させることを特徴とする。この
構成によれば、反射グレーティングの波長選択性と、基
本モード導波光及びスーパーモード光の伝搬定数の離散
性から、主光導波路を伝搬する特定の波長の基本モード
導波光のみをスーパーモード光に反射結合させ、他の波
長の基本モード導波光をそのまま主光導波路を伝搬させ
ることが可能となり、波長アド、ドロップ機能が実現で
きる。また、入出力グレーティング層での基本モード導
波光の界は小さく、グレーティング層でのスーパーモー
ド光の界は大きいので、入出力グレーティングは基本モ
ード導波光にはほとんど影響を及ぼさず、スーパーモー
ド光のみを空間光と結合することが可能である。
【００１０】また、本発明法は、順次、基板上に屈折率
ｎ0 を有するクラッド層を積層し、クラッド層に屈折率
ｎ1 を有する第１の導波コア層を積層し、第１の導波コ
アに反射グレーティングを有する第１のグレーティング
層を積層し、第１のグレーティング層に屈折率ｎ2 を有
する第２の導波コア層を積層し、第２の導波コア層に入
力及び出力グレーティングを有する第２のグレーティン
グ層を積層することにより、複合光導波路を構成し、か
つ、各層の屈折率が、ｎ0 ＜ｎ2 ＜ｎ1 の関係を満たす
ように光学媒質を選択して、特定の波長を有する光源か
らの空間光を、第２のグレーティング層の入力グレーテ
ィングにより複合光導波路を伝搬するスーパーモード光
に結合させ、第１のグレーティング層に設けた反射グレ
ーティングにより反射させると共に主光導波路である第
１の導波コア層を伝搬する基本モード導波光に結合さ
せ、また、主光導波路である第１の導波コア層を伝搬す
る複数の波長の基本モード導波光の内、特定の波長を有
する基本モード導波光を、第１のグレーティング層に設
けた反射グレーティングにより反射させると共に複合光
導波路を伝搬するスーパーモード光に結合させ、第２の
グレーティング層に設けた出力グレーティングにより空
間光に結合し、光検出器に入射させることを特徴とす
る。この構成によれば、屈折率ｎ0 ＜ｎ2 ＜ｎ1 の関係
から、主光導波路である第１の導波コアと第２の導波コ
アに界ピークを有するスーパーモード光が伝搬し、空間
光と基本モード導波光とが結合する。また、入出力グレ
ーティングを有する第２のグレーティング層では主光導
波路を伝搬する基本モード導波光の界がほとんど無視で
きるので、入出力グレーティングがこれらの基本モード
導波光を減衰させることが無く、従って、低損失で通過
させることができる。
ｎ0 を有するクラッド層を積層し、クラッド層に屈折率
ｎ1 を有する第１の導波コア層を積層し、第１の導波コ
アに反射グレーティングを有する第１のグレーティング
層を積層し、第１のグレーティング層に屈折率ｎ2 を有
する第２の導波コア層を積層し、第２の導波コア層に入
力及び出力グレーティングを有する第２のグレーティン
グ層を積層することにより、複合光導波路を構成し、か
つ、各層の屈折率が、ｎ0 ＜ｎ2 ＜ｎ1 の関係を満たす
ように光学媒質を選択して、特定の波長を有する光源か
らの空間光を、第２のグレーティング層の入力グレーテ
ィングにより複合光導波路を伝搬するスーパーモード光
に結合させ、第１のグレーティング層に設けた反射グレ
ーティングにより反射させると共に主光導波路である第
１の導波コア層を伝搬する基本モード導波光に結合さ
せ、また、主光導波路である第１の導波コア層を伝搬す
る複数の波長の基本モード導波光の内、特定の波長を有
する基本モード導波光を、第１のグレーティング層に設
けた反射グレーティングにより反射させると共に複合光
導波路を伝搬するスーパーモード光に結合させ、第２の
グレーティング層に設けた出力グレーティングにより空
間光に結合し、光検出器に入射させることを特徴とす
る。この構成によれば、屈折率ｎ0 ＜ｎ2 ＜ｎ1 の関係
から、主光導波路である第１の導波コアと第２の導波コ
アに界ピークを有するスーパーモード光が伝搬し、空間
光と基本モード導波光とが結合する。また、入出力グレ
ーティングを有する第２のグレーティング層では主光導
波路を伝搬する基本モード導波光の界がほとんど無視で
きるので、入出力グレーティングがこれらの基本モード
導波光を減衰させることが無く、従って、低損失で通過
させることができる。
【００１１】さらに、本発明では、基板上に、順次、屈
折率ｎ0 を有するクラッド層を積層し、クラッド層上に
入力及び出力グレーティングを有する第１のグレーティ
ング層を積層し、第１のグレーティング層上に屈折率ｎ
1 を有する第１の導波コア層を積層し、第１の導波コア
層に屈折率ｎ2 を有する第２の導波コア層を積層し、導
波コア層上に反射グレーティングを有する第２のグレー
ティング層を積層して複合光導波路を構成し、かつ、各
層の屈折率が、ｎ0 ＜ｎ1 ＜ｎ2 の関係を満たすように
光学媒質を選択して、特定の波長を有する光源からの空
間光を、第１のグレーティング層の入力グレーティング
により複合光導波路を伝搬するスーパーモード光に結合
させ、第２のグレーティング層に設けた反射グレーティ
ングにより反射させると共に主光導波路である第２の導
波コア層を伝搬する基本モード導波光に結合させ、及
び、主光導波路である第２の導波コア層を伝搬する複数
の波長の基本モード導波光の内、特定の波長を有する基
本モード導波光を、第２のグレーティング層に設けた反
射グレーティングにより反射させると共に複合光導波路
を伝搬するスーパーモード光に結合させ、第１のグレー
ティング層に設けた出力グレーティングにより空間光に
結合し、光検出器に入射させることを特徴とする。この
構成によれば、屈折率ｎ0 ＜ｎ1 ＜ｎ2 の関係から、ク
ラッド界面付近に大きな界を有するスーパーモード光が
伝搬する。スーパーモード光の界が強いクラッド界面、
すなわち第１のグレーティング層に入出力グレーティン
グを設けているから、スーパーモード光と空間光との結
合効率が高くなると共に、第１のグレーティング層では
主光導波路を伝搬する基本モード導波光の界がほとんど
無視できるので、入出力グレーティングがこれらの基本
モード導波光を減衰させることが無く、従って、低損失
で通過させることができる。
折率ｎ0 を有するクラッド層を積層し、クラッド層上に
入力及び出力グレーティングを有する第１のグレーティ
ング層を積層し、第１のグレーティング層上に屈折率ｎ
1 を有する第１の導波コア層を積層し、第１の導波コア
層に屈折率ｎ2 を有する第２の導波コア層を積層し、導
波コア層上に反射グレーティングを有する第２のグレー
ティング層を積層して複合光導波路を構成し、かつ、各
層の屈折率が、ｎ0 ＜ｎ1 ＜ｎ2 の関係を満たすように
光学媒質を選択して、特定の波長を有する光源からの空
間光を、第１のグレーティング層の入力グレーティング
により複合光導波路を伝搬するスーパーモード光に結合
させ、第２のグレーティング層に設けた反射グレーティ
ングにより反射させると共に主光導波路である第２の導
波コア層を伝搬する基本モード導波光に結合させ、及
び、主光導波路である第２の導波コア層を伝搬する複数
の波長の基本モード導波光の内、特定の波長を有する基
本モード導波光を、第２のグレーティング層に設けた反
射グレーティングにより反射させると共に複合光導波路
を伝搬するスーパーモード光に結合させ、第１のグレー
ティング層に設けた出力グレーティングにより空間光に
結合し、光検出器に入射させることを特徴とする。この
構成によれば、屈折率ｎ0 ＜ｎ1 ＜ｎ2 の関係から、ク
ラッド界面付近に大きな界を有するスーパーモード光が
伝搬する。スーパーモード光の界が強いクラッド界面、
すなわち第１のグレーティング層に入出力グレーティン
グを設けているから、スーパーモード光と空間光との結
合効率が高くなると共に、第１のグレーティング層では
主光導波路を伝搬する基本モード導波光の界がほとんど
無視できるので、入出力グレーティングがこれらの基本
モード導波光を減衰させることが無く、従って、低損失
で通過させることができる。
【００１２】また、本発明では、基板上に、順次、反射
膜を積層し、この反射膜上に屈折率ｎ0 を有する第１の
導波コア下部層を積層し、第１の導波コア下部層上に、
入力及び出力グレーティングを有する第１のグレーティ
ング層を積層し、第１のグレーティング層上に屈折率ｎ
0 を有する第１の導波コア上部層を積層し、第１の導波
コア上部層上に屈折率ｎ2 を有する第２の導波コア層を
積層し、この導波コア層上に反射グレーティングを有す
る第２のグレーティング層を積層することで、複合光導
波路を構成し、かつ、各層の屈折率が、ｎ0 ＜ｎ2 の関
係を満たすように光学媒質を選択して構成することを特
徴とする。この構成によれば、反射膜の高い反射率を利
用して導波光を複合導波路内に閉じ込めることができる
ので、第１の導波コア上部層と第１の導波コア下部層を
同一の光学媒質で構成でき、製造プロセスが簡単にな
る。また、屈折率ｎ0 ＜ｎ2 の関係から、入力及び出力
グレーティングを設けた第１のグレーティング層に大き
な界を有するスーパーモード光が伝搬する。スーパーモ
ード光の界が大きい第１のグレーティング層に入出力グ
レーティングを設けているから、スーパーモード光と空
間光との結合効率が高くなると共に、第１のグレーティ
ング層では主光導波路を伝搬する基本モード導波光の界
がほとんど無視できるので、入出力グレーティングがこ
れらの基本モード導波光を減衰させることが無く、従っ
て、低損失で通過させることができる。
膜を積層し、この反射膜上に屈折率ｎ0 を有する第１の
導波コア下部層を積層し、第１の導波コア下部層上に、
入力及び出力グレーティングを有する第１のグレーティ
ング層を積層し、第１のグレーティング層上に屈折率ｎ
0 を有する第１の導波コア上部層を積層し、第１の導波
コア上部層上に屈折率ｎ2 を有する第２の導波コア層を
積層し、この導波コア層上に反射グレーティングを有す
る第２のグレーティング層を積層することで、複合光導
波路を構成し、かつ、各層の屈折率が、ｎ0 ＜ｎ2 の関
係を満たすように光学媒質を選択して構成することを特
徴とする。この構成によれば、反射膜の高い反射率を利
用して導波光を複合導波路内に閉じ込めることができる
ので、第１の導波コア上部層と第１の導波コア下部層を
同一の光学媒質で構成でき、製造プロセスが簡単にな
る。また、屈折率ｎ0 ＜ｎ2 の関係から、入力及び出力
グレーティングを設けた第１のグレーティング層に大き
な界を有するスーパーモード光が伝搬する。スーパーモ
ード光の界が大きい第１のグレーティング層に入出力グ
レーティングを設けているから、スーパーモード光と空
間光との結合効率が高くなると共に、第１のグレーティ
ング層では主光導波路を伝搬する基本モード導波光の界
がほとんど無視できるので、入出力グレーティングがこ
れらの基本モード導波光を減衰させることが無く、従っ
て、低損失で通過させることができる。
【００１３】さらに、上記の複合導波路の構成におい
て、基板上に反射膜を積層してからクラッド層を積層し
てもよい。この構成によれば、反射膜によって、基板方
向に放射伝搬する光が無くなるから、空間光と導波路の
結合を増大させることができる。
て、基板上に反射膜を積層してからクラッド層を積層し
てもよい。この構成によれば、反射膜によって、基板方
向に放射伝搬する光が無くなるから、空間光と導波路の
結合を増大させることができる。
【００１４】さらに、上記の複合導波路の構成におい
て、入力及び出力のグレーティングは、複合導波路表面
に搭載するＭＣＭのＥ／Ｏ及びＯ／Ｅの位置に対応した
位置に形成する。
て、入力及び出力のグレーティングは、複合導波路表面
に搭載するＭＣＭのＥ／Ｏ及びＯ／Ｅの位置に対応した
位置に形成する。
【００１５】これらの構成による本発明の光インターコ
ネクション方法及びこの方法を使用した装置によれば、
グレーティングの周期を選択することによって、選択し
た特定の光波長の空間光を、空間光と垂直な方向に伝搬
方向を有する共通の光導波路に多重でき、また、共通の
光導波路を伝搬する複数の導波光の内から、グレーティ
ングの周期を選択することによって、選択した特定の波
長の光を導波光と垂直方向に伝搬する空間光として取り
出すことができるから、ボードに搭載する複数のＭＣＭ
間の光入出力信号の受け渡しを共通の光導波路で行うこ
とができる。すなわち、光の超並列性を生かせるので、
光配線容量を極めて大きくでき、演算プロセッサ等の高
速化・大容量化に必要な配線容量の拡大を可能にする。
また、この装置は、光学媒質、または、金属反射膜を基
板上に積層し、通常のフォトリソグラフィで加工すれば
形成できるので、ＭＣＭ製造工程との整合性がよく、従
って、製造工程を複雑化することがない。さらに、個別
部品を後付けすることがないので信頼性が高い。
ネクション方法及びこの方法を使用した装置によれば、
グレーティングの周期を選択することによって、選択し
た特定の光波長の空間光を、空間光と垂直な方向に伝搬
方向を有する共通の光導波路に多重でき、また、共通の
光導波路を伝搬する複数の導波光の内から、グレーティ
ングの周期を選択することによって、選択した特定の波
長の光を導波光と垂直方向に伝搬する空間光として取り
出すことができるから、ボードに搭載する複数のＭＣＭ
間の光入出力信号の受け渡しを共通の光導波路で行うこ
とができる。すなわち、光の超並列性を生かせるので、
光配線容量を極めて大きくでき、演算プロセッサ等の高
速化・大容量化に必要な配線容量の拡大を可能にする。
また、この装置は、光学媒質、または、金属反射膜を基
板上に積層し、通常のフォトリソグラフィで加工すれば
形成できるので、ＭＣＭ製造工程との整合性がよく、従
って、製造工程を複雑化することがない。さらに、個別
部品を後付けすることがないので信頼性が高い。
【００１６】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を図面
に基づき詳細に説明する。なお、実質的に同一の部材に
は共通の符号を使用して説明する。図１は本発明の光イ
ンターコネクション方法の第１の実施の形態を説明する
ための、ボードの導波光伝搬方向の断面模式図である。
図１に示すように、複合導波路は、基板１上に、順次、
屈折率ｎ0 を有するクラッド層２を積層し、クラッド層
２に屈折率ｎ1 を有する第１の導波コア層３を積層し、
第１の導波コア層３に反射グレーティング４を有する第
１のグレーティング層５を積層し、第１のグレーティン
グ層５に屈折率ｎ2 を有する第２の導波コア層６を積層
し、そして、第２の導波コア層６に入力グレーティング
７及び出力グレーティング８を有する第２のグレーティ
ング層９を積層することによって構成され、かつ、各層
の屈折率が、ｎ0 ＜ｎ2 ＜ｎ1 の関係を満たすように光
学媒質を選択して構成される。
に基づき詳細に説明する。なお、実質的に同一の部材に
は共通の符号を使用して説明する。図１は本発明の光イ
ンターコネクション方法の第１の実施の形態を説明する
ための、ボードの導波光伝搬方向の断面模式図である。
図１に示すように、複合導波路は、基板１上に、順次、
屈折率ｎ0 を有するクラッド層２を積層し、クラッド層
２に屈折率ｎ1 を有する第１の導波コア層３を積層し、
第１の導波コア層３に反射グレーティング４を有する第
１のグレーティング層５を積層し、第１のグレーティン
グ層５に屈折率ｎ2 を有する第２の導波コア層６を積層
し、そして、第２の導波コア層６に入力グレーティング
７及び出力グレーティング８を有する第２のグレーティ
ング層９を積層することによって構成され、かつ、各層
の屈折率が、ｎ0 ＜ｎ2 ＜ｎ1 の関係を満たすように光
学媒質を選択して構成される。
【００１７】また、特定の波長の光のみを、アド及びド
ロップするために、入出力のグレーティング及び反射グ
レーティングの周期Λは、以下に示すように形成する。
スーパーモード光１３の伝搬定数をβ（＝２πＮ／λ、
Ｎはスーパーモード光１３の実効屈折率、λは真空中で
の光波長）、グレーティングベクトルの大きさをＫ（＝
２π／Λ）とすると、導波光と空間光（放射モード）と
の結合は、次式で表される。 ｎi ｋ0 ｓｉｎθi ＝β−Ｋ （ｉ＝u ，d ） （１） ここで、ｎu 及びｎd は、それぞれ導波路層を挟む上下
の層の屈折率であり、ｋ0 は真空波数であり、θi は導
波路層面に垂直な方向からの回折角度である。
ロップするために、入出力のグレーティング及び反射グ
レーティングの周期Λは、以下に示すように形成する。
スーパーモード光１３の伝搬定数をβ（＝２πＮ／λ、
Ｎはスーパーモード光１３の実効屈折率、λは真空中で
の光波長）、グレーティングベクトルの大きさをＫ（＝
２π／Λ）とすると、導波光と空間光（放射モード）と
の結合は、次式で表される。 ｎi ｋ0 ｓｉｎθi ＝β−Ｋ （ｉ＝u ，d ） （１） ここで、ｎu 及びｎd は、それぞれ導波路層を挟む上下
の層の屈折率であり、ｋ0 は真空波数であり、θi は導
波路層面に垂直な方向からの回折角度である。
【００１８】図２は（１）式のグレーティングによる空
間光と導波光の結合関係を示すベクトル図である。
間光と導波光の結合関係を示すベクトル図である。
【００１９】本実施例のように、スーパーモード光をス
ーパーモード光の伝搬方向とほぼ垂直方向に進行する空
間光に結合する場合には、θu ≒０°であるから、
（１）式より、β≒Ｋとなり、 Λ≒λ／Ｎ （２） から、入出力グレーティング周期Λを定める。
ーパーモード光の伝搬方向とほぼ垂直方向に進行する空
間光に結合する場合には、θu ≒０°であるから、
（１）式より、β≒Ｋとなり、 Λ≒λ／Ｎ （２） から、入出力グレーティング周期Λを定める。
【００２０】また、反射グレーティングの場合には、基
本モード導波光の伝搬定数をβ0 、実効屈折率をＮ0 と
すると、−２πＮ0 ／λ＝−β0 ＝β−Ｋであるから、 Λ＝λ／（Ｎ＋Ｎ0 ） （３） から、反射グレーティング周期Λを定める。
本モード導波光の伝搬定数をβ0 、実効屈折率をＮ0 と
すると、−２πＮ0 ／λ＝−β0 ＝β−Ｋであるから、 Λ＝λ／（Ｎ＋Ｎ0 ） （３） から、反射グレーティング周期Λを定める。
【００２１】図１において、光線１０，１１は、この複
合導波路表面上に搭載するＭＣＭのＥ／Ｏから発光する
空間光、及び、ＭＣＭのＯ／Ｅに入射する空間光を表し
ている。入力グレーティング７及び出力グレーティング
８の位置は、ＭＣＭの搭載位置、及び、ＭＣＭのＥ／Ｏ
及びＯ／Ｅの位置に合わせて形成する。Ｅ／Ｏの発光素
子は、例えば面発光ダイオードであり、Ｏ／Ｅの受光素
子はフォトダイオードである。
合導波路表面上に搭載するＭＣＭのＥ／Ｏから発光する
空間光、及び、ＭＣＭのＯ／Ｅに入射する空間光を表し
ている。入力グレーティング７及び出力グレーティング
８の位置は、ＭＣＭの搭載位置、及び、ＭＣＭのＥ／Ｏ
及びＯ／Ｅの位置に合わせて形成する。Ｅ／Ｏの発光素
子は、例えば面発光ダイオードであり、Ｏ／Ｅの受光素
子はフォトダイオードである。
【００２２】次に、上記構成の第１の実施の形態の作用
を説明する。最初にスーパーモードについて説明する。
光は周囲より屈折率の高い導波コアに閉じこめられて伝
搬することが可能で、閉じこめられて伝搬する光を導波
光、このような構造を導波路と呼ぶ。導波光は導波コア
に閉じこめられるが周囲（クラッド）にも光の一部が浸
みだしており、導波光の感じる実効的な屈折率（実効屈
折率もしくはモード屈折率と呼ぶ）は、導波コアの屈折
率とクラッドの屈折率との間の値をとり、導波コアの屈
折率より低く、クラッドの屈折率より高くなる。ところ
が、上記クラッド（第１のクラッド）よりさらに外側
に、屈折率が第１のクラッドより低い第２のクラッドを
設けると、第１のクラッドも導波コアと感じる導波光が
伝搬できる場合がでてくる。このような導波路を、ここ
では複合光導波路と呼び、実効屈折率が第１クラッドの
屈折率より低く、第２クラッドのそれより高い導波光を
スーパーモード光と呼ぶ。
を説明する。最初にスーパーモードについて説明する。
光は周囲より屈折率の高い導波コアに閉じこめられて伝
搬することが可能で、閉じこめられて伝搬する光を導波
光、このような構造を導波路と呼ぶ。導波光は導波コア
に閉じこめられるが周囲（クラッド）にも光の一部が浸
みだしており、導波光の感じる実効的な屈折率（実効屈
折率もしくはモード屈折率と呼ぶ）は、導波コアの屈折
率とクラッドの屈折率との間の値をとり、導波コアの屈
折率より低く、クラッドの屈折率より高くなる。ところ
が、上記クラッド（第１のクラッド）よりさらに外側
に、屈折率が第１のクラッドより低い第２のクラッドを
設けると、第１のクラッドも導波コアと感じる導波光が
伝搬できる場合がでてくる。このような導波路を、ここ
では複合光導波路と呼び、実効屈折率が第１クラッドの
屈折率より低く、第２クラッドのそれより高い導波光を
スーパーモード光と呼ぶ。
【００２３】上記複合導波路の構成によれば、各層の屈
折率ｎ0 ＜ｎ2 ＜ｎ1 の関係から、導波コア層３と導波
コア層６に大きな界を有するスーパーモード光１２が伝
搬する。入出力グレーティング７，８を設けた第２のグ
レーティング層９では、スーパーモード光１２の界は十
分大きく、空間光１０もしくは１１と結合し、主光導波
路である導波コア層３を伝搬する基本モード導波光１３
の界がほとんど無視できるので、この基本モード導波光
１３を減衰させることが無く、従って、低損失で通過さ
せることができる。また、基板１とクラッド層２の間
に、金属等の反射膜を設けても良い。金属等の反射膜を
設けた場合には、反射膜によって、基板方向に放射伝搬
する光が無くなるから、空間光と導波路の結合が増大す
る。
折率ｎ0 ＜ｎ2 ＜ｎ1 の関係から、導波コア層３と導波
コア層６に大きな界を有するスーパーモード光１２が伝
搬する。入出力グレーティング７，８を設けた第２のグ
レーティング層９では、スーパーモード光１２の界は十
分大きく、空間光１０もしくは１１と結合し、主光導波
路である導波コア層３を伝搬する基本モード導波光１３
の界がほとんど無視できるので、この基本モード導波光
１３を減衰させることが無く、従って、低損失で通過さ
せることができる。また、基板１とクラッド層２の間
に、金属等の反射膜を設けても良い。金属等の反射膜を
設けた場合には、反射膜によって、基板方向に放射伝搬
する光が無くなるから、空間光と導波路の結合が増大す
る。
【００２４】次に、この構成における光インターコネク
ションの動作について説明する。特定の波長を有する光
源からの空間光１０を、第２のグレーティング層９の入
力グレーティング７により複合光導波路を伝搬するスー
パーモード光に結合させ、第１のグレーティング層５に
設けた反射グレーティング４により反射させると共に主
光導波路である第１の導波コア層３を伝搬する基本モー
ド導波光１３に結合させる。このようにして、Ｅ／Ｏ
（光源）からの光信号は、導波コア層３の導波光１３と
して他のＭＣＭに伝送する。
ションの動作について説明する。特定の波長を有する光
源からの空間光１０を、第２のグレーティング層９の入
力グレーティング７により複合光導波路を伝搬するスー
パーモード光に結合させ、第１のグレーティング層５に
設けた反射グレーティング４により反射させると共に主
光導波路である第１の導波コア層３を伝搬する基本モー
ド導波光１３に結合させる。このようにして、Ｅ／Ｏ
（光源）からの光信号は、導波コア層３の導波光１３と
して他のＭＣＭに伝送する。
【００２５】また、主光導波路である第１の導波コア層
３を伝搬する複数の波長の基本モード導波光１３の内、
特定の波長を有する基本モード導波光１３を、第１のグ
レーティング層５に設けた反射グレーティング４により
反射させると共に複合光導波路を伝搬するスーパーモー
ド光１２に結合させ、第２のグレーティング層９に設け
た出力グレーティング８により空間光１１に結合し、光
検出器に入射させる。このようにして、他のＭＣＭから
伝送されてきた複数の光信号の内の特定の光信号を選択
して、Ｏ／Ｅ（光検出器）に入力させる。このことは、
基本モード導波光１３として、波長間隔の狭い光を多重
することを可能にするものであり、光の超並列性をさら
に有効にし、さらに光配線の容量を大きくしている。
３を伝搬する複数の波長の基本モード導波光１３の内、
特定の波長を有する基本モード導波光１３を、第１のグ
レーティング層５に設けた反射グレーティング４により
反射させると共に複合光導波路を伝搬するスーパーモー
ド光１２に結合させ、第２のグレーティング層９に設け
た出力グレーティング８により空間光１１に結合し、光
検出器に入射させる。このようにして、他のＭＣＭから
伝送されてきた複数の光信号の内の特定の光信号を選択
して、Ｏ／Ｅ（光検出器）に入力させる。このことは、
基本モード導波光１３として、波長間隔の狭い光を多重
することを可能にするものであり、光の超並列性をさら
に有効にし、さらに光配線の容量を大きくしている。
【００２６】次に、本発明の光インターコネクション方
法の第２の実施の形態を説明する。図３は、本発明の光
インターコネクション方法の第２の実施の形態を説明す
るための、ボードの導波光伝搬方向の断面模式図であ
る。本実施の形態は、上記第１の実施の形態とは、入出
力グレーティング及び反射グレーティングの配置する位
置が異なり、他の構成は同一である。図３に示すよう
に、複合導波路は、基板１上に、順次、屈折率ｎ0 を有
するクラッド層２を積層し、クラッド層２に入力グレー
ティング７及び出力グレーティング８を有する第１のグ
レーティング層５を積層し、第１のグレーティング層５
に屈折率ｎ1 を有する第１の導波コア層３を積層し、第
１の導波コア層３に第２の導波コア層６を積層し、第２
の導波コア層６に反射グレーティング４を有する第２の
グレーティング層９を積層し、かつ、各層の屈折率が、
ｎ0 ＜ｎ1 ＜ｎ2の関係を満たすように光学媒質を選択
して、構成される。
法の第２の実施の形態を説明する。図３は、本発明の光
インターコネクション方法の第２の実施の形態を説明す
るための、ボードの導波光伝搬方向の断面模式図であ
る。本実施の形態は、上記第１の実施の形態とは、入出
力グレーティング及び反射グレーティングの配置する位
置が異なり、他の構成は同一である。図３に示すよう
に、複合導波路は、基板１上に、順次、屈折率ｎ0 を有
するクラッド層２を積層し、クラッド層２に入力グレー
ティング７及び出力グレーティング８を有する第１のグ
レーティング層５を積層し、第１のグレーティング層５
に屈折率ｎ1 を有する第１の導波コア層３を積層し、第
１の導波コア層３に第２の導波コア層６を積層し、第２
の導波コア層６に反射グレーティング４を有する第２の
グレーティング層９を積層し、かつ、各層の屈折率が、
ｎ0 ＜ｎ1 ＜ｎ2の関係を満たすように光学媒質を選択
して、構成される。
【００２７】この構成の複合導波路によれば、ｎ0 ＜ｎ
1 ＜ｎ2 の関係から、第１のグレーティング層５に大き
な界を有するスーパーモード光１２が伝搬する。スーパ
ーモード光１２の界が強い第１のグレーティング層５に
入出力グレーティング７，８を設けているから、スーパ
ーモード光１２と空間光１０、１１との結合効率が高く
なると共に、第１のグレーティング層５では主光導波路
６を伝搬する基本モード導波光１３の界がほとんど無視
できるので、この基本モード導波光１３を減衰させるこ
とが無く、従って、低損失で通過させることができる。
また、基板１とクラッド層２の間に、金属等の反射膜を
設けても良い。金属等の反射膜を設けた場合には、反射
膜によって、基板方向に放射伝搬する光が無くなるか
ら、空間光と導波路の結合が増大する。
1 ＜ｎ2 の関係から、第１のグレーティング層５に大き
な界を有するスーパーモード光１２が伝搬する。スーパ
ーモード光１２の界が強い第１のグレーティング層５に
入出力グレーティング７，８を設けているから、スーパ
ーモード光１２と空間光１０、１１との結合効率が高く
なると共に、第１のグレーティング層５では主光導波路
６を伝搬する基本モード導波光１３の界がほとんど無視
できるので、この基本モード導波光１３を減衰させるこ
とが無く、従って、低損失で通過させることができる。
また、基板１とクラッド層２の間に、金属等の反射膜を
設けても良い。金属等の反射膜を設けた場合には、反射
膜によって、基板方向に放射伝搬する光が無くなるか
ら、空間光と導波路の結合が増大する。
【００２８】この構成による光インターコネクションの
動作について説明する。特定の波長を有する光源からの
空間光１０を、第１のグレーティング層５の入力グレー
ティング７により複合光導波路を伝搬するスーパーモー
ド光１２に結合させ、第２のグレーティング層９に設け
た反射グレーティング４により反射させると共に主光導
波路である第２の導波コア層６を伝搬する基本モード導
波光１３に結合させる。このようにして、Ｅ／Ｏ（光
源）からの光信号は、導波コア６の基本モード導波光１
３として他のＭＣＭに伝送する。また、主光導波路であ
る第２の導波コア層６を伝搬する複数の波長の基本モー
ド導波光１３の内、特定の波長を有する基本モード導波
光１３を、第２のグレーティング層９に設けた反射グレ
ーティング４により反射させると共に複合光導波路を伝
搬するスーパーモード光１２に結合させ、第１のグレー
ティング層５に設けた出力グレーティング１１により空
間光１１に結合し光検出器に入射させる。このようにし
て、他のＭＣＭから伝送されてきた複数の光信号の内の
特定の光信号を選択して、Ｏ／Ｅ（光検出器）に入力さ
せる。このことは、基本モード導波光１３として、波長
間隔の狭い光を多重することを可能にするものであり、
光の超並列性をさらに有効にし、さらに光配線の容量を
大きくしている。
動作について説明する。特定の波長を有する光源からの
空間光１０を、第１のグレーティング層５の入力グレー
ティング７により複合光導波路を伝搬するスーパーモー
ド光１２に結合させ、第２のグレーティング層９に設け
た反射グレーティング４により反射させると共に主光導
波路である第２の導波コア層６を伝搬する基本モード導
波光１３に結合させる。このようにして、Ｅ／Ｏ（光
源）からの光信号は、導波コア６の基本モード導波光１
３として他のＭＣＭに伝送する。また、主光導波路であ
る第２の導波コア層６を伝搬する複数の波長の基本モー
ド導波光１３の内、特定の波長を有する基本モード導波
光１３を、第２のグレーティング層９に設けた反射グレ
ーティング４により反射させると共に複合光導波路を伝
搬するスーパーモード光１２に結合させ、第１のグレー
ティング層５に設けた出力グレーティング１１により空
間光１１に結合し光検出器に入射させる。このようにし
て、他のＭＣＭから伝送されてきた複数の光信号の内の
特定の光信号を選択して、Ｏ／Ｅ（光検出器）に入力さ
せる。このことは、基本モード導波光１３として、波長
間隔の狭い光を多重することを可能にするものであり、
光の超並列性をさらに有効にし、さらに光配線の容量を
大きくしている。
【００２９】次に、第３の実施の形態を説明する。図４
は、第３の実施の形態を説明するための、ボードの導波
光伝搬方向の断面模式図である。第３の実施の形態は、
図３に示す第２の実施の形態において、基板１とクラッ
ド層２の間に金属等の反射膜１４を設け、クラッド層２
と第１の導波コア層３の屈折率を同じにした構成であ
る。この構成によれば、その高い反射率を利用して光波
を構造内に閉じ込めることが可能になり、その結果、ク
ラッド層２と第１の導波コア層３の屈折率をｎ0 ＜ｎ1
の関係に形成する必要が無くなり、同一の光学媒質を使
用できる。
は、第３の実施の形態を説明するための、ボードの導波
光伝搬方向の断面模式図である。第３の実施の形態は、
図３に示す第２の実施の形態において、基板１とクラッ
ド層２の間に金属等の反射膜１４を設け、クラッド層２
と第１の導波コア層３の屈折率を同じにした構成であ
る。この構成によれば、その高い反射率を利用して光波
を構造内に閉じ込めることが可能になり、その結果、ク
ラッド層２と第１の導波コア層３の屈折率をｎ0 ＜ｎ1
の関係に形成する必要が無くなり、同一の光学媒質を使
用できる。
【００３０】次に、本発明の実施例を示す。図５は、第
三の実施の形態による実施例である。図５（Ａ）はボー
ドの導波光伝搬方向の断面構成を示す図である。図５
（Ａ）に示すように、基板としてＳｉ単結晶基板１を使
用し、Ｓｉ単結晶基板上にＡｕ反射膜１４を蒸着し、Ａ
ｕ反射膜１４上に第１の導波コアの下層部１５として屈
折率１．４６のＳｉＯ2 をスパッタ又はＣＶＤで厚さ
０．４８μｍ積層し、ＳｉＯ2 層２上に第１のグレーテ
ィング層５としてＳｉＮ膜をＣＶＤで０．０７μｍ積層
し、電子ビーム描画露光で入出力グレーティング７，８
を作製した。入出力グレーティングを作製した第１のグ
レーティング層５上に第１の導波コアの上部層１６とし
て屈折率１．４６のＳｉＯ2 をスパッタ又はＣＶＤで厚
さ０．７９μｍに積層し、このＳｉＯ2 層上に第２のコ
ア層６として屈折率１．５４のコーニング＃７０５９ガ
ラスをスパッタで０．７０μｍ積層し、コーニング＃７
０５９ガラス層上に第２のグレーティング層９としてＳ
ｉＮ膜をＣＶＤで０．１０μｍ積層し、電子ビーム描画
露光で反射グレーティング４を作製した。基本モード導
波光の中心波長は８９４ｎｍであり、入出力、及び反射
グレーティングの周期Λはこの波長に合わせて作製し
た。なお、上記導波路はスラブ導波路である。
三の実施の形態による実施例である。図５（Ａ）はボー
ドの導波光伝搬方向の断面構成を示す図である。図５
（Ａ）に示すように、基板としてＳｉ単結晶基板１を使
用し、Ｓｉ単結晶基板上にＡｕ反射膜１４を蒸着し、Ａ
ｕ反射膜１４上に第１の導波コアの下層部１５として屈
折率１．４６のＳｉＯ2 をスパッタ又はＣＶＤで厚さ
０．４８μｍ積層し、ＳｉＯ2 層２上に第１のグレーテ
ィング層５としてＳｉＮ膜をＣＶＤで０．０７μｍ積層
し、電子ビーム描画露光で入出力グレーティング７，８
を作製した。入出力グレーティングを作製した第１のグ
レーティング層５上に第１の導波コアの上部層１６とし
て屈折率１．４６のＳｉＯ2 をスパッタ又はＣＶＤで厚
さ０．７９μｍに積層し、このＳｉＯ2 層上に第２のコ
ア層６として屈折率１．５４のコーニング＃７０５９ガ
ラスをスパッタで０．７０μｍ積層し、コーニング＃７
０５９ガラス層上に第２のグレーティング層９としてＳ
ｉＮ膜をＣＶＤで０．１０μｍ積層し、電子ビーム描画
露光で反射グレーティング４を作製した。基本モード導
波光の中心波長は８９４ｎｍであり、入出力、及び反射
グレーティングの周期Λはこの波長に合わせて作製し
た。なお、上記導波路はスラブ導波路である。
【００３１】図５（Ｂ）にこの構成における、基本モー
ド導波光から空間出力光へのパワー変換効率の測定結果
及び計算結果を示す。図５（Ｂ）において、横軸は光波
長を示し縦軸は光強度比で表した変換効率を示す。この
図から明らかなように、約１０ｎｍの波長分解能が実現
されているのが分かる。グレーティングの作製精度を向
上すれば計算値に近づくことは明らかである。
ド導波光から空間出力光へのパワー変換効率の測定結果
及び計算結果を示す。図５（Ｂ）において、横軸は光波
長を示し縦軸は光強度比で表した変換効率を示す。この
図から明らかなように、約１０ｎｍの波長分解能が実現
されているのが分かる。グレーティングの作製精度を向
上すれば計算値に近づくことは明らかである。
【００３２】次に、本発明の光インターコネクション方
法を用いたＭＣＭの実装例を示す。図６は、本発明の光
インターコネクション方法を用いたＭＣＭの実装例を示
す図である。図６（Ａ）に示すように、ＭＣＭ２０は、
Ｅ／ＯであるＶＣＳＥＬ（面発光ダイオード）とＯ／Ｅ
であるフォトダイオードアレイを集積したＥ／Ｏ・Ｏ／
Ｅ部２１と、電子デバイスであるＣＰＵとメモリーを集
積したＣＰＵ・メモリー部２２と、ＣＰＵとメモリー間
を接続する配線２３とを基板２４上に集積して構成され
る。図６（Ｂ）に示すように、本発明の光インターコネ
クションボード３０は、Ｓｉ基板３１と、Ｓｉ基板３１
表面上に設けた光導波路配線部３２からなり、光インタ
ーコネクション窓部３３には、本発明の複合導波路とグ
レーティングからなるＥ／Ｏ及びＯ／Ｅとの結合部を有
している。
法を用いたＭＣＭの実装例を示す。図６は、本発明の光
インターコネクション方法を用いたＭＣＭの実装例を示
す図である。図６（Ａ）に示すように、ＭＣＭ２０は、
Ｅ／ＯであるＶＣＳＥＬ（面発光ダイオード）とＯ／Ｅ
であるフォトダイオードアレイを集積したＥ／Ｏ・Ｏ／
Ｅ部２１と、電子デバイスであるＣＰＵとメモリーを集
積したＣＰＵ・メモリー部２２と、ＣＰＵとメモリー間
を接続する配線２３とを基板２４上に集積して構成され
る。図６（Ｂ）に示すように、本発明の光インターコネ
クションボード３０は、Ｓｉ基板３１と、Ｓｉ基板３１
表面上に設けた光導波路配線部３２からなり、光インタ
ーコネクション窓部３３には、本発明の複合導波路とグ
レーティングからなるＥ／Ｏ及びＯ／Ｅとの結合部を有
している。
【００３３】ＭＣＭ２０は、素子搭載面を下にして、光
インターコネクションボード３０の光インターコネクシ
ョン窓部３３に位置あわせしてボンディングする。図６
（Ｃ）に拡大して示すように、光インターコネクション
窓部３３は、ボードの表面内で互いに直交するＸ、Ｙ方
向にそれぞれ５００本の光導波路３４，３５を有する２
階積層構造光導波路で構成し、各導波路の幅は約２０μ
ｍであり、合計１０００本の導波路が占有する光インタ
ーコネクション窓部３３の面積は約１ｃｍ2 である。各
光導波路には、８波長の光を多重する。従って、単位面
積あたりの配線容量は、 １０００ｃｈ／（ｃｍ2 ・波長）×８波長＝８０００ｃ
ｈ／ｃｍ2 となる。
インターコネクションボード３０の光インターコネクシ
ョン窓部３３に位置あわせしてボンディングする。図６
（Ｃ）に拡大して示すように、光インターコネクション
窓部３３は、ボードの表面内で互いに直交するＸ、Ｙ方
向にそれぞれ５００本の光導波路３４，３５を有する２
階積層構造光導波路で構成し、各導波路の幅は約２０μ
ｍであり、合計１０００本の導波路が占有する光インタ
ーコネクション窓部３３の面積は約１ｃｍ2 である。各
光導波路には、８波長の光を多重する。従って、単位面
積あたりの配線容量は、 １０００ｃｈ／（ｃｍ2 ・波長）×８波長＝８０００ｃ
ｈ／ｃｍ2 となる。
【００３４】光インターコネクション窓部３３は４分割
し、それぞれ対角状に、Ｘ方向インターフェース領域３
６、及び、Ｙ方向インターフェース領域３７を分割して
設ける。図６（Ｄ）に拡大して示すように、光導波路３
４または３５の各々の導波路は、出力グレーティング４
１、反射グレーティング４３、入力グレーティング４２
の周期で配列し、かつ、隣り合う導波路間では、入力又
は出力グレーティングが平行して並ばないように、一グ
レーティング長さずらして配列する。出力グレーティン
グ４１、反射グレーティング４３、入力グレーティング
４２からなる一周期の長さは約６００μｍである。図６
（Ｅ）は、ＭＣＭ２０を本発明の光インターコネクショ
ンボード３０に複数搭載したドーターボード５１を、光
電気配線混載マザーボード５２に複数搭載した構成を示
す。上記の構成によれば、極めて配線容量が大きくなる
ので、演算プロセッサ等の高速化・大容量化に必要な配
線容量を確保することができる。
し、それぞれ対角状に、Ｘ方向インターフェース領域３
６、及び、Ｙ方向インターフェース領域３７を分割して
設ける。図６（Ｄ）に拡大して示すように、光導波路３
４または３５の各々の導波路は、出力グレーティング４
１、反射グレーティング４３、入力グレーティング４２
の周期で配列し、かつ、隣り合う導波路間では、入力又
は出力グレーティングが平行して並ばないように、一グ
レーティング長さずらして配列する。出力グレーティン
グ４１、反射グレーティング４３、入力グレーティング
４２からなる一周期の長さは約６００μｍである。図６
（Ｅ）は、ＭＣＭ２０を本発明の光インターコネクショ
ンボード３０に複数搭載したドーターボード５１を、光
電気配線混載マザーボード５２に複数搭載した構成を示
す。上記の構成によれば、極めて配線容量が大きくなる
ので、演算プロセッサ等の高速化・大容量化に必要な配
線容量を確保することができる。
【００３５】なお、本発明の光インターコネクション方
法における空間光は、Ｏ／Ｅ又はＥ／Ｏに結合させてい
るが、この空間光を、複数積層した他の任意の導波路に
設けたグレーティングを介して他の導波路の導波光に結
合すれば、光が一つの光導波路を伝搬し、途中から他の
光導波路を伝搬する、いわゆる、光路スイッチング機能
が実現できるのは明らかである。
法における空間光は、Ｏ／Ｅ又はＥ／Ｏに結合させてい
るが、この空間光を、複数積層した他の任意の導波路に
設けたグレーティングを介して他の導波路の導波光に結
合すれば、光が一つの光導波路を伝搬し、途中から他の
光導波路を伝搬する、いわゆる、光路スイッチング機能
が実現できるのは明らかである。
【００３６】
【発明の効果】以上の説明から理解されるように、本発
明の光インターコネクション方法及び光インターコネク
ション装置を用いれば、光導波路の集積度が高く、任意
の波長の光を選択してアド及びドロップができ、光の超
並列性を生かした波長多重ができる。したがって、演算
プロセッサ等の高速化・大容量化に必要な配線容量を確
保でき、かつ、製造工程が複雑化せず、信頼性が高い光
インターコネクションができる。
明の光インターコネクション方法及び光インターコネク
ション装置を用いれば、光導波路の集積度が高く、任意
の波長の光を選択してアド及びドロップができ、光の超
並列性を生かした波長多重ができる。したがって、演算
プロセッサ等の高速化・大容量化に必要な配線容量を確
保でき、かつ、製造工程が複雑化せず、信頼性が高い光
インターコネクションができる。
【図１】本発明の光インターコネクション方法の第１の
実施の形態を説明するための、ボードの導波光伝搬方向
の断面模式図である。
実施の形態を説明するための、ボードの導波光伝搬方向
の断面模式図である。
【図２】グレーティングによる空間光と導波光との結合
関係を示す図である。
関係を示す図である。
【図３】本発明の光インターコネクション方法の第２の
実施の形態を説明するための、ボードの導波光伝搬方向
の断面模式図である。
実施の形態を説明するための、ボードの導波光伝搬方向
の断面模式図である。
【図４】第３の実施の形態の構成を説明するためのボー
ドの導波光伝搬方向の断面模式図である。
ドの導波光伝搬方向の断面模式図である。
【図５】（Ａ）は、本発明の第３の実施の形態に基づい
た実施例の、ボードの導波光伝搬方向の断面構成を示す
図である。（Ｂ）は基本モード導波光から空間光へのパ
ワー移行率を示し、実線は計算値、○及び波線は実測値
を表す。
た実施例の、ボードの導波光伝搬方向の断面構成を示す
図である。（Ｂ）は基本モード導波光から空間光へのパ
ワー移行率を示し、実線は計算値、○及び波線は実測値
を表す。
【図６】本発明の光インターコネクション方法によるＭ
ＣＭの実装例を示す図である。
ＣＭの実装例を示す図である。
【図７】従来のＭＣＭ間の光配線技術を示す図である。
１ 基板 ２ クラッド層 ３ 第１のコア層 ４ 反射グレーティング ５ 第１のグレーティング層 ６ 第２のコア層 ７ 入力グレーティング ８ 出力グレーティング ９ 第２のグレーティング層 １０ 空間光 １１ 空間光 １２ スーパーモード光 １３ 基本モード導波光 １４ 反射膜 １５ 第１の導波コアの下部層 １６ 第１の導波コアの上部層 ２０ ＭＣＭ ２１ ＶＣＳＥＬ・ＰＤアレイ ２２ ＣＰＵ・メモリ ２３ 電気配線 ２４ 基板 ３０ 本発明の光インターコネクションボード ３１ Ｓｉ基板 ３２ 光導波路配線部 ３３ 光インターコネクション窓 ３４，３５ チャネル導波路 ３６ Ｘ方向伝送インターフェース領域 ３７ Ｙ方向伝送インターフェース領域 ４１ 出力グレーティング ４２ 入力グレーティング ４３ 反射グレーティング ５１ ドーターボード ５２ 光電気配線混載マザーボード
Claims (7)
- 【請求項１】 特定の光波長を有する光源からの空間光
を、複合光導波路に設けた入力グレーティングにより複
合光導波路を伝搬するスーパーモード光に結合させ、主
光導波路に設けた反射グレーティングにより反射させる
と共に主光導波路を伝搬する基本モード導波光に結合さ
せ、 さらに、主光導波路を伝搬する複数の波長の基本モード
導波光の内、特定の波長を有する基本モード導波光を、
主光導波路に設けた反射グレーティングにより反射させ
ると共に複合光導波路を伝搬するスーパーモード光に結
合させ、複合光導波路に設けた出力グレーティングによ
り空間光に結合させ、光検出器に入射させることを特徴
とする、ボード内光インターコネクション方法。 - 【請求項２】 基板上に屈折率ｎ0 を有するクラッド層
を積層し、このクラッド層上に屈折率ｎ1 を有する第１
の導波コア層を積層し、この第１の導波コア層に反射グ
レーティングを有する第１のグレーティング層を積層
し、この第１のグレーティング層に屈折率ｎ2 を有する
第２の導波コア層を積層し、この第２の導波コア層に入
力及び出力グレーティングを有する第２のグレーティン
グ層を積層することにより前記複合光導波路を構成し、
かつ、上記各層の屈折率が、ｎ0＜ｎ2 ＜ｎ1 の関係を
満たすように光学媒質を選択し、 前記特定の波長を有する光源からの空間光を、上記第２
のグレーティング層の入力グレーティングにより上記複
合光導波路を伝搬するスーパーモード光に結合させ、上
記第１のグレーティング層に設けた反射グレーティング
により反射させると共に前記主光導波路である上記第１
の導波コア層を伝搬する前記基本モード導波光に結合さ
せ、 及び、前記主光導波路である上記第１の導波コア層を伝
搬する複数の波長の基本モード導波光の内、前記特定の
波長を有する基本モード導波光を、上記第１のグレーテ
ィング層に設けた反射グレーティングにより反射させる
と共に上記複合光導波路を伝搬する前記スーパーモード
光に結合させ、上記第２のグレーティング層に設けた出
力グレーティングにより前記空間光に結合し、前記光検
出器に入射させることを特徴とする、請求項１に記載の
ボード内光インターコネクション方法。 - 【請求項３】 基板上に屈折率ｎ0 を有するクラッド層
を積層し、このクラッド層上に入力及び出力グレーティ
ングを有する第１のグレーティング層を積層し、この第
１のグレーティング層上に屈折率ｎ1 を有する第１の導
波コア層を積層し、この第１の導波コア層に屈折率ｎ2
を有する第２の導波コア層を積層し、この導波コア層上
に反射グレーティングを有する第２のグレーティング層
を積層することにより前記複合光導波路を構成し、か
つ、上記各層の屈折率が、ｎ0 ＜ｎ1 ＜ｎ2 の関係を満
たすように光学媒質を選択し、 前記特定の波長を有する光源からの空間光を、上記第１
のグレーティング層の入力グレーティングにより上記複
合光導波路を伝搬するスーパーモード光に結合させ、上
記第２のグレーティング層に設けた反射グレーティング
により反射させると共に前記主光導波路である上記第２
の導波コア層を伝搬する前記基本モード導波光に結合さ
せ、 及び、前記主光導波路である上記第２の導波コア層を伝
搬する複数の波長の基本モード導波光の内、前記特定の
波長を有する基本モード導波光を、上記第２のグレーテ
ィング層に設けた反射グレーティングにより反射させる
と共に上記複合光導波路を伝搬する前記スーパーモード
光に結合させ、上記第１のグレーティング層に設けた出
力グレーティングにより前記空間光に結合し、前記光検
出器に入射させることを特徴とする、請求項１に記載の
ボード内光インターコネクション方法。 - 【請求項４】 基板上に反射膜を積層し、この反射膜上
に屈折率ｎ0 を有する第１の導波コアの下部層を積層
し、この第１の導波コア下部層上に入力及び出力グレー
ティングを有する第１のグレーティング層を積層し、こ
の第１のグレーティング層上に屈折率ｎ0 を有する第１
の導波コアの上部層を積層し、この第１の導波コア上部
層に屈折率ｎ2 を有する第２の導波コア層を積層し、こ
の導波コア層上に反射グレーティングを有する第２のグ
レーティング層を積層することにより前記複合光導波路
を構成し、かつ、上記各層の屈折率が、ｎ0 ＜ｎ2 の関
係を満たすように光学媒質を選択し、 前記スーパーモードの界が上記第１のグレーティング層
で大きくなるようにして構成し、 前記特定の波長を有する光源からの空間光を、上記第１
のグレーティング層の入力グレーティングにより上記複
合光導波路を伝搬するスーパーモード光に結合させ、上
記第２のグレーティング層に設けた反射グレーティング
により反射させると共に前記主光導波路である上記第２
の導波コア層を伝搬する前記基本モード導波光に結合さ
せ、 及び、前記主光導波路である上記第２の導波コア層を伝
搬する複数の波長の基本モード導波光の内、前記特定の
波長を有する基本モード導波光を、上記第２のグレーテ
ィング層に設けた反射グレーティングにより反射させる
と共に上記複合光導波路を伝搬する前記スーパーモード
光に結合させ、上記第１のグレーティング層に設けた出
力グレーティングにより前記空間光に結合し、前記光検
出器に入射させることを特徴とする、請求項１に記載の
ボード内光インターコネクション方法。 - 【請求項５】 前記複合導波路の構成において、前記基
板と前記クラッド層の間に反射膜を積層することを特徴
とする、請求項１〜３のいずれかに記載のボード内光イ
ンターコネクション方法。 - 【請求項６】 前記複合導波路の入力及び出力のグレー
ティングは、複合導波路表面に搭載するＭＣＭのＥ／Ｏ
及びＯ／Ｅの位置に対応して形成することを特徴とす
る、請求項１〜５のいずれかに記載のボード内光インタ
ーコネクション方法。 - 【請求項７】 請求項１〜６のいずれかに記載の方法を
用いるボード内光インターコネクション装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001053866A JP3968743B2 (ja) | 2001-02-28 | 2001-02-28 | ボード内光インターコネクション方法と装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001053866A JP3968743B2 (ja) | 2001-02-28 | 2001-02-28 | ボード内光インターコネクション方法と装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002258079A true JP2002258079A (ja) | 2002-09-11 |
| JP2002258079A5 JP2002258079A5 (ja) | 2005-04-07 |
| JP3968743B2 JP3968743B2 (ja) | 2007-08-29 |
Family
ID=18914285
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001053866A Expired - Fee Related JP3968743B2 (ja) | 2001-02-28 | 2001-02-28 | ボード内光インターコネクション方法と装置 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3968743B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6917744B2 (en) | 2002-06-06 | 2005-07-12 | Seiko Epson Corporation | Optical multiplexing and demultiplexing device, optical communication apparatus, and optical communication system |
| WO2006093117A1 (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-08 | Nec Corporation | ２次元アレイ状光素子と光回路の接続構造 |
| JP2007524218A (ja) * | 2003-12-24 | 2007-08-23 | ピレリ・アンド・チ・ソチエタ・ペル・アツィオーニ | チューナブル共鳴格子フィルタ |
| KR100785063B1 (ko) * | 2006-07-04 | 2007-12-12 | 한국생산기술연구원 | 홀로그래픽 회절격자를 이용한 광전 인쇄회로기판 |
| JP2011158907A (ja) * | 2011-02-03 | 2011-08-18 | Pgt Photonics Spa | チューナブル共鳴格子フィルタ |
| CN116344572A (zh) * | 2023-05-30 | 2023-06-27 | 季华实验室 | Micro LED结构及其制备方法 |
-
2001
- 2001-02-28 JP JP2001053866A patent/JP3968743B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US8358892B2 (en) | 2005-02-28 | 2013-01-22 | Nec Corporation | Connection structure of two-dimensional array optical element and optical circuit |
| JP5240821B2 (ja) * | 2005-02-28 | 2013-07-17 | 日本電気株式会社 | ２次元アレイ状光素子と光回路の接続構造 |
| KR100785063B1 (ko) * | 2006-07-04 | 2007-12-12 | 한국생산기술연구원 | 홀로그래픽 회절격자를 이용한 광전 인쇄회로기판 |
| JP2011158907A (ja) * | 2011-02-03 | 2011-08-18 | Pgt Photonics Spa | チューナブル共鳴格子フィルタ |
| CN116344572A (zh) * | 2023-05-30 | 2023-06-27 | 季华实验室 | Micro LED结构及其制备方法 |
| CN116344572B (zh) * | 2023-05-30 | 2023-08-11 | 季华实验室 | Micro LED结构及其制备方法 |
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