JP2002257474A - 高能率冷却式熱処理装置 - Google Patents

高能率冷却式熱処理装置

Info

Publication number
JP2002257474A
JP2002257474A JP2001050373A JP2001050373A JP2002257474A JP 2002257474 A JP2002257474 A JP 2002257474A JP 2001050373 A JP2001050373 A JP 2001050373A JP 2001050373 A JP2001050373 A JP 2001050373A JP 2002257474 A JP2002257474 A JP 2002257474A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heat treatment
chamber
work
cassette
cooling chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001050373A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3908468B2 (ja
Inventor
Yukio Nagano
由亀雄 長野
Tsutomu Hirata
勉 平田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Espec Corp
Original Assignee
Espec Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Espec Corp filed Critical Espec Corp
Priority to JP2001050373A priority Critical patent/JP3908468B2/ja
Priority to TW090114837A priority patent/TW513549B/zh
Priority to KR10-2001-0035986A priority patent/KR100498566B1/ko
Publication of JP2002257474A publication Critical patent/JP2002257474A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3908468B2 publication Critical patent/JP3908468B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B27/00Tempering or quenching glass products
    • C03B27/012Tempering or quenching glass products by heat treatment, e.g. for crystallisation; Heat treatment of glass products before tempering by cooling
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B32/00Thermal after-treatment of glass products not provided for in groups C03B19/00, C03B25/00 - C03B31/00 or C03B37/00, e.g. crystallisation, eliminating gas inclusions or other impurities; Hot-pressing vitrified, non-porous, shaped glass products
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P40/00Technologies relating to the processing of minerals
    • Y02P40/50Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P40/00Technologies relating to the processing of minerals
    • Y02P40/50Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
    • Y02P40/57Improving the yield, e-g- reduction of reject rates

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Tunnel Furnaces (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Furnace Charging Or Discharging (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ガラス基板等のワークの処理能率が良く且つ
常温ロボットを使用可能にする。 【解決手段】 クリーンオーブンは、加熱器22や送風
機23を備え熱風を循環させて熱処理する熱処理室2、
その下で熱処理後のワークWを冷却する冷却室3、両室
間の仕切部材4を通過させてワークWを積載したカセッ
ト1を昇降させる昇降装置7、カセット1の上下位置で
仕切部材4との間で両室間をシールする上下シール装置
5、6等で構成されている。 【効果】 熱処理したワークを積載したカセットを下に
下ろすだけで自動的にシールが形成され冷却室でワーク
を冷却でき、これを常温仕様ロボットで処理済みワーク
搬送ラインに移載することができる。上下室間のカセッ
ト移動時に気体の導通が殆どなく、熱処理室や冷却室で
の処理時間が短縮されワークの処理能率が良い。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、複数の平板状の被
処理物を積載した積載装置を熱処理室内に出し入れして
熱処理するようにした熱処理装置に関し、特に熱処理後
の被処理物の冷却処理技術に関する。
【0002】
【従来の技術】LCDガラス基板等のワークをカセット
に積載して熱処理する装置では、一般に、熱処理室の開
き扉又はスライド開閉式のシャッタを開閉してロボット
やスライド機構等のカセット移動装置によってカセット
を熱処理室に出し入れし、熱処理室の外の冷却ステージ
で熱処理したワークを常温に近い温度まで冷却し、これ
をロボットで搬送ラインのカセットに移載し又はカセッ
ト毎搬送ラインに移載した後、搬送ラインの未処理ワー
クと交換して順次熱処理するようにしている(例えば特
開平10−232089号公報の図11及びその関連説
明参照)。
【0003】このような装置によれば、カセットの動作
が簡単になると共に、ワークを取り扱うためのロボット
を通常製品である常温仕様のロボットにしてそのコスト
を大幅に低減することができる。しかしながら、ワーク
の熱処理終了後、シャッターを開いてカセットを搬出す
るときに熱処理室の熱気が外部に吹き出すという問題が
ある。又、熱処理室内に外気が侵入し、内外気の置換に
よって熱処理室内の温度条件が大幅に乱され、再度熱処
理すべき温度に到達させるために長い時間が必要になる
という問題がある。なお、熱処理終了後に熱処理室内を
十分冷却すれば、熱気の吹き出しの問題は解決するが、
熱処理室の温度条件の回復までに一層長時間を要し、ワ
ークの処理能率が大幅に低下するという問題がある。
【0004】そのため、熱処理室内でカセット又は同様
のワーク積載装置であるゴンドラを1タクトに1段ずつ
昇降させ、熱処理室の一定位置にワークを出し入れする
だけのシール付き開口を設け、この開口を通して外から
ロボットのハンドを出し入れし、1タクトに1枚ずつ熱
処理済みのワークと未処理ワークとを交換するようにし
たカセット使用枚葉処理式熱処理装置が各種提案されて
いる(例えば上記公報、特開平11−016659号、
6−066715号参照)。
【0005】又、熱処理室の前後に予熱室と除冷室とを
備えた熱処理装置において上記と同様の開口を設け、熱
処理室へのワークの出し入れとワーク支持替え移載とを
同時に行い、ワークを1タクトに1枚ずつ昇降させて熱
処理するようにしたワーク支持替え枚葉処理式熱処理装
置も多く提案されている(例えば特開平11−0515
69号、8−110166号公報参照)。
【0006】このような熱処理装置では、ワーク交換時
に扉やこれに相当するシャッターのような大きな開口を
開閉させる必要がないと共に、それぞれワーク移載機構
等において工夫された装置であるが、ロボットハンドを
熱処理室内に出し入れするために、特殊仕様の高価な耐
熱ロボットが必要になるという問題がある。
【0007】又、近年では350℃や500℃という高
温で熱処理されるワークが出現してきていて、熱処理室
内を窒素等の不活性ガスによって低酸素濃度雰囲気にし
てワークを熱処理する場合があるが、そのようなときに
は、ワーク出し入れ用の開口において、外気の侵入やロ
ボットハンドの進退による外気持ち込み等が問題にな
る。更に、上記のような高温処理条件の場合を含めて、
ワークの材料等によって酸化や割れ防止のために温度降
下速度を制限等する必要があり、そのために熱処理室内
においてワークをある程度の温度まで冷却した後排出し
なければならない場合があるが、枚葉処理式の熱処理装
置ではそのような処理ができないという問題がある。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明は従来技術に於
ける上記問題を解決し、耐熱ロボットを使用することな
く、被処理物の処理能率が良く、被処理物の酸化や割れ
の防止が容易であり、特に被処理物の高温熱処理に最適
な熱処理装置を提供することを課題とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、請求項1の発明は、複数の平板状の被処理
物を積載した積載装置を熱処理室に出し入れして熱処理
するようにした熱処理装置において、前記被処理物を冷
却可能なように前記熱処理室の下に設けられた冷却室
と、前記積載装置が前記冷却室に入れられている下位置
と前記熱処理室に入れられいている上位置との間で前記
積載装置を昇降可能にする昇降装置と、前記熱処理室と
前記冷却室との間で前記積載装置が昇降して通過可能な
ように前記熱処理室と前記冷却室との間に張り出して設
けられた仕切部材と、前記積載装置の上端側に設けられ
前記積載装置が前記上位置から前記下位置に下降すると
前記仕切部材に接触して前記熱処理室と前記冷却室との
間をシールするように形成された上シール装置と、前記
積載装置の下端側に設けられ前記積載装置が前記下位置
から前記上位置に上昇すると前記仕切部材に接触して前
記熱処理室と前記冷却室との間をシールするように形成
された下シール装置と、を有することを特徴とする。
【0010】請求項2の発明は、上記に加えて、前記上
シール装置と前記下シール装置とは前記積載装置から分
離可能に形成されていて、前記積載装置が前記冷却室に
あるときには前記上シール装置と前記積載装置との間に
間隔ができるように構成されていることを特徴とする。
【0011】請求項3の発明は、請求項1又は2の発明
の特徴に加えて、前記昇降装置は、前記冷却室の下に位
置する配置スペースに設けられ、前記積載装置の下に結
合された昇降軸と該昇降軸を昇降可能にする昇降駆動手
段とを有することを特徴とする。
【0012】
【発明の実施の形態】図1及び図2は本発明を適用した
熱処理装置としてのクリーンオーブンの全体構成の一例
を示す。クリーンオーブンは、複数の平板状の被処理物
としてのLCDガラス基板等から成るワークWを積載し
た積載装置としてのカセット1を熱処理室2に出し入れ
して熱処理するようにした装置であり、ワークWを冷却
可能なように熱処理室2の下に設けられた冷却室3、熱
処理室2と冷却室3との間でカセット1が昇降して通過
可能なようにこれらの室の間に張り出して設けられた仕
切部材4、上シール装置5、下シール装置6、カセット
1が冷却室3に入れられている下位置と熱処理室2に入
れられている上位置との間でカセット1を昇降可能にす
る昇降装置7、等で構成されている。
【0013】本例のカセット1は、図3に示す如く、上
板11、下板12、枠体を構成するようにこれらの間を
結合する8本の支柱13、中間部分の支柱13(1
1 )に支持されワークWを乗せる棒状のワーク受け1
4、両端の支柱13(132 )にに取り付けられワーク
Wの進退方向であるY方向の両端を受けるストッパ部材
15、等で構成されている。
【0014】熱処理室2は、空調部分を含んで断熱ケー
シング21で囲われていて、その中には、矢印で示す循
環気体の流れ方向の順に、加熱器22、モータ23aで
駆動される送風機23、高性能フィルタ24等が通常の
機器として配設されている。又本例の装置では、熱処理
室内を冷却するための水クーラ25が設けられている。
符号26a、26bは加熱器22を使用する熱処理工程
と水クーラ25を使用する熱処理後の冷却工程とで気体
流路を切り換えるためのダンパーである。又、外部から
窒素を導入するための窒素接続口27、熱処理室内の圧
力調整用の図示しないダンパーを内蔵した排気筒28、
等が設けられている。
【0015】符号100は配管及びメンテナンススペー
スである。又、熱処理室2の下方は上記冷却室3及び機
械電気室200になっている。そして、これらの部分は
設置面上に据付脚301を備えた構造体300によって
一体的に支持されている。又、図示していないが別置き
として操作制御盤が設けられる。
【0016】冷却室3には、空冷装置8及び排気ダクト
9が接続されている。空冷装置8は、独立した冷却用ク
リーンモジュールになっていて、図示を省略している
が、送風機、高性能フィルタ等を含む空調機器を備えて
いて、外気を取り入れて低温の清浄な空気にして冷却室
3に供給する装置である。
【0017】仕切部材4は、熱処理室2と冷却室3との
間に設けられ上側面41と下側面42と端面43とを備
えていて両室の壁面から縁状に張り出した張出部材にな
っている。本例のものは、熱処理室2を囲う下側の断熱
ケーシングを切り欠いでカセット1が通過可能な開口を
形成するように設けられている。
【0018】図4及び図5はシール部分の構造例を示
す。上シール装置5は、図4の二点鎖線で示す如く、又
図5に細部を示す如く、カセット1の上端側として本例
では上端の上板11の上に設けられていて、カセット1
が熱処理室2に入れられている上位置から冷却室3に入
れられている下位置に下降すると仕切部材4に接触して
両室の間をシールするように形成されている。即ち、本
例では、上板11の上に取り付けられシール時に仕切部
材4の端面43と対向するように形成された上介装体5
1、その上に取り付けられたシール枠体52、これと係
合するように仕切部材4の上側面41に取り付けられた
受け枠体41a、等で構成されている。シール枠体52
は、上下間隔が調整可能なように上介装体51に取り付
けられた支持ピン51aに上方に余裕を持つように嵌め
込まれいる。上記においてカセット1が冷却室3に入れ
られている下位置では、二点鎖線で示すカセット1の下
板12がL1 位置になっている。
【0019】下シール装置6は、図4の実線で示す如
く、又図5に細部を示す如く、カセット1の下端側とし
て本例では下端の下板12の下に設けられていて、カセ
ット1が冷却3に入れられている下位置から熱処理室2
に入れられている上位置に上昇すると仕切部材4に接触
して両室の間をシールするように形成されている。即
ち、本例では、下板12の下に取り付けられシール時に
仕切部材4の端面43と対向するように形成された下介
装体61、その張り出し部分61a、この部分及び仕切
部材4の下側面42にそれぞれ取り付けられた接触部材
62及び42a、等で構成されている。なお、接触部材
は互いに反対側部分に取り付けられてもよい。又、シー
ル部分としては、これらの接触部材62及び42aと同
様の形状のもの又は他の適当な形状のものをダブルシー
ル状に設けてもよい。更に、仕切部材の端面43と上下
介装体51、61の端面との間に適当な構造のシール装
置を設けることも可能である。上記においてカセット1
が熱処理2に入れられている上位置では、実線で示すカ
セット1の下板12がL2 位置になっている。
【0020】なお以上では、上下介装体51及び61が
カセット1の上下板11及び12に別体として取り付け
られている例を示したが、これらはカセット部分に一体
として形成されていてもよい。
【0021】図6は昇降装置の構成例を示す。昇降装置
7は、カセット1を前記下位置L1 と上位置L2 との間
で昇降可能にする機構であり、本例ではボールネジとリ
ニアガイドを利用した機構を採用していて、下介装体6
1を介してカセット1に結合された昇降軸71、昇降軸
71を昇降可能にする昇降駆動手段として、昇降軸71
に結合された昇降ブロック72aと一体化されたボール
ナット72、上下の軸受73a及び73bに回転自在に
支持され回転されることによってボールナット72を昇
降させ昇降ブロック72aを介して昇降軸71を昇降さ
せるボールネジ73、これを従動プーリ74a、歯付き
ベルト74b及び駆動プーリ74cを介して回転させる
モータ74、昇降軸71と結合されこれを上下方向にガ
イドするリニアガイドの移動体75及びガイドレール7
6、等によって構成されている。
【0022】昇降装置7を構成するこれらの機械類は、
冷却室3の下に位置する配置スペースである昇降機械室
77に配置されている。昇降装置の軸受73a、73
b、モータ74及びガイドレール76は昇降機械室77
の図示しない構造体や据付台に適当に固定支持されてい
る。なお、昇降装置7としては、本例のものに限らす、
エアーシリンダ装置やラックとピニオン機構等を用いた
下から昇降させる装置や巻取り機等を用いた吊り上げ吊
り下げ式装置など公知の適当な機構の各種装置を使用す
ることができる。
【0023】図7は、本発明を適用したクリーンオーブ
ンによる熱処理ラインの構成例を示す。本例の熱処理ラ
インは、クリーンオーブンA1 及びA2 の2基を1組に
した熱処理装置を配置した装置ラインA、それぞれのク
リーンオーブンの冷却室3に対向する位置に共用として
1台の走行ロボット400を配置したロボットライン
B、及び、熱処理前後のワークWを積載したカセット1
´を搬送させるローラコンベア等から成るカセットライ
ンCで構成されている。なお、このようなクリーンオー
ブンを複数組配置した熱処理ラインにすることもある。
【0024】熱処理装置がこのような熱処理ラインとし
て配置されるときに、本例の熱処理装置のように、昇降
装置7を冷却室3の下の昇降機械室77に配置してカセ
ット1をその下から昇降軸71によって昇降させるよう
にすれば、冷却室3と同レベルの周囲の何れの面にも昇
降機械用のスペースが不要になるので、無駄のない合理
的な配置が可能になり、工場等のスペースを有効利用す
ることができる。
【0025】又、走行ロボット400で冷却室3に下ろ
されているカセット1のワークWを搬出入するときに、
冷却室3を適当な高さ位置にすることができる。更に、
熱処理室2にワーク予冷用の水クーラ25やダンパー2
6a、26bを含む風路スペース等が必要になるとき
に、熱処理室3の下であって冷却室3の横のスペースを
昇降機械室にすることなく、熱処理室の一部として利用
できるので、熱処理装置の大型化を回避することができ
る。
【0026】ロボット400は、本例では、ロボットラ
インB上を走行して2基のクリーンオーブンのワークを
1台で処理できるように配設されていて、本体部40
1、回転自在のアーム402、アームの先端に取り付け
られワークを吸着支持してアームの旋回によって伸縮す
ると共に昇降して各段のワークを装置ラインAとカセッ
トラインCとの間で移載するハンド403、等によって
構成されている。
【0027】以上のようなクリーンオーブンは次のよう
に運転されその作用効果を発揮する。なお、通常、カセ
ットラインでのカセットの搬送及びロボットの動作はそ
れぞれの図示しない制御装置によって自動化されている
と共に、クリーンオーブン側のカセットの昇降、熱処理
室及び冷却室の温度、窒素供給量、熱処理室内の酸素濃
度、圧力等は適当にセンサ類が設けられて図示しない操
作制御盤又は機側において自動制御されているが、以下
では制御関係についての説明を省略する。
【0028】ワークWを例えば25段に積載したカセッ
ト1´がカセットラインCに搬送されて来ると、ロボッ
ト400が作動してそのハンド403がカセット1´か
らワークWを1枚ずつ搬出し、これをクリーンオーブン
側の冷却室3内にあるカセット1に25段に積載する。
このとき、冷却室内は常温になっているので、ロボット
400は常温仕様のものでよい。
【0029】冷却室3のカセット1にワークWが積載さ
れると、昇降装置4が作動する。即ち、モータ74が回
転し、トルク伝達部分を介してボールネジ73が回転
し、ボールナット72が上昇して昇降ブロック72aを
介して昇降軸71を上昇させ、この軸に結合された移動
体75がガイドレール76に沿って上昇して昇降軸71
の上昇軌道を正しく維持し、この軸の上端に結合された
下介装体61を介してカセット1が上昇し、最初にL1
位置にあったカセットの下板12がL2 位置になると昇
降装置4が停止する。
【0030】このとき、接触部材62と42aとが圧接
し、下仕切部材4の下側面42と下介装体61との間が
シールされ、その結果熱処理室2と冷却室3との間が完
全に遮断される。この場合、上下配置になった両室間で
カセットを昇降移動させるようにしているので、従来の
横並び配置にしたときのように両室間に扉やシャッター
を設けることなく、閉鎖のための駆動装置や時間を全く
必要としない単なるシール装置によって簡易に且つ自動
的に両室間の開口を遮断することができる。
【0031】図8は以上のようなクリーンオーブンによ
る熱処理プロセスの一例を示す。カセット1が熱処理室
2に入れられると熱処理工程が開始される。本例のクリ
ーンオーブンはワークを低酸素雰囲気の下で500℃又
は350℃で焼成する装置であるため、窒素接続口27
から窒素を供給しつつ排気筒28から空気を排出し、熱
処理室2内をN2 で置換する。又、N2 置換と並行し
て、加熱器22をオンにして送風機23を運転し、室内
ガスを循環させてこれを低酸素濃度化しつつまず中間温
度t1 まで上昇させ、更に焼成温度t2 まで昇温させ、
一定時間この温度に維持してワークを焼成する。
【0032】ワークの焼成が終了すると、加熱器22を
オフにし、ダンパー26a、26bを図1(b)の実線
の位置から二点鎖線の位置に切り換え、水クーラ25を
運転し、熱処理をしたときの低酸素濃度雰囲気の状態で
試験室内をほぼ中間温度t1まで冷却する。
【0033】このような運転において、熱処理室と冷却
室とで気体の導通が遮断されていると共に、枚葉処理式
装置のようにワークを出し入れする開口がないので、高
温で熱処理するワーク等に対して上記の如く低酸素雰囲
気での運転が可能になる。又、ワーク全体を同時に熱処
理する装置であるため、ワークを熱処理室内で中間温度
まで冷却することが可能になる。その結果、冷却室3の
通常酸素濃度になっている常温空気にワークを曝したき
とに、その酸化や割れを確実に防止することができる。
【0034】熱処理室内の温度がほぼt1 になると、省
エネ及び窒素節約のために熱処理室内への窒素の供給を
停止するが、熱処理室内の低酸素濃度雰囲気を変えるこ
となくそのままの状態にして昇降装置4を作動させ、今
度はカセット1を下板12のL2 位置からL1 位置まで
下降させる。このとき、接触部材62と42aとの接触
が解除され、熱処理室2と冷却室3との間が導通する
が、冷却室3の常温空気に較べて熱処理室の気体温度t
1 は200℃程度であるため、上下の気体の1.5倍以
上の比重差により、両気体の混合、冷却室への熱気の吹
き出し及び熱処理室の温度低下は僅かな程度に止まる。
【0035】又、ワークを積載したカセットが下降する
ときには、ワークが熱処理室の気体を随伴するが、ワー
ク自体が順次仕切部の開口の大部分を閉鎖しつつ下降す
るので、両室間の気体の流通、混合はごく僅かな程度に
止まる。その結果、熱処理室内をt1 に近い温度に維持
することができる。又、冷却室内の温度もそれ程上昇し
ない。なお、従来の装置で両室が横並びに配置されてい
る場合には、両室間をカセットが通過するときに扉やシ
ャッターを開ける必要があるため、熱気が瞬時に冷却室
に吹き出すと共に冷却室の冷気が熱処理室に侵入し、ほ
ぼ全面的に気体の混合現象が生じ、両室内の雰囲気が大
幅に乱されるが、本発明によればこのような不具合がほ
ぼ完全に防止される。
【0036】カセット1が下板12のL2 位置になる
と、今度は上介装体51のシール枠体52が仕切部材4
の上側面41の受け枠体41a内に入ってこれと接触
し、カセットの通過する開口に蓋をする形で熱処理室2
と冷却室3との間を完全に遮断する。その結果、それぞ
れの室内の温度条件が維持されると共に、熱処理室2内
の低酸素雰囲気もある程度維持される。
【0037】この場合、本発明の上シール装置5によれ
ば、カセット1の昇降動作を利用して自動的に両室間の
導通を遮断できるので、扉やシャッターを設ける場合の
ようにこれらを開閉する操作や制御が不要になり、操作
や制御のための複雑な機構が不要になること、従って装
置コストが安価になること、扉やシャッターのスペース
も不要になり配置構成が容易になると共に装置全体の小
形簡素化が図られること、扉等の開閉がなくなるため、
カセット1が冷却室3に降りたときにその上部が開いて
いる間の多大な気体導通がなくなること、運転時間も短
縮されること、等の種々作用効果を得ることができる。
【0038】冷却室3では、内部のクリーン状態を維持
するために通常空冷装置8が常時運転されていて、これ
により、外部から取り入れた空気を、清浄な冷却空気に
して送風機で冷却室3に供給し、カセット1内に積載さ
れたワークWの間を通過させてこれを冷却し、排気ダク
ト9から外部に排出する。これにより、ワークの表面温
度をロボットハンドリングの可能な温度であるt3 =7
0℃以下にする。冷却室3の温度は最終的にクリーンオ
ーブンが設置されているクリーンルームの温度t4 =2
3℃にされる。
【0039】冷却室内での冷却工程が終了すると、ロボ
ット400が作動してワークWをカセットラインCのカ
セット1´に移載する。この場合、ワークが十分冷却さ
れているので、これを扱うロボットを耐熱ロボットでな
く常温仕様のものにすることができる。その結果、一般
市販品のロボットを採用でき、熱処理設備全体としての
コスト低減を図ることができる。又、ロボット自体の耐
久性や信頼性を向上させることができる。
【0040】熱処理済みのワークの移載が完了すると、
カセットラインCに次の未処理ワークを積載したカセッ
ト1´が搬送されて来て、冷却室内のカセット1へのワ
ークの移載から熱処理済みワークのカセット1´への搬
出までのこれまで説明した工程が繰り返され、カセット
ラインのワークが順次熱処理されて行く。一方、クリー
ンオーブンA2 では、A1 と共用のロボット400によ
り、A1 での処理工程と位相をずらせた工程が並行して
行われる。
【0041】本発明によれば、以上のような熱処理工程
を大幅に合理化することができる。即ち、順次繰り返さ
れる熱処理工程において、熱処理室内を低酸素雰囲気で
且つ中間温度t1 に近い温度に維持できるため、N2
換に必要な窒素量を十分少なくし、運転コストを下げる
ことができると共に、N2 置換のための時間及び供給さ
れる常温窒素を昇温させて熱処理室内を中間温度t1
到達させるための時間を十分短くすることができる。
【0042】又、カセット1が熱処理室2から冷却室3
へ移動するときに冷却室3への熱気の吹き出しが僅かな
程度に止まるので、このときの熱処理室の熱気が十分低
い酸素濃度になっていても、熱処理室でのワークの予冷
が終了すると、その雰囲気を変えるような操作をするこ
となくそのままの状態で直ちにカセットを冷却室に下ろ
し、冷却室で冷却工程を実施することができる。その結
果、熱処理工程から冷却工程に移行するときに余分な操
作や時間を不要にして、工程の合理化と処理時間の短縮
を図ることができる。
【0043】以上のように本発明を適用した熱処理設備
を使用したワーク処理プロセスにおいて、図9に基づい
て温度及び処理時間の一例を挙げれば次のとおりであ
る: ワーク焼成温度 350℃ 500℃ 熱処理室の中間温度 t1 約200℃ 350℃ 熱処理室の最終設定温度 t2 350℃ 500℃ 冷却後のワーク温度 t3 70℃以下 70℃以下 N2 置換及びN2 昇温時間T1 13分 13分 昇温時間 T2 28分 38分 設定温度キープ時間 T3 60分 60分 熱処理室での降温時間 T4 14分 30分 冷却室での冷却時間 T5 15分 15分 合計プロセスタイム T 130分 156分 以上の結果によれば、これまで述べたように熱処理室雰
囲気を昇温させる温度幅が小さくなるためT1 +T2
間が短くなると共に、低酸素雰囲気で降温するためT4
+T5 の合計降温時間が短くなっていて、従来の扉開閉
式の熱処理装置の場合よりも全プロセス時間が大幅に短
縮されている。又、このように熱交換時間が短縮される
ので、消費エネルギーが少なくなり、本発明のクリーン
オーブンによれば運転時の省エネ化を図ることもでき
る。なお、ワーク焼成温度が500℃のときに、熱処理
室の中間温度t1 をワーク焼成温度が350℃のときと
同じ200℃にすることも可能である。但し、このとき
には、昇温時間が約51分かかり多少長くなる。
【0044】図9は本発明を適用したクリーンオーブン
の他の例を示す。本例のクリーンオーブンは、上下シー
ル装置5、6がカセット1から分離可能に形成されてい
て、図示の如くカセット1が冷却室3にあるときには上
シール装置5とカセット1との間に間隔dができるよう
に構成されている。この場合、図示を省略しているが、
カセット1と上下介装体51、61との間では、両者間
の相対的位置が定まるようにガイド部材等の適当な位置
決め機構が設けられ、カセット1を介して上下シール装
置が常に定まった位置で昇降され、そのシール部分が仕
切部材4側に確実に接触してシールできるようにされ
る。
【0045】なお、図において二点鎖線で示す如く、上
下のシール装置5、6を構成する上下介装体51、61
間を支柱53で連結し、これらを一体のシール構造体と
して昇降装置7の昇降軸71に固定するようにしてもよ
い。その場合には、上下介装体51、61に対するカセ
ット1の位置決め部分を省略できる可能性がある。
【0046】本例の装置では、冷却室3には一体又は別
体の上下シール装置5、6のみが常設される。そして、
例えばクリーンオーブンの両側にロボットラインB及び
カセットラインCが設けられ、一方側のカセットライン
から未処理ワークを搭載したカセット1がロボット等の
移載装置によって下介装体61の上に移載され、これら
が昇降してワークの熱処理が完了すると、処理済みワー
クを搭載した同じカセット1が別の移載装置によって他
方側のカセットラインに移載されることになる。この場
合、上シール装置5とカセット1との間には前記の如く
間隔dが開けられているので、カセット1を上下介装体
の間に乗せることができる。
【0047】本例のような装置によれば、冷却室と外部
搬送ラインとの間でロボットハンドによってワークを1
枚ずつ移載する必要がなくなるので、ワークハンドリン
グ時間が短縮され、全熱処理時間の一層の短縮を図るこ
とができる。
【0048】なお以上では、クリーンオーブンでのワー
クの処理温度が350℃又は500℃程度の通常温度よ
りも高温で且つN2 置換をする場合について説明した。
本発明は、このように処理温度が350℃乃至500℃
程度で通常温度よりも高温である場合や、N2 等の不活
性ガス置換によって熱処理環境を低酸素雰囲気にする装
置に極めて効果的に適用される。但し、冷却室を有し熱
処理後にワークを冷却する熱処理装置に対して本発明を
広く適用することができることは勿論である。そして、
その場合でも、熱処理工程と冷却工程の切換時における
熱処理室雰囲気の維持、冷却室への熱気の吹き出し防
止、常温ロボットの採用、運転の省エネ化等の十分な作
用効果を得ることができる。
【0049】
【発明の効果】以上の如く本発明によれば、請求項1の
発明においては、被処理物を冷却可能なように熱処理室
の下に冷却室を設け、被処理物を積載した積載装置が昇
降して通過可能なように熱処理室と冷却室との間に張り
出した仕切部材を設け、積載装置が冷却室に入れられて
いる下位置と熱処理室に入れられている上位置との間で
積載装置を昇降装置によって昇降可能にし、更に上下シ
ール装置を積載装置の上下端側に設けて、積載装置が上
下位置間で昇降すると仕切部材に接触して熱処理室と冷
却室との間をシールするように上下シール装置を形成す
るので、それぞれの室の雰囲気を殆ど乱すことなく積載
装置を熱処理室と冷却室との間で昇降させて被処理物の
熱処理及び冷却処理をすることができる。その結果、熱
処理時の昇温時間を短縮し、処理能率を向上させること
ができる。又、熱処理室内雰囲気の冷却室への吹き出し
を防止し、冷却室及びこれが装備されるクリーンルーム
の温度を含む環境条件を維持することができる。又、運
転時の省エネ化を図ることができる。
【0050】更に、上記の如く上下配置になった両室間
でカセットを昇降移動させると共に上下シール装置を積
載装置の上下端側に設けて積載装置の上下位置間の昇降
動作を利用してシール装置を仕切部材に接触させること
によって自動的にシール状態を形成させるので、従来の
熱処理のように両室間の扉やシャッター設備が不要にな
り、それに伴って扉等の開閉装置や開閉制御及び開閉の
ための余分の時間を不要にし、シール性の大幅な向上に
加えて、装置の小形簡素化、低コスト化、処理時間の短
縮等を図ることができる。
【0051】又、熱処理済みの被処理物を熱処理室との
間をシールして冷却室で冷却処理できるので、冷却室か
ら被処理物又はこれと共に積載装置を外部の生産ライン
等に移載するときに、耐熱ロボットでなく汎用ロボット
を使用でき、コスト低減とロボットの信頼性や耐久性を
向上させることができる。
【0052】そして更に、熱処理室に開口を設けてこれ
から被処理物を出し入れして熱処理する枚葉処理式の装
置でなく熱処理室の閉鎖性が高いため、特に高温熱処理
等の場合に室内雰囲気を不活性ガス置換して低酸素濃度
運転をすることができる。その場合、熱処理室と冷却室
との間のシール性を保持して積載装置を昇降できるの
で、低酸素雰囲気が余り乱されず、供給する窒素等の量
を少なくすることができると共に、不活性ガス置換のた
めの時間を短くして熱処理室の昇温時間を短縮すること
ができる。
【0053】又、被処理物全体を熱処理室内である程度
冷却した後外に出して更に冷却することにより、被処理
物の酸化や割れ等を完全に防止することが可能になる。
このような予冷を低酸素雰囲気で行うときには、冷却室
への低酸素雰囲気の吹き出しが殆どないため、低酸素雰
囲気の状態でそのまま冷却工程に移行でき、全体的冷却
時間を短縮することができる。
【0054】以上の如く、請求項1の発明によれば、複
数の被処理物の積載装置による一体熱処理方式において
熱処理室と冷却室との上下配置とその間の仕切部材とこ
の部分を通過させる昇降装置と通過前後での自動シール
形成式のシール装置とを有機的に組み合わせることによ
り、種々の重要な作用効果を発生させることができる。
【0055】請求項2の発明においては、上シール装置
と下シール装置とを積載装置から分離可能に形成し、積
載装置が冷却室にあるときには上シール装置と積載装置
との間に間隔ができるように構成するので、ロボット等
の搬送装置により、積載装置を上記間隔内で持ち上げ
て、上下シール装置をそれぞれシール部分及び昇降装置
部分に残した状態で積載装置だけを冷却室から外部に搬
入・搬出することができる。その結果、外部の搬送ライ
ンに熱処理されるべき被処理物を積載した新たな積載装
置を準備しておくような工程を組むことにより、被処理
物自体を積載装置に出し入れすることなく、これを積載
した積載装置を冷却室に出し入れし、短時間で次の熱処
理を開始することができる。その結果、熱処理能率を一
層向上させることができる。
【0056】請求項3の発明においては、昇降装置を、
冷却室の下に位置する機械配置スペースに設けて、積載
装置の下に結合された昇降軸と昇降軸を昇降可能にする
昇降駆動手段とを有する構成にするので、冷却室の下の
配置スペースは昇降装置によって占有されるが、冷却室
と同レベルの周囲スペースを昇降装置のための占有スペ
ースから完全に解放することができる。
【0057】その結果、工場において熱処理装置を熱処
理ラインに配備するときに、無駄のない合理的な配置が
可能になり、工場等のスペースを有効に利用することが
できる。又、冷却室で積載装置に積載された平板状の被
試験物をロボット等で搬出入するときに、昇降装置のス
ペースを冷却室の下に配置することによって冷却室を適
当な高さ位置にして、ロボット等の被試験物ハンドリン
グ装置との高さ位置のバランスを良くすることができ
る。更に、冷却室の横の一部分を熱処理のための延長部
分として利用することも可能になり、例えば高温熱処理
の必要な被試験物の場合において熱処理室内に予冷装置
を設けるようなときには、熱処理装置の全体寸法を大き
くすることなくそのような追加装置の配置を可能にする
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を適用した熱処理装置であるクリーンオ
ーブンの説明図で、(a)及び(b)はそれぞれ熱処理
室横断面及び熱処理室と冷却室部分の縦断面を示す。
【図2】図1(a)のA−A矢視部分の説明図である。
【図3】(a)及び(b)はカセットの構造例を示す平
面図及び正面図である。
【図4】上記クリーンオーブンのシール装置部分の説明
図である。
【図5】(a)及び(b)は上記シール装置部分を拡大
して示した説明図である。
【図6】昇降装置の説明図で、(a)は正面状態で
(b)は平面状態を示す。
【図7】上記クリーンオーブンによる熱処理ラインの説
明図で、(a)は平面状態で(b)は正面状態を示す。
【図8】熱処理時の時間に対する温度変化の状態を示す
説明図である。
【図9】シール装置部分の他の例を示す説明図である。
【符号の説明】
1 カセット(積載装置) 2 熱処理室 3 冷却室 4 仕切部材 5 上シール装置 6 下シール装置 7 昇降装置 71 昇降軸 72 ボールナット72(昇降駆動手
段) 73 ボールネジ(昇降駆動手段) 74 モータ(昇降駆動手段) 75 リニアガイドの移動体(昇降駆動
手段) 76 ガイドレール(昇降駆動手段) d 間隔 L1 下位置 L2 上位置 W ワーク(被処理物)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4K050 AA02 BA07 BA16 CA09 CA13 CF04 CF14 CG29 DA01 4K055 AA06 BA03 BA05 HA02 HA29 5E343 AA01 AA22 FF11 GG20

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の平板状の被処理物を積載した積載
    装置を熱処理室に出し入れして熱処理するようにした熱
    処理装置において、 前記被処理物を冷却可能なように前記熱処理室の下に設
    けられた冷却室と、前記積載装置が前記冷却室に入れら
    れている下位置と前記熱処理室に入れられいている上位
    置との間で前記積載装置を昇降可能にする昇降装置と、
    前記熱処理室と前記冷却室との間で前記積載装置が昇降
    して通過可能なように前記熱処理室と前記冷却室との間
    に張り出して設けられた仕切部材と、前記積載装置の上
    端側に設けられ前記積載装置が前記上位置から前記下位
    置に下降すると前記仕切部材に接触して前記熱処理室と
    前記冷却室との間をシールするように形成された上シー
    ル装置と、前記積載装置の下端側に設けられ前記積載装
    置が前記下位置から前記上位置に上昇すると前記仕切部
    材に接触して前記熱処理室と前記冷却室との間をシール
    するように形成された下シール装置と、を有することを
    特徴とする熱処理装置。
  2. 【請求項2】 前記上シール装置と前記下シール装置と
    は前記積載装置から分離可能に形成されていて、前記積
    載装置が前記冷却室にあるときには前記上シール装置と
    前記積載装置との間に間隔ができるように構成されてい
    ることを特徴とする請求項1に記載の熱処理装置。
  3. 【請求項3】 前記昇降装置は、前記冷却室の下に位置
    する配置スペースに設けられ、前記積載装置の下に結合
    された昇降軸と該昇降軸を昇降可能にする昇降駆動手段
    とを有することを特徴とする請求項1又は2に記載の熱
    処理装置。
JP2001050373A 2001-02-26 2001-02-26 高能率冷却式熱処理装置 Expired - Lifetime JP3908468B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001050373A JP3908468B2 (ja) 2001-02-26 2001-02-26 高能率冷却式熱処理装置
TW090114837A TW513549B (en) 2001-02-26 2001-06-19 Highly effective cooling type thermal treatment unit
KR10-2001-0035986A KR100498566B1 (ko) 2001-02-26 2001-06-23 고능률 냉각식 열처리장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001050373A JP3908468B2 (ja) 2001-02-26 2001-02-26 高能率冷却式熱処理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002257474A true JP2002257474A (ja) 2002-09-11
JP3908468B2 JP3908468B2 (ja) 2007-04-25

Family

ID=18911339

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001050373A Expired - Lifetime JP3908468B2 (ja) 2001-02-26 2001-02-26 高能率冷却式熱処理装置

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP3908468B2 (ja)
KR (1) KR100498566B1 (ja)
TW (1) TW513549B (ja)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009001466A1 (ja) * 2007-06-28 2008-12-31 Fujitsu Microelectronics Limited 熱処理装置、及び半導体装置の製造方法
JP2009007193A (ja) * 2007-06-27 2009-01-15 Kwansei Gakuin 熱処理装置及び熱処理方法
WO2009026765A1 (en) * 2007-08-29 2009-03-05 Acm Research (Shanghai) Inc. Method and apparatus for thermal treatment of semiconductor workpieces
CN102410731A (zh) * 2011-12-19 2012-04-11 青岛赛瑞达设备制造有限公司 热风循环系统及加热冷却炉
KR101149844B1 (ko) 2010-04-30 2012-05-24 (주) 대홍기업 세라믹 소결장치
CN103925787A (zh) * 2014-05-06 2014-07-16 胡妍 一种可移动隧道炉
CN105651045A (zh) * 2014-05-06 2016-06-08 曹新民 一种利用热风循环进行加热的可移动高温隧道炉
CN109678328A (zh) * 2019-03-01 2019-04-26 夏美佳 一种超薄玻璃均匀加热装置
CN112811804A (zh) * 2021-03-02 2021-05-18 彩虹(合肥)液晶玻璃有限公司 一种玻璃基板温度降低装置
KR20220014018A (ko) * 2020-07-28 2022-02-04 (주) 엔피홀딩스 서브 도어를 포함하여 열처리 챔버로의 흄 가스 유입을 차단하는 화학 강화로 및 이를 이용한 초박형 글라스의 강화 방법
JP2022161502A (ja) * 2021-04-09 2022-10-21 中外炉工業株式会社 工業炉

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100600398B1 (ko) * 2004-09-21 2006-07-19 미래산업 주식회사 유리성형 장치
KR101141406B1 (ko) 2010-03-25 2012-05-03 김한곤 박판유리 강화열처리장치에 구비되는 유리 적재용 카세트
CN105651046B (zh) * 2014-05-06 2017-07-07 李建勋 可移动高温隧道炉
CN105674736B (zh) * 2014-05-06 2017-09-22 赵牧青 利用热风循环进行加热的可移动高温隧道炉

Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009007193A (ja) * 2007-06-27 2009-01-15 Kwansei Gakuin 熱処理装置及び熱処理方法
US8889432B2 (en) 2007-06-28 2014-11-18 Fujitsu Semiconductor Limited Heat treatment apparatus and method of manufacturing semiconductor device
US8425226B2 (en) 2007-06-28 2013-04-23 Fujitsu Semiconductor Limited Heat treatment apparatus and method of manufacturing semiconductor device
JP5304647B2 (ja) * 2007-06-28 2013-10-02 富士通セミコンダクター株式会社 熱処理装置、及び半導体装置の製造方法
WO2009001466A1 (ja) * 2007-06-28 2008-12-31 Fujitsu Microelectronics Limited 熱処理装置、及び半導体装置の製造方法
WO2009026765A1 (en) * 2007-08-29 2009-03-05 Acm Research (Shanghai) Inc. Method and apparatus for thermal treatment of semiconductor workpieces
US8383429B2 (en) 2007-08-29 2013-02-26 Acm Research (Shanghai) Inc. Method and apparatus for thermal treatment of semiconductor workpieces
KR101149844B1 (ko) 2010-04-30 2012-05-24 (주) 대홍기업 세라믹 소결장치
CN102410731A (zh) * 2011-12-19 2012-04-11 青岛赛瑞达设备制造有限公司 热风循环系统及加热冷却炉
CN103925787B (zh) * 2014-05-06 2016-03-09 胡妍 一种可移动隧道炉
CN103925787A (zh) * 2014-05-06 2014-07-16 胡妍 一种可移动隧道炉
CN105651045A (zh) * 2014-05-06 2016-06-08 曹新民 一种利用热风循环进行加热的可移动高温隧道炉
CN105651045B (zh) * 2014-05-06 2017-07-07 高燕妮 一种利用热风循环进行加热的可移动高温隧道炉
CN109678328A (zh) * 2019-03-01 2019-04-26 夏美佳 一种超薄玻璃均匀加热装置
CN109678328B (zh) * 2019-03-01 2023-05-23 江西和创光电股份有限公司 一种超薄玻璃均匀加热装置
KR20220014018A (ko) * 2020-07-28 2022-02-04 (주) 엔피홀딩스 서브 도어를 포함하여 열처리 챔버로의 흄 가스 유입을 차단하는 화학 강화로 및 이를 이용한 초박형 글라스의 강화 방법
KR102630337B1 (ko) * 2020-07-28 2024-01-29 (주) 엔피홀딩스 서브 도어를 포함하여 열처리 챔버로의 흄 가스 유입을 차단하는 화학 강화로 및 이를 이용한 초박형 글라스의 강화 방법
CN112811804A (zh) * 2021-03-02 2021-05-18 彩虹(合肥)液晶玻璃有限公司 一种玻璃基板温度降低装置
CN112811804B (zh) * 2021-03-02 2022-08-30 彩虹(合肥)液晶玻璃有限公司 一种玻璃基板温度降低装置
JP2022161502A (ja) * 2021-04-09 2022-10-21 中外炉工業株式会社 工業炉
JP7408253B2 (ja) 2021-04-09 2024-01-05 中外炉工業株式会社 工業炉

Also Published As

Publication number Publication date
JP3908468B2 (ja) 2007-04-25
TW513549B (en) 2002-12-11
KR100498566B1 (ko) 2005-07-01
KR20020070056A (ko) 2002-09-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002257474A (ja) 高能率冷却式熱処理装置
KR101168102B1 (ko) 가열 장치, 가열 방법, 도포 장치 및 기억 매체
JPH10270523A (ja) 基板処理装置、並びに基板搬送装置及び基板移載装置
KR100616298B1 (ko) 슬라이드 슬릿식 열처리장치
CN211522263U (zh) 一种固熔炉及金属热加工生产线
JP4054597B2 (ja) 熱風循環式オーブン
JP3274089B2 (ja) ハイブリッド型熱処理装置
JP3851784B2 (ja) 多段加熱板式熱処理装置
KR20060051254A (ko) 기판소성장치
CN215757507U (zh) 密封箱式热处理多用炉自动生产线装置
JPH10270307A (ja) 基板処理装置
JP5280901B2 (ja) 基板処理システムおよび基板処理方法
KR20040110975A (ko) 처리시스템
KR20220136131A (ko) 연속 가열로
CN221701375U (zh) 一种玻璃退火窑热风回收利用装置
CN114197056A (zh) 一种半导体材料退火装置及退火方法
JP2004214689A (ja) 基板処理装置
US5788484A (en) Rapid cycle treatment oven
JP3662893B2 (ja) 熱処理装置
TW202101646A (zh) 基板收容裝置
JP2000274952A (ja) 熱処理システム
KR100364089B1 (ko) 진공 버퍼 챔버를 구비한 핫플레이트 장치
CN221593386U (zh) 一种全自动立式烤炉
WO2023233961A1 (ja) 熱処理システム及び熱処理炉が備える雰囲気置換構造
JPH0726694U (ja) 連続式熱処理炉

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20040331

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070116

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070118

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 3908468

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110126

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110126

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120126

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120126

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130126

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130126

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140126

Year of fee payment: 7

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term