JP2002255975A - ヒドロシリル化方法 - Google Patents

ヒドロシリル化方法

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JP2002255975A JP2001055187A JP2001055187A JP2002255975A JP 2002255975 A JP2002255975 A JP 2002255975A JP 2001055187 A JP2001055187 A JP 2001055187A JP 2001055187 A JP2001055187 A JP 2001055187A JP 2002255975 A JP2002255975 A JP 2002255975A
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    • Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 二重結合への付加反応においてβ付加物の生
成割合を向上させ、また副生物が生成する場合は主生成
物の生成割合を向上させるヒドロシリル化方法を提供す
る。 【解決手段】 ｃ）一般式ＨＳｉＲ13 3の化合物とｄ）
不飽和炭化水素基含有化合物のヒドロシリル化反応を、
ａ）一般式ＨＲ2 Ｓｉ−Ｒ1 −Ｒ2−Ｚ（Ｒ1は−Ｏ−，
−ＮＲ3−；Ｒ2は−ＣＲ7Ｒ8−；Ｚは−Ｃ≡ＣＨＲ9，
−Ｒ10Ｃ＝ＣＨＲ9，−Ｒ11 ＨＣＯＲ12 ，−Ｃ4Ｈ3Ｏ
Ｒ3，Ｒ9〜Ｒ11はＨ、Ｃ１〜８の炭化水素基またはＳｉ
Ｒ4Ｒ5Ｒ6（Ｒ4〜Ｒ5はＨまたはＣ１〜３のアルキル
基）；Ｒ12はＣ１〜３の２価の炭化水素基；Ｒ13はＣ１
〜１８の炭化水素基、Ｃ１〜１８のハロゲン化炭化水素
基、Ｃ１〜６のアルコキシ基、Ｃ６〜１０のアリ−ロキ
シ基、Ｃｌ、シロキシ基またはシロキサノキシ基。）の
ケイ素化合物とｂ）白金触媒の両方の存在下に行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、白金触媒存在下で
の不飽和炭化水素基含有化合物と所定のヒドロシリル化
化合物（水素原子がケイ素原子に直接結合した構造を有
するヒドロシリル化合物）とのヒドロシリル化反応に関
する。
【０００２】
【従来の技術】白金触媒を用いるヒドロシリル化反応は
シリコーン工業、特に有機変性シリコーンならびにシラ
ンカップリング剤の製造には特に重要な技術であり、製
造技術の効率化のための種々の触媒、添加物あるいは反
応方法が提案されている。これらの提案は反応速度の改
善に関するものであったり、あるいは反応選択性の改良
であったりする。
【０００３】反応速度の改善方法としては、酸素の添加
（米国特許Ｎｏ．５，３５９，１１１）、アセチレンア
ルコールの添加（米国特許Ｎｏ．５，４４９，８０
２）、ナフチルケトン類の添加（Chem. Eur. J. 1998,
4. No. 10, p.2008-2017）イオウの添加（特開平１１−
８０１６７号公報）等が提案されており、反応選択性の
改良のためには、ホスフィンあるいはホスファイト化合
物の添加（特開平９−１５７２７６号公報）、アミン類
の添加（特開平９−１９２４９４号公報）、ジエン化合
物の添加（米国特許第５，５６３，２８７号、同第５，
５６７，８４８号）等が提案されている。これらの方法
は、特定の不飽和化合物、特定のヒドロシシラン化合物
あるいは特定の組み合わせの反応に対してのみ有効な手
法である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、白金触媒存
在下での不飽和炭化水素基含有化合物と所定のヒドロシ
リル化合物（水素原子がケイ素原子に直接結合した構造
を有するヒドロシリル化合物）とのヒドロシリル化反応
に関するものであり、その目的は次にある。 １）通常、−Ｃ＝Ｃ−の二重結合において、β付加（末
端炭素原子へのシリル基の付加）とα付加（末端炭素原
子の隣の炭素原子へのシリル基の付加）の両反応が生じ
うる不飽和炭化水素基含有化合物を使用した場合にあっ
ては、β付加によるβ付加物の生成割合をより向上させ
ることを目的とする。
【０００５】２）通常、α付加が実質的に生じない不飽
和炭化水素基含有化合物であって、−Ｃ＝Ｃ−の二重結
合への付加反応より生成する主生成物とそれ以外の反応
により生じる副生物が生成する不飽和炭化水素基含有化
合物を使用した場合にあっては、主生成物の生成割合を
より向上させることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、白金触媒存在
下における、下記一般式（２）で表されるケイ素化合物
（ｃ）と不飽和炭化水素基含有化合物（ｄ）とのヒドロ
シリル化反応において、前記１）または２）の目的を、
下記一般式（１）で表される化合物（ａ）の使用により
解決したものである。即ち、本発明によれば、（ａ）下
記一般式（１）： ＨＲ2 Ｓｉ−Ｒ1 −Ｒ2 −Ｚ （１） 〔式中、Ｒはそれぞれ独立してハロゲン原子（Ｆ，Ｃ
ｌ，ＢｒまたはＩから選ばれる）、炭素数１〜８のアル
キル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、または炭素数６
〜８のアリール基から選ばれ、
【０００７】
【化５】
【０００８】｛これらの式中、Ｒ9 は水素原子、炭素数
１〜８の炭化水素基、−ＳｉＲ4 Ｒ5Ｒ6 （式中、Ｒ
4 、Ｒ5 、Ｒ6 は前記の通りである。）または−Ｒ2 −
Ｒ1 −ＳｉＲ2 Ｈ（式中、Ｒ、Ｒ1及びＲ2は前記の通り
である。）から選ばれるものであり、Ｒ10はＲ3 と同様
であり、Ｒ11はＲ3 と同様であり、Ｒ12は炭素数１〜３
の２価の炭化水素基である。｝である。〕で表される化
合物と、（ｂ）白金触媒の両方の存在下において、
（ｃ）一般式（２）：ＨＳｉＲ13 3（式中、Ｒ13はそれ
ぞれ独立して炭素数１〜１８の炭化水素基、炭素数１〜
１８のハロゲン化炭化水素基、炭素数１〜６のアルコキ
シ基、炭素数６〜１０のアリーロキシ基、塩素原子、シ
ロキシ基またはシロキサノキシ基から選ばれる。）で表
されるケイ素化合物と、（ｄ）不飽和炭化水素基含有化
合物とを反応させることを特徴とする不飽和炭化水素基
含有化合物のヒドロシリル化方法が提供される。
【０００９】
【発明の実施の形態】一般式（１）であらわされる化合
物（ａ） 一般式（１）であらわされる化合物（ａ）としては、具
体的には、一般式（３）から（７）で表される骨格を有
する化合物から選ばれるものを好適に使用できる。
【００１０】 ＨＲ2 ＳｉＮＲ3 ＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨＲ9 （３） 〔式中、Ｒはそれぞれ独立にハロゲン原子（Ｆ，Ｃｌ，
ＢｒまたはＩから選ばれる。）、炭素数１〜６のアルコ
キシ基、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数６〜８のア
リール基から選ばれる置換基であり、Ｒ3 は水素原子、
炭素数１〜８の炭化水素基および−ＳｉＲ4 Ｒ5 Ｒ6
（式中、Ｒ4 、Ｒ5 及びＲ6 は独立して水素原子、炭素
数１〜３のアルキル基から選ばれた置換基である。）か
ら選ばれる置換基であり、Ｒ9 は水素原子、炭素数１〜
８の炭化水素基、−ＳｉＲ4 Ｒ5 Ｒ6 または−Ｒ 2 −Ｒ
1 −ＳｉＲ2 Ｈ（これらの式中、Ｒ、Ｒ2、Ｒ4 、Ｒ5
及びＲ6 は前記のとおりであり、Ｒ1 は−Ｏ−または
【００１１】
【化６】
【００１２】から選ばれる。）から選ばれる。〕 ＨＲ2 ＳｉＯＣＲ7 Ｒ8 ＣＲ10＝ＣＨＲ9 （４） （式中、Ｒは前記と同じであり、Ｒ10はＲ3 と同様であ
り、Ｒ7 及びＲ8 は独立に炭素数１〜８の炭化水素基お
よび水素原子から選ばれる置換基であり、Ｒ9 は前記と
同じである。） ＨＲ2 ＳｉＯＣＲ7 Ｒ8 Ｃ≡ＣＲ9 （５） （式中、Ｒ 、Ｒ7 、Ｒ8 及びＲ9は前記と同じであ
る。）
【００１３】
【化７】
【００１４】
【化８】
【００１５】で表される化合物の中から選ばれるもので
ある。 一般式（３）：ＨＲ2 ＳｉＮＲ3 ＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨＲ9
（アリルアミン誘導体のシリル化物）で表される化合物
としては、Ｎ−ジメチルシリルアリルアミン、Ｎ，Ｎ−
ビス（ジメチルシリル）アリルアミン、Ｎ−ジメチルシ
リル−Ｎ−トリメチルシリルアリルアミン、Ｎ−ジメチ
ルシリル−Ｎ−メチルアリルアミン、Ｎ−ジメチルシリ
ル−Ｎ−フェニルアリルアミン、Ｎ−ジメチルシリル−
Ｎ−ベンジルアリルアミン、Ｎ−メチルフェニルシリル
アリルアミン、Ｎ−メチルフェニルシリル−Ｎ−メチル
アリルアミンを例示できる。
【００１６】一般式（４）：ＨＲ2 ＳｉＯＣＲ7 Ｒ8 Ｃ
Ｒ10＝ＣＨＲ9 （アルケノール誘導体のシリル化物）で
表される化合物の例としては、ジメチル（アリルオキ
シ）シラン、メチルフェニル（アリルオキシ）シラン、
メチルメトキシ（アリルオキシ）シラン、ジメトキシ
（アリルオキシ）シラン、ジクロロ（アリルオキシ）シ
ラン、ジメチル（メタリルオキシ）シラン、メチルフェ
ニル（メタリルオキシ）シラン、メチルメトキシ（メタ
リルオキシ）シラン、ジメトキシ（メタリルオキシ）シ
ラン、ジメチル（２−ブテニルオキシ）シラン、メチル
フェニル（２−ブテニルオキシ）シラン、メチルメトキ
シ（２−ブテニルオキシ）シラン、ジメトキシ（２−ブ
テニルオキシ）シラン、ジメチル（２−ヘキセニルオキ
シ）シラン、メチルフェニル（２−ヘキセニルオキシ）
シラン、メチルメトキシ（２−ヘキセニルオキシ）シラ
ン、メチルクロロ（２−ヘキセニルオキシ）シラン、ジ
メトキシ（２−ヘキセニルオキシ）シラン、ジメチル
（３−ブテニル−２−オキシ）シラン、メチルフェニル
（３−ブテニル−２−オキシ）シラン、メチルメトキシ
（３−ブテニル−２−オキシ）シラン、ジメトキシ（３
−ブテニル−２−オキシ）シランを例示できる。
【００１７】一般式（５）：ＨＲ2 ＳｉＯＣＲ7 Ｒ8 Ｃ
≡ＣＲ9 （アセチレンアルコール誘導体のシリル化物）
で表される化合物の例としては、ジメチル（プロパルギ
ルオキシ）シラン、メチルフェニル（プロパルギルオキ
シ）シラン、メチルメトキシ（プロパルギルオキシ）シ
ラン、ジメトキシ（プロパルギルオキシ）シラン、ジク
ロロ（プロパルギルオキシ）シラン、ジメチル（１−メ
チルプロパルギルオキシ）シラン、メチルフェニル（１
−メチルプロパルギルオキシ）シラン、メチルメトキシ
（１−メチルプロパルギルオキシ）シラン、ジメトキシ
（１−メチルプロパルギルオキシ）シラン、ジクロロ
（１−メチルプロパルギルオキシ）シラン、ジメチル
（２−メチル−３−ブチニル−２−オキシ）シラン、メ
チルフェニル（２−メチル−３−ブチニル−２−オキ
シ）シラン、メチルメトキシ（２−メチル−３−ブチニ
ル−２−オキシ）シラン、ジメトキシ（２−メチル−３
−ブチニル−２−オキシ）シラン、ジクロロ（２−メチ
ル−３−ブチニル−２−オキシ）シラン、ジメチル（２
−ブチニルオキシ）シラン、メチルフェニル（２−ブチ
ニルオキシ）シラン、メチルメトキシ（２−ブチニルオ
キシ）シラン、ジメトキシ（２−ブチニルオキシ）シラ
ン、ジクロロ（２−ブチニルオキシ）シランを例示でき
る。
【００１８】一般式（６）：ＨＲ2 ＳｉＯＣＨ2 ＣＨＯ
ＣＨ2 （エポキシアルコール誘導体のシリル化物）の例
としては（本書において、下線部はエポキシ基の存在を
示す）、ジメチル（グリシドキシ）シラン、メチルフェ
ニル（グリシドキシ）シラン、メチルメトキシ（グリシ
ドキシ）シラン、ジメトキシ（グリシドキシ）シランを
例示できる。
【００１９】一般式（７）：ＨＲ2 ＳｉＯＣＨ2 Ｃ4 Ｈ
3 Ｏ（フルフリルアルコール誘導体のシリル化物）の例
としては、ジメチル（フルフリルオキシ）シラン、メチ
ルフェニル（フルフリルオキシ）シラン、メチルメトキ
シ（フルフリルオキシ）シラン、ジメトキシ（フルフリ
ルオキシ）シラン、ジクロロ（フルフリルオキシ）シラ
ンを例示できる。
【００２０】一般式（１）で表される化合物（ａ）は、
必ずしもこれを直接反応系に加る方法を用いなくても良
い。すなわち、反応系中で交換反応、付加反応等の反応
によって該ヒドロシリル化合物が生成し、これが、本発
明の効果を生じてもよい。一般式（１）で表される化合
物（ａ）の使用量は、反応基質たる、水素原子がケイ素
原子に直接結合した構造を有するケイ素化合物（ｃ）と
不飽和炭化水素基含有化合物（ｄ）の全重量に対して、
一般式（１）で表される化合物（ａ）を０．０１重量％
から２０重量％の範囲で用いることができる。これ以下
では一般に発明の効果が充分に発揮され難い。上限はか
ならずしも臨界的に定まるものではないが、該ヒドロシ
リル化合物を過剰に添加した場合、余剰のヒドロシリル
化合物による副反応の惹起等の問題が生じ兼ねない。
【００２１】白金触媒（ｂ） 本発明においてヒドロシリル化の触媒として用いる白金
触媒（ｂ）は，具体的には、０価白金のオレフィン錯
体、０価白金のビニルシロキサン錯体、２価白金のオレ
フィン錯体ハロゲン化物、塩化白金酸、炭素担持白金、
シリカ担持白金等を例示することができるが、これら以
外の通常工業的に用いられるものならば特に限定されな
い。
【００２２】ケイ素化合物（ｃ） 本発明におけるケイ素化合物（ｃ）は、下記の一般式
（２） ＨＳｉＲ13 3 （２） （式中、Ｒ13はそれぞれ独立に炭素数１〜１８の炭化水
素基、炭素数１〜１８のハロゲン化炭化水素基、炭素数
１〜６のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリーロキシ
基、塩素原子、シロキシ基またはシロキサノキシ基から
選ばれる。）で示される化合物である。
【００２３】一般式（２）中のＲ13が炭素数１〜１８の
炭化水素基の場合、具体的には、アルキル基、アルケニ
ル基、アリール基、アルコキシ基およびアリーロキシ基
を挙げることができる。例えば、（ｉ）炭素数１〜１８
のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、
ｎ−ペンチル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、
ウンデシル基及びヘプタデシル基；（ｉｉ）炭素数２〜
１８のアルケニル基、例えばプロペニル基及びブテニル
基；（ｉｉｉ）炭素数６〜１８のアリール基、例えばフ
ェニル基を挙げることができる。
【００２４】一般式（２）中のＲ13が炭素数１〜１８の
ハロゲン化炭化水素基の場合、具体的には、ハロゲン化
アルキル基、ハロゲン化アリール基が挙げられる。例え
ば、（ｉｖ）炭素数１〜１８のハロゲン化アルキル基
（ハロゲン原子としては、Ｆ，ＣｌまたはＢｒであるの
がよい）、例えばクロロメチル基、フルオロメチル基及
び３，３，３−トリフルオロプロピル基；（ｖ）炭素数
６〜１０のハロゲン化アリール基（ハロゲン原子として
は、Ｆ，ＣｌまたはＢｒであるのがよい）、例えばｐ−
クロロフェニル基を挙げることができる。
【００２５】一般式（２）中のＲ13が炭素数１〜６のア
ルコキシ基の場合、具体的には、（ｖｉ）炭素数１〜６
のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−
プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｎ
−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、シクロペ
ンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、２−メトキ
シエトキシ基及び２−エトキシエトキシ基を挙げること
ができる。
【００２６】一般式（２）中のＲ13が炭素数６〜１０の
アリーロキシ基の場合、（ｖｉｉ）炭素数６〜１０のア
リーロキシ基、例えばフェノキシ基を挙げることができ
る。上記の化合物において、炭素数の範囲がここに規定
した範囲を超えると、反応性の面で実用性が低くなって
くる。一般式（２）中のＲ13がシロキシ基の場合の例と
しては、トリメチルシロキシ基、トリエチルシロキシ
基、フェニルジメチルシロキシ基、ジフェニルメチルシ
ロキシ基及び（３，３，３−トリフルオロプロピル）ジ
メチルシロキシ基を挙げることができる。
【００２７】一般式（２）中のＲ13がシロキサノキシ基
の場合の例としては、主鎖がポリジメチルシロキサンの
構造をとり、末端がシロキシ基構造（例えばトリメチル
シロキシ基）をとるものや、末端が−ＳｉＨ（ＣＨ3 ）
（ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ3 ）で封鎖されたものが挙げられ
る。尚、実用的な反応速度を考慮すると、シロキサノキ
シ基のシロキサン単位の重合度（数平均重合度）は１，
０００以下、より好ましくは５００以下が望ましい。
【００２８】収率や入手し易さを考慮すると、前記一般
式（２）において、Ｒ13は、独立に、炭素数１〜６のア
ルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、クロロ、シロ
キシ基またはシロキサノキシ基が好ましい。これらのう
ち、特に望ましいものとしてジメチルクロロシラン、メ
チルジクロロシラン、トリクロロシラン、ジメチルメト
キシシラン、メチルジメトキシシラン、トリメトキシシ
ラン、ジメチルエトキシシラン、メチルジエトキシシラ
ン、トリエトキシシラン、１，１，３，３−テトラメチ
ルジシロキサン、１，３，５，７−テトラメチルシクロ
テトラシロキサン、トリメチルシラン、トリエチルシラ
ンを例示できる。
【００２９】一般式（２）：ＨＳｉＲ13 3で表されるケ
イ素化合物（ｃ）としては、ヒドロアルコキシシラン、
ヒドロアルコキシアルキルシラン、ヒドロクロロシラ
ン、ヒドロアルキルクロロシラン、ヒドロシロキサン、
ヒドロアルキルシラン等がある。一般式（２）で表され
るケイ素化合物（ｃ）のうち、容易に入手可能で、実用
上重要なものとしては、ヒドロアルコキシシランおよび
ヒドロアルコキシアルキルシランとして、トリメトキシ
シラン、トリエトキシシラン、メチルジメトキシシラ
ン、メチルジエトキシシラン、ジメチルメトキシシラ
ン、ジメチルエトキシシランを例示でき、クロロシラン
としては、トリクロロシラン、メチルジクロロシラン、
ジメチルクロロシランを例示できる。ヒドロシロキサン
としては、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサ
ン、テトラキス（ジメチルシロキシシラン）、１，３，
５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、両末端
にヒドロシリル基を有するポリジメチルシロキサン、末
端および主鎖シロキサン単位上に水素原子が結合してな
るポリジメチルシロキサンが例示できる。ヒドロアルキ
ルシランとしてはトリメチルシラン、トリエチルシラン
を例示できる。
【００３０】不飽和炭化水素基含有化合物（ｄ） 本発明で用いられる不飽和炭化水素基含有化合物（ｄ）
は、（ｉ）スチレンまたはスチレンの誘導体、（ｉｉ）
ケイ素原子に直接結合したビニル基を有するケイ素化合
物、（ｉｉｉ）エポキシ官能性オレフィン、（ｉｖ）ジ
エン化合物、（ｖ）ＣＨ2 ＝ＣＨＣＨ2 Ｘ（式中、Ｘは
ハロゲン原子、アルコキシ基またはアシロキシ基を表
す。）で示されるアリル化合物、及び（ｖｉ）末端にビ
ニル基を有してなるオレフィン化合物から選ばれるもの
であることができる。これらは、前記ｃ）水素原子がケ
イ素原子に直接結合した構造を有するケイ素化合物との
反応性を著しく低下させるもので無い限り、その構造中
に炭素原子及び水素原子の他にＯ，Ｎ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂ
ｒ，ＳｉまたはＳから選ばれる原子を含んでいても構わ
ない。
【００３１】前記スチレンまたはスチレン誘導体（ｉ）
の例としては、スチレン系炭化水素化合物、例えばスチ
レン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、ｐ−
フェニルスチレン、ジビニルベンゼン等；ハロゲン含有
スチレン、例えばｐ−フルオロスチレン、ｐ−クロロス
チレン、ｐ−ブロモスチレン、ｐ−ヨードスチレン、ｐ
−およびｍ−（クロロメチル）スチレン等；含酸素又は
含ケイ素スチレン誘導体、例えばｐ−メトキシスチレ
ン、ｐ−トリメチルシリルスチレン等；含窒素スチレン
誘導体、例えばｐ−（ジフェニルアミノ）スチレン、ｐ
−（ジトリルアミノ）スチレン、ｐ−（ジキシリルアミ
ノ）スチレン、ビス（４−ビニルフェニル）（４−メチ
ルフェニル）アミン等を例示できる。
【００３２】前記ビニルシラン化合物、およびケイ素原
子に直接結合したビニル基を有するシロキサン化合物
（ｉｉ）としては、ビニルトリアルキルシラン、例えば
ビニルトリメチルシラン、ビニルトリエチルシラン、ビ
ニルトリプロピルシラン、ビニルジメチルエチルシラン
等；ビニルアルコキシシラン、例えばビニルトリメトキ
シシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルメチルジ
エトキシシラン、ビニルジメチルメトキシシラン等；ビ
ニル官能性シロキサン、例えば１，３−ジビニルテトラ
メチルジシロキサン、α，ω−ジビニルポリジメチルシ
ロキサン、１，３，５，７−テトラビニル−１，３，
５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン等；ビニ
ル官能性シラザン（これは一種のビニルシランと見るこ
とができる）、例えば１，３−ジビニルテトラメチルジ
シラザン、１，３，５，７−テトラビニル−１，３，
５，７−テトラメチルシクロテトラジシラザン等を例示
できる。
【００３３】前記エポキシ官能性オレフィン（ｉｉｉ）
としては、アリルグリシジルエーテル、ブタジエンモノ
オキシド、ビニルシクロヘキセンオキシドを例示でき
る。前記ジエン化合物（ｉｖ）としては、１，３−ブタ
ジエン、イソプレン、１，５−ヘキサジエン、１，３−
オクタジエンを例示できる。前記ＣＨ2 ＝ＣＨＣＨ2 Ｘ
で示されるアリル化合物（ｖ）としては、塩化アリル、
アリルアセテート、アリルアクリレート、アリルメタク
リレートを例示できる。
【００３４】前記末端にビニル基を有してなるオレフィ
ン化合物（ｖｉ）は、直鎖状または分岐状のいずれでも
構わない。また、これらは置換基に芳香族炭化水素基を
有していても構わない。直鎖の末端不飽和オレフィン化
合物の例としては、エチレン、プロピレン、ブテン−
１、ヘキセン−１、オクテン−１、オクタデセン−１を
例示できる。末端不飽和基を有する分岐オレフィン化合
物としては、イソブチレン、３−メチルブテン−１，
３，５−ジメチルヘキセン−１、４−エチルオクテン−
１を挙げることができる。
【００３５】ヒドロシリル化反応 ヒドロシリル化反応の温度は１０℃以上２５０℃以下で
よいが、適当な反応速度を達成出来ること、および反応
に関与する基質および生成物が安定に存在しうるという
点からは２０℃から２００℃が最適である。本発明にお
いては本質的には溶媒を用いる必要はないが、基質を溶
解させる目的で、また反応系の温度の制御及び触媒成分
の添加を容易にするために炭化水素系化合物を反応溶媒
あるいは触媒成分の溶媒として用いることができる。こ
の目的のために最適な溶媒としては、飽和あるいは不飽
和の炭化水素化合物、例えばヘキサン、シクロヘキサ
ン、ヘプタン、オクタン、ドデカン、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、ドデシルベンゼン；及びハロゲン化炭化
水素化合物、例えば塩化メチレン、クロロベンゼン、オ
ルト−ジクロロベンゼンを挙げることが出来る。
【００３６】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。な
お、以下に示す例中の生成物の分析はガスクロマトグラ
フならびにガスクロマトグラフィー質量分析を用いてお
こなった。
【００３７】転化率は不飽和炭化水素基含有化合物の仕
込み量のうち、反応に寄与した割合を示す。収率は同じ
く不飽和炭化水素基含有化合物仕込み量に基づいて、理
論上原料が全て反応した場合の生成物収量を１００と
し、それに対する現実の生成物収量の比を％で表した。
【００３８】本実施例で用いたａ）一般式（１）であら
わされる化合物は、通常用いられる方法、即ち、対応す
るアミンおよびアルコールとヒドロシリル基を有するシ
ランとの反応によって合成した。他の原料については市
販のものをそのまま用いた。つぎに実施例ならびに比較
例を挙げ、本願の技術について説明する。
【００３９】実施例１ （ＨＭｅ2 ＳｉＯＣＨ2 Ｃ≡ＣＨ存在下での白金触媒に
よるスチレンとトリエトキシシランの反応）窒素置換し
たガラス製反応管に０．３５５ｇのスチレンと０．５６
０ｇのトリエトキシシランをとり、これに０．０１０ｇ
に相当するＨＭｅ2 ＳｉＯＣＨ2 Ｃ≡ＣＨをマイクロシ
リンジで加えた。これにジビニルシロキサンの０価白金
錯体のトルエン溶液（白金含量０．４wt％）を５マイク
ロリットル加えた。反応管を８０℃のオイルバスにいれ
１時間加熱した。冷却後、内容物をガスクロマトグラフ
を用いて分析するとスチレンの転化率は９３．８％であ
り、フェネチルトリエトキシシランは９１％の収率で生
成していた。またフェネチルトリエトキシシランと１−
フェニルエチルトリエトキシシランの比は、１９６：１
であった。
【００４０】実施例２〜実施例７ （その他の添加物存在下での白金触媒によるスチレンと
トリエトキシシランの反応）窒素置換したガラス製反応
管に０．３３５ｇのスチレンと０．５６０ｇのトリエト
キシシランをとり、これに０．０１０ｇに相当する添加
物をマイクロシリンジで加えた。これにジビニルシロキ
サンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．４wt
％）を５マイクロリットル加えた。反応管を８０℃のオ
イルバスにいれ一定時間加熱した。冷却後、内容物をガ
スクロマトグラフを用いて分析した。スチレンの転化
率、ヒドロシリル化物の収率およびフェネチルトリエト
キシシランと１−フェニルエチルトリエトキシシランの
生成比（β／α）を表１に示す。
【００４１】比較例１ （白金触媒によるスチレンとトリエトキシシランの反応
（添加物の無い場合））窒素置換したガラス製反応管に
０．３５４ｇのスチレンと０．５５５ｇのトリエトキシ
シランをとり、これにジビニルシロキサンの０価白金錯
体のトルエン溶液（白金含量０．４wt％）を５マイクロ
リットル加えた。反応管を８０℃のオイルバスにいれ１
時間加熱した。冷却後、内容物をガスクロマトグラフを
用いて分析するとビニルトリエトキシシランの転化率は
１７．９％であり、フェネチルトリエトキシシランは１
３％の収率で生成していた。またフェネチルトリエトキ
シシランと１−フェニルエチルトリエトキシシランの比
は、３．４：１であった。
【００４２】
【表１】
【００４３】実施例８ （ＨＭｅ2 ＳｉＯＣＭｅ2 ＣＨ＝ＣＨ2 存在下での白金
触媒によるスチレンとトリエトキシシランの反応）窒素
置換したガラス製反応管に０．３５０ｇのスチレンと
０．５５５ｇのトリエトキシシランをとり、これに０．
０１０ｇに相当するＨＭｅ2 ＳｉＯＣＭｅ2ＣＨ＝ＣＨ2
をマイクロシリンジで加えた。これにジビニルシロキ
サンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．０４
wt％）を１０マイクロリットル加えた。反応管を８０℃
のオイルバスにいれ１７時間加熱した。冷却後、内容物
をガスクロマトグラフを用いて分析するとスチレンの転
化率は５６．５％であり、フェネチルトトリエトキシシ
ランは５４％の収率で生成していた。またフェネチルト
リエトキシシランと１−フェニルエチルトリエトキシシ
ランの比は、４４：１であった。
【００４４】比較例２ （白金触媒によるスチレンとトリエトキシシランの反応
（添加物なし））窒素置換したガラス製反応管に０．３
５５ｇのスチレンと０．５６０ｇのトリエトキシシラン
をとり、これにジビニルシロキサンの０価白金錯体のト
ルエン溶液（白金含量０．０４wt％）を１０マイクロリ
ットル加えた。反応管を８０℃のオイルバスにいれ１７
時間加熱した。冷却後内容物をガスクロマトグラフを用
いて分析するとスチレンの転化率は９．４％であり、フ
ェネチルトリエトキシシランは７．４％の収率で生成し
ていた。またフェネチルトリエトキシシランと１−フェ
ニルエチルトリエキシシランの比は、２．０：１であっ
た。
【００４５】実施例９ （ＨＭｅ2 ＳｉＯＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨＭｅ存在下での白金
触媒によるビニルトリエトキシシランとトリエトキシシ
ランの反応）窒素置換したガラス製反応管に０．４６３
ｇのビニルトリエトキシシランと０．４１９ｇのトリエ
トキシシランをとり、これに０．０１０ｇに相当するＨ
Ｍｅ 2 ＳｉＯＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨＭｅをマイクロシリンジ
で加えた。これにジビニルシロキサンの０価白金錯体の
トルエン溶液（白金含量０．０４wt％）を６マイクロリ
ットル加えた。反応管を１００℃のオイルバスにいれ３
０分間加熱した。冷却後、内容物をガスクロマトグラフ
を用いて分析するとビニルトリエトキシシランの転化率
は９９％であり、１，２−ビス（トリエトキシシリル）
エタンは９５％の収率で生成していた。また１，２−ビ
ス（トリエトキシシリル）エタンと１，１−ビス（トリ
エトキシシリル）エタンの比は、２９：１であった。
【００４６】比較例３ （白金触媒によるビニルトリエトキシシランとトリエト
キシシランの反応（添加物の無い場合））窒素置換した
ガラス製反応管に０．４６３ｇのビニルトリエトキシシ
ランと０．４１９ｇのトリエトキシシランをとり、これ
にジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液
（白金含量０．０４wt％）を６マイクロリットル加え
た。反応管を１００℃のオイルバスにいれ３０分間加熱
した。冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用いて分
析するとビニルトリエトキシシランの転化率は９４％で
あり、１，２−ビス（トリエトキシシリル）エタンは８
６％の収率で生成していた。また１，２−ビス（トリエ
トキシシリル）エタンと１，１−ビス（トリエトキシシ
リル）エタンの比は、１０：１であった。
【００４７】実施例１０ （ＨＭｅ2 ＳｉＯＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨ2 存在下での白金触
媒による１−オクテンとトリエトキシシランの反応）窒
素置換したガラス製反応管に０．３５５ｇの１−オクテ
ンと０．５２３ｇのトリエトキシシランをとり、これに
０．０２０ｇに相当するＨＭｅ2 ＳｉＯＣＨ 2 ＣＨ＝Ｃ
Ｈ2 をマイクロシリンジで加えた。これにジビニルシロ
キサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．０
４wt％）を８マイクロリットル加えた。反応管を１００
℃のオイルバスにいれ１時間加熱した。冷却後、内容物
をガスクロマトグラフを用いて分析すると１−オクテン
の転化率は５４％であり、ｎ−オクチルトリエトキシシ
ランは４５％の収率で生成していた。
【００４８】比較例４ （白金触媒による１−オクテンとトリエトキシシランの
反応（添加物の無い場合））窒素置換したガラス製反応
管に０．３５５ｇの１−オクテンと０．５２３ｇのトリ
エトキシシランをとり、これにジビニルシロキサンの０
価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．０４wt％）を
８マイクロリットル加えた。反応管を１００℃のオイル
バスにいれ１時間加熱した。冷却後、内容物をガスクロ
マトグラフを用いて分析すると１−オクテンの転化率は
１０％であり、ｎ−オクチルトリエトキシシランは７％
の収率で生成していた。
【００４９】実施例１１ （ＨＭｅ2 ＳｉＯＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨ2 存在下での白金触
媒によるアリルグリシジルエーテルとトリエトキシシラ
ンの反応）窒素置換したガラス製反応管に０．４３９ｇ
のアリルグリシジルエーテルと０．５１７ｇのトリエト
キシシランをとり、これに０．０１０ｇに相当するＨＭ
ｅ 2 ＳｉＯＣＭ2 ＣＨ＝ＣＨ2 をマイクロシリンジで加
えた。これにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトル
エン溶液（白金含量０．０４wt％）を１１マイクロリッ
トル加えた。反応管を１００℃のオイルバスにいれ３０
分加熱した。冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用
いて分析するとビニルトリエトキシシランの転化率は９
９％であり、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシ
ランは７６％の収率で生成していた。またγ−グリシド
キシプロピルトリエトキシシランとβ−グリシドキシプ
ロピルトリエトキシシランの比は、１８０：１であっ
た。
【００５０】実施例１２ （ＨＭｅ2 ＳｉＯＣＨＭｅＣ≡ＣＨ存在下での白金触媒
によるアリルグリシジルエーテルとトリエトキシシラン
の反応）窒素置換したガラス製反応管に０．４３９ｇの
アリルグリシジルエーテルと０．５１７ｇのトリエトキ
シシランをとり、これに０．０１０ｇに相当するＨＭｅ
2 ＳｉＯＣＨＭｅＣ≡ＣＨをマイクロシリンジで加え
た。これにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエ
ン溶液（白金含量０．０４wt％）を１１マイクロリット
ル加えた。反応管を１００℃のオイルバスにいれ３０分
間加熱した。冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用
いて分析するとビニルトリエトキシシランの転化率は７
５％であり、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシ
ランは６３％の収率で生成していた。またγ−グリシド
キシプロピルトリエトキシシランとβ−グリシドキシプ
ロピルトリエトキシシランの比は、４５０：１であっ
た。
【００５１】比較例５ （白金触媒によるアリルグリシジルエーテルとトリエト
キシシランの反応（添加物の無い場合））窒素置換した
ガラス製反応管に０．４３９ｇのアリルグリシジルエー
テルと０．５１７のトリエトキシシランをとり、これに
ジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白
金含量０．０４wt％）を１１マイクロリットル加えた。
反応管を１００℃のオイルバスにいれ３０分間加熱し
た。冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用いて分析
するとビニルトリエトキシシランの転化率は９９％であ
り、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシランは８
３％の収率で生成していた。またγ−グリシドキシプロ
ピルトリエトキシシランとβ−グリシドキシプロピルト
リエトキシシランの比は、８３：１であった。
【００５２】
【表２】
【００５３】実施例１３ （ＨＭｅ2 ＳｉＯＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨＭｅ存在下での白金
触媒による１，５−ヘキサジエンとトリエトキシシラン
の反応）窒素置換したガラス製反応管に０．２９６ｇの
１，５−ヘキサジエンと０．５９２ｇのトリエトキシシ
ランをとり、これに０．００５ｇに相当するＨＭｅ2 Ｓ
ｉＯＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨＭｅをマイクロシリンジで加え
た。これにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエ
ン溶液（白金含量０．０４wt％）を９マイクロリットル
加えた。反応管を１００℃のオイルバスにいれ１時間加
熱した。冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用いて
分析すると１，５−ヘキサジエンの転化率は６４％であ
り、ヘキセニルトリエトキシシランは５０％の収率で生
成していた。またビス（トリエトキシシリル）ヘキサン
は１４％の収率で生成していた。
【００５４】実施例１４ （ＨＭｅ2 ＳｉＯＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨ2 存在下での白金触
媒による１，５−ヘキサジエンとトリエトキシシランの
反応）窒素置換したガラス製反応管に０．２９６ｇの
１，５−ヘキサジエンと０．５９２ｇのトリエトキシシ
ランをとり、これに０．００５ｇに相当するＨＭｅ2 Ｓ
ｉＯＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨ2 をマイクロシリンジで加えた。
これにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶
液（白金含量０．０４wt％）を９マイクロリットル加え
た。反応管を１００℃のオイルバスにいれ１時間加熱し
た。冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用いて分析
すると１，５−ヘキサジエンの転化率は６２％であり、
ヘキセニルトリエトキシシランは４７％の収率で生成し
ていた。またビス（トリエトキシシリル）ヘキサンは１
４％の収率で生成していた。
【００５５】比較例６ （白金触媒による１，５−ヘキサジエンとトリエトキシ
シランの反応（添加物が無い場合））窒素置換したガラ
ス製反応管に０．２９６ｇの１，５−ヘキサジエンと
０．５９２ｇのトリエトキシシランをとり、これにジビ
ニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含
量０．０４wt％）を９マイクロリットル加えた。反応管
を１００℃のオイルバスにいれ１時間加熱した。冷却
後、内容物をガスクロマトグラフを用いて分析すると
１，５−ヘキサジエンの転化率は２７％であり、ヘキセ
ニルトリエトキシシランは２４％の収率で生成してい
た。またビス（トリエトキシシリル）ヘキサンは２％の
収率で生成していた。
【００５６】
【表３】
【００５７】実施例１５ （ＨＭｅ2 ＳｉＯＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨＭｅ存在下での白金
触媒による塩化アリルとトリクロロシランの反応）窒素
置換したガラス製反応管に０．２４４ｇの塩化アリルと
０．５４８ｇのトリクロロシランをとり、これに０．０
１０ｇに相当するＨＭｅ2 ＳｉＯＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨＭｅ
をマイクロシリンジで加えた。これにジビニルシロキサ
ンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．０４wt
％）を１６マイクロリットル加えた。反応管を封管し、
これを１００℃のオイルバスにいれ１時間加熱した。冷
却後、内容物をガスクロマトグラフを用いて分析すると
塩化アリルの転化率は９９％であり、クロロプロピルト
リクロロシランは７０％の収率で生成していた。またク
ロロプロピルトリクロロシランとテトラクロロシランの
比は、４．４０：１であった。
【００５８】実施例１６ （ＨＭｅ2 ＳｉＯＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨＰｈ存在下での白金
触媒による塩化アリルとトリクロロシランの反応）窒素
置換したガラス製反応管に０．２４４ｇの塩化アリルと
０．５４８ｇのトリクロロシランをとり、これに０．０
１０ｇに相当するＨＭｅ2 ＳｉＯＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨＰｈ
をマイクロシリンジで加えた。これにジビニルシロキサ
ンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．０４wt
％）を１６マイクロリットル加えた。反応管を封管し、
これを１００℃のオイルバスにいれ１時間加熱した。冷
却後、内容物をガスクロマトグラフを用いて分析すると
塩化アリルの転化率は９９％であり、クロロプロピルト
リクロロシランは７９％の収率で生成していた。またク
ロロプロピルクロロシランとテトラクロロシランの比
は、４．１７：１であった。
【００５９】実施例１７ （ＨＭｅ2 ＳｉＯＣＨ2 Ｃ≡ＣＨ存在下での白金触媒に
よる塩化アリルとトリクロロシランの反応）窒素置換し
たガラス製反応管に０．２４４ｇの塩化アリルと０．５
４８ｇのトリクロロシランをとり、これに０．００１ｇ
に相当するＨＭｅ2 ＳｉＯＣＨ2 Ｃ≡ＣＨをマイクロシ
リンジで加えた。これにジビニルシロキサンの０価の白
金錯体のトルエン溶液（白金含量０．０４wt％）を１６
マイクロリットル加えた。反応管を封管し、これを１０
０℃のオイルバスにいれ１時間加熱した。冷却後、内容
物をガスクロマトグラフを用いて分析すると塩化アリル
の転化率は９９％であり、クロロプロピルトリクロロシ
ランは７０％の収率で生成していた。またクロロプロピ
ルトリクロロシランとテトラクロロシランの比は、４．
２８：１であった。
【００６０】実施例１８ （ＨＭｅ2 ＳｉＯＣＨＭｅＣ≡ＣＨ存在下での白金触媒
による塩化アリルとトリクロロシランの反応）窒素置換
したガラス製反応管に０．２４４ｇの塩化アリルと０．
５４８ｇのトリクロロシランをとり、これに０．００１
ｇに相当するＨＭｅ2 ＳｉＯＣＨＭｅＣ≡ＣＨをマイク
ロシリンジで加えた。これにジビニルシロキサンの０価
白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．０４wt％）を１
６マイクロリットル加えた。反応管を封管し、これを１
００℃のオイルバスにいれ１時間加熱した。冷却後、内
容物をガスクロマトグラフを用いて分析すると塩化アリ
ルの転化率は９９％であり、クロロプロピルトリクロロ
シランは７３％の収率で生成していた。またクロロプロ
ピルトリクロロシランとテトラクロロシランの比は、
４．３５：１であった。
【００６１】実施例１９ （ＨＭｅ2 ＳｉＯＣＨ2 （ＣＨＯＣＨ2 ）存在下での白
金触媒による塩化アリルとトリクロロシランの反応）窒
素置換したガラス製反応管に０．２４４ｇの塩化アリル
と０．５４８ｇのトリクロロシランをとり、これに０．
０１０ｇに相当するＨＭｅ2 ＳｉＯＣＨ2 （ＣＨＯＣＨ
2 ）をマイクロシリンジで加えた。これにジビニルシロ
キサンの０価の白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．
０４wt％）を１６マイクロリットル加えた。反応管を封
管し、これを１００℃のオイルバスにいれ１時間加熱し
た。冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用いて分析
すると塩化アリルの転化率は９９％であり、クロロプロ
ピルトリクロロシランは７９％の収率で生成していた。
またクロロプロピルトリクロロシランとテトラクロロシ
ランの比は、４．０２：１であった。
【００６２】比較例７ （白金触媒による塩化アリルとトリクロロシランの反応
（添加物の無い場合））窒素置換したガラス製反応管に
０．２４４ｇの塩化アリルと０．５４８ｇのトリクロロ
シランをとり、これにジビニルシロキサンの０価の白金
錯体のトルエン溶液（白金含量０．０４wt％）を１６マ
イクロリットル加えた。反応管を封管し、これを１００
℃のオイルバスにいれ１時間加熱した。冷却後、内容物
をガスクロマトグラフを用いて分析すると塩化アリルの
転化率は９９％であり、クロロプロピルトリクロロシラ
ンは５６％の収率で生成していた。またクロロプロピル
トリクロロシランとテトラクロロシランの比は、１．５
４：１であった。
【００６３】
【表４】
【００６４】実施例２０ （２−シクロヘキセンオールをジメチルシリル化したも
のの存在下での白金触媒による塩化アリルとトリクロロ
シランの反応）窒素置換したガラス製反応管に０．２４
４ｇの塩化アリルと０．５４８ｇのトリクロロシランを
とり、これに０．０１２ｇに相当する２−シクロヘキセ
ンオールをジメチルシリル化したものをマイクロシリン
ジで加えた。これにジビニルシロキサンの０価白金錯体
のトルエン溶液（白金含量０．０４wt％）を１６マイク
ロリットル加えた。反応管を封管し、これを１００℃の
オイルバスにいれ１時間加熱した。冷却後、内容物をガ
スクロマトグラフを用いて分析すると塩化アリルの転化
率は９９％であり、クロロプロピルトリクロロシランは
５７．８％の収率で生成していた。またクロロプロピル
トリクロロシランとテトラクロロシランの比は、３．３
３：１であった。
【００６５】実施例２１ （フルフリルアルコールをジメチルシリル化したものの
存在下での白金触媒による塩化アリルとトリクロロシラ
ンの反応）窒素置換したガラス製反応管に０．２４４ｇ
の塩化アリルと０．５４８ｇのトリクロロシランをと
り、これに０．０１２ｇに相当するフルフリルアルコー
ルをジメチルシリル化したものをマイクロシリンジで加
えた。これにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトル
エン溶液（白金含量０．０４wt％）を１６マイクロリッ
トル加えた。反応管を封管し、これを１００℃のオイル
バスにいれ１時間加熱した。冷却後、内容物をガスクロ
マトグラフを用いて分析すると塩化アリルの転化率は９
９％であり、クロロプロピルトリクロロシランは７１％
の収率で生成していた。またクロロプロピルトリクロロ
シランとテトラクロロシランの比は、３．５９：１であ
った。
【００６６】実施例２２ （ＨＭｅ2 ＳｉＯＣＨＭｅＣ≡ＣＨ存在下での白金触媒
による塩化アリルとメチルジクロロシランの反応）窒素
置換したガラス製反応管に０．４１０ｇの塩化アリルと
０．９２７ｇのメチルジクロロシランをとり、これに
０．０２０ｇに相当するＨＭｅ2 ＳｉＯＣＨＭｅＣ≡Ｃ
Ｈをマイクロシリンジで加えた。これにジビニルシロキ
サンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．０４
wt％）を２８マイクロリットル加えた。反応管を封管
し、これを１００℃のオイルバスにいれ１時間加熱し
た。冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用いて分析
すると塩化アリルの転化率は９９％であり、クロロプロ
ピルメチルジクロロシランは６３％の収率で生成してい
た。またクロロプロピルメチルジクロロシランとメチル
トリクロロシランの比は、１．８４：１であった。
【００６７】実施例２３ （ＨＭｅ2 ＳｉＯＣＨ2 Ｃ≡ＣＨ存在下での白金触媒に
よる塩化アリルとメチルジクロロシランの反応）窒素置
換したガラス製反応管に０．４１０ｇの塩化アリルと
０．９２７ｇのメチルジクロロシランをとり、これに
０．０２０ｇに相当するＨＭｅ2 ＳｉＯＣＨ 2 Ｃ≡ＣＨ
をマイクロシリンジで加えた。これにジビニルシロキサ
ンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．０４wt
％）を２８マイクロリットル加えた。反応管を封管し、
これを１００℃のオイルバスにいれ１時間加熱した。冷
却後、内容物をガスクロマトグラフを用いて分析すると
塩化アリルの転化率は９９％であり、クロロプロピルメ
チルジクロロシランは６４％の収率で生成していた。ま
たクロロプロピルメチルジクロロシランとメチルトリク
ロロシランの比は、２．００：１であった。
【００６８】比較例８ （白金触媒による塩化アリルとメチルジクロロシランの
反応（添加物の無い場合））窒素置換したガラス製反応
管に０．４１０ｇの塩化アリルと０．９２７ｇのメチル
ジクロロシランをとり、これにジビニルシロキサンの０
価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．０４wt％）を
２８マイクロリットル加えた。反応管を封管し、これを
１００℃のオイルバスにいれ１時間加熱した。冷却後、
内容物をガスクロマトグラフを用いて分析すると塩化ア
リルの転化率は９９％であり、クロロプロピルメチルジ
クロロシランは５３％の収率で生成していた。またクロ
ロプロピルメチルジクロロシランとメチルトリクロロシ
ランの比は、１．３６：１であった。
【００６９】
【表５】
【００７０】
【発明の効果】本発明は白金触媒存在下での不飽和炭化
水素基含有化合物と所定のヒドロシリル化合物（水素原
子がケイ素原子に直接結合した構造を有するヒドロシリ
ル化合物）とのヒドロシリル化反応に関し、１）通常、
−Ｃ＝Ｃ−の二重結合において、β付加（末端炭素原子
への付加）とα付加（末端炭素原子の隣の炭素原子への
付加）の両反応が生じうる不飽和炭化水素基含有化合物
を使用した場合にあっては、β付加物の生成割合をより
向上させ、２）通常、α付加が実質的に生じない不飽和
炭化水素基含有化合物であって、−Ｃ＝Ｃ−の二重結合
への付加反応より生成する主生成物とそれ以外の反応に
より生じる副生物が生成する不飽和炭化水素基含有化合
物を使用した場合にあっては、主生成物の生成割合をよ
り向上させる効果を奏する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０１Ｊ 31/22 Ｂ０１Ｊ 31/22 Ｚ Ｃ０７Ｆ 7/12 Ｃ０７Ｆ 7/12 Ｈ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｆターム(参考） 4G069 AA06 AA08 BA21A BA21B BA27B BC75A BC75B BE13A BE32A BE32B BE33A BE36B BE38A CB25 DA02 FA01 4H039 CA92 CF10 4H049 VN01 VP01 VP02 VQ21 VR21 VR33 VR43 VS12 VS21 VT10 VT17 VW02

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 （ａ）下記一般式（１）： ＨＲ2 Ｓｉ−Ｒ1 −Ｒ2 −Ｚ （１） 〔式中、Ｒはそれぞれ独立してハロゲン原子（Ｆ，Ｃ
    ｌ，ＢｒまたはＩから選ばれる）、炭素数１〜８のアル
    キル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、または炭素数６
    〜８のアリール基から選ばれ、 【化１】 ｛これらの式中、Ｒ9 は水素原子、炭素数１〜８の炭化
    水素基、−ＳｉＲ4 Ｒ5Ｒ6 （式中、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6
    は前記の通りである。）または−Ｒ2 −Ｒ1 −ＳｉＲ2
    Ｈ（式中、Ｒ、Ｒ1及びＲ2は前記の通りである。）から
    選ばれるものであり、 Ｒ10はＲ3 と同様であり、 Ｒ11はＲ3 と同様であり、 Ｒ12は炭素数１〜３の２価の炭化水素基である。｝であ
    る。〕で表される化合物と、（ｂ）白金触媒との両方の
    存在下において、 （ｃ）一般式（２）：ＨＳｉＲ13 3（式中、Ｒ13はそれ
    ぞれ独立して炭素数１〜１８の炭化水素基、炭素数１〜
    １８のハロゲン化炭化水素基、炭素数１〜６のアルコキ
    シ基、炭素数６〜１０のアリーロキシ基、塩素原子、シ
    ロキシ基またはシロキサノキシ基から選ばれる。）で表
    されるケイ素化合物と、 （ｄ）不飽和炭化水素基含有化合物とを反応させること
    を特徴とする不飽和炭化水素基含有化合物のヒドロシリ
    ル化方法。
  2. 【請求項２】 前記不飽和炭化水素基含有化合物（ｄ）
    が、スチレンまたはスチレンの誘導体、ケイ素原子に直
    接結合したビニル基を有するケイ素化合物、エポキシ官
    能性オレフィン、ジエン化合物、ＣＨ2 ＝ＣＨＣＨ2 Ｘ
    （式中、Ｘはハロゲン原子、アルコキシ基またはアシロ
    キシ基から選ばれる。）で示されるアリル化合物、及び
    末端にビニル基を有してなるオレフィン化合物から選ば
    れるものである請求項１記載のヒドロシリル化方法。
  3. 【請求項３】 前記一般式（２）で表されるケイ素化合
    物（ｃ）がヒドロアルコキシシラン、ヒドロクロロシラ
    ン、ヒドロシロキサンまたはヒドロアルキルシランから
    選ばれる化合物である請求項１または請求項２記載のヒ
    ドロシリル化方法。
  4. 【請求項４】 前記一般式（１）で表される化合物
    （ａ）が、次の一般式（３）〜（７）： ＨＲ2 ＳｉＮＲ3 ＣＨ2 ＣＨ＝ＣＨＲ9 （３） 〔式中、Ｒはそれぞれ独立にハロゲン原子（Ｆ，Ｃｌ，
    ＢｒまたはＩから選ばれる）、炭素数１〜６のアルコキ
    シ基、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数６〜８のアリ
    ール基から選ばれる置換基であり、 Ｒ3 は水素原子、炭素数１〜８の炭化水素基および−Ｓ
    ｉＲ4 Ｒ5 Ｒ6 （式中、Ｒ4 、Ｒ5 及びＲ6 は独立して
    水素原子、炭素数１〜３のアルキル基から選ばれた置換
    基である。）から選ばれるものであり、 Ｒ9 は水素原子、炭素数１〜８の炭化水素基、−ＳｉＲ
    4 Ｒ5 Ｒ6 または−Ｒ 2 −Ｒ1 −ＳｉＲ2 Ｈ（これらの
    式中、Ｒ、Ｒ2、Ｒ4 、Ｒ5 及びＲ6 は前記と同じであ
    り、Ｒ1は−Ｏ−または 【化２】 から選ばれる。）から選ばれる。〕 ＨＲ2 ＳｉＯＣＲ7 Ｒ8 ＣＲ10＝ＣＨＲ9 （４） （式中、Ｒは前記と同じであり、 Ｒ10はＲ3 と同様であり、 Ｒ7 及びＲ8 は独立に炭素数１から８の炭化水素基およ
    び水素原子から選ばれる置換基であり、 Ｒ9 は前記と同じである。） ＨＲ2 ＳｉＯＣＲ7 Ｒ8 Ｃ≡ＣＲ9 （５） （式中、Ｒ 、Ｒ7 、Ｒ8 及びＲ9は前記と同じであ
    る。） 【化３】 【化４】 で表される化合物の中から選ばれるものである請求項
    １、請求項２または請求項３記載のヒドロシリル化方
    法。
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