JP2002248756A

JP2002248756A - インクジェットヘッド

Info

Publication number: JP2002248756A
Application number: JP2001052272A
Authority: JP
Inventors: Kiyoshi Yamaguchi; 清山口; Shuzo Matsumoto; 修三松本; Hiromichi Komai; 博道駒井
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 2001-02-27
Filing date: 2001-02-27
Publication date: 2002-09-03

Abstract

(57)【要約】【課題】振動板初期位置のバラツキによって噴射特性
がばらつく。【解決手段】振動板１０と電極１５との間の空間１６
の圧力を大気圧に対して低く保持し、空間１６の圧力と
大気圧との差圧により振動板１０を変形させ、電極１５
に電圧を印加しない状態で、振動板１０の少なくとも一
部分を電極１５側表面に接触させた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はインクジェットヘッドに
関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、プリンタ、ファクシミリ、複写
装置、プロッタ等の画像記録装置（画像形成装置を含
む。）に用いられるインクジェットヘッドは、インク滴
を吐出するノズルを有するノズル板と、ノズルが連通す
る圧力発生室（吐出室、インク流路、インク室、圧力
室、加圧室、加圧液室などとも称される。）と、圧力発
生室の壁面を形成する振動板と、この振動板に対向する
電極とを備え、振動板を静電気力で変形変位させること
で圧力発生室内インクを加圧してノズルからインク滴を
吐出させる静電型インクジェットヘッドがある。

【０００３】このような静電型のインクジェットヘッド
においては、静電アクチュエータを構成する振動板と電
極との間に作用する静電力は、振動板と電極との間の距
離の二乗に反比例して小さくなるので、インク滴を吐出
するため振動板の変位量を確保するためには、この振動
板と電極との間のギャップを非常に狭く形成する必要が
ある。また、この振動板の変位量は振動板の厚さの３乗
に反比例するので、この所望の変位量を確保するには、
振動板の厚さも薄くする必要がある。

【０００４】ところが、このような微小なギャップ空間
は、環境温度などの外乱による影響を受けやすく、外乱
によって振動板の変位量が変化すると、インク滴噴射特
性、即ちインク滴吐出量やインク滴吐出速度が増加又は
減少する等の変化が起こり、画像品質が劣化することが
ある。

【０００５】また、振動板は薄く成形されており、振動
板はギャップ内の圧力の影響を受けやすい。さらに、微
小なギャップ内に水分や塵埃などの異物が侵入すると、
アクチュエータの動作に影響を与え、動作が不安定にな
る。

【０００６】そこで、従来の静電型インクジェットヘッ
ドにおいては、特開平７−２９９９０８号公報に記載さ
れているように、ギャップ空間（振動室とも称され
る。）を封止し、その容積変化量を規定したり、一定値
に保ったりするようにしている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ギャッ
プ空間を封止した場合、ギャップ空間が負圧になると、
振動板の初期位置が電極側に変位してしまうので、振動
板の変位量（ストローク）が短くなり、十分な加圧特性
を得ることができず、インク滴吐出特性が乱れたり、吐
出不能になる。また、ギャップ空間が正圧になると、振
動板の初期位置が電極と反対側（圧力発生室側）に変位
してしまうので、振動板と電極との距離が長くなり、振
動板を駆動するために必要な電圧が高くなり、又、この
ギャップ空間の圧力がこの振動板を押し戻すため、さら
に、高い電圧が必要になるなど、低電圧駆動が困難にな
る。

【０００８】このように、ギャップ空間を大気圧にして
封止すると、環境温度の変化に応じて、ギャップ内圧力
が正圧になったり負圧になったりすることで、低電圧駆
動化を図れず、また安定した振動板変位を得ることがで
きなくなる。一方、ギャップ空間を封止せずに大気と連
通しておくと、前述したように滴吐出特性が不安定にな
って画像品質が劣化したり、アクチュエータが動作不能
になったりする。

【０００９】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、噴射特性のばらつきを低減し、安定したインク滴
噴射特性が得られるインクジェットヘッドを提供するこ
とを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明に係るインクジェットヘッドは、振動板と電
極との間のギャップを含む空間の圧力が大気圧に対して
低く保持され、空間の圧力と大気圧との差圧により振動
板が変形し、電極に電圧を印加しない状態で、振動板の
少なくとも一部分が電極側表面に接している構成とした
ものである。

【００１１】ここで、電極側表面は断面形状で凹みを有
する形状に形成されていることが好ましい。また、振動
板と電極との間のギャップを含む空間が完全な密閉空間
であることが好ましい。さらに、振動板と電極との間隔
を一定に保持するための支持部材が振動板を取り囲むよ
うに配置されて空間を完全な密閉空間としていることが
好ましい。また、空間の開口が封止部材で封止されてい
ることが好ましい。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面を参照して説明する。図１は本発明に係るインクジ
ェットヘッドの分解斜視説明図、図２は同ヘッドの振動
板長手方向の断面説明図、図３は同ヘッドの振動板短手
方向の要部拡大断面図である。

【００１３】このインクジェットヘッドは、シリコン基
板を用いた第一基板である流路基板１と、この流路基板
１の下側に設けたシリコン基板を用いた第二基板である
電極基板２と、流路基板１の上側に設けた第三基板であ
るノズル板３とを備え、インク滴を吐出する複数のノズ
ル４、各ノズル４が連通するインク流路である圧力発生
室６、各圧力発生室６にインク供給路を兼ねた流体抵抗
部７を介して連通する共通液室８などを形成している。

【００１４】ここでは、流路基板１として結晶面方位
（１１０）の単結晶シリコン基板を用いて、ノズル４が
連通する複数の圧力発生室６及びこの圧力発生室６の壁
面である底部をなす振動板１０（電極を兼ねている）を
形成する凹部を形成している。ノズル板３にはノズル４
となる孔及び流体抵抗部７を形成する溝を形成し、また
流路基板１と電極基板２には共通液室８を形成する貫通
部を形成している。

【００１５】この場合、流路基板１には予め振動板厚さ
にボロン（Ｂ）を注入してエッチングストップ層となる
高濃度ボロン層を形成し、電極基板２と接合した後、圧
力発生室６となる凹部をＫＯＨ水溶液などのエッチング
液を用いて異方性エッチングすることにより、このとき
高濃度ボロン層がエッチングストップ層となって振動板
１０が高精度に形成される。

【００１６】電極基板２は、結晶面方位（１００）のシ
リコン基板を用いて、熱酸化法などで酸化膜層１２を形
成し、この酸化膜層１２にエッチングで凹部１４を形成
して、この凹部１４底面に振動板１０にギャップ空間１
６を置いて対向する電極１５を形成して、これらの振動
板１０と電極１５とによってアクチュエータ部（圧力発
生手段）を構成している。この電極１５の表面にはシリ
コン酸化膜（ＳｉＯ_２膜）などの酸化系絶縁膜或いはＳ
i₃Ｎ_４膜などの窒化膜系絶縁膜からなる保護膜１７を成
膜している。

【００１７】また、電極基板２の電極１５としては、金
又は通常半導体素子の形成プロセスで一般的に用いられ
るＡｌ、Ｃｒ、Ｎｉ等の金属材料や、Ｔｉ、ＴｉＮ、Ｗ
等の高融点金属、または不純物により低抵抗化した多結
晶シリコン材料などを用いることができる。さらに、電
極基板２にはパイレックス（登録商標）ガラス（硼珪酸
ガラス）やセラミック基板などを用いることができ、こ
の場合には絶縁性を有しているので、そのまま凹部１４
を形成することができる。

【００１８】そして、電極１５は外部に延設して接続部
（電極パッド部）１５ａとし、これにヘッド駆動回路で
あるドライバＩＣをワイヤボンドによって搭載したＦＰ
Ｃケーブルを異方性導電膜などを介して接続している。

【００１９】そして、これらの流路基板１と電極基板２
とはシリコン−シリコンの直接接合で接合している。こ
れらの流路基板１と電極基板２には共通液室８に通じる
インク供給口９となる貫通穴を形成している。

【００２０】ノズル板３には、多数のノズル４を形成す
るとともに、共通液室８と圧力発生室６を連通するため
の流体抵抗部７を形成する溝部を形成している。ここで
は、インク吐出面（ノズル４表面側）には撥水性皮膜を
成膜している。このノズル板３にはステンレス基板（Ｓ
ＵＳ）を用いているが、この他、エレクトロフォーミン
グ（電鋳）工法によるニッケルメッキ膜、ポリイミド等
の樹脂にエキシマレーザー加工をしたもの、金属プレー
トにプレス加工で穴加工をしたもの等でも用いることが
できる。

【００２１】このインクジェットヘッドは、ノズル４を
二列配置し、この各ノズル４に対応して圧力発生室６、
振動板１０、電極１５なども二列配置し、各ノズル列の
中央部（ヘッド中央部）に共通液室８を配置して、共通
液室８から左右の圧力発生室６にインクを振り分けて供
給する構成を採用している。これにより、各圧力発生室
６へのインク供給を均等に配分することができ、各吐出
室の駆動状態の緩衝をほとんど受けることなく、均一な
インク滴噴射特性を確保することができて、簡単なヘッ
ド構成で多数のノズル４を有するマルチノズルヘッドを
構成することができる。

【００２２】また、振動板１０と電極１５との間のギャ
ップを含む空間１６の電極パッド部１５側の開口部はエ
ポキシ樹脂等の接着剤を用いたギャップ封止剤１８にて
気密封止している。ここで、空間１６の圧力は、空間１
６の圧力と大気圧との差圧により振動板１０が変形し、
電極１５に電圧を印加しない状態で、振動板１０の少な
くとも一部分が電極側表面である保護膜１７表面に接触
する程度に減圧して保持している。

【００２３】なお、空間１６の圧力を大気圧に対して振
動板１０の少なくとも一部分が保護膜１７表面に接触す
る程度に減圧して保持するには、大気開放された状態で
空間１６を形成した後、減圧下でギャップ封止剤１８に
て空間１６の開口部を気密封止する。この封止剤１８に
よる減圧下での封止を行うこと空間１６の圧力の制御性
が容易になる。

【００２４】このように構成したインクジェットヘッド
においては、振動板１０と電極１５との間に電圧を印加
したときには、図４に実線で示すように振動板１０は空
間１６の圧力と大気圧との差圧によって保護膜１７表面
に接触している。この状態から、振動板１０を共通電極
とし、電極１５を個別電極として、振動板１０と電極１
５との間にパルス電圧を印加することにより、振動板１
０と電極１５との間に静電力（静電吸引力）が発生し
て、同図に破線で示すように、振動板１０が電極１５に
向って矢示ａ方向に変形変位する。これにより、圧力発
生室６の内容積が拡張されて内圧が下がるため、流体抵
抗部７を介して共通液室８から圧力発生室６にインクが
充填される。

【００２５】続いて、電極１５への電圧の印加を断つ
と、静電力が作用しなくなり、振動板１０はそれ自身の
もつ弾性によって復元する。この動作に伴い圧力発生室
６の内圧が上昇し、ノズル４からインク滴が吐出され
る。

【００２６】このように、空間１６を密閉空間としたと
きにも、空間１６と大気圧との差圧で振動板１０を電極
側表面に接触させた状態にすることで、振動板１０の初
期変位位置のバラツキが低減して、インク滴吐出特性が
向上する。

【００２７】すなわち、空間１６が封止された密閉空間
である場合、振動板１０の変形によって空間が圧縮され
ると内部の圧力が増加し、振動板１０の変位を阻害す
る。また、更に振動板１０と電極１５との間の距離を１
μｍ以下というような微小ギャップにする場合、空間１
６内の空気の流れは非常に大きな抵抗を持つことにな
り、高速な内部変化には追従できないし、たとえ空間が
大気開放されていたとしても、パルス駆動などでは内部
圧力の上昇が起こるため、振動板１０の変位を阻害す
る。

【００２８】例えば、振動板１０と電極１５との間隔を
０．２μｍ、振動板１５の厚さを２μｍとする静電アク
チュエータに対してパルス電圧を印加した場合に、振動
板１０が電極１５表面に接触する閾電圧を振動板１０の
幅を変化させて測定すると、その測定結果は図５に示す
ようになった。同図から分かるように、振動板１０の幅
を広くすると閾電圧が低下するが、所定の振動板幅から
閾電圧が低下しなくなる。これは、振動板１０が変形す
ることによって排除されるギャップ内（空間１６内）の
空気が、ギャップ内の空気抵抗のために、局所的な圧力
上昇を起こし、このため振動板１０の変位を阻害するた
めである。

【００２９】そこで、ギャップ内（空間１６内）を大気
圧に対して減圧して保持することが考えられる。このよ
うにすれば、ギャップ内の空気が希薄な状態となるた
め、振動板１０の動作を阻害するものがなくなり、低電
圧での動作が可能となる。

【００３０】ここで、電極１５に電圧を印加しないとき
に、ギャップ内（空間１６）の負圧によって振動板１０
が変形している状態について、図６に示すように、振動
板１０の初期変形量をδ₀、初期変形量δ₀で変形してい
る状態の振動板１０から個別電極保護層１７までの間の
距離をδ、振動板１０が振動板１０に対向する個別電極
保護層１７に当接するに要する電圧をＶoとする。

【００３１】このとき、初期変形量δ₀はギャップ内の
差圧、振動板厚さ及び振動板幅の関数となるので、振動
板厚さのばらつきによって初期変形量δ₀のばらつきが
生じ、さらにそれによって距離δ及び電圧Ｖoのばらつ
きが生じることになる。そのため、ギャップ内を減圧状
態にすると、通常の大気圧のギャップに比べて、電圧Ｖ
oのばらつきが大きくなる。

【００３２】これに対して、この実施形態のように、空
間１６の圧力を、空間１６の圧力と大気圧との差圧によ
り振動板１０が変形し、電極１５に電圧を印加しない状
態で、振動板１０の少なくとも一部分が電極１５側表面
（ここでは、保護膜１７）に接する程度に大気圧に対し
て低く保持することで、振動板幅と閾電圧との関係では
振動板厚さのばらつきによる初期撓み量のばらつきが低
減し、その電圧に対する噴射エネルギーのばらつきが低
減され、噴射特性（滴吐出特性）のばらつきが低減す
る。

【００３３】次に、本発明に係るインクジェットヘッド
の第２実施形態について図７及び図８を参照して説明す
る。なお、図７は同ヘッドの振動板長手方向に沿う断面
説明図、図８は同ヘッドの振動板短手方向に沿う断面説
明図である。

【００３４】このインクジェットヘッドは、電極基板２
２としてベース基板２３に酸化層２４を介して活性層基
板２５を接合してなるＳＯＩ（Silicon on Insulator）
基板を用いて、活性層基板２５上に熱酸化によるシリコ
ン酸化層２６を形成し、活性層基板２５によって振動板
１０に対向する電極１５を形成するとともに、シリコン
酸化層２６によって電極１５の保護膜１７を兼ねるとと
もに振動板１０と電極１５との間隔を一定に保持するギ
ャップスペーサとなる支持部材２８を形成している。

【００３５】この支持部材２８には振動板１０に対向す
る部分にのみギャップ空間１６を形成するための凹部２
９を形成することで、凹部２９以外のギャップスペーサ
となる部分で振動板１０の周囲を取り囲み、空間１６を
完全な密閉空間として形成している。

【００３６】そして、この場合には電極基板２２と流路
基板１となるシリコン基板とを減圧下で接合することに
より、空間１６の圧力を、空間１６の圧力と大気圧との
差圧により振動板１０が変形し、電極１５に電圧を印加
しない状態で、振動板１０の少なくとも一部分が電極１
５側表面（ここでは、支持部材２８の凹部２９底面）に
接する程度に大気圧に対して低く保持している。

【００３７】このように構成することにより、支持部材
２８が空間１６を密閉する封止部材を兼ねることになる
ので、封止材などによる別途の封止工程が不要になり、
工程の簡略化による低コスト化を図ることができる。

【００３８】そこで、この第２実施形態に係るインクジ
ェットヘッドの製造工程について図９及び図１０を参照
して説明する。図９（ａ）に示すように、電極基板２２
となる結晶面方位（１００）のｐ型シリコン基板である
ベース基板２３上に厚さ０．５μｍの酸化膜層２４を介
して結晶面方位（１００）のｐ型シリコン基板である厚
さ５μｍの活性層基板２５を接合したＳＯＩ基板を用い
て、活性層基板２５上に熱酸化によって厚さ０．５μｍ
シリコン酸化膜２６を形成する。

【００３９】そして、同図（ｂ）に示すように、通常の
フォトリソグラフィー法とフッ酸系のエッチャントを用
いたウェットエッチング法によってシリコン酸化膜２６
に空間１６を形成するための深さ０．３μｍの凹部２９
を形成する。

【００４０】次いで、同図（ｃ）に示すように、通常の
フォトリソグラフィー法とＲＩＥを用いたドライエッチ
ング法によって、シリコン酸化膜２６の凹部２９、２９
間の部分に酸化膜層２４に達するまで電極分離用の溝３
０を形成することによって、活性層基板２５をチャンネ
ル毎に分離して活性層基板２５からなる電極１５を形成
するとともに、シリコン酸化膜２６からなる支持部材２
８を形成した電極基板２２を得る。

【００４１】続いて、図１０（ａ）に示すように、振動
板厚さに高濃度ボロン層３２を形成し結晶面方位（１１
０）の流路基板１となるｐ型シリコン基板３１を形成
し、このシリコン基板３１と電極基板２２とを、圧力１
×１０^-6Ｔｏｒｒ程度の真空中で直接接合法で接合す
る。これにより、電極基板２２の凹部２９で形成される
空間１６は減圧状態に保持される。

【００４２】その後、同図（ｂ）に示すように、ｐ型シ
リコン基板３１を所要の液室高さ（厚さが１００μｍ以
下とする。）まで研磨し、図示しないが、接合した基板
３１及び電極基板２２の表面全体にマスク層となるシリ
コン窒化膜をＬＰ―ＣＶＤを用いて成膜し、通常のフォ
トリソグラフィー法とＲＩＥを用いたドライエッチング
法によってシリコン窒化膜をパターニングして圧力発生
室６及び共通液室８に対応するマスクパターンを形成す
る。

【００４３】そして、このシリコン窒化膜のマスクパタ
ーンをマスク層として、ＫＯＨ系のエッチャントを用い
て、ｐ型シリコン基板３１を異方性エッチングする。こ
のとき、ＫＯＨ濃度を制御することによって高濃度ボロ
ン層３２とｐ型シリコン基板３１とのエッチング速度差
を設けることができ、これによって、高濃度ボロン層３
２に達した時点でエッチングをストップすることがで
き、同図（ｃ）に示すように、圧力発生室６及び高濃度
ボロン層３２からなる振動板１０などが形成される。

【００４４】このように支持部材２８がギャップ空間１
６の周りを完全に取り囲んでおり、ギャップ空間１６は
完全な閉空間となり、このとき、真空中で流路基板１と
なるシリコン基板３１と電極基板２２とを接合したの
で、ギャップ空間１６内は真空に保持され、振動板１０
は支持部材２８の凹部２９底面に接した状態になる。

【００４５】次に、本発明に係るインクジェットヘッド
の第３実施形態について図１１を参照して説明する。こ
のインクジェットヘッドは、電極基板２に形成する電極
形成用凹部３４を断面形状で底面中央部が凹むように両
側に傾斜面３４ａ、３４ａを有し、中央部が振動板１０
と略平行な平行面３４ｂを有する形状に形成し、この凹
部３４の底面にＴｉＮなどからなる電極１５を形成して
酸化膜などの保護膜１７で被覆することにより、電極側
表面が断面形状で凹みを有する形状に形成している。す
なわち、振動板１０に対して非平行な電極１５を設ける
ことによってギャップ空間１６を所謂非平行ギャップと
している。

【００４６】このような断面形状を有する凹部３４は、
酸化膜層１２をエッチングするとき、酸化膜層１２上に
レジストを形成して、このレジストに対する光強度を空
間的に変化させて凹みを有するレジストパターンを作製
し、このレジストパターンをドライエッチングによって
酸化膜層１２に転写する方法で形成することができる。

【００４７】このように、断面形状で電極側表面に凹み
を形成することにより、振動板１０の変位量を同等に保
ったままで、振動板１０と電極１５との距離を近づける
ことができるので、振動板１０に作用する静電力を大き
くすることができ、動作電圧の低電圧化が可能となる。

【００４８】また、非平行ギャップを形成した場合には
空間１６の体積が減少するため、空間１６を大気圧にす
ると、振動板１０によって排除された空気によって生じ
る圧力上昇がより大きくなって、低電圧駆動の効果が減
殺されるが、この実施形態のように、ギャップ空間１６
内を減圧状態にすることにより、圧力上昇はほとんど無
視でき、非平行ギャップによる低電圧駆動化の効果を十
分に発揮させることができる。

【００４９】なお、上記各実施形態においては、本発明
を振動板変位方向とインク滴吐出方向が同じになるサイ
ドシュータ方式のインクジェットヘッドに適用したが、
振動板変位方向とインク滴吐出方向と直交するエッジシ
ュータ方式のインクジェットヘッドにも同様に適用する
ことができる。また、インクジェットヘッドだけでなく
液体レジスト等を吐出させるヘッドなどにも適用でき
る。さらに、振動板と流路基板とを同一基板から形成し
たが、振動板と流路基板とを別体にして接合することも
できる。

【００５０】

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るイン
クジェットヘッドによれば、振動板と電極との間のギャ
ップを含む空間の圧力が大気圧に対して低く保持され、
空間の圧力と大気圧との差圧により振動板が変形し、電
極に電圧を印加しない状態で、振動板の少なくとも一部
分が電極側表面に接している構成としたので、噴射特性
のばらつきが低減し、安定したインク滴噴射特性が得ら
れる。

【００５１】ここで、電極側表面は断面形状で凹みを有
する形状に形成することにより、低電圧駆動化を図れ
る。また、振動板と電極との間のギャップを含む空間を
完全な密閉空間とすることにより、空間を減圧状態で保
持することができる。この場合、振動板と電極との間隔
を一定に保持するための支持部材が振動板を取り囲むよ
うに配置して空間を完全な密閉空間とすることにより、
封止工程を必要とせず、工程の簡略化による低コスト化
が可能となる。また、空間の開口を封止部材で封止する
ことにより、空間内圧力の制御性が良く、安定した製造
が可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態に係るインクジェットヘッド
の分解斜視説明図

【図２】同ヘッドの振動板長手方向の模式的断面説明図

【図３】同ヘッドの振動板短手方向の模式的断面説明図

【図４】同実施形態の作用説明に供する模式的断面説明
図

【図５】同実施形態の作用説明に供する振動板幅と閾電
圧との関係を説明する説明図

【図６】振動板初期位置のバラツキの説明に供する模式
的断面説明図

【図７】本発明の第２実施形態に係るインクジェットヘ
ッドの振動板長手方向の模式的断面説明図

【図８】同ヘッドの振動板短手方向の模式的断面説明図

【図９】同ヘッドのアクチュエータの製造工程の説明に
供する振動板短手方向の断面説明図

【図１０】同ヘッドのアクチュエータの製造工程の説明
に供する振動板短手方向の断面説明図

【図１１】本発明の第３実施形態に係るインクジェット
ヘッドの振動板短手方向の模式的断面説明図

【符号の説明】

１…流路基板、２…電極基板、３…ノズル板、４…ノズ
ル、６…圧力発生室、７…流体抵抗部（インク供給
路）、８…共通液室、１０…振動板、１２…酸化膜層、
１４…凹部、１５…電極、１６…空間、１７…保護膜。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者駒井博道東京都大田区中馬込１丁目３番６号株式会社リコー内Ｆターム(参考） 2C057 AF55 AF93 AG14 AG54 AG55 AP02 AP26 AP34 AP53 AP56 AQ02 AQ06 BA03 BA15

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】インク滴を吐出するノズルが連通する圧
力発生室と、この圧力発生室の壁面を形成する振動板
と、この振動板に対向する電極とを備え、前記振動板を
静電気力で変形変位させて前記ノズルからインク滴を吐
出させるインクジェットヘッドにおいて、前記振動板と
前記電極との間のギャップを含む空間の圧力が大気圧に
対して低く保持され、前記空間の圧力と前記大気圧との
差圧により前記振動板が変形し、前記電極に電圧を印加
しない状態で、前記振動板の少なくとも一部分が前記電
極側表面に接していることを特徴とするインクジェット
ヘッド。
【請求項２】請求項１に記載のインクジェットヘッド
において、前記電極側表面は断面形状で凹みを有する形
状に形成されていることを特徴とするインクジェットヘ
ッド。
【請求項３】請求項１又は２に記載のインクジェット
ヘッドにおいて、前記振動板と前記電極との間のギャッ
プを含む空間が完全な密閉空間であることを特徴とする
インクジェットヘッド。
【請求項４】請求項３に記載のインクジェットヘッド
において、前記振動板と前記電極との間隔を一定に保持
するための支持部材が前記振動板を取り囲むように配置
されて前記空間を完全な密閉空間としていることを特徴
とするインクジェットヘッド。
【請求項５】請求項３に記載のインクジェットヘッド
において、前記空間の開口が封止部材で封止されている
ことを特徴とするインクジェットヘッド。