JP2002246532A - リードフレーム及びその製造方法 - Google Patents
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- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
列以上のランドを有するリードフレームを小型に且つ容
易に得られるようにする。 【解決手段】 リードフレーム10は、フレーム枠部1
1と、フレーム枠部11と内側インナリード部14Aと
の間に配置され、フレーム枠部11から内側に延びると
共にダイパッド部13の下面側に凸部14aを有する複
数の外側インナリード部14Bとを備えている。ダイパ
ッド部13と内側インナリード部14Aとの支持部分は
切断されて除去されることにより、内側インナリード部
14Aとダイパッド部13とが絶縁されている。フレー
ム枠部11と複数の内側インナリード部14A及び外側
インナリード部14Bとがそれらの底面をリード保持材
としての粘着性テープ材20により保持されている。
Description
に行列状に配置されて露出する外部端子である複数のラ
ンドを有するランドグリッドアレイ(land grid array:
LGA)用のリードフレーム及びその製造方法に関す
る。
対応するため、半導体部品の高密度実装がますます強く
要求されるようになってきている。これに伴って、半導
体チップとリードとをモールド樹脂材により一体に封止
してなる樹脂封止型半導体装置の小型化及び薄型化が急
速に進展しており、小型化及び薄型化を図りながら、さ
らなる多ピン化が要望されている。
るリードフレームについて図面を参照しながら説明す
る。
を示している。図12に示すリードフレーム100は、
方形のパッケーッジの四方の側面から外部ピンが外側に
延びる構成を採るQFP(quad flat package)用のリー
ドフレームである。図12に示すように、リードフレー
ム100は、フレーム枠部101と、該フレーム枠部1
01の中央部に配置された方形状のダイパッド部102
と、一端がダイパッド部102の一辺と間隔をおいて対
向するインナリード部103と、一端がインナリード部
103の他端と接続され、他端がフレーム枠部101と
接続されたアウタリード部104とを有している。アウ
タリード部104は、封止用樹脂の樹脂止めとなるタイ
バー部105により互いに連結されており、ダイパッド
部102は、その4隅が吊りピン106によってタイバ
ー部105に支持されている。
封止される封止領域を示している。
装置分のみを示したが、通常は図12に示すパターンが
複数個配列されて構成される。
脂封止型半導体装置の断面構成を示している。図13に
おいて、図12に示す構成部材と同一の構成部材には同
一の符号を付している。
上には半導体素子107が接着材又は半田材等により固
着され、半導体素子107とインナリード部103とは
金属細線108により電気的に接続されている。また、
ダイパッド部102、その上に固着された半導体素子1
07、金属細線108及びインナリード部103は封止
用樹脂材109Aにより、ダイパッド部102の底面側
を含めて一体に封止されている。封止用樹脂材109A
の側面から素子保持面と平行な方向に延びるアウタリー
ド部104は、素子保持面と反対側の方向に屈曲(ベン
ディング)されて表面実装を可能としている。
半導体素子107が高集積化され、外部電極の数が増え
て、さらに多ピン構成となった場合に、インナリード部
102及びアウタリード部103の幅寸法に限界があ
り、今以上の多ピン構成に対応するには、リードの本数
が増えるため、リードフレーム100自体の外形寸法が
大きくなってしまい、小型化及び薄型化に逆行してしま
う。また、リードの幅を小さくすると、今度はリードフ
レームの加工が困難となる。
て、底面にボール電極やランド電極を設けた配線基板
(キャリア)における底面と反対側の面上に半導体素子
を保持し、半導体素子とこれら電極とが電気的に接続さ
れたボールグリッドアレイ(BGA)型又はランドグリ
ッドアレイ(LGA)型の半導体装置が開発されてい
る。
の底面をマザー基板と対向させて実装し、底面から露出
したボール又はランドの外部電極を直接にマザー基板の
電極と接続する。
型又はLGA型の半導体装置は、セラミック材や樹脂材
からなる積層された多層の配線基板を用いるため、製造
工程も複雑となり、極めて高価となるという問題があ
る。
脂封止型半導体装置の製造方法を、BGA型又はLGA
型の半導体装置の製造方法に流用しようとしても、外部
端子となる複数のランドを加工前にフレーム枠と接続し
ておく連結支持部を設ける必要から、3列以上のランド
を設けようとすると、小型化は不可能であるという問題
がある。
造方法は、BGA型又はLGA型等の面実装型の半導体
装置と比べて基板への実装時の精度が低くなる。例え
ば、図12に示すビーム形状のアウタリード部104
は、封止用樹脂材109Aの側面から外側に直線状に延
びるため、アウタリード部104の先端部の底面の位置
が少なくとも封止用樹脂材109Aの底面の位置にまで
ベンディングする必要があり、このときのベンディング
工程において、アウタリード部104のベンディングの
程度にばらつきが生じるからである。
の金属板から多列構成のランド、特に3列以上のランド
を有するリードフレームを小型に且つ容易に得られるよ
うにすることを目的とする。
め、本発明は、フレーム枠部とダイパッド部との間に複
数のランドを行列状に配置し、配置した複数のランドと
フレーム枠部とを、リード保持材によってフレーム枠部
の少なくとも一方の面側から保持する構成とする。
レームは、フレーム枠部と、該フレーム枠部の内側に配
置され、その上面に半導体素子を保持するダイパッド部
と、ダイパッド部の周辺部に配置され、ダイパッド部の
下面側に凸部を有する複数の内側インナリード部とを備
え、フレーム枠部と複数の内側インナリード部とは、そ
の上面又は下面をリード保持材により保持されている。
ド部の周辺部に配置され、且つ、ダイパッド部の下面側
に外部端子(ランド)となる凸部を有する複数の内側イ
ンナリード部は、フレーム枠部とその上面又は下面をリ
ード保持材により保持されているため、内側インナリー
ド部がフレーム枠部に支持される必要がない。従って、
該内側インナリード部とフレーム枠部とを連結する連結
支持部(サポート部)を設けなくても済むため、例えば
3列以上のランドをフレーム枠部とダイパッド部との間
に設けたとしても、フレーム枠部の小型化を妨げること
がないので、単層の金属板から多列構成のランドを有す
るリードフレームを小型に且つ容易に得ることができ
る。
側インナリード部の少なくとも一部は、各凸部が互いに
絶縁されており、絶縁された各凸部の周辺部には、その
先端部が凸部の頂面を超えない程度に下面と垂直な方向
に延びる突起部(かえり)が形成されていることが好ま
しい。すなわち、リードフレームの製造工程の前工程に
おいて、例えば、内側インナリード部がダイパッド部か
ら延びる連結支持部により支持されており、該連結支持
部を後工程においてスタンパ(金型パンチ)等によりせ
ん断(切断)加工する際に生じるかえり(burr)の
先端部が凸部の頂面を超えない程度に形成されている
と、封止用樹脂材により樹脂封止する際に凸部の頂面の
みを確実に露出することができるため、リーク電流を防
止でき、その結果、本半導体装置の誤動作を防止するこ
とができる。
内側インナリード部との間に配置され、フレーム枠部か
ら内側に延びると共にダイパッド部の下面側に凸部を有
する複数の外側インナリード部をさらに備えていること
が好ましい。このようにすると、多列構成のランドを有
するリードフレームを確実に形成できる。
レーム枠部と、該フレーム枠部の内側に配置され、その
上面に半導体素子を保持するダイパッド部と、フレーム
枠部とダイパッド部との間に配置されたインナリード部
とを備え、フレーム枠部とインナリード部とは、その上
面又は下面をリード保持材により保持されており、イン
ナリード部は、ダイパッド部の下面側に設けられ互いに
間隔をおいてなる複数の凸部を有し、複数の凸部の少な
くとも一部は隣接する凸部同士が互いに絶縁され、その
残部は隣接する凸部同士が連結支持部により支持されて
いる。
枠部とインナリード部との上面又は下面はリード保持材
により保持されており、インナリード部は、ダイパッド
部の下面側に設けられ互いに間隔をおいてなる複数のラ
ンドとなる凸部を有し、該複数の凸部の少なくとも一部
は隣接する凸部同士が互いに絶縁され、その残部は隣接
する凸部同士が連結支持部により支持されている。この
ため、ランドとなる互いに絶縁された凸部同士がフレー
ム枠部に支持される必要がなくなる。従って、絶縁され
た凸部を含むインナリード部とフレーム枠部とを連結す
る連結支持部(サポート部)を設けなくても済むため、
例えば3列以上のランドをフレーム枠部とダイパッド部
との間に設けたとしても、フレーム枠部の小型化を妨げ
ることがないので、単層の金属板から多列構成のランド
を有するリードフレームを小型に且つ容易に得ることが
できる。
た各凸部の周辺部には、その先端部が凸部の頂面を超え
ない程度に下面と垂直な方向に延びる突起部が形成され
ていることが好ましい。
ド部がその下面に凹部を有していることが好ましい。こ
のようにすると、封止樹脂部の底面から半導体素子まで
の距離が長くなるため、封止樹脂部の内部に水分等が侵
入しにくくなる。また、半導体素子の底面側にも樹脂材
がより厚く充填されるので、半導体素子が樹脂材の上方
から受ける応力が低減される。
レーム枠部と、フレーム枠部の内側に配置され、その上
面に半導体素子を保持するダイパッド部と、フレーム枠
部とダイパッド部との間に配置された複数のランド部及
び該複数のランド部のうちの一部を電気的に接続するイ
ンナリード部とを備え、フレーム枠部とランド部とは、
その上面又は下面をリード保持材により保持されてお
り、インナリード部は、互いに隣接する一のランド部同
士の間に他のランド部同士を接続すると共に上面が一の
ランド部の頂面の高さと同等で且つ下面が一のランド部
同士の下面よりも高くなるように設けられ、ランド部に
おけるインナリード部が延びる方向に対して垂直な方向
の断面形状は、インナリード部の側面と対向する上部が
小さい断面凸字状である。
ド部同士の間に他のランド部同士を接続するインナリー
ド部を設ける場合であっても、該ランド部が上面側に凸
部を有するため、インナリード部がランド部の側面同士
の間隔が下部よりも大きい上部の側方領域に位置するの
で、ランド部を小さくしたり、インナリード部の径を小
さくすることなく、ランド部間に確実にインナリード部
を設けることができる。
方法は、板状の金属部材から、フレーム枠部と、該フレ
ーム枠部の内側から延びる連結支持部により支持される
ダイパッド部と、該ダイパッド部の周縁部と接続された
複数の内側インナリード部と、フレーム枠部と接続され
た複数の外側インナリード部とを一体に形成する第1の
工程と、複数の内側インナリード部のダイパッド部から
それぞれ間隔をおいた部分、及び複数の外側インナリー
ド部のフレーム枠部からそれぞれ間隔をおいた部分で且
つダイパッド部の素子保持面側と反対側の面に凸部を形
成する第2の工程と、少なくとも複数の内側インナリー
ド部及びフレーム枠部の素子保持面側又は該素子保持面
と反対の面側にリード保持材を設けることにより、複数
の内側インナリード部及びフレーム枠部をリード保持材
により保持する第3の工程と、複数の内側インナリード
部の少なくとも一部における凸部とダイパッド部との間
の領域を除去することにより、複数の内側インナリード
部とダイパッド部とを選択的に絶縁する第4の工程とを
備えている。
と、複数の内側インナリード部及び外側インナリード部
におけるダイパッド部の素子保持面と反対側の面にそれ
ぞれ凸部を形成し、少なくとも複数の内側インナリード
部及びフレーム枠部の素子保持面側又は該素子保持面と
反対の面側にリード保持材を設けるため、この後に、複
数の内側インナリード部の少なくとも一部の凸部とダイ
パッド部との間の領域を除去することにより、複数の内
側インナリード部とダイパッド部とをせん断加工やエッ
チング加工等により選択的に絶縁したとしても、内側イ
ンナリード部がフレーム枠部から脱離する虞がない。従
って、内側インナリード部とフレーム枠部とを連結して
支持する連結支持部(サポート部)を設けなくても済む
ため、例えば3列以上のランドをフレーム枠部とダイパ
ッド部との間に設けたとしても、フレーム枠部の小型化
を妨げることがないので、単層の金属板から多列構成の
ランドを有するリードフレームを小型に且つ容易に得る
ことができる。
て、第2の工程が、複数の内側インナリード部の凸部形
成領域とダイパッド部との間の領域、及び複数の外側イ
ンナリード部の凸部形成領域とフレーム枠部との間の領
域における素子保持面側と反対側の面に対してエッチン
グを行なうことにより、凸部を形成する工程を含むこと
が好ましい。このようにすると、ランドとなる凸部を確
実に且つ微細に形成することができる。
て、第2の工程が、複数の内側インナリード部の凸部形
成領域とダイパッド部との間の領域、及び複数の外側イ
ンナリード部の凸部形成領域とフレーム枠部との間の領
域における素子保持面側と反対側の面を押圧することに
より、凸部を形成する工程を含むことが好ましい。この
ようにすると、ランドとなる凸部を確実に且つ容易に形
成することができる。
て、第4の工程が、凸部とダイパッド部との間の領域を
切断手段を用いて切断することにより、凸部とダイパッ
ド部とを絶縁する工程を含むことが好ましい。このよう
にすると、凸部とダイパッド部との間の領域を容易に且
つ確実に絶縁することができるので、互いに絶縁された
凸部からなるランドを確実に形成することができる。
方法は、板状の金属部材から、フレーム枠部と、該フレ
ーム枠部の内側から延びる第1の連結支持部により支持
されると共に第2の連結支持部により互いに連結された
複数のインナリード部及びダイパッド部とを一体に形成
する第1の工程と、複数のインナリード部におけるダイ
パッド部の素子保持面側と反対側の面にそれぞれ間隔を
おくように凸部を形成する第2の工程と、複数のインナ
リード部及びフレーム枠部の素子保持面側又は該素子保
持面と反対の面側にリード保持材を設けることにより、
インナリード部及びフレーム枠部をリード保持材により
保持する第3の工程と、複数のインナリード部における
第2の連結支持部の少なくとも一部の、互いに隣接する
凸部同士の間又は互いに隣接する凸部とダイパッド部と
の間の領域を除去することにより、複数のインナリード
部を選択的に絶縁する第4の工程とを備えている。
と、複数のインナリード部におけるダイパッド部の素子
保持面と反対側の面にそれぞれ間隔をおくように凸部を
形成し、複数のインナリード部及びフレーム枠部の素子
保持面側又は該素子保持面と反対の面側にリード保持材
を設けるため、この後に、複数のインナリード部におけ
る第2の連結支持部の少なくとも一部の互いに隣接する
凸部同士の間又は互いに隣接する凸部とダイパッド部と
の間の領域を除去することにより、複数のインナリード
部とダイパッド部とをせん断加工やエッチング加工等に
より選択的に絶縁したとしても、インナリード部及びダ
イパッド部がフレーム枠部から脱離する虞がない。従っ
て、インナリード部及びダイパッド部とフレーム枠部と
を連結して支持する連結支持部(サポート部)を設けな
くても済むため、例えば3列以上のランドをフレーム枠
部とダイパッド部との間に設けたとしても、フレーム枠
部の小型化を妨げることがないので、単層の金属板から
多列構成のランドを有するリードフレームを小型に且つ
容易に得ることができる。
て、第2の工程が、第2の連結支持部の凸部形成領域同
士の間又は凸部形成領域とダイパッド部との間の領域に
おける素子保持面側と反対側の面に対してエッチングを
行なうことにより、凸部を形成する工程を含むことが好
ましい。
て、第2の工程が、第2の連結支持部の凸部形成領域同
士の間又は凸部形成領域とダイパッド部との間の領域に
おける素子保持面側と反対側の面を押圧することによ
り、凸部を形成する工程を含むことが好ましい。
て、第4の工程が、第2の連結支持部の凸部同士の間又
は凸部とダイパッド部との間の領域を切断手段を用いて
切断することにより、凸部同士又は凸部とダイパッド部
とを絶縁する工程を含むことが好ましい。
において、切断手段が凸部及びダイパッド部の上面に対
してほぼ平行な切断面を有していることが好ましい。こ
のようにすると、凸部等の周辺部にかえりが生じなく
る。さらに、このような打ち抜きにより切断すると切断
くずが生じるが、該切断くずをリード保持材に保持させ
ることにより、切断くずの製造工程に対する影響を及ぼ
さないようにすることができる。
方法は、板状の金属部材から、フレーム枠部と、該フレ
ーム枠部の内側から延びる連結支持部により支持される
と共に互いに間隔をおいて連結された複数のランド部及
び該複数のランド部のうちの一部を電気的に接続するイ
ンナリード部と、素子保持面を有するダイパッド部とを
一体に形成する第1の工程と、複数のランド部及びフレ
ーム枠部の素子保持面側又は該素子保持面と反対の面側
にリード保持材を設けることにより、ランド部及びフレ
ーム枠部をリード保持材により保持する第2の工程と、
複数の連結支持部における互いに隣接するランド部同士
間の領域のうちの少なくとも一部を除去することによ
り、複数のランド部を選択的に絶縁する第3の工程とを
備えている。
と、ランド部及びフレーム枠部の上面又は下面をリード
保持材により保持しているため、複数のランド部だけで
なく、複数のランド部のうちの一部を電気的に接続する
インナリード部を有するリードフレームであっても、ラ
ンド部及びインナリード部がフレーム枠部から脱離する
虞がないので、単層の金属板から多列構成のランドを有
するリードフレームを小型に且つ容易に得ることができ
る。
て、第1の工程が、互いに隣接するランド部同士及びそ
の間に位置する連結支持部における素子保持面側であっ
て、ランド部同士における連結支持部と並行する中央部
部分及びその間の連結支持部をマスクして、ランド部の
素子保持面側に対してその厚さのほぼ2分の1をエッチ
ングすることにより、ランド部同士の間に連結支持部か
らインナリード部を形成する工程と、複数のランド部の
素子保持面側と反対側の面をマスクして、ランド部の素
子保持面側と反対側の面に対して、ランド部同士及びイ
ンナリード部がそれぞれ分離するようにエッチングする
工程とを含むことが好ましい。
が、ダイパッド部の素子保持面側に凸字状となり、互い
に隣接するランド部同士の間には、上面がランドの上面
の高さと同等で且つ底面がランド部の底面よりも高くな
るインナリード部が形成されるため、本発明の第3のリ
ードフレームを確実に形成することができる。
の実施形態について図面を参照しながら説明する。
ドフレームであって、内側インナリード部の絶縁加工前
の複数のダイパッド部が設けられたリードフレームの1
つ分のダイパッド部を含む部分の底面構成を示してい
る。
は、フレーム枠部11と、該フレーム枠部11の内側に
連結支持部としてのサポートリード部12により四隅が
支持され、その上面(図1の裏面側)に半導体素子を保
持するダイパッド部13と、それぞれがダイパッド部1
3の周辺部に支持され、ダイパッド部13の底面に凸部
14aを有する複数の内側インナリード部14Aと、フ
レーム枠部11と内側インナリード部14Aとの間に配
置され、フレーム枠部11から内側に延びると共に、底
面側に凸部14aを有する複数の外側インナリード部1
4Bとを備えている。ここで、ダイパッド部13の底面
の中央部分には凹部13aが形成されている。
フレーム枠部11と複数の内側インナリード部14A及
び外側インナリード部14Bとがそれらの底面をリード
保持材としての粘着性テープ材20により保持されてい
ることを特徴とする。
ける絶縁加工後の底面構成を示している。図2に示すよ
うに、ダイパッド部13と内側インナリード部14Aと
の支持部分は切断されて除去されることにより、内側イ
ンナリード部14Aとダイパッド部13とが絶縁されて
いる。
リード部14Bにおける各凸部14aは、それらの頂面
のみが封止用樹脂材からそれぞれ露出するように半導体
素子(図示せず)と一体に封止されることにより、外部
端子であるランドとなる。
レーム枠部11と内側インナリード部14Aとが各底面
を粘着性テープ材20により保持されているため、内側
インナリード部14Aとダイパッド部13とを絶縁(孤
立化)する加工を施したとしても、内側インナリード部
14Aがフレーム枠部11から脱離する虞がない。従っ
て、内側インナリード部14Aに、フレーム枠部11に
よって支持される連結支持部を設けなくても済むため、
例えば3列以上のランドをフレーム枠部11とダイパッ
ド部13との間に設けたとしても、フレーム枠部11の
小型化を妨げることがなくなる。その結果、従来のよう
にセラミック材又は樹脂フィルム材を積層することによ
り実現された、外側部からダイパッド部までのランドの
列数が3列以上のLGA型の半導体装置を、単層の金属
板からなるリードフレームのみによって、簡便に且つ確
実に実現することができるようになる。
テープ材20をリードフレーム10の底面側に全面にわ
たって貼付したが、これに限られない。すなわち、絶縁
(孤立化)された複数の内側リードフレーム14Aがダ
イパッド部13又はフレーム枠部11に保持されればよ
く、上面であっても底面であってよい。但し、上面に貼
付する場合は、半導体素子のダイボンディング工程及び
ワイヤボンディング工程において妨げにならない領域に
貼付する必要がある。
Aを保持するリード保持材に粘着性テープ材20を用い
たが、代わりに、例えばアルミニウムからなる金属薄膜
を用いてもよく、その絶縁性及び導電性は問われない。
ームの製造方法の概略を図面に基づいて説明する。
実施形態に係るリードフレームの製造方法の工程順の断
面構成を示している。
u)を主成分とする合金又は鉄(Fe)及びニッケル
(Ni)の合金からなるリードフレーム形成用の板状の
金属部材から、フレーム枠部(図示せず)と、該フレー
ム枠部内に位置するダイパッド部13と、該ダイパッド
部13の周縁部と接続された内側インナリード部14A
と、フレーム枠部と接続された外側インナリード部14
Bとを、例えば、スタンピング又はエッチングにより一
体成形してリードフレーム10を形成する。
側インナリード部14Bの底面における凸部形成領域以
外の領域に対して凹部14bを形成することにより、ラ
ンドとなる凸部14aを形成する。具体的には、リード
フレーム10の底面側であって、ダイパッド部13と内
側インナリード部14Aとの間の領域、及び内側インナ
リード部14Aと外側インナリード部14Bとの間の領
域に対して、金型によるプレス又はハーフエッチングを
行なって凹部14bを形成することにより、内側インナ
リード部14A及び外側インナリード部14Bに凸部1
4aをそれぞれ形成する。
内側インナリード部14A、外側インナリード部14B
及びフレーム枠部の底面側に粘着性テープ材20を貼付
する。
しての切断用ポンチ21を用いて、リードフレーム10
における各凹部14bの上方、すなわち、ダイパッド部
13と内側インナリード部14Aとの間の領域、及び内
側インナリード部14Aと外側インナリード部14Bと
の間の領域を打ち抜いて、ダイパッド部13と凸部14
aとの間の領域、及び内側インナリード部14Aと外側
インナリード部14Bとの間の領域を除去することによ
り、図3(d)に示すように、ダイパッド部13と内側
インナリード部14Aとを絶縁(孤立化)する。ここ
で、必ずしもすべての凸部14aを絶縁する必要はな
く、所望の凸部14aを孤立化すればよい。
程において、切断用ポンチ21を用いると、図3(d)
に示すように、絶縁された各凸部14aの周辺部に、か
えり(突起部)14cが形成されてしまうが、かえり1
4cの先端部が凸部14aの頂面を超えない程度に、か
えり14cの発生を抑えることが好ましい。このように
すると、封止用樹脂材により樹脂封止する際に、凸部1
4aの頂面のみを確実に露出させることができるので、
実装時のリーク電流を防止することができる。
孤立化処理は、スタンピングではなく、エッチングによ
り行なってもよい。
例)以下、第1の実施形態に係るリードフレームの製造
方法の一変形例を説明する。
実施形態に係るリードフレームの製造方法の工程順の断
面構成を示している。図4(a)〜図4(d)におい
て、図3(a)〜図3(d)に示す構成部材と同一の構
成部材には同一の符号を付すことにより説明を省略す
る。
ては、リードフレーム10の上面に対してほぼ平行な切
断面を持つ切断用ポンチ22を用いることを特徴とす
る。
つ切断用ポンチ22を用いると、図4(d)に示すよう
に、ダイパッド部13、内側インナリード部14A及び
外側インナリード部14Bの各切断面にかえり(突起
部)を生じないように切断することができる。
た切断くず14dが発生するが、該切断くず14dは粘
着性テープ材20上に落下するため、粘着性テープ材2
0を剥がす前に、粘着性テープ材20の粘着力が生じる
程度に加熱すると、切断くず14dを粘着性テープ材2
0に粘着させることができる。このため、切断くず14
dの散乱を防止できるので、切断くず14dが製造プロ
セスに悪影響を与えないようにすることができる。
として、切断対象面に対してほぼ平行な切断面を持つ切
断用ポンチ22以外にも、切断対象面に対して凹面を持
つ形状のポンチであっても良い。
実施形態について図面を参照しながら説明する。
の実施形態に係る樹脂封止型半導体装置であって、
(a)は平面構成を示し、(b)は(a)のVb−Vb
線における断面構成を拡大して示している。図5(a)
及び図5(b)において、図2及び図3に示す構成部材
と同一の構成部材には同一の符号を付すことにより説明
を省略する。
施形態に係る樹脂封止型半導体装置40は、図2に示す
第1の実施形態に係るリードフレーム10と同様の構成
のリードフレームを用いており、さらに、内側インナリ
ード部14Aと外側インナリード部14Bを共に2列と
する4列構成としている。
体装置40は、リードフレーム10のダイパッド部13
上に銀ペースト材41により固着され保持された半導体
素子(半導体チップ)42と、該半導体素子42の外部
端子(図示せず)と内側インナリード部14A及び外側
インナリード部14Bとを電気的に接続する金(Au)
からなるワイヤ(金属細線)43と、封止樹脂部44と
から構成されている。
からなり、内側インナリード部14Aの各凸部14a及
び外側インナリード部14Bの各凸部14aの頂面並び
にダイパッド部13の底面をそれぞれ露出するように、
半導体素子42、ダイパッド部13、内側インナリード
部14A及び外側インナリード部14Bを封止してい
る。
は、各凸部14aの絶縁(孤立化)加工時に切断用ポン
チによるかえり(突起部)14cが形成されており、こ
のかえり14cの先端部は、凸部14aの頂面を超えな
い程度に抑えられている。
半導体装置40の製造方法について説明する。
立したリードの脱離を防止する粘着性テープ材付きのリ
ードフレーム10を用意する。1つのリードフレーム1
0に複数のダイパッド部13が形成されているとする。
ードフレーム10の各ダイパッド部13の上面に複数の
半導体素子42をそれぞれ銀ペースト材41により固着
する。
ワイヤ43により、各半導体素子42の外部端子と内側
インナリード部14A及び外側インナリード部14Bと
をそれぞれ電気的に接続する。
がリードフレーム10の素子保持面(上面)側に貼付さ
れている場合には、上面側に設けられた粘着性テープ材
を剥離するか又は化学的に溶解して除去し、その後、各
凸部14aの頂面及び各ダイパッド部13の底面を露出
するように、複数の半導体素子42、複数のダイパッド
部13、複数の内側インナリード部14A及び複数の外
側インナリード部14Bを封止用樹脂材により一括に封
止して、封止樹脂部44を形成する。
として、粘着性テープ材にポリイミドを用いる場合に
は、溶剤として、105℃〜110℃程度に加熱した濃
度が約50%の水酸化ナトリウム水溶液又はヒドラジン
とエチレンジアミンとの混合液等を用いるとよい。
がリードフレーム10の素子保持面と反対側の面(底
面)に設けられている場合には、該底面側に設けられた
粘着性テープ材を剥離するか又は化学的に溶解して除去
する。続いて、複数の半導体素子42が固着され、一括
に封止されたリードフレーム10及び封止樹脂部44
を、複数の半導体素子42のうちの少なくとも1つが含
まれるように、例えばダイシングブレードを用いて切断
することにより、チップ状に分割する。
(b)に示す樹脂封止型半導体装置を得る。
に凹部13aが設けられているため、封止樹脂部44に
おける半導体素子42の下側部分の厚さが大きくなるの
で、半導体素子42が封止樹脂部44の上方から受ける
応力と下方から受ける応力との差が小さくなり、その結
果、半導体素子42が受ける応力が低減する。さらに、
ダイパッド部13における封止樹脂部44の底面から侵
入する水分の侵入経路が長くなるため、耐湿性にも優れ
るようになり、該半導体装置の長期信頼性が向上する。
インナリード部14Bの上面を銀(Ag)によりめっき
し、該インナリード部14A、14B及びダイバッド部
13の底面を、スズ(Sn)及び鉛(Pb)又はスズ
(Sn)及びビスマス(Bi)含む合金(はんだ)によ
りめっきすると、ワイヤボンディング工程及び実装基板
への実装工程において電気的な接続が確実となる。
る場合には、めっき材として、ニッケル(Ni)、パラ
ジウム(Pd)及び金(Au)を含む合金を用いると、
インナリード部14A、14Bの上面及び底面、並びに
ダイバッド部13の底面に対して1種類の合金によりめ
っきすることができる。
実施形態について図面を参照しながら説明する。
の実施形態に係るリードフレームであって、(a)はラ
ンドの絶縁(孤立化)加工前の複数のダイパッド部が設
けられたリードフレームの1つ分のダイパッド部を含む
部分の平面構成を示し、(b)は(a)のVIb−VIb線
における断面構成を示している。
リードフレーム30は、フレーム枠部31と、該フレー
ム枠部31の内側に配置され、その上面に半導体素子を
保持するダイパッド部33と、該ダイパッド部33の周
辺部にそれぞれ3列に配置され、素子保持面と反対側の
面(底面)にランドとなる凸部を有する複数のインナリ
ード部34とを備えている。
フレーム枠部31から延びる第1の連結支持部としての
枠部連結支持部32Aにより支持されている。残部のイ
ンナリード部34同士及びダイパッド部33と隣接する
インナリード部34は、第2の連結支持部としてのラン
ド連結支持部32Bにより支持されている。
同士の間又は該凸部とダイパッド部33との間の領域の
底面に対してハーフエッチング処理又はプレス処理を行
なうことにより形成される。
部33aが形成されている。また、インナリード部34
の周辺部に、封止用樹脂材により封止される領域である
封止領域44Aを破線で表わしている本実施形態に係る
リードフレーム30は、フレーム枠部31と複数のイン
ナリード部34とがそれらの底面をリード保持材として
の粘着性テープ材20により保持されていることを特徴
とする。
び図6(b)に示すリードフレーム30におけるランド
の絶縁(孤立化)加工後の底面構成を示している。図7
(a)及び図7(b)に示すように、各ランド連結支持
部32Bが切断又はエッチングにより除去されることに
より、インナリード部34同士又は該インナリード部3
4とダイパッド部33とが絶縁されている。
レーム枠部31とインナリード部34とが各底面を粘着
性テープ材20により保持されているため、インナリー
ド部34同士及びダイパッド部33を電気的に絶縁す
る、すなわち孤立化する加工を施したとしても、インナ
リード部34及びダイパッド部33がフレーム枠部31
から脱離する虞がない。従って、すべてのインナリード
部34A及びダイパッド部33に、フレーム枠部31に
よって支持される連結支持部を設けなくても済むため、
例えば3列以上のランドをフレーム枠部31とダイパッ
ド部33との間に設けたとしても、フレーム枠部31の
小型化を妨げることがなくなる。その結果、従来のよう
にセラミック材又は樹脂フィルム材を積層することによ
り実現された、外側部からダイパッド部までのランドの
列数が3列以上のLGA型の半導体装置を、単層の金属
板からなるリードフレームのみによって、簡便に且つ確
実に実現することができるようになる。
テープ材20をリードフレーム30の底面側に貼付した
が、これに限られない。具体的には、絶縁された、すな
わち孤立化された複数のリードフレーム34及びダイパ
ッド部33がフレーム枠部31に保持されればよく、上
面であっても底面であってよい。但し、上面に貼付する
場合は、半導体素子のダイボンディング工程及びワイヤ
ボンディング工程時に妨げにならない領域に貼付する必
要がある。
持するリード保持材に粘着性テープ材20を用いたが、
代わりに、例えばアルミニウムからなる金属薄膜を用い
てもよく、その絶縁性及び導電性は問われない。
(孤立化)処理には切断用ポンチによる打ち抜き加工を
行なってもよく、エッチングを行なってもよい。例え
ば、打ち抜き加工を行なった場合には、第1の実施形態
と同様に、絶縁された各インナリード部34の周辺部
に、かえり(突起部)が形成されてしまうが、かえりの
先端部が凸部の頂面を超えない程度に、かえりの発生を
抑える必要がある。
4を絶縁する必要はない。例えば、ダイパッド部33上
に保持する半導体素子(チップ)の寸法がダイパッド部
33よりも大きく、ダイパッド部33の周辺部にはみ出
すような場合には、該半導体素子の周縁部により覆われ
るインナリード部34をダイパッド部33と接続したま
まにしておくことが好ましい。このようにすると、ダイ
パッド部34の放熱面積及び熱容量が大きくなるので、
樹脂封止型半導体装置の放熱性が向上する。
明の第3の実施形態の一変形例について図面を参照しな
がら説明する。
態の一変形例に係るリードフレームであって、(a)は
ランドの絶縁(孤立化)加工後の複数のダイパッド部が
設けられたリードフレームの1つ分のダイパッド部を含
む部分の平面構成を示し、(b)は(a)のVIIIb−VI
IIb線における断面構成を示している。図8(a)及び
図8(b)において、図7(a)及び(b)に示す構成
部材と同一の構成部材には同一の符号を付すことにより
説明を省略する。
示すように、各ランド連結支持部32Bのみならず、フ
レーム枠部31とリードフレーム部34との間の枠部連
結支持部32Aも切断又はエッチングにより除去されて
いる。
すると、図8(b)に示すように、封止領域44Aの側
面からリードフレーム30が露出しなくなるため、半導
体装置における実装時の側面からのリーク電流を防止す
ることができる。
実施形態について図面を参照しながら説明する。
実施形態に係る樹脂封止型半導体装置であって、(a)
は平面構成を示し、(b)は正面構成を示し、(c)は
右側面の構成を示し、(d)は底面構成を示している。
図9(a)〜図9(d)において、図7に示す構成部材
と同一の構成部材には同一の符号を付すことにより説明
を省略する。
形態に係る樹脂封止型半導体装置60は、図7に示す第
3の実施形態に係るリードフレーム30と同様の構成の
リードフレームを用いており、さらにインナリード部3
4を4列構成としている。
ームのダイパッド部上に銀ペースト材により固着され保
持された半導体素子(半導体チップ)と、該半導体素子
の外部端子とインナリード部34とを電気的に接続する
金(Au)からなるワイヤ(金属細線)と、封止樹脂部
44とから構成されている。
からなり、インナリード部31の各凸部の頂面並びにダ
イパッド部33の底面をそれぞれ露出するように、半導
体素子、ダイパッド部33及びインナリード部34を封
止している。
半導体装置60の製造方法について説明する。
立化したリードの脱離を防止する粘着性テープ材付きの
リードフレーム30を用意する。ここでも、1つのリー
ドフレーム30に複数のダイパッド部33が形成されて
いるとする。
ードフレーム30の各ダイパッド部33の上面に複数の
半導体素子をそれぞれ銀ペースト材により固着する。
ワイヤにより、各半導体素子の外部端子とインナリード
部34とをそれぞれ電気的に接続する。
がリードフレーム30の素子保持面(上面)側に貼付さ
れている場合には、上面側に設けられた粘着性テープ材
を剥離するか又は化学的に溶解して除去し、その後、リ
ードフレーム部34の各凸部の頂面及び各ダイパッド部
33の底面を露出するように、複数の半導体素子、複数
のダイパッド部33、複数のインナリード部34を封止
用樹脂材により一括に封止して、封止樹脂部44を形成
する。
がリードフレーム30の底面側に設けられている場合に
は、該底面に設けられた粘着性テープ材を剥離するか又
は化学的に溶解して除去する。続いて、複数の半導体素
子が固着され、一括に封止されたリードフレーム30及
び封止樹脂部44を、複数の半導体素子のうちの少なく
とも1つが含まれるように、例えばダイシングブレード
を用いて切断することにより、チップ状に分割する。
(d)に示す樹脂封止型半導体装置を得る。
も、底面に凹部33aが設けられているため、封止樹脂
部44における半導体素子の下側部分の厚さが大きくな
るので、半導体素子が封止樹脂部44の上方から受ける
応力と下方から受ける応力との差が小さくなり、その結
果、半導体素子が受ける応力が低減する。さらに、ダイ
パッド部33における封止樹脂部44の底面から侵入す
る水分の侵入経路が長くなるため、耐湿性に優れるよう
になり、該半導体装置の長期信頼性が向上する。
明の第4の実施形態の一変形例について図面を参照しな
がら説明する。
4の実施形態に係る樹脂封止型半導体装置であって、
(a)平面構成を示し、(b)は正面構成を示し、
(c)は右側面の構成を示し、(d)は底面構成を示し
ている。図10(a)〜図10(d)において、図9
(a)〜図9(d)に示す構成部材と同一の構成部材に
は同一の符号を付すことにより説明を省略する。
に係る樹脂封止型半導体装置61は、図8に示す第3の
実施形態の一変形例に係るリードフレーム30と同様の
構成のリードフレームを用いており、さらにインナリー
ド部34を4列構成としている。
ームのダイパッド部上に銀ペースト材により固着され保
持された半導体素子(半導体チップ)と、該半導体素子
の外部端子とインナリード部34とを電気的に接続する
金(Au)からなるワイヤ(金属細線)と、封止樹脂部
44とから構成されている。
各凸部の頂面並びにダイパッド部33の底面をそれぞれ
露出するように、半導体素子、ダイパッド部33及びイ
ンナリード部34を封止している。
は、図10(b)の正面図及び図10(c)の右側面図
に示すように、側面封止樹脂部44の各側面からリード
フレーム30が露出しない。この構成により、該半導体
装置における実装時の側面からのリーク電流を防止する
ことができる。
実施形態について図面を参照しながら説明する。
係るリードフレームであって、ランド部と該ランド部同
士を接続するインナリード部を有し、ランド部同士の絶
縁加工後のリードフレームの4分の1を含む部分の平面
構成を示している。
リードフレーム70は、フレーム枠部71と、該フレー
ム枠部71の内側に連結支持部としてのサポートリード
部72により隅部が支持され、その上面に半導体素子を
保持するダイパッド部73と、フレーム枠部71とダイ
パッド部73との間に配置された複数のランド部75と
を備えている。ここで、ダイパッド部73の上面の中央
部分には凸部73aが形成されている。
枠部71から延びる連結支持部74Aに支持されてお
り、残部はスタンピング等により絶縁(孤立)されてい
る。
は、連結支持部74Aから形成されたインナリード部7
4Bにより電気的に接続されている。
は、これまでの実施形態と同様に、フレーム枠部71と
複数のランド部75とがそれらの底面(図11の裏面
側)をリード保持材としての粘着性テープ材20により
保持され、絶縁されたランド部75がリードフレーム7
0から脱離しないことを第1の特徴とする。
に位置するインナリード部74Bとの断面形状を第2の
特徴とする。
せて用いるが、半導体素子の仕様によっては、一のラン
ド部75と他のランド部75とを同電位にするために、
インナリード部74Bを設けたい場合がある。しかしな
がら、ランド部75間の間隔が小さい場合には、インナ
リード部74Bを配置するスペースを確保することが困
難となる。その場合には、例えば、各ランド部75の径
を小さくしたり、インナリード部74Bの径を小さくし
たりする必要が生じるが、このようにすると、ランド部
75は実装基板との電気的な接触面積が減り、また、イ
ンナリード部74Bは電気抵抗が増大する。
1(b)の断面図に示すように、インナリード部74B
は、互いに隣接するランド部75同士の間に上面がラン
ド部75の頂面の高さと同等で且つ下面がランド部75
の下面よりも高くなるように設けている。
部74Bが延びる方向に対して垂直な方向の断面形状
は、インナリード部74Bの側面と対向する上部が小さ
い断面凸字状である。
ながら、ランド部75の頂部とインナリード部74Bと
の間の距離であるリード間距離d2をインナリード部7
4Bの両側に確実に確保することができる。なお、ラン
ド間距離d1とリード間距離d2とは同等であってもよ
い。
Bは、ランド部75の側面同士の間隔が下部よりも大き
い上部の側方領域に位置するため、ランド部75の径を
小さくしたり、インナリード部74B自体の径を小さく
することなく、ランド部75の間にインナリード部74
Bを設けることができるようになる。
ムの製造方法を説明する。
ッケルの合金からなるリードフレーム形成用の板状の金
属部材から、フレーム枠部71と、該フレーム枠部71
の内側に位置するダイパッド部73と、該ダイパッド部
73の周縁部又はフレーム枠部71と接続された連結支
持部74Aとを、例えば、スタンピング又はエッチング
により一体成形してリードフレーム70を形成する。
5とインナリード部74Bとをリードフレーム70の両
面からのハーフエッチングにより形成する。
士及びその間に位置する連結支持部74Aにおける素子
保持面(上面)側であって、ランド部75同士における
連結支持部74Aと並行する中央部部分及びその間の連
結支持部74Aをマスクして、ランド部75の素子保持
面側に対してリードフレーム70の厚さのほぼ2分の1
をエッチングすることにより、ランド部75同士の間に
連結支持部74Aからなるインナリード部74Bを形成
する。
と反対側の面(底面側)をマスクして、ランド部75の
素子保持面側と反対側の面に対して、ランド部75同士
及びインナリード部74Bがそれぞれ分離し、ランド部
75の周囲における上面側及び底面側が貫通するまでエ
ッチングする。これにより、互いに隣接するランド部7
5同士の側面とインナリード部74Bの側面及び底面と
に囲まれた断面Y字状の空隙が形成される。なお、ここ
での上面側と底面側とのハーフエッチングの順序は問わ
れない。
部71の底面側に粘着性テープ材20を貼付して、複数
のランド部75及びフレーム枠部71をテープ粘着性テ
ープ材により保持する。
の、連結支持部74Aが延びる方向に隣接するランド部
75同士の間及びランド部75とダイパッド部73との
間の領域を、図3(c)又は、図4(c)に示したよう
な切断用ポンチにより機械的に切断するか、又はエッチ
ングにより化学的に除去することにより、複数のランド
部75又はインナリード部74Bを選択的に絶縁する。
テープ材20をリードフレーム70の底面側に全面にわ
たって貼付したが、これに限られない。すなわち、絶縁
(孤立化)された複数のランド75がダイパッド部73
又はフレーム枠部71に保持されればよく、上面であっ
ても底面であってよい。但し、上面に貼付する場合は、
半導体素子のダイボンディング工程及びワイヤボンディ
ング工程において妨げにならない領域に貼付する必要が
ある。
20を用いたが、これの代わりに、例えばアルミニウム
からなる金属薄膜を用いてもよく、その絶縁性及び導電
性は問われない。
ーム70を用いた樹脂封止型半導体装置を得るには、第
2の実施形態に係る製造方法と同様に、ダイボンディン
グ工程、ワイヤボンディング工程、封止工程及び分割工
程を順次行なえばよい。
造方法によると、複数のインナリード部がフレーム枠部
とその上面又は下面をリード保持材により保持されてい
るため、インナリード部がフレーム枠部に支持される必
要がない。従って、インナリード部とフレーム枠部とを
連結する連結支持部を設けなくても済むため、例えば3
列以上のランドをフレーム枠部とダイパッド部との間に
設けたとしても、フレーム枠部の小型化を妨げることが
ないので、単層の金属板から多列構成のランドを有する
リードフレームを小型に且つ容易に得ることができる。
を示し、内側インナリード部の絶縁加工前の複数のダイ
パッド部が設けられたリードフレームの1つ分のダイパ
ッド部を含む部分を示す底面図である。
を示し、内側インナリード部の絶縁加工後の複数のダイ
パッド部が設けられたリードフレームの1つ分のダイパ
ッド部を含む部分を示す底面図である。
の製造方法を示す工程順の部分的な構成断面図である。
ドフレームの製造方法を示す工程順の部分的な構成断面
図である。
体装置を示し、(a)は平面図であり、(b)は(a)
のVb−Vb線における構成断面図である。
を示し、(a)はランドの絶縁加工前の複数のダイパッ
ド部が設けられたリードフレームの1つ分のダイパッド
部を含む部分を示す平面図であり、(b)は(a)のVI
b−VIb線における構成断面図である。
を示し、(a)はランドの絶縁加工後の複数のダイパッ
ド部が設けられたリードフレームの1つ分のダイパッド
部を含む部分を示す平面図であり、(b)は(a)のVI
Ib−VIIb線における構成断面図である。
ドフレームを示し、(a)はランドの絶縁加工後の複数
のダイパッド部が設けられたリードフレームの1つ分の
ダイパッド部を含む部分を示す平面図であり、(b)は
(a)のVIIIb−VIIIb線における構成断面図である。
体装置を示し、(a)は平面図であり、(b)は正面図
であり、(c)は右側面図であり、(d)は底面図であ
る。
脂封止型半導体装置を示し、(a)は平面図であり、
(b)は正面図であり、(c)は右側面図であり、
(d)は底面図である。
ムを示し、(a)はランド部同士の絶縁加工後のリード
フレームの部分平面図であり、(b)は(a)のXI−XI
線における構成断面図である。
図である。
Claims (19)
- 【請求項1】 フレーム枠部と、 前記フレーム枠部の内側に配置され、その上面に半導体
素子を保持するダイパッド部と、 前記ダイパッド部の周辺部に配置され、前記ダイパッド
部の下面側に凸部を有する複数の内側インナリード部と
を備え、 前記フレーム枠部と前記複数の内側インナリード部と
は、その上面又は下面をリード保持材により保持されて
いることを特徴とするリードフレーム。 - 【請求項2】 前記複数の内側インナリード部の少なく
とも一部は、各凸部が互いに絶縁されており、絶縁され
た各凸部の周辺部には、その先端部が前記凸部の頂面を
超えない程度に下面と垂直な方向に延びる突起部が形成
されていることを特徴とする請求項1に記載のリードフ
レーム。 - 【請求項3】 前記フレーム枠部と前記内側インナリー
ド部との間に配置され、前記フレーム枠部から内側に延
びると共に前記ダイパッド部の下面側に凸部を有する複
数の外側インナリード部をさらに備えていることを特徴
とする請求項1又は2に記載のリードフレーム。 - 【請求項4】 フレーム枠部と、 前記フレーム枠部の内側に配置され、その上面に半導体
素子を保持するダイパッド部と、 前記フレーム枠部と前記ダイパッド部との間に配置され
たインナリード部とを備え、 前記フレーム枠部と前記インナリード部とは、その上面
又は下面をリード保持材により保持されており、 前記インナリード部は、前記ダイパッド部の下面側に設
けられ互いに間隔をおいてなる複数の凸部を有し、 前記複数の凸部の少なくとも一部は隣接する凸部同士が
互いに絶縁され、その残部は隣接する凸部同士が連結支
持部により支持されていることを特徴とするリードフレ
ーム。 - 【請求項5】 絶縁された前記各凸部の周辺部には、そ
の先端部が前記凸部の頂面を超えない程度に下面と垂直
な方向に延びる突起部が形成されていることを特徴とす
る請求項4に記載のリードフレーム。 - 【請求項6】 前記ダイパッド部はその下面に凹部を有
していることを特徴とする請求項1〜5のうちのいずれ
か1項に記載のリードフレーム。 - 【請求項7】 フレーム枠部と、 前記フレーム枠部の内側に配置され、その上面に半導体
素子を保持するダイパッド部と、 前記フレーム枠部と前記ダイパッド部との間に配置され
た複数のランド部及び該複数のランド部のうちの一部を
電気的に接続するインナリード部とを備え、 前記フレーム枠部と前記ランド部とは、その上面又は下
面をリード保持材により保持されており、 前記インナリード部は、互いに隣接する一のランド部同
士の間に他のランド部同士を接続すると共に上面が前記
一のランド部の頂面の高さと同等で且つ下面が前記一の
ランド部同士の下面よりも高くなるように設けられ、 前記ランド部における前記インナリード部が延びる方向
に対して垂直な方向の断面形状は、前記インナリード部
の側面と対向する上部が小さい断面凸字状であることを
特徴とするリードフレーム。 - 【請求項8】 板状の金属部材から、フレーム枠部と、
該フレーム枠部の内側から延びる連結支持部により支持
されるダイパッド部と、該ダイパッド部の周縁部と接続
された複数の内側インナリード部と、前記フレーム枠部
と接続された複数の外側インナリード部とを一体に形成
する第1の工程と、 前記複数の内側インナリード部の前記ダイパッド部から
それぞれ間隔をおいた部分、及び前記複数の外側インナ
リード部の前記フレーム枠部からそれぞれ間隔をおいた
部分で且つ前記ダイパッド部の素子保持面側と反対側の
面に凸部を形成する第2の工程と、 少なくとも前記複数の内側インナリード部及び前記フレ
ーム枠部の素子保持面側又は該素子保持面と反対の面側
にリード保持材を設けることにより、前記複数の内側イ
ンナリード部及びフレーム枠部を前記リード保持材によ
り保持する第3の工程と、 前記複数の内側インナリード部の少なくとも一部の前記
凸部と前記ダイパッド部との間の領域を除去することに
より、前記複数の内側インナリード部と前記ダイパッド
部とを選択的に絶縁する第4の工程とを備えていること
を特徴とするリードフレームの製造方法。 - 【請求項9】 前記第2の工程は、前記複数の内側イン
ナリード部の凸部形成領域と前記ダイパッド部との間の
領域、及び前記複数の外側インナリード部の凸部形成領
域と前記フレーム枠部との間の領域における素子保持面
側と反対側の面に対してエッチングを行なうことによ
り、前記凸部を形成する工程を含むことを特徴とする請
求項8に記載のリードフレームの製造方法。 - 【請求項10】 前記第2の工程は、前記複数の内側イ
ンナリード部の凸部形成領域と前記ダイパッド部との間
の領域、及び前記複数の外側インナリード部の凸部形成
領域と前記フレーム枠部との間の領域における素子保持
面側と反対側の面を押圧することにより、前記凸部を形
成する工程を含むことを特徴とする請求項8に記載のリ
ードフレームの製造方法。 - 【請求項11】 前記第4の工程は、前記凸部と前記ダ
イパッド部との間の領域を切断手段を用いて切断するこ
とにより、前記凸部と前記ダイパッド部とを絶縁する工
程を含むことを特徴とする請求項8〜10のうちのいず
れか1項に記載のリードフレームの製造方法。 - 【請求項12】 前記切断手段は、前記凸部及びダイパ
ッド部の上面に対してほぼ平行な切断面を有しているこ
とを特徴とする請求項11に記載のリードフレームの製
造方法。 - 【請求項13】 板状の金属部材から、フレーム枠部
と、該フレーム枠部の内側から延びる第1の連結支持部
により支持されると共に第2の連結支持部により互いに
連結された複数のインナリード部及びダイパッド部とを
一体に形成する第1の工程と、 前記複数のインナリード部における前記ダイパッド部の
素子保持面側と反対側の面にそれぞれ間隔をおくように
凸部を形成する第2の工程と、 前記複数のインナリード部及び前記フレーム枠部の素子
保持面側又は該素子保持面と反対の面側にリード保持材
を設けることにより、前記インナリード部及びフレーム
枠部を前記リード保持材により保持する第3の工程と、 前記複数のインナリード部における前記第2の連結支持
部の少なくとも一部の、互いに隣接する前記凸部同士の
間又は互いに隣接する前記凸部とダイパッド部との間の
領域を除去することにより、前記複数のインナリード部
を選択的に絶縁する第4の工程とを備えていることを特
徴とするリードフレームの製造方法。 - 【請求項14】 前記第2の工程は、前記第2の連結支
持部の凸部形成領域同士の間又は凸部形成領域と前記ダ
イパッド部との間の領域における素子保持面側と反対側
の面に対してエッチングを行なうことにより、前記凸部
を形成する工程を含むことを特徴とする請求項13に記
載のリードフレームの製造方法。 - 【請求項15】 前記第2の工程は、前記第2の連結支
持部の凸部形成領域同士の間又は凸部形成領域と前記ダ
イパッド部との間の領域における素子保持面側と反対側
の面を押圧することにより、前記凸部を形成する工程を
含むことを特徴とする請求項13に記載のリードフレー
ムの製造方法。 - 【請求項16】 前記第4の工程は、前記第2の連結支
持部の凸部同士の間又は前記凸部と前記ダイパッド部と
の間の領域を切断手段を用いて切断することにより、前
記凸部同士又は前記凸部と前記ダイパッド部とを絶縁す
る工程を含むことを特徴とする請求項13〜15のうち
のいずれか1項に記載のリードフレームの製造方法。 - 【請求項17】 前記切断手段は、前記凸部及びダイパ
ッド部の上面に対してほぼ平行な切断面を有しているこ
とを特徴とする請求項16に記載のリードフレームの製
造方法。 - 【請求項18】 板状の金属部材から、フレーム枠部
と、該フレーム枠部の内側から延びる連結支持部により
支持されると共に互いに間隔をおいて連結された複数の
ランド部及び該複数のランド部のうちの一部を電気的に
接続するインナリード部と、素子保持面を有するダイパ
ッド部とを一体に形成する第1の工程と、 前記複数のランド部及び前記フレーム枠部の素子保持面
側又は該素子保持面と反対の面側にリード保持材を設け
ることにより、前記ランド部及びフレーム枠部を前記リ
ード保持材により保持する第2の工程と、 前記連結支持部における互いに隣接するランド部同士間
の領域の少なくとも一部を除去することにより、前記複
数のランド部を選択的に絶縁する第3の工程とを備えて
いることを特徴とするリードフレームの製造方法。 - 【請求項19】 前記第1の工程は、 互いに隣接するランド部同士及びその間に位置する連結
支持部における素子保持面側であって、前記ランド部同
士における前記連結支持部と並行する中央部部分及びそ
の間の前記連結支持部をマスクして、前記ランド部の素
子保持面側に対してその厚さのほぼ2分の1をエッチン
グすることにより、前記ランド部同士の間に前記連結支
持部からインナリード部を形成する工程と、 前記複数のランド部の素子保持面側と反対側の面をマス
クして、前記ランド部の素子保持面側と反対側の面に対
して、前記ランド部同士及び前記インナリード部がそれ
ぞれ分離するようにエッチングする工程とを含むことを
特徴とする請求項18に記載のリードフレームの製造方
法。
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TW90126709A TWI270966B (en) | 2001-02-14 | 2001-10-29 | Leadframe, resin-molded semiconductor device including the leadframe, method of making the leadframe and method for manufacturing the device |
CNB011349158A CN1260814C (zh) | 2001-02-14 | 2001-11-14 | 导线框、使用该导线框的半导体装置及其制造方法 |
EP20020000961 EP1235272B1 (en) | 2001-02-14 | 2002-01-16 | Leadframe, resin-molded semiconductor device including the leadframe, method of making the leadframe and method for manufacturing the device |
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