JP2002246474A - ダミーパターンレイアウト方法 - Google Patents

ダミーパターンレイアウト方法

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JP2002246474A
JP2002246474A JP2001043699A JP2001043699A JP2002246474A JP 2002246474 A JP2002246474 A JP 2002246474A JP 2001043699 A JP2001043699 A JP 2001043699A JP 2001043699 A JP2001043699 A JP 2001043699A JP 2002246474 A JP2002246474 A JP 2002246474A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 配線遅延を生じさせず、且つ十分な開口率を
満たすことが可能なダミーパターンレイアウト方法を提
供する。 【解決手段】 S1〜S3で入力された必要情報を用い
て、各配線ごとに配線余裕度ランク分けを行う(S
4)。次に、決定された配線余裕度ランクに応じて、各
配線の配線間隔制約を設定する(S5)。次に、開口率
を調整するために各配線幅を修正する(S6)。この配
線幅修正のステップでは、S2にて入力された上限配線
情報に応じて、各配線の幅を上限配線幅まで拡大する。
最後に、配線間隔制約が設定されていない領域にダミー
パターンを配置する(S7)。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、LSI(Large Sc
ale Integration)レイアウトパターンの平坦化処理に
おいてダミーパターンを配置する際に用いるダミーパタ
ーンレイアウト方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】多層配線を有する半導体装置等では、下
地配線に起因して生じる凹凸を緩和するための層間膜の
平坦化が重要な技術の一つである。そこで、ドライエッ
チングプロセスの際にウエハ上の各チップにおけるエッ
チング処理の状態を常に一定にするために、ダミーパタ
ーンを配置して各チップの面積率(開口率)を一定にし
なければならない。
【0003】以下に、図22及び図23を参照しながら
従来のダミーパターンレイアウト方法について説明す
る。図22に示す101は信号配線を示しており、信号
配線101の存在しない空白エリアのみにダミーパター
ンを配置する。図23は、図22に示す空白エリアにダ
ミーパターンが配置された状態を示している。図23に
おいて、102は配置されたダミーパターンを示してお
り、103は信号配線101とダミーパターン102と
の間隔を表している。なお、図23においては、分かり
やすくする目的でダミーパターン102にハッチングを
施している。
【0004】従来のダミーパターンレイアウト方法で
は、この間隔103の大きさを3μm以上200μm以
下としている。間隔103を3μm以上とするのは寄生
容量を無視できる程度に抑えるためであり、200μm
以下とするのは平坦化の効果を得るためである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ダミーパターンレイアウト方法では、寄生容量を無視す
る程度に抑えるため、多層に配置されている全配線から
3μm以上の間隔を空けてダミーパターンを配置しなけ
ればならない。このため、ダミーパターンの十分な面積
を得ることが困難となり、目標の開口率を満足すること
ができないという問題があった。また、配線層ごとでダ
ミーパターン配置の処理を行った場合、配置されたダミ
ーパターンとこのダミーパターンの上下に存在する配線
層との間に寄生容量が発生し、配線遅延が生じるという
問題があった。
【0006】本発明はこれらの問題を解決するために、
配線遅延を生じさせず、且つ十分な開口率を満たすこと
が可能なダミーパターンレイアウト方法を提供すること
を目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明のダミーパターンレイアウト方法は、配線
遅延の余裕度に応じて各配線の配線余裕度ランク分けを
行う第1の工程と、配線余裕度ランクが決定された配線
に対し、配線間隔制約基準値を用いて他の配線との間隔
制約である配線間隔制約を設定する第2の工程と、設定
された配線間隔制約内で各配線の幅を拡大して開口率を
調整する第3の工程と、配線間隔制約が設定されない領
域にダミーパターンを配置する第4の工程とを含むこと
を特徴とする。
【0008】この方法によれば、各配線の余裕度に応じ
た間隔を設けてダミーパターンを配置することができ
る。従って、従来の方法のように、ダミーパターンを配
置する際に全ての配線から3μm以上の間隔を設ける必
要がなくなるため、十分な開口率が得られないという問
題も改善される。
【0009】これにより、寄生容量を無視できる程度に
抑えて配線遅延値への影響を小さくし、且つ目標の開口
率を効率的に満たすことができるようにダミーパターン
を配置することができる。
【0010】さらに、本発明のダミーパターンレイアウ
ト方法は、前記第4の工程後に、配線層の開口率が目標
開口率を満たしているか否かを判定する第5の工程と、
前記第5の工程で配線層の開口率が目標開口率を満たし
ていないと判定された場合に、前記配線間隔制約基準値
を変更する第6の工程とをさらに含み、前記第6の工程
修了後に前記第2の工程からの処理を繰り返す方法とす
ることもできる。
【0011】この方法によれば、配線遅延値への影響を
小さくした状態で、且つ目標の開口率を効率よく且つ確
実に満足するようなダミーパターンを配置することがで
きる。
【0012】また、前記第1の工程における配線余裕度
ランク分けは、各配線の制限遅延値と実遅延値との差か
ら求められる余裕遅延値ランクと、配線長から求められ
る配線長ランクとを用いて行われることが好ましい。
【0013】この方法によれば、配線の遅延値のマージ
ンと配線長との両方を考慮するので、信頼性の高い配線
余裕度ランク分けを行うことができる。
【0014】また、前記第3の工程では、各配線に対
し、他の配線の配線間隔制約と重ならない部分に対して
のみ配線幅を拡大することが好ましい。
【0015】この方法によれば、配線間に発生する寄生
容量を無視できる程度に抑えることができるので、配線
遅延値への影響がなくなる。
【0016】また、前記第3の工程では、配線層が複数
存在する多層配線の場合、各配線に対し、異なる層に配
置されて並行する配線の配線間隔制約と重ならない部分
に対してのみ配線幅を拡大することが好ましい。
【0017】この方法によれば、異なる配線層間に発生
する寄生容量も無視できる程度まで抑えることができる
ので、多層配線の場合であっても配線遅延が生じない。
【0018】また、配線層が複数存在する多層配線の場
合であって、前記第5の工程により開口率が目標開口率
を満たす配線層と満たさない配線層とが混在することが
確認された場合には、目標開口率を満たさない配線層に
配置するダミーパターンを他の配線層に配置された配線
とオーバーラップさせることができる。
【0019】この方法によれば、多層配線の場合であっ
ても、寄生容量の発生を抑制しながら各配線層の開口率
が目標開口率を満たすようにダミーパターンを配置する
ことができる。
【0020】
【発明の実施の形態】(実施の形態1)以下、本発明の
第1の実施の形態について、図1〜図18を参照しなが
ら説明する。
【0021】図1は、本実施の形態に係るダミーパター
ンレイアウト方法のフローチャートである。まず、本実
施の形態に係るダミーパターンレイアウト方法につい
て、図1のフローチャートを用いて説明する。
【0022】ステップ1〜ステップ3(S1〜S3)
で、まず必要な情報として配置配線情報、目標開口率及
び上限配線幅情報、遅延情報が入力される。
【0023】次に、ステップ4(S4)として、入力さ
れた上記必要情報を用いて各配線の配線余裕度ランク分
けを行う。
【0024】この配線余裕度ランク分けのステップで
は、上記の必要情報が入力された全配線に対し、以下に
示す式(1)を用いてまず余裕遅延値を算出する。
【0025】 制限遅延値−実遅延値=余裕遅延値 …(1) 次に、式(1)にて算出された余裕遅延値をソートし
て、値の大きな順に例えば1(余裕遅延値大)〜5(余
裕遅延値小)の余裕遅延値ランクをつける。次に、各配
線の配線長を算出してソートし、短い順に例えば1
(短)〜5(長)の配線長ランクをつける。ここで、以
下の式(2)を用いて配線余裕度ランクを決定する。
【0026】 余裕遅延値ランク+配線長ランク=配線余裕度ランク …(2) 仮に、図2に示すような配線1,2に対し、余裕遅延値
ランクのみを基準にしてダミーパターンを配置すると、
配線1,2の余裕遅延値ランクが共に1で配置されたダ
ミーパターンがオーバーラップする場合、図3に示すよ
うにダミーパターンが同じ状態でオーバーラップされて
しまう。この時、配線1よりも配線長の長い配線2の方
により大きな層間容量が発生して、遅延値に対して大き
な影響をもたらすことになる。このような状態を避ける
ためには、配線長を考慮して配線余裕度ランクを決定す
る必要がある。そこで、配線長を考慮した式(2)によ
って導かれる配線余裕度ランクを基準に、次のステップ
で配線間隔制約を設定する必要がある。
【0027】次に、ステップ5(S5)として、S4で
ランク分けされた配線余裕度ランクに応じて、各配線に
対し配線間隔制約を設定する。S5においては、例えば
配線余裕度ランク10の間隔、すなわち最大配線間隔制
約(ブロッケージ最大間隔)を設定し、以下の式(3)
を用いて各ランクの間隔を算出する。 最大配線間隔制約×配線余裕度ランクに応じた倍率=各ランクの間隔 …(3) これにより、各配線余裕度ランクに応じた間隔、すなわ
ち各配線余裕度ランクの配線間隔制約が設定される。
【0028】上記の式(3)によって導かれた各配線余
裕度ランクに応じた配線間隔制約値(配線間隔基準値)
の例が、表1に示されている。なお、この例では、配線
余裕度ランクに応じた倍率を配線余裕度ランク×0.1
とし、最大配線間隔制約を3μmとして、配線間隔制約
が計算されている。
【0029】
【表1】
【0030】また、各配線に設定される配線間隔制約は
一つの直線パターンを一つの単位として設定される。従
って、図4に示すように配置された配線では、横方向に
配置された配線4と縦方向に配置された配線5とのそれ
ぞれに対して配線間隔制約が設定される。配線4に対す
る配線間隔制約が6、配線5に対する配線間隔制約が7
で示されている。
【0031】次に、ステップ6(S6)として、開口率
を調整するために各配線幅を修正する。この配線幅修正
のステップでは、S2にて入力された上限配線幅情報に
より設定された上限配線幅まで各配線の幅を拡大する。
このとき、配線間隔制約設定のステップと同様に各配線
の一つの直線パターンを一つの単位とし、且つ配線間隔
制約の値は維持したままで配線幅を拡大する。また、こ
こでは、配線余裕度ランクの高い配線から順に配線幅を
修正していく。
【0032】最後に、ステップ7(S7)として、配線
間隔制約が設定されていない領域にダミーパターンを配
置する。
【0033】以上のようなS1〜S7の処理を行ってダ
ミーパターンを配置することにより、各配線の余裕度に
応じた間隔を設けてダミーパターンを配置することがで
きる。それゆえ、従来の方法のように、ダミーパターン
を配置する際に全ての配線から3μm以上の間隔を空け
る必要がなくなるので、十分な開口率が得られないとい
う問題も改善される。
【0034】これにより、配線遅延値への影響を小さく
した状態で、且つ開口率を効率的に確保することができ
る。
【0035】以下に示す実施例1〜3で、本実施の形態
に係るダミーパターンレイアウト方法を用いたダミーパ
ターンの配置例をについて説明する。
【0036】(実施例1)本実施の形態に係るダミーパ
ターンレイアウト方法を用いた第1の実施例として、配
線層が一層で、且つある配線に対して設定された配線間
隔制約が他の配線と重ならない場合の例について説明す
る。
【0037】図5には、S1にて入力される配置配線情
報、すなわち配線の初期配置状態が示されている。ま
た、S4の配線余裕度ランク分けのステップにより、配
線11は配線余裕度ランク1、配線12は配線余裕度ラ
ンク3と決定されている。
【0038】このように決定された配線余裕度ランクに
応じ、S5で配線11,12に対して配線間隔制約を設
定した状態が図6に示されている。上述したように、配
線に設定される配線間隔制約は配線の直線パターンを一
つの単位として設定される。配線11,12はそれぞれ
三つの直線パターンに分けることができるので、配線1
1の配線間隔制約は11a〜11c、配線12の配線間
隔制約は12a〜12cで示すように設定される。この
ときの配線間隔制約の大きさは配線余裕度ランクに従う
ため、図6においては配線12の配線間隔制約12a〜
12c方が配線11の配線間隔制約11a〜11cより
も大きく設定されている。
【0039】なお、図6では、各配線11,12に対す
る配線間隔制約をわかりやすくするため、配線間隔制約
11b、12bについては実際よりも右上にずらして描
いている。
【0040】次に、S6の配線幅修正により、配線間隔
制約が設定された状態の各配線11,12の線幅を拡大
した状態が図7に示されている。ここでは、S5で設定
した配線間隔制約11a〜11c,12a〜12cの値
を維持したままで、配線幅を上限配線幅(設定最大配線
幅13)まで拡大する。
【0041】図7に示す状態の配線層に対し、S7にて
ダミーパターンを配置した様子が図8に示されている。
図8に示されているように、ダミーパターン14は、配
線間隔制約11a〜11c,12a〜12cを除いた領
域に配置される。なお、図8においては、分かりやすく
する目的でダミーパターン14にハッチングを施してい
る。
【0042】なお、ダミーパターン14の最小幅及び最
小面積はデザインルールに則っている。
【0043】(実施例2)本実施の形態に係るダミーパ
ターンレイアウト方法を用いた第2の実施例として、配
線層が一層で、且つある配線に設定された配線間隔制約
が他の配線と重なる場合の例について説明する。
【0044】図9には、S1にて入力される配置配線情
報、すなわち配線の初期配置状態が示されている。ま
た、S4の配線余裕度ランク分けのステップにより、配
線21は配線余裕度ランク1、配線22は配線余裕度ラ
ンク3と決定されている。
【0045】このように決定された配線余裕度ランクに
応じ、S5で配線21,22に対して配線間隔制約を設
定した状態が図10に示されている。配線21,22は
それぞれ三つの直線パターンに分けることができるの
で、配線21の配線間隔制約は21a〜21c、配線2
2の配線間隔制約は22a〜22cで示すように設定さ
れる。このときの配線間隔制約の大きさは配線余裕度ラ
ンクに従うため、図10においては配線22の配線間隔
制約22a〜22c方が配線21の配線間隔制約21a
〜21cよりも大きく設定されている。図10に示され
ているように、配線間隔制約22aが配線21と重なっ
ている。
【0046】次に、S6の配線幅修正により、配線間隔
制約が設定された状態の各配線21,22の線幅を拡大
した状態が図11に示されている。本実施例の場合、配
線22の配線間隔制約の一部が配線21と重なっている
ため、配線22においては、配線間隔制約が配線21と
重なっていない部分のみ配線幅を上限値(設定最大配線
幅23)まで拡大する。また、配線幅の修正は配線余裕
度ランクの高い配線から順に行うため、配線22の配線
幅修正の終了後に配線21の配線幅を修正する。また、
各配線の配線余裕度ランクが同じである場合は、総配線
長の長い配線から順に配線幅を修正する。なお、図11
には配線22の配線幅修正が終了した状態が示されてい
る。
【0047】図12には、配線21,22に対する配線
幅修正後の状態の配線層に対し、S7によりダミーパタ
ーンを配置した様子が示されている。図12に示されて
いるように、ダミーパターン24は、配線間隔制約21
a〜21c,22a〜22cを除いた領域に配置され
る。なお、図12においては、分かりやすくする目的で
ダミーパターン24にハッチングを施している。
【0048】なお、ダミーパターン24の最小幅及び最
小面積はデザインルールに則っている。
【0049】(実施例3)本実施の形態に係るダミーパ
ターンレイアウト方法を用いた第3の実施例として、配
線層として第1配線層と第2配線層の二層が設けられて
いる場合の例について説明する。
【0050】図13には、S1にて入力される配置配線
情報、すなわち配線の初期配置状態が示されている。配
線31〜33は第1配線層に配置された配線であり、配
線41〜44は第2配線層に配置された配線である。ま
た、第1配線層の配線31と第2配線層の配線42とは
コンタクトホール51で接続されており、一本の配線と
して機能している。また、S4の配線余裕度ランク分け
のステップにより、配線31,33,41,42は配線
余裕度ランク1、配線44は配線余裕度ランク2、配線
32,43は配線余裕度ランク3と決定されている。ま
た、異層同士の配線は互いに重なりあっている。
【0051】このように決定された配線余裕度ランクに
応じ、S5により各配線に配線間隔制約を設定した状態
が図14に示されている。配線31〜33の配線間隔制
約は31a〜33a、配線41は二つの直線パターンに
分けることができるので配線間隔制約は41a及び41
b、配線42〜44の配線間隔制約は42a〜44aと
それぞれ設定される。なお、図14において、第1配線
層に配置された配線31〜33の配線間隔制約31a〜
33aは破線で示されており、第2配線層に配置された
配線41〜44の配線間隔制約41a,41b,42a
〜44aは二点差線で示されている。このときの配線間
隔制約の大きさは配線余裕度ランクに従っている。図1
4に示されているように、配線33と配線41とは互い
に異なる配線層に配置されているが、配線33の配線間
隔制約33aが配線41と重なっている。
【0052】図15(a)(b)は、図14に示された
状態を第1配線層、第2配線層に分けて示した図であ
る。図15(a)では第1配線層の配線31〜33のみ
を示している。第1配線層の配線31〜33に対して配
線余裕度ランクに応じた配線間隔制約31a〜33aが
設定されていることがわかる。図15(b)では第2配
線層の配線41〜44のみを示しており、配線余裕度ラ
ンクに応じた配線間隔制約41a,41b,42a〜4
4aが設定され、さらに配線42の配線間隔制約42a
と配線43の配線間隔制約43aとが互いに重なり合っ
ていることがわかる。
【0053】次に、S6の配線幅を修正するステップに
より、配線間隔制約が設定された状態の各配線31〜3
3,41〜44の線幅を拡大した状態が図16に示され
ている。ここでの配線幅修正のステップでは、配線41
において配線33の配線間隔制約33aと重なり合った
部分の配線幅は拡大されない。また、配線32も配線間
隔制約32aが配線41と接触した時点で配線幅の拡大
を終了している。配線43も配線間隔制約43aが他配
線と接触した時点で配線幅の拡大を終了している。この
ような配線幅の修正方法によれば、異なる配線層に配置
され、且つ互いに並行する配線同士の容量は配線幅変更
前後で変化しない。また、コンタクトホール51につい
ては、接続している配線31と配線42の配線幅に従っ
て、デザインルールの許す限り数を増やし、コンタクト
抵抗の低減を図っている。このとき、互いに直行する配
線同士は無視するものとする。
【0054】図17(a)(b)は、図16に示された
状態を第1配線層、第2配線層に分けて示した図であ
る。図17(a)において、配線32及び配線33は図
16に示す配線41との関係から配線幅が決定されてお
り、配線31の配線幅は配線32の配線間隔制約32a
によって決定されている。図17(b)において、配線
44の配線幅が配線43の配線間隔制約43aによって
決定されており、配線43の配線幅は配線44と配線4
1によって決まっている。また、配線41及び配線42
に関しては、互いの配線間隔制約41a,41b,42
aによって配線幅が決定されている。
【0055】図18にダミーパターン挿入後の状態が示
されている。ここでは、配線層に関係なく、全層共に同
じ配線間隔制約、つまり第1配線層及び第2配線層で設
定された全ての配線間隔制約を適用してダミーパターン
61を配置する。従って、ダミーパターン61は第1配
線層及び第2配線層において共に配線間隔制約が設定さ
れていない領域に配置される。これにより、異なる配線
層同士での寄生容量の影響を少なくすることができる。
なお、図18においては、分かりやすくする目的でダミ
ーパターン61にハッチングを施している。
【0056】(実施の形態2)以下、本発明の第2の実
施の形態について、図19〜図21を参照しながら説明
する。
【0057】図19は、本実施の形態に係るダミーパタ
ーンレイアウト方法のフローチャートである。まず、本
実施の形態に係るダミーレイアウト方法について、図1
9のフローチャートを用いて説明する。
【0058】本実施の形態に係るダミーパターンレイア
ウト方法は、実施の形態1で説明したダミーパターンレ
イアウト方法に対し、目標開口率を満足させるためのス
テップをさらに追加した方法である。そこで、図19に
示すS1〜S7の説明については、実施の形態1で図1
を参照しながら説明したとおりであるためここでは省略
し、ステップ8(S8)とステップ(S9)について以
下に説明する。
【0059】S7のダミーパターン配置が終了した後、
S8の開口率確認ステップに移る。開口率確認ステップ
では、まず以下に示す式(4)を用いて各配線層の開口
率を求める。
【0060】 各配線層総面積/チップ面積=開口率 …(4) 次に、求められた各配線層の開口率とS2で入力された
目標開口率とを比較し、開口率が目標開口率を満たして
いない場合はS9の配線間隔制約基準変更ステップに移
る。配線間隔制約基準変更ステップでは、配線間隔制約
の最大配線間隔制約値を小さくする、あるいは各ランク
における最大配線間隔制約に対する倍率を小さくして各
ランク間の配線間隔制約を小間隔にし、表1に示した配
線間隔制約基準を変更する。
【0061】その後は、再びS5に戻り、変更された配
線間隔制約基準に基づいて各配線の配線間隔制約を再設
定する。その後、再びS6〜S8の処理を行う。このと
き、多層配線層を有するチップにおいて、目標開口率を
達成している配線層と目標開口率を達成していない配線
層とが混在する場合、開口率未達成な配線層の上下配線
層に配置された配線において配線余裕度ランクの低い配
線順にダミーパターンのオーバーラップを許可してゆ
く。
【0062】以下に、本実施の形態に係るダミーパター
ンレイアウト方法を用いたダミーパターンの配置例とし
て、配線層が二層の場合の例について説明する。ここで
は、実施の形態1の実施例3におけるダミーパターン配
置後に、第2配線層の配線層のみが目標開口率を満たさ
なかった場合を想定して説明する。
【0063】S1〜S7の処理によって図18に示され
ているような状態にダミーパターンが配置された後、S
8の開口率確認ステップにより第2配線層の配線層が目
標開口率に達していないと確認された場合、開口率の不
足している配線層(ここでは第2配線層)の上下の層
(ここでは第1配線層)において、配線余裕度ランク1
の配線から順に一つずつオーバーラップを許可してゆ
く。
【0064】図20にオーバーラップが許可されたダミ
ーパターン81が配置された後の状態を示す。第1配線
層に配置された配線の中で、配線余裕度ランクが1の場
合、1層配線の部分のみオーバーラップを許可する。こ
のとき、第1配線層の配線のうち、配線余裕度ランクが
低い配線、すなわち配線余裕度ランク1の配線31,3
3に対してのオーバーラップから許可する。これによ
り、開口率を調整したい配線層以外の層に配置された配
線への寄生容量の影響を小さくできる。
【0065】図21(a)(b)は、図21に示された
状態を第1配線層、第2配線層に分けて示した図であ
る。図21(a)に示されている第1配線層は開口率が
基準(目標開口率)に達しているため、第1配線層のダ
ミーパターン81aは第1配線層及び第2配線層両方の
配線31〜33,41〜44に対して配線間隔制約31
a〜33a,41a,41b,42a〜44a内に入り
込む必要が無い。一方、図21(b)に示すように、開
口率が基準に満たない第2配線層においては、第2配線
層のダミーパターン81bは第2配線層配線に対しては
配線間隔制約内に入り込むことはないが、図20に示す
ように第1配線層及び第2配線層の配線層を重ねた場
合、第1配線層の配線31,33に対してオーバーラッ
プしている。
【0066】以上のように、本実施の形態に係るダミー
パターンレイアウト方法によれば、開口率基準を満たす
ようにダミーパターンを配置することができる。これに
より、配線遅延値への影響を小さくした状態で、且つ十
分な開口率を効率よく確保することができる。
【0067】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明のダミー
パターンレイアウト方法によれば、配線遅延値への影響
を小さくした状態で、且つ開口率を効率的に確保できる
ダミーパターンの配置が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1の実施の形態に係るダミーパタ
ーンレイアウト方法を示すフローチャートである。
【図2】 配線余裕度ランク分けについて説明するため
の配線を示す平面図である。
【図3】 配線余裕度ランク分けについて説明するため
の配線及びダミーパターンを示す平面図である。
【図4】 配線に対する配線間隔制約の設定について示
す説明図である。
【図5】 実施の形態1に係るダミーパターンレイアウ
ト方法の実施例1における配線の初期配置状態を示す平
面図である。
【図6】 実施例1における配線間隔制約設定後の配線
層の状態を示す平面図である。
【図7】 実施例1における配線幅修正後の配線層の状
態を示す平面図である。
【図8】 実施例1におけるダミーパターン配置後の配
線層の状態を示す平面図である。
【図9】 実施の形態1に係るダミーパターンレイアウ
ト方法の実施例2における配線の初期配置状態を示す平
面図である。
【図10】 実施例2における配線間隔制約設定後の配
線層の状態を示す平面図である。
【図11】 実施例2における配線幅修正後の配線層の
状態を示す平面図である。
【図12】 実施例2におけるダミーパターン配置後の
配線層の状態を示す平面図である。
【図13】 実施の形態1に係るダミーパターンレイア
ウト方法の実施例3における配線の初期配置状態を示す
平面図である。
【図14】 上記実施例3における配線間隔制約設定後
の配線層の状態を示す平面図である。
【図15】 (a)は図14に示された配線層のうち第
1配線層を示す平面図であり、(b)は図14に示され
た配線層のうち第2配線層を示す平面図である。
【図16】 上記実施例3における配線幅修正後の配線
層の状態を示す平面図である。
【図17】 (a)は図16に示された配線層のうち第
1配線層を示す平面図であり、(b)は図16に示され
た配線層のうち第2配線層を示す平面図である。
【図18】 実施例3におけるダミーパターン配置後の
配線層の状態を示す平面図である。
【図19】 本発明の第2の実施の形態に係るダミーパ
ターンレイアウト方法を示すフローチャートである。
【図20】 実施の形態2で説明した実施例におけるダ
ミーパターン配置後の配線層の状態を示す平面図であ
る。
【図21】 (a)は図20に示された配線層のうち第
1配線層を示す平面図であり、(b)は図20に示され
た配線層のうち第2配線層を示す平面図である。
【図22】 従来のダミーパターンレイアウト方法が適
用される配線の初期配置状態を示す平面図である。
【図23】 従来のダミーパターンレイアウト方法によ
りダミーパターンが配置された状態の配線層を示す平面
図である。
【符号の説明】
11,12 配線 11a,11b,11c 配線間隔制約 12a,12b,12c 配線間隔制約 13 設定最大配線幅 14 ダミーパターン 21,22 配線 21a,21b,21c 配線間隔制約 22a,22b,22c 配線間隔制約 23 設定最大配線幅 24 ダミーパターン 31,32,33 配線 41,42,43,44 配線 31a,32a,33a 配線間隔制約 41a,41b,42a,43a,44a 配線間隔
制約 51 コンタクトホール 61 ダミーパターン 81 ダミーパターン 81a 第1配線層のダミーパターン 81b 第2配線層のダミーパターン

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 配線遅延の余裕度に応じて各配線の配線
    余裕度ランク分けを行う第1の工程と、 配線余裕度ランクが決定された配線に対し、配線間隔制
    約基準値を用いて他の配線との間隔制約である配線間隔
    制約を設定する第2の工程と、 設定された配線間隔制約内で各配線の幅を拡大して開口
    率を調整する第3の工程と、 配線間隔制約が設定されない領域にダミーパターンを配
    置する第4の工程とを含むことを特徴とするダミーパタ
    ーンレイアウト方法。
  2. 【請求項2】 前記第4の工程後に、配線層の開口率が
    目標開口率を満たしているか否かを判定する第5の工程
    と、 前記第5の工程で配線層の開口率が目標開口率を満たし
    ていないと判定された場合に、前記配線間隔制約基準値
    を変更する第6の工程とをさらに含み、 前記第6の工程修了後に前記第2の工程からの処理を繰
    り返すことを特徴とする請求項1に記載のダミーパター
    ンレイアウト方法。
  3. 【請求項3】 前記第1の工程における配線余裕度ラン
    ク分けは、各配線の制限遅延値と実遅延値との差から求
    められる余裕遅延値ランクと、配線長から求められる配
    線長ランクとを用いて行われることを特徴とする請求項
    1又は2に記載のダミーパターンレイアウト方法。
  4. 【請求項4】 前記第3の工程では、各配線に対し、他
    の配線の配線間隔制約と重ならない部分に対してのみ配
    線幅を拡大することを特徴とする請求項1又は2に記載
    のダミーパターンレイアウト方法。
  5. 【請求項5】 前記第3の工程では、配線層が複数存在
    する多層配線の場合、各配線に対し、異なる層に配置さ
    れて並行する配線の配線間隔制約と重ならない部分に対
    してのみ配線幅を拡大することを特徴とする請求項1又
    は2に記載のダミーパターンレイアウト方法。
  6. 【請求項6】 配線層が複数存在する多層配線の場合で
    あって、前記第5の工程により開口率が目標開口率を満
    たす配線層と満たさない配線層とが混在することが確認
    された場合には、目標開口率を満たさない配線層に配置
    するダミーパターンを他の配線層に配置された配線とオ
    ーバーラップさせることを特徴とする請求項1又は2に
    記載のダミーパターンレイアウト方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2005538554A (ja) * 2002-09-05 2005-12-15 インフィネオン テクノロジーズ アクチエンゲゼルシャフト 中間材と関連構成部品とを有する集積回路構成
JP2009038079A (ja) * 2007-07-31 2009-02-19 Nec Corp 半導体集積回路の設計方法および装置
US8621399B2 (en) 2011-05-17 2013-12-31 Samsung Electronics Co., Ltd. Methods of designing semiconductor devices and methods of modifying layouts of semiconductor devices

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