JP2002243617A

JP2002243617A - 集積回路の欠陥検出方法

Info

Publication number: JP2002243617A
Application number: JP2000382507A
Authority: JP
Inventors: Jeremy Duncan Russell; ダンカンラッセルジェルミー
Original assignee: Promos Technologies Inc
Current assignee: Promos Technologies Inc
Priority date: 2000-12-15
Filing date: 2000-12-15
Publication date: 2002-08-28

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】如何なる制御コンピュータ系統及び欠陥検出器
具にも取付け得るフリエ変換空間フィルタリング技術を
使用した集積回路の全自動欠陥検出方法を提供する。【解決手段】集積回路表面の二次元ディジタルイメージ
を取得するステップ、該二次元ディジタルイメージに対
してフリエ変換を行い、二次元画素データ複数アレイを
生ずるステップ、該二次元フリエ変換のパワスペクトル
を計算するステップ、該パワスペクトルのイメージを限
界化して第１のマスクを生ずるステップ、第１のマスク
のイメージ上で検出されたそれぞれの点を水平及び垂直
方向に向かって特定の画素数に拡張させ第２のマスクを
生ずるステップ、第２のマスクにより該二次元画素デー
タ複数アレイにおける周期性成分を除去するステップ、
該二次元画素データ複数アレイに対して逆フリエ変換を
行い、周期性成分を除去した二次元画素データ複数アレ
イを、欠陥イメージに再生させるステップを備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は集積回路の欠陥検出
方法に関し、特にフリエ変換空間フィルタリング技術を
使用した集積回路の欠陥検出方法及び系統に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、現今の半導体装置及び集積回路
の製造に対して製造の初期段階で欠陥を検出し且その欠
陥を発見でき、そしてこの欠陥及びこれにより生ずるノ
イズ及びアーティフィシュを削除できれば、製品の歩留
を向上させ、製造のスループットを上げることができ
る。このために製造の各段階において欠陥の存在を発見
するために半導体装置及び集積回路の表面検査を行うこ
とは、この業界の不可欠な慣わしとなっている。

【０００３】従来では、欠陥検出は例えば走査式光学顕
微鏡（ＳＥＭ）、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）等の光学顕
微鏡及びフォーカスイオンビーム（ＦＩＢ）等の電子ビ
ーム探測技術が応用され、これにより集積回路又は半導
体ウェーハの表面に像を形成させ、技師又は一般の操作
員により人工的方式でこれら回路及びウェーハ表面にお
ける映像上に存在している欠陥を探し出すようにしてい
る。しかしながらこの方式では、微小で識別しにくい欠
陥がまだ多く残留しており、単なる人工方式では検出で
きないという問題が存在している。また、近年では光学
検査器具を使用して完成されるイン・ライン検査が半導
体及び集積回路の欠陥検査に応用されており、例えばＫ
ＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒの２１ＸＸシリーズのウェーハ検査
器具等があるが、その大部分が専用で高価なソフトウェ
アを組込んで操作しなければならないので、応用上弾性
に欠け、コストが高過ぎると共に、専業レベルの比較的
高い技術者による操作が必要となり、一般的な故障分析
（ｆａｉｌｕｒｅａｎａｌｙｓｉｓ）実験室での使用
に適合しない。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】この対策として、既に
欠陥検出のより容易と方便とについて多くの努力と研究
がなされ、最近では例えば空間フィルタリング（Ｓｐａ
ｔｉａｌｆｉｌｔｅｒｉｎｇ）の技術が既に開発され
欠陥分析の分野に応用されている。この空間フィルタリ
ングの技術はＳＥＭ顕微マップを利用した幻灯片及びレ
ーザ光学台を利用して、光学ルート上に形成される回折
ピークのマスクをセットアップすることにより、欠陥の
みを含んだ映像を出現させるものである。このようにし
て、イン・ライン検査器具には参考映像を使用してテス
ト映像と比較するプログラム及びフリエ変換に類似した
自動シリーズが組込まれ、これにより当該欠陥を測量分
類して検出している。しかしながらこのように発展され
たイン・ライン検査器具には依然としてなお欠点が存在
している。先ず、一般の映像処理セットアップソフトウ
ェアは実験室の環境と相容れず、かつ、最適化且全自動
の空間フィルタリングの解決策に欠如している。次に高
価なハードウェア設備の組込みが必要である。したがっ
てその応用の分野はいずれもなお研究の階段にあり、実
際の生産環境に適用されていない。

【０００５】

【課題を解決するための手段】そこで、フリエ変換空間
フィルタリング（ＦｏｕｒｉｅｒＴｒａｎｓｆｏｒｍ
ＳｐａｔｉａｌＦｉｌｔｅｒｉｎｇ）の技術が欠陥
検出の分野に広く応用されてきた。このことから、もし
フリエ変換空間フィルタリングの技術を利用してＰＣ等
の制御計算機系統又はすべての欠陥検出器具に適用可能
な全自動運算法を開発し、集積回路上の欠陥を検出分析
できれば、高価なハードウェアを組込むことなく、迅速
かつ正確に当該欠陥を検出することができると考えられ
ている。発明者は上記従来技術の欠点にかんがみ、鋭意
実験と研究とを重ねた結果、本発明のフリエ変換空間フ
ィルタリング技術を使用した集積回路の欠陥検出方法を
創作した。

【０００６】本発明の主たる目的はフリエ変換空間フィ
ルタリングの技術を使用して迅速かつ正確に集積回路表
面の欠陥を検出できる集積回路の欠陥検出方法を提供す
ることにある。

【０００７】本発明の次の目的はフリエ変換空間フィリ
タリングの技術を使用して全自動的に集積回路表面の欠
陥を検出できる集積回路の欠陥検出方法を提供すること
にある。

【０００８】本発の又次の目的は集積回路の欠陥に応用
され、集積回路表面上の欠陥を迅速かつ正確に検出でき
る、フリエ変換空間フィリタンリングの技術を使用した
コンピュータプログラム製品を提供することにある。

【０００９】上記目的を達成するための本発明に係る集
積回路の欠陥検出方法は、（ａ）前記集積回路の第１の
二次元ディジタルイメージを取得するステップと、
（ｂ）フリエ変換により前記第１の二次元ディジタルイ
メージを計算して第１の二次元画素データ複数アレイを
生ずるステップと、（ｃ）前記第１の二次元画素データ
複数アレイのパワスペクトルを計算するステップと、
（ｄ）前記パワスペクトルのイメージを限界化して第１
のマスクを生ずるステップと、（ｅ）前記第１のマスク
のイメージを拡張して第２のマスクを生ずるステップ
と、（ｆ）前記第２のマスクを応用して前記第１の二次
元画素データ複数アレイにおける周期性成分を除去する
ことにより、第２の二次元画素データ複数アレイを生ず
るステップと、（ｇ）逆フリエ変換により前記第２の二
次元画素データ複数アレイを計算して第２の二次元ティ
ジタルイメージを生ずるステップと、を備えてなること
を特徴とするものである。

【００１０】前記第２の二次元ディジタルイメージは集
積回路の欠陥イメージである。前記第１の二次元ディジ
タルイメージは走査式電子顕微鏡（ＳＥＭ）イメージ又
は原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）イメージもしくはフォーカ
スイオンビームである。前記パワスペクトルは前記第１
の二次元画素データ複数アレイに対して、次の式

【００１１】Ｐ(μ、ν)＝ｌｏｇ(１+Ｆ(μ、ν)Ｆ^＊(μ、ν））で計算して得られるものである。

【００１２】上記ステップ（ｄ）において、限界化パワ
スペクトルのステップは調整可能な限界値（例えば１０
％）に設定され、限界値より低いパワスペクトルをフィ
ルタリングして第１のマスクを生ずる。そして上記ステ
ップ（ｅ）において、第１のマスクのイメージ上で検出
された点はそれぞれ水平及び垂直方向に向かって１個又
は２個の画素を拡張して第２のマスクを生ずる。

【００１３】また、本発明の方法はステップ（ｇ）の後
に続いて、さらに前記第２の二次元ディジタルイメージ
と前記第１の二次元ディジタルイメージとを比較して欠
陥を識別するステップ（ｈ）を備えている。

【００１４】本発明の他の発明によれば、上記集積回路
の欠陥検出運算法は例えばパソコン等の制御ホストにお
いて実現され、集積回路欠陥検出系統を形成する。この
集積回路の欠陥検出系統は、前記集積回路の第１の二次
元ディジタルイメージを得る走査装置と、前記第１の二
次元ディジタルイメージに対してフリエ変換を行い、第
１の二次元画素データ複数アレイを生ずるフリエ変換装
置と、前記第１の二次元画素データ複数アレイのパワス
ペクトルを計算するパワ計算装置と、前記パワスペクト
ルのイメージを限界化して第１のマスクを生ずると共
に、第１のマスクにおけるイメージを拡張して第２のマ
スクを生ずるマスク発生装置と、前記第２のマスクによ
り前記第１の二次元画素データ複数アレイにおける周期
性成分を除去して第２の二次元画素データ複数アレイを
生ずる濾過装置と、前記第２の画素データ複数アレイに
対して逆フリエ変換を実行し、第２の二次元ディジタル
イメージを生ずる逆フリエ変換装置と、を備えてなるこ
とを特徴とするものである。

【００１５】上記アイデアによれば前記欠陥検出系統は
パソコンを含んでなり、前記走査装置は走査式光学顕微
鏡又は原子間力顕微鏡であり、そして前記パワ計算装置
は以下の式

【００１６】Ｐ(μ、ν)＝ｌｏｇ(１+Ｆ(μ、ν)Ｆ^＊(μ、ν））で前記第１の二次元画素データ複数アレイに対して計算
を行いパワスペクトルを得ることを特徴とする。

【００１７】前記マスク発生装置は前記パワスペクトル
の最高明度の１０％を限界値と設定して前記パワスペク
トルのイメージを限界化するものであり、前記マスク装
置は第１のマスクのイメージ上で検出された点をそれぞ
れ水平及び垂直方向に向かって特定の画素数に拡張させ
て第２のマスクを生ずることを特徴とする。

【００１８】本願の他の発明であるコンピュータプログ
ラム製品は、コンピュータで読取り可能な媒介により組
成され、このコンピュータで読取り可能な媒介上には制
御ホストを制御して集積回路の第１の二次元ディジタル
イメージを得る運算指令が含まれてあり、フリエ変換に
より当該第１の二次元ディジタルイメージを計算して第
１の二次元画素データ複数アレイを生じさせ、該二次元
フリエ変換のパワスペクトルを計算し前記パワスペクト
ルのイメージを限界化して第１のマスクを生じた後、第
１マスクのイメージ上で検出された点をそれぞれ水平及
び垂直方向に向かって特定の画素数に拡張させ、この形
成されたマスクにより該第１の二次元画素データ複数ア
レイにおける周期性成分を除去して第２の二次元画素デ
ータ複数アレイを発生させた後、この第２の二次元画素
データ複数アレイにより第２の二次元ディジタルイメー
ジを生ずることを特徴とする。本発明の前記及び他の利
点と特徴は以下の添付図面を参照して実施例を説明する
ことにより、より明白に理解される。

【００１９】

【発明の実施の形態】本発明の第１の好適な実施例によ
れば、本発明の集積回路欠陥検出は如何なる制御計算機
系統又は欠陥検出装置にも取付け得る運算法を提供する
ことにより実現される。この運算法は二次元フリエ変換
を利用して集積回路表面の走査二次元イメージ（例えば
ＳＥＭイメージ）を複数の二次元複数画素アレイに変換
した後、そのパワスペクトルを求め、これを限界化して
第１のマスクを発生させ、これによりパワスペクトル映
像における欠陥とノイズ部分、ＳＥＭ特性により人工産
物及び一部の規則回路構造のパターンを除去し、さら
に、マスク上のイメージ画素を水平及び垂直方向に一個
又は二個の画素に拡張して、第２のマスクを生じさせる
ことにより、その前に除去された規則回路構造パターン
を捕獲すると共に、人工産物を可能なかぎりに除去し、
次に第２のマスクを利用して二次元複数画素アレイにお
ける周期性成分を除去した後、逆フリエ変換を実行して
欠陥イメージを再生させ、その後この欠陥イメージの比
例を正規な映像の大きさに増幅すれば、本来のイメージ
と比較することにより集積回路上の欠陥を分析すること
が可能となる。

【００２０】上記運算のプログラムを以下に説明する。
先ず、図１に示されるように、集積回路表面のイメー
ジ、例えば走査式電子顕微鏡（ＳＥＭ）イメージ、原子
間力顕微鏡（ＡＦＭ）イメージ又はフォーカスイオンビ
ーム（ＦＩＢ）イメージを取得する。次に二次元フリエ
変換（２−ＤＦｏｕｒｉｅｒＴｒａｎｓｆｏｒｍ）
によりイメージの二次元関数ｆ（ｘ,ｙ）を、次の式に
示す一個の二次元複数画素アレイ（２−ＤＣｏｍｐｌ
ｅｘＰｉｘｅｌａｒｒａｙ）に変換する。

【００２１】

【数１】

【００２２】式中μ,νはそれぞれ水平方向及び垂直方
向の信号空間周波数を表わし、Ｎは該二次元イメージの
水平方向又は垂直方向の画素数を表わす。このイメージ
関数の二次元フリエ変換を算出した後、次の式により二
次元複数画素アレイのパワスペクトルを求める。

【００２３】Ｐ(μ、ν)＝ｌｏｇ(１+Ｆ(μ、ν)Ｆ^＊(μ、ν)) このパワスペクトルは各空間周波数の原始映像中におけ
る比重を表わす実数関数である。図２はパワスペクトル
イメージの見取図であるが、図においてパワスペクトル
中の明点は規則的回路構造を表し、そして暗所はノイズ
及び欠陥を表わす。そしてＸ方向及びＹ方向の点の延長
部分は、ＳＥＭ自体の走査特性と経時変化とによるイメ
ージ位置の微細波動に起因して発生した人工産物を表わ
す。

【００２４】次にパワスペクトルが完成された後、マス
クの発生ステップを実行する。すなわち、パワスペクト
ルに対して調整可能な限界値を設定し、この限界値によ
りパワスペクトルに対して限界化（ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ
ｉｎｇ）を行いマスクを形成する。図３（Ａ）〜図３
（Ｄ）はパワスペクトルイメージがそれぞれ０％、５
％、１０％、１５％の限界値で限界化するのを表わす見
取図であるが、図３（Ｃ）に示すように、限界値を１０
％に設定、すなわち、パワスペクトル中の明度の一番明
るい点（規則回路構造）の百分の十をマスクとして除去
し、余の１００分の９０が残留すれば、映像中の欠陥と
ＳＥＭ特性とによる人工産物及び映像の周期性成分に関
連する明点（例えば下方の周期波形）がフィルタリング
され、規則的なパターン部分のみ残される。図４（Ａ）
及び図４（Ｂ）は限界化した後、セットアップされた欠
陥明度及び回路明度をそれぞれ示す見取図である。

【００２５】次に、所謂「マスク拡張」というステップ
の実行を開始する。すなわち、マスクイメージ中の検出
されたあらゆる明点を水平方向及び垂直方向に向かって
一個の画素に拡張して一個の新しいマスクを発生させ
る。図５（Ａ）に示されたものはマスク拡張ステップを
経過しなかったマスクであり、一方図５（Ｂ）に示され
たものはマスク拡張ステップを経過したマスクである。
このようにすることによりイメージ中のあらゆる規則的
パターンを全部捕獲することができると共に、ＳＥＭ特
性により生じた人工産物を可能な限り除去することがで
きる。次に、最終的に形成されたマスクにより二次元フ
リエ変換における周期性的成分を除去した後、さらに次
の式の逆フリエ変換を実行して欠陥イメージを再生す
る。

【００２６】

【数２】

【００２７】最後、形成された欠陥イメージの比例を正
規のイメージの大きさに増幅する（図６参照）。このよ
うにすれば、本来のイメージと分析比較することがで
き、欠陥の所在を位置決めできる。

【００２８】上記の説明と実際の操作プロセスから、本
発明の集積回路の欠陥検出で最も顕著な特徴は、パワス
ペクトルイメージを限界化する方式でマスクを発生させ
ると共に、最後に形成されたマスクにより二次元フリエ
変換における周期性の成分を除去し、最後に逆フリエ変
換で欠陥イメージを再生すると共に該比例に応じて増幅
し、原始イメージと比較することにあることが分る。本
発明はまた、迅速（約２〜３秒）かつ全自動的な方法を
提供して集積回路のＳＥＭイメージにおける不規則領域
（欠陥及びノイズ）を検出し観察するほか、いかなる制
御ホスト（例えばＰＣ）にも適用できるので、ハードウ
ェア設備に必要なコスト及びイメージ処理に要する時間
を大幅に低下短縮することができる。

【００２９】上記実施例の集積回路欠陥運算法のほか
に、上記集積回路欠陥検出運算法は例えばパソコンであ
る制御ホストに実現して集積回路欠陥検出系統を形成す
ることができる。図７は本発明に係る好適な実施例であ
る集積回路欠陥検出系統を示す典型的見取図である。こ
の集積回路欠陥検出系統は例えばウェーハ７１の欠陥を
検出する欠陥検出系統であって、走査式光学顕微鏡又は
原子間力顕微鏡により組成され、ウェーハ７１の二次元
ディジタルイメージを得るための走査装置７２と、この
二次元ディジタルイメージ対してフリエ変換を実行し、
第１の二次元画素データ複数アレイを生ずるフリエ変換
装置７３と、該第１の二次元画素データ複数アレイのパ
ワスペクトルを計算するパワ計算装置７４と、このパワ
スペクトルのイメージを限界化して第１のマスクを発生
させると共に、この第１のマスクのイメージを拡散して
第２のマスクを発生させるマスク発生装置７５と、該第
２のマスクにより前記第１の二次元画素データ複数アレ
イにおける周期性成分を除去して第２の二次元画素デー
タ複数アレイを生ずる濾過装置７６と、この第２の二次
元画素データ複数アレイに対して逆フリエ変換を行い、
第２の二次元ディジタルイメージを生ずる逆フリエ変換
装置７７とを備えてなる。

【００３０】したがって、本発明によりパソコンにおい
て全自動の集積回路欠陥検出系統が発展され、これによ
り集積回路の欠陥を迅速かつ正確に検出でき、大幅に集
積回路製品の歩留を向上できるので、従来技術が存在し
ていた欠点と不便を改善することができる。

【００３１】上記実施例は本発明の技術的思想をより具
体的に理解するために挙げたもので、当然ながら本発明
はこれに限定されるものでなく、特許請求の範囲を逸脱
しないかぎり、当業者による設計変更、修飾はいずれも
本発明の技術的範囲に属する。

【図面の簡単な説明】

【図１】集積回路表面の二次元画素アレイイメージを示
す図である。

【図２】図１の二次元画素アレイイメージがフリエ変換
された後計算して得たパワスペクトルイメージを示す図
である。

【図３】（Ａ）〜（Ｄ）はそれぞれ図２のパワスペクト
ルイメージであり、それぞれ０％、５％、１０％、１５
％の限界値として限界化された見取図である。

【図４】（Ａ）〜（Ｂ）はそれぞれ限界化された後にセ
ットアップされた欠陥明度と回路明度の見取図である。

【図５】（Ａ）〜（Ｂ）はそれぞれマスクの拡張ステッ
プを経過しなかったマスクと、マスクの拡張ステップを
経過したマスクを示す見取り図である。

【図６】再生の欠陥イメージ見取図である。

【図７】本発明の他の好適な実施例に基づいて、集積回
路の欠陥検出運算法を制御ホスト例えばパソコン上の集
積回路欠陥検出系統に実現させた、典型的見取図であ
る。

【符号の説明】

７１ウェーハ７２走査装置７３フリエ変換装置７４パワ計算装置７５マスク発生装置７６濾過装置７７逆フリエ変換装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０１Ｎ 23/225 Ｇ０１Ｎ 23/225 ５Ｂ０５７Ｇ０６Ｔ 1/00 ３０５Ｇ０６Ｔ 1/00 ３０５Ａ５Ｌ０９６ 7/00 ３００ 7/00 ３００ＨＨ０１Ｊ 37/22 ５０２Ｈ０１Ｊ 37/22 ５０２ＨＨ０１Ｌ 21/66 Ｈ０１Ｌ 21/66 ＪＦターム(参考） 2F067 AA54 AA62 BB01 BB04 CC17 EE10 HH06 JJ05 KK04 LL00 LL16 RR07 RR14 RR24 RR30 RR35 2F069 AA60 AA64 BB15 CC06 DD15 GG04 GG07 HH30 NN07 NN08 2G001 AA03 BA07 CA03 FA29 GA06 KA03 LA11 2G051 AA51 AB02 CA03 CA04 CB06 ED01 ED07 4M106 AA01 BA02 BA03 BA14 CA39 CB19 DB05 DB18 DJ11 DJ20 5B057 AA03 CF02 CG05 DA03 DB02 DC32 DC36 5L096 BA03 EA02 FA23 GA08

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】(ａ)集積回路の第１の二次元ディジタルイ
メージを取得するステップと、（ｂ）フリエ変換により
前記第１の二次元ディジタルイメージを計算して第１の
二次元画素データ複数アレイを生ずるステップと、
（ｃ）前記第１の二次元画素データ複数アレイのパワス
ペクトルを計算するステップと、（ｄ）前記パワスペク
トルのイメージを限界化して第１のマスクを生ずるステ
ップと、（ｅ）前記第１のマスクのイメージを拡張して
第２のマスクを生ずるステップと、（ｆ）前記第２のマ
スクを応用して前記第１の二次元画素データ複数アレイ
における周期性成分を除去することにより、第２の二次
元画素データ複数アレイを生ずるステップと、（ｇ）逆
フリエ変換により前記第２の二次元画素データ複数アレ
イを計算して第２の二次元ディジタルイメージを生ずる
ステップと、を備えてなることを特徴とする集積回路の
欠陥検出方法。
【請求項２】前記ステップ（ａ）において、前記第２の
二次元ディジタルイメージは走査式電子顕微鏡（ＳＥ
Ｍ）又は原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）イメージもしくはフ
ォーカスイオンビーム（ＦＩＢ）である、ことを特徴と
する請求項１記載の欠陥検出方法。
【請求項３】前記ステップ（ｃ）において前記パワスペ
クトルは前記第１の二次元画素データ複数アレイに対し
て、次の式Ｐ(μ、ν)＝ｌｏｇ(１+Ｆ(μ、ν)Ｆ^＊(μ、ν））で計算して得らるものであることを特徴とする請求項１
記載の欠陥検出方法。
【請求項４】前記ステップ（ｄ）において、前記パワス
ペクトルイメージに対して限界化された限界値は該パワ
スペクトルイメージの最高明点の百分の十に設定されて
いることを特徴とする請求項１記載の欠陥検出方法。
【請求項５】前記ステップ（ｅ）において、前記第１の
マスクのイメージを拡張して前記第２のマスクを生ずる
ステップは、該第１のマスクのイメージ上で検出された
点をそれぞれ水平及び垂直方向に向かって特定の画素数
を拡張して第２のマスクを生ずるステップであり、当該
画素数は１又は２である、ことを特徴とする請求項１記
載の欠陥検出方法。
【請求項６】前記集積回路の欠陥検出方法はさらに、前
記第２の二次元ディジタルイメージと前記第１の二次元
ディジタルイメージとを比較して欠陥を識別するステッ
プ（ｈ）を備えていることを特徴とする請求項１記載の
欠陥検出方法。
【請求項７】集積回路の第１の二次元ディジタルイメー
ジを得る走査装置と、前記第１の二次元ディシタルイメ
ージに対してフリエ変換を行い、第１の二次元画素デー
タ複数アレイを生ずるフリエ変換装置と、前記第１の二
次元画素データ複数アレイのパワスペクトルを計算する
パワ計算装置と、前記パワスペクトルのイメージを限界
化して第１のマスクを生ずると共に、第１のマスクにお
けるイメージを拡張して第２のマスクを生ずるマスク発
生装置と、前記第２のマスクにより前記第１の二次元画
素データ複数アレイにおける周期性成分を除去して第２
の二次元画素データ複数アレイを生ずる濾過装置と、前
記第２の画素データ複数アレイに対して逆フリエ変換を
実行し、第２の二次元ディジタルイメージを生ずる逆フ
リエ変換装置と、を備えてなることを特徴とする集積回
路の欠陥検出系統。
【請求項８】前記欠陥検出系統はパソコンを含んでな
り、前記走査装置は走査式光学顕微鏡又は原子間力顕微
鏡であり、そして前記パワ計算装置は次の式Ｐ(μ、ν)＝ｌｏｇ(１+Ｆ(μ、ν)Ｆ^＊(μ、ν））で前記第１の二次元画素データ複数アレイに対して計算
を行い、パワスペクトルを得ることを特徴とする、請求
項７記載の欠陥検出系統。
【請求項９】前記マスク発生装置は前記パワスペクトル
の最高明度の百分の十を限界値と設定して前記パワスペ
クトルのイメージを限界化するものであり、前記マスク
発生装置は第１のマスクのイメージ上で検出された点を
それぞれ水平及び垂直方向って特定の画素数に拡張させ
て第２のマスクを生ずることを特徴とする請求項７記載
の欠陥検出系統
【請求項１０】コンピュータで読取り可能な媒介により
組成され、このコンピュータで読取り可能な媒介上には
制御ホストを制御して集積回路の第１の二次元ディジタ
ルイメージを得る運算指令が含まれており、フリエ変換
により当該第１の二次元ディジタルイメージを計算して
第１の二次元画素データ複数アレイを生じさせ、該二次
元フリエ変換のパワスペクトルを計算し前記パワスペク
トルのイメージを限界化して第１のマスクを生じた後、
当該第１のマスクのイメージ上で検出された点をそれぞ
れ水平及び垂直方向に向かって特定の画素数に拡張さ
せ、この形成されたマスクにより該第１の二次元画素デ
ータ複数アレイにおける周期性成分を除去して第２の二
次元画素データ複数アレイを発生させた後、この第２の
二次元画素データ複数アレイにより第２の二次元ディジ
タルイメージを生ずることを特徴とするコンピュータプ
ログラム製品。