JP2007005818A - パターンマッチング方法及び装置 - Google Patents
パターンマッチング方法及び装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007005818A JP2007005818A JP2006201138A JP2006201138A JP2007005818A JP 2007005818 A JP2007005818 A JP 2007005818A JP 2006201138 A JP2006201138 A JP 2006201138A JP 2006201138 A JP2006201138 A JP 2006201138A JP 2007005818 A JP2007005818 A JP 2007005818A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern matching
- design data
- matching
- edge
- electron microscope
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明は、設計データと走査型電子顕微鏡にて取得される画像との間でパターンマッチングを行うパターンマッチング方法及び装置であって、設計データをビットマップに変換して、当該ビットマップ化された設計データと、走査型電子顕微鏡によって取得された画像とのマッチングを行うことを特徴とする。ビットマップは、エッジ強調が行われた後に、マッチング処理が行われる。このエッジ強調が行われたビットマップには、さらに、平滑化処理が施された後に、マッチング処理が行われる。
【選択図】図8
Description
Claims (8)
- 設計データと走査型電子顕微鏡にて取得される画像との間でパターンマッチングを行うパターンマッチング方法において、
前記設計データをビットマップに変換して、当該ビットマップ化された設計データと、前記走査型電子顕微鏡によって取得された画像とのマッチングを行うことを特徴とするパターンマッチング方法。 - 請求項1記載のパターンマッチング方法において、前記ビットマップは、エッジ強調が行われた後に、前記マッチングが行われることを特徴とするパターンマッチング方法。
- 請求項2記載のパターンマッチング方法において、前記エッジ強調が行われたビットマップに、さらに、平滑化処理が施された後に、前記マッチングが行われることを特徴とするパターンマッチング方法。
- 設計データと走査型電子顕微鏡にて取得される画像との間でパターンマッチングを行うパターンマッチング装置において、
前記設計データをビットマップに変換する変換手段と、
前記ビットマップ化された設計データと、前記走査型電子顕微鏡によって取得された画像とのマッチングを行うパターンマッチング処理手段と、
を備えることを特徴とするパターンマッチング装置。 - 請求項4記載のパターンマッチング装置において、さらに、
前記ビットマップ化された設計データについてエッジ強調処理を行うエッジ強調処理手段を備え、
前記パターンマッチング処理手段は、前記エッジ強調されたビットマップと、前記走査型電子顕微鏡によって取得された画像とのマッチングを行うことを特徴とするパターンマッチング装置。 - 請求項5記載のパターンマッチング装置において、さらに、
前記エッジ強調が行われたビットマップに、平滑化処理を施す平滑化処理手段を備え、
前記パターンマッチング処理手段は、前記平滑化処理が施されたビットマップと、前記電子顕微鏡によって取得された画像とのマッチングを行うことを特徴とするパターンマッチング装置。 - 設計データと走査型電子顕微鏡によって取得される画像との間でパターンマッチングを行うパターンマッチング方法において、
前記設計データのエッジと、前記走査型電子顕微鏡によって取得される画像のエッジ間で、方向別のマッチング処理を行うことを特徴とするパターンマッチング方法。 - 設計データと走査型電子顕微鏡によって取得される画像との間でパターンマッチングを行うパターンマッチング装置において、
前記設計データのエッジと、前記走査型電子顕微鏡によって取得される画像のエッジを取得するエッジ取得手段と、
前記設計データのエッジと前記画像のエッジ間で、方向別のマッチング処理を行うパターンマッチング処理手段と、
を備えることを特徴とするパターンマッチング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006201138A JP4262269B2 (ja) | 2006-07-24 | 2006-07-24 | パターンマッチング方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006201138A JP4262269B2 (ja) | 2006-07-24 | 2006-07-24 | パターンマッチング方法及び装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001132668A Division JP4199939B2 (ja) | 2001-04-27 | 2001-04-27 | 半導体検査システム |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007332968A Division JP4262288B2 (ja) | 2007-12-25 | 2007-12-25 | パターンマッチング方法及び装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007005818A true JP2007005818A (ja) | 2007-01-11 |
JP4262269B2 JP4262269B2 (ja) | 2009-05-13 |
Family
ID=37691040
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006201138A Expired - Lifetime JP4262269B2 (ja) | 2006-07-24 | 2006-07-24 | パターンマッチング方法及び装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4262269B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002328015A (ja) * | 2001-04-27 | 2002-11-15 | Hitachi Ltd | 半導体検査システム |
JP2009032800A (ja) * | 2007-07-25 | 2009-02-12 | Hitachi High-Technologies Corp | 観察装置、観察装置のレシピ設定方法および観察システム |
JP2009216398A (ja) * | 2008-03-07 | 2009-09-24 | Hitachi High-Technologies Corp | テンプレート作成方法及び画像処理装置 |
JP2010009437A (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-14 | Hitachi High-Technologies Corp | パターンの消失に対応したマッチング方式及びそれを用いた検査装置 |
WO2011093436A1 (ja) * | 2010-01-28 | 2011-08-04 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | パターンマッチング用画像作成装置 |
JP2012058787A (ja) * | 2010-09-03 | 2012-03-22 | Canon Inc | 情報処理装置、およびその処理方法 |
US8285056B2 (en) | 2008-03-13 | 2012-10-09 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method and apparatus for computing degree of matching |
-
2006
- 2006-07-24 JP JP2006201138A patent/JP4262269B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002328015A (ja) * | 2001-04-27 | 2002-11-15 | Hitachi Ltd | 半導体検査システム |
JP2009032800A (ja) * | 2007-07-25 | 2009-02-12 | Hitachi High-Technologies Corp | 観察装置、観察装置のレシピ設定方法および観察システム |
JP4607157B2 (ja) * | 2007-07-25 | 2011-01-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 観察装置、観察装置のレシピ設定方法 |
JP2009216398A (ja) * | 2008-03-07 | 2009-09-24 | Hitachi High-Technologies Corp | テンプレート作成方法及び画像処理装置 |
US8285056B2 (en) | 2008-03-13 | 2012-10-09 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method and apparatus for computing degree of matching |
JP2010009437A (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-14 | Hitachi High-Technologies Corp | パターンの消失に対応したマッチング方式及びそれを用いた検査装置 |
WO2011093436A1 (ja) * | 2010-01-28 | 2011-08-04 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | パターンマッチング用画像作成装置 |
JP2011154223A (ja) * | 2010-01-28 | 2011-08-11 | Hitachi High-Technologies Corp | パターンマッチング用画像作成方法、及びパターンマッチング用画像作成装置 |
US8774493B2 (en) | 2010-01-28 | 2014-07-08 | Hitachi High-Technologies Corporation | Apparatus for forming image for pattern matching |
JP2012058787A (ja) * | 2010-09-03 | 2012-03-22 | Canon Inc | 情報処理装置、およびその処理方法 |
US9245198B2 (en) | 2010-09-03 | 2016-01-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Object recognition by comparison of patterns against map of image |
US9740965B2 (en) | 2010-09-03 | 2017-08-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Information processing apparatus and control method thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4262269B2 (ja) | 2009-05-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4199939B2 (ja) | 半導体検査システム | |
US9040937B2 (en) | Charged particle beam apparatus | |
KR102195029B1 (ko) | 결함 분류 장치 및 결함 분류 방법 | |
US8045789B2 (en) | Method and apparatus for inspecting defect of pattern formed on semiconductor device | |
US9082585B2 (en) | Defect observation method and device using SEM | |
JP4262269B2 (ja) | パターンマッチング方法及び装置 | |
JP5320329B2 (ja) | Sem式欠陥観察装置および欠陥画像取得方法 | |
JP2006269489A (ja) | 欠陥観察装置及び欠陥観察装置を用いた欠陥観察方法 | |
KR101524421B1 (ko) | 결함 관찰 방법 및 결함 관찰 장치 | |
WO2016092640A1 (ja) | 欠陥観察装置および欠陥観察方法 | |
JP2006066478A (ja) | パターンマッチング装置及びそれを用いた走査型電子顕微鏡 | |
JP2008051617A (ja) | 画像検査装置、その方法、及びその記録媒体 | |
JP2005061837A (ja) | 走査型荷電粒子ビーム装置を用いた欠陥検査方法 | |
JP2007256225A (ja) | パターンマッチング方法、及びパターンマッチングを行うためのコンピュータープログラム | |
JP4262288B2 (ja) | パターンマッチング方法及び装置 | |
JP2008294451A (ja) | 画像形成方法、及び画像形成装置 | |
JP2017058190A (ja) | 参照画像作成用の基準データ作成方法及びパターン検査装置 | |
JP3722757B2 (ja) | 欠陥撮像装置 | |
JP2013221761A (ja) | 欠陥観察装置 | |
US20230052350A1 (en) | Defect inspecting system and defect inspecting method | |
JP2011192766A (ja) | 半導体ウェーハの外観検査方法及びその装置 | |
JP2016111166A (ja) | 欠陥観察装置および欠陥観察方法 | |
JP2008147679A (ja) | 電子線応用装置 | |
JP6138460B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
WO2015064399A1 (ja) | 荷電粒子線装置およびプログラム記録媒体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071023 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071225 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20081007 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081208 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20090116 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090203 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090206 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120220 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4262269 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120220 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120220 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130220 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130220 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140220 Year of fee payment: 5 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |