JP2002239627A - 線材のディスケ−リング方法、ディスケ−リング装置及びショトブラスト装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理場所がコンパクトでしかも特別の技能を
要することなく表面仕上げの優れた線材のディスケ−リ
ング方法及びディスケ−リング装置及びこれに好適なシ
ョットブラスト装置を提供する。 【解決手段】 線材の機械的ディスケ−リング方法であ
って、線材をスケ−ルブレ−カ−により１次的にディス
ケ−ル若しくはスケ−ル分割をする工程と、引き続きシ
ョットブラストにより２次的にディスケ−ルする工程と
からなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、線材等の被処理材
のディスケ−リング方法、ディスケ−リング装置及びこ
れに好適なショットブラスト装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】 従来、線材等の被処理材のディスケ−
リングのため、真空中における放電アークによるデスケ
ーリングと機械的デスケーリングおよび／あるいは軽酸
洗を組み合わせることは公知である（例えば、特開平７
−２７５９２０号公報）。この公報に記載のディスケ−
リングは、被処理材の搬送系に軽圧下ミル、複数のロ−
ル手段、ショットブラスト、グラインダーおよび軽酸洗
装置のうち１種以上を配設し、この下流に前記被処理材
のパスラインを挟んで被処理材の幅方向に配設した多分
割電極とコンダクタロ−ルとを対設した真空処理室を設
け、さらにこの下流にコイルグラインダー、軽酸洗装
置、ブラッシロ−ルのうち１種以上を配設したことを特
徴とする金属の連続表面処理装置列を用いている。

【０００３】しかしながら、この方法では、真空処理室
が不可欠であり、さらに、この真空処理室の下流に酸洗
装置、コイルグラインダー、ブラッシロ−ルのうち１種
以上を配設する必要があり、設備スペ−スが膨大にな
る。しかも、酸洗によると、設備ランニングコストが高
く、処理液による環境問題があり好ましくない。グライ
ンダ−は局部的な疵手入れに使用されるが、グラインダ
−の交換やメンテナンスに時間がかる問題があった。ブ
ラッシロ−ルでは、汚物を擦り落とすロ−ルとして、刷
毛あるいは繊維質のブラシの輪を組ませたブラッシロ−
ルを用いているが、表面品質を安定させるのにブラシ調
整に技能を要し、さらにブラッシロ−ルの消耗に伴う交
換やメンテナンスが不可欠であり、ディスケ−リング効
率が落ちていた。

【０００４】尚、ショットブラストによって鋼材のデス
ケーリングを行う場合、デスケーリングの効率が低くま
た、スケールの除去は完全になされておらず、粉塵の発
生や除去が困難な製品表面の砥粒粉残留等の問題がある
とされていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
に鑑みて成されたもので、本発明の目的は、処理場所が
コンパクトでしかも特別の技能を要することなく表面仕
上げの優れた線材のディスケ−リング方法及びディスケ
−リング装置及びこれに好適なショットブラスト装置を
提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するのための手段】上記の目的を達成する
ために本発明に線材のディスケ−リング方法は、線材の
機械的ディスケ−リング方法であって、線材をスケ−ル
ブレ−カ−により１次的にディスケ−ル若しくはスケ−
ル分割をする工程と、引き続きショットブラストにより
２次的にディスケ−ルする工程とからなる。本発明によ
れば、真空処理室、酸洗装置、コイルグラインダー、ブ
ラッシロ−ルは全く用いずに、デスケーリングの効率が
低いとされたショットブラスト装置に、前処理としてス
ケ−ルブレ−カ−を設けることで線材ディスケ−リング
を効率化及び省力化している。さらに、線材の種類や材
質に合わせてショットブラストの投射材を選択すること
で、スケールの除去を完全にして、線材表面の滑らかさ
を確保したのである。

【０００７】また、上記の目的を達成するために本発明
に線材のディスケ−リング装置は、線材の搬送系から送
られてくる線材を上下間でジグザグに４乃至９本配設し
た屈曲及び矯正する複数のロ−ルを組みあわせた装置
と、該複数のロ−ルを組みあわせた装置の下流に同一直
線上に投射ヘッドを向けて複数台配設したショットブラ
スト投射手段と、集塵装置と、を具備したことを特徴と
する。本発明によれば、ディスケーリングの効率が低い
とされたショットブラスト装置に、ショットブラストの
前処理としてスケ−ルブレ−カ−を設けることで線材デ
ィスケ−リングを効率化及び省力化している。

【０００８】さらに、上記の目的を達成するために本発
明のショットブラスト装置は、線材の搬送系から送られ
てくる線材を投射室入口の下流直線上に投射ヘッドを向
けて共に線材の周方向から線材の断面中心に向けて投射
する複数の投射手段と、該複数の投射手段の少なくとも
一つの投射範囲を制限するライナ−と、を具備したこと
を特徴とする。本発明によれば、投射範囲を制限するラ
イナ−を設けることで設備をコンパクトにすることがで
きる。このライナ−の数と投射手段の位置を工夫するこ
とで更にコンパクトなショットブラスト装置とすること
ができる。

【０００９】本発明において、スケ−ルブレ−カ−と
は、機械的にスケ−ルを割る手段をいう。その方式は問
わない。例えば、複数のロ−ルを組みあわせた装置でも
良く、軽圧下ミルでもよい。ショットブラストは、遠心
式であると圧力式であるとを問わない。圧力式を用いる
ことにより、スペ−スを小さくすることが可能である。
遠心式のメリットは、広範囲にわたって投射範囲を設定
できるため、同範囲の処理に数多くの圧力式のノズルを
要しないことである。

【００１０】また、本発明において、３５０ミクロン以
下の粒径の投射材とは、線材の表面に付着したスケ−ル
を除去するとができる大きさの粒径の投射材である。線
材の材質や径によっては、投射材の粒径を２００ミクロ
ン以下にすることにより線材の表面を非常に滑らかに仕
上げることができる。

【００１１】さらに、本発明において、投射材は、線材
の周方向から線材の断面中心に向けて１回だけでなく２
回以上投射することができる。この場合複数の投射手段
を用いる。２回以上投射するには、たとえば、上下方向
からの第１回目の投射の後、水平方向からの第２回目の
投射をしてもよい（図９のイ参照）。また、上→前→下
→後の４回の投射でもよい（図９のロ参照）。さらに、
斜め４方向からの投射や、３方向、６方向などからも投
射が可能である（図９のハ参照）。このうち、上下方向
からの第１回目の投射の後、水平方向からの第２回目の
投射は、線材にかかる重力と浮力が調整できるため、ま
た、投射手段を設置することが容易であるため製作上便
利である。

【００１２】本発明において、投射方向を制限するライ
ナ−を適宜設けることにより、ショットブラスト装置の
長さを短くすることができる。また、２回の投射では、
１回目の投射材と２回目の投射材の粒径を変えて使用し
ても良い。さらに、投射材の分離機構を設けて１回目の
投射材と２回目の投射材の材質を変えて使用しても良
い。

【００１３】また、本発明において複数のロ−ルを組み
あわせた装置とは、線材に繰り返し曲げを与える複数の
ロ−ル列をいう。屈曲及び矯正に際しては、線材表面の
スケールに有効にクラックが入るようにしているが、こ
れだけで全てのディスケ−リングをすることはできず、
スケ−ルは分割され一部のスケ−ルのみが脱落する。

【００１４】本発明において集塵機は、バグフィルタ式
の集塵機を用いることができるが、その種類や構成は問
わない。ショットブラストによるディスケ−リングの割
合を５％から９０％に調整可能なこととは、ディスケ−
リングの割合を高めることにより、ショットブラストの
使用割合を低くすることができ、より省力化を図ること
ができる。より効果的なのは、ショットブラストの割合
を５％から５０％になるように、前段階でのディスケ−
ルを行うことである。この調整は、線材の材質及び状
態、線材の搬送速度、並びにショットブラストの投射材
の投射速度、投射材の種類により調整が可能である。例
えば、カ−ボン量が少ない鋼材種ではロ−ルを組みあわ
せた装置によるスケ−ルの脱落が一般に難しく、ショト
ブラストの割合を多くする必要がある。また、ロ−ルの
組み合わせ等による線材の屈曲及び矯正を調整すること
でもショットブラストの割合を変更することができる。

【００１５】投射ヘッドとは、遠心投射式投射手段の投
射口、または圧力式投射手段の投射口をいう。投射範囲
を制限するライナ−とは、遠心式投射手段は、広範囲に
わたって投射範囲を設定できるため、例えば水平対向し
て設けると、前投射手段が投射した投射材で後投射手段
の一部を研掃したり、水平に対向する投射手段の投射材
が衝突してしまうため、これを避けるためである。ま
た、ライナ−は、投射材を反射させて線材を再度研掃す
る役目を果たしている。つまり、ライナ−は、投射手段
の相打ち防止機能と投射材反射研掃機能を有している。
ライナ−の材質としては、投射材の反射も考慮して各種
の耐摩耗材料を選定する。耐摩耗材料の材質としては、
例えば、高クロム鋳鉄あるいはダイス鋼、バネ鋼その他
特殊鋼を熱処理して表面硬度を高めた材料を用いること
ができる。

【００１６】

【発明の実施の形態１】以下、図面に基づき本発明を説
明する。図１は、本発明の実施の形態を示すレイアウト
の正面図である。図２は、本発明の実施の形態を示すレ
イアウトの側面図である。図３はディスケ−リング準備
時のロ−ル４Ｈ、４Ｉの動きを示す図である。図４は、
ディスケ−リング時のロ−ル４Ｈ、４Ｉの動きを示す図
である。図５はショットブラスト装置の投射室の断面図
である。図６は図５のＡ−Ａ断面図である。図７は図５
のＢ−Ｂ断面図である。図８は図５のＣ−Ｃ断面図であ
る。図９はショットブラストの投射方向を示す図であ
る。図１０は、ライナ−付近の拡大図である。

【００１７】図１、図２において、本発明のディスケ−
リング装置は、図示していない線材搬送手段の下流に設
けられた複数のロ−ルを組み合わせた装置１と、その下
流に設けられたショットブラスト装置２により構成され
ている。また、本発明のディスケ−リング装置の下流に
は、図示されない線材回収手段が設けられている。複数
のロ−ルを組み合わせた装置１には線材の入口３が設け
られ、この入口３の下流には、９個のロ−ル４Ａ、４
Ｂ、４Ｃ、４Ｄ、４Ｅ、４Ｆ、４Ｇ、４Ｈ、４Ｉが並ん
でいる。このロ−ルのうち、４Ａ、４Ｂ、４Ｃ、４Ｄは
固定ロ−ルであり、ロ−ル４Ｅ、４Ｆ、４Ｇは、ネジ機
構５により上下位置調節が可能になっている。さらに、
シリンダ６により対向する１組のロ−ル４Ｈ、４Ｉの中
心間の直線が垂直面内で回転可能に構成されている（図
３）。尚、水平面内で回転可能とすることもできる。こ
の場合、４Ａ、４Ｂ、４Ｃ、４Ｄ、４Ｅ、４Ｆ、４Ｇは
水平配設となる。尚、複数のロ−ル４Ａ、４Ｂ、４Ｃ、
４Ｄ、４Ｅ、４Ｆ、４Ｇ、４Ｈ、４Ｉの下方には、シュ
−トＹが設けられ、この部分に脱落したスケ−ルが回収
される。

【００１８】図３は、複数のロ−ルを組みあわせた装置
１の一部断面図である。図３において、シリンダ６のロ
ッド先端には楕円板７が上下移動可能になっている。ま
た、この楕円板７の下にはバネ８が一端を固定されて設
けられており、前記シリンダ６の伸長時には、バネ８は
伸びるようになっている。また、前記シリンダ６の縮引
時にはバネ８は自然長になるように構成されている。さ
らに、楕円板７の両側には、ロ−ル４Ｈ、４Ｉが回転可
能に軸支されており、シリンダ６及びバネ８により、ロ
−ル４Ｈ、４Ｉの中心間の直線が垂直面内で回転可能に
構成されている。そして、図３の状態で線材Ｓをロ−ル
４Ｈ、４Ｉの間を通した後、シリンダ６を作動させて、
図４に示すように、線材Ｓを屈曲させ、表面のスケ−ル
を割り除去し、さらに後続のロ−ル４Ｂ、４Ｃ、４Ｄ、
４Ｅ、４Ｆ、４Ｇにより矯正をおこない線材Ｓの表面に
残存した酸化スケ−ルをさらに割り除去することができ
る。

【００１９】図５はショットブラスト装置の投射室の断
面図である。図６は図５のＡ−Ａ断面図である。図７は
図５のＢ−Ｂ断面図である。図８は図５のＣ−Ｃ断面図
である。図５乃至図８において、ショットブラスト装置
２の投射室９は図５の右側から左側に向かって線材Ｓが
搬送されてくる。投射室９の上流側にはシ−ル部材１
０、１０が設けられており、ショットブラスト時に投射
材が外部に飛び出さないようになっている。また、投射
室９の入口１１の下流直線上にガイド１２Ａが設けら
れ、投射ヘッド１３Ａ、１４Ａを線材Ｓの断面中心に向
けて水平方向に対向して一対の前投射手段１３及び後投
射手段１４が投射室９内部に配置されている（図６、図
７参照）。そして、この水平方向の一対の前投射手段１
３、後投射手段１４の下流には、ガイド１２Ｂを介し
て、図５における垂直方向に配置した対向する一対の上
投射手段１５及び下投射手段１６が設けられており（図
８参照）、投射ヘッド１５Ａ、１６Ａを線材Ｓの断面中
心に向けて構成されている。尚、さらに上下投射手段１
５，１６の下流にはガイド１２Ｃ及びシ−ル部材１０が
設けられている。

【００２０】そして、投射室９内部には、前投射手段１
３の投射範囲を制限する第１ライナ−１３Ｌが前投射手
段１３に着脱可能にボルト締めで固定して設けられてい
る。また、後投射手段１４の投射範囲を制限する第２ラ
イナ−１４Ｌが、ボルト締めで固定して設けられてい
る。一方、前記上投射手段１５の投射範囲を制限する第
３ライナ−１５Ｌは、上投射手段１５ではなく、対向す
る下投射手段１６に着脱可能にボルト締めで固定して設
けられている。また、前記下投射手段１６の投射範囲を
制限する第４ライナ−１６Ｌは、下投射手段１６ではな
く、対向する上投射手段１５に着脱可能にボルト締めで
固定して設けられている。たとえば、図１０に示すよう
に、たとえば、上投射手段１５が投射した投射材で下投
射手段１６の一部を研掃してしまうのを避けるため、ま
た、投射材を反射させて線材を再度研掃するため、投射
範囲を制限する第３ライナ−１５Ｌが設けられている。
他のライナ−についても同様である。なお、第１ライナ
−と第２ライナ−は一体的に構成することもできる。第
３ライナ−と第４ライナ−も一体化が可能である。ま
た、図１及び図２において、ショットブラスト装置１に
は、投射材タンクＴと一体となっているバケットエレベ
−タＥと、点検窓Ｗ、ショットセパレ−タＢが設けら
れ、投射材タンクＴからの図示していない配管は、各投
射手段１３、１４、１５、１６の開口部に臨ませてい
る。さらに、図５において、投射された投射材はシュ−
トを介して前記バケットエレベ−タＥに連結されてい
る。

【００２１】以下、これらの構成を用いた場合の動きに
ついて説明する。被処理物の線材として直径１０φの鋼
製線材を用いた。まず、図３のようにロ−ル４Ｈ、４Ｉ
を位置づけ、線材Ｓを９個のロ−ル４Ａ、４Ｂ、４Ｃ、
４Ｄ、４Ｅ、４Ｆ、４Ｇ、４Ｈ、４Ｉの間を通す。次い
で、ショットブラスト装置２の投射室９の入口１１から
線材Ｓを投射室９内を貫通させる。そして、ロ−ル４
Ｅ、４Ｆ、４Ｇはネジ機構５により上下位置調節をす
る。また、ロ−ル４Ｈ、４Ｉの中心間の直線をシリンダ
６により垂直面内で回転させ図４の状態にする。本発明
の全体のディスケ−リング装置では図１の様な状態にな
る。

【００２２】以上のように線材Ｓを複数のロ−ル４Ａ、
４Ｂ、４Ｃ、４Ｄ、４Ｅ、４Ｆ、４Ｇ、４Ｈ、４Ｉを組
み合わせた装置１内を搬送通過することにより表面の酸
化スケ−ル又は錆を脱落若しくは分割する。線材Ｓが引
き続きショットブラスト装置２の投射室９内に搬送され
る。ここでは、３５０ミクロン以下の鋼製の投射材を複
数方向から投射するショットブラストによりディスケ−
ルがされ、ショットブラストにより脱落したスケ−ルを
図示しない集塵機により集塵する。

【００２３】本発明のディスケ−リングにより、複数の
ロ−ルを組みあわせた装置１では、線材の搬送速度は、
１００ｍ／minとして５０％のスケ−ルが脱落した。そ
の後、ショットブラストでは遠心式投射手段１３，１
４，１５，１６の投射速度を７３ｍ／secとした。処理
後の鋼材の表面を触針式の粗さ計で計測したところ、Ｒ
maxで２０〜２５マイクロメ−トル であった。

【００２４】また、線材Ｓの搬送速度を８０ｍ／minと
し、複数のロ−ル４Ｈ、４Ｉの押えストロ−ク量を増加
させたところ８５％のスケ−ルが脱落した。その後、シ
ョットブラストでは遠心式投射手段１３，１４，１５，
１６の投射速度を６０ｍ／secとし２００ミクロン以下
の鋼製投射材て線材Ｓの表面が清浄化した。この処理に
より酸洗と同様の表面が得られた。

【００２５】

【発明の効果】本発明のディスケ−ル方法は上記の説明
から明らかなように、線材の機械的ディスケ−リング方
法であって、線材をスケ−ルブレ−カ−により１次的に
ディスケ−ル若しくはスケ−ル分割をする工程と、引き
続きショットブラストにより２次的にディスケ−ルする
工程とからなることから、真空処理室、酸洗装置、コイ
ルグラインダー、ブラッシロ−ルは全く用いずに、線材
ディスケ−リングのコンパクト化、効率化及び省力化を
実現した。また、線材の種類や材質に合わせてショット
ブラストの投射材を選択することで、スケールの除去を
完全にして、特別の技能を要することなく線材表面の滑
らかさを確保できる。尚、脱落したスケ−ルは投射材の
破片とともに集塵機に集塵されるので、環境を悪化させ
ることはなかった。

【００２６】また、本発明のディスケ−ル装置は上記の
説明から明らかなように、線材の搬送系から送られてく
る線材を上下間でジグザグに４乃至９本配設した屈曲及
び矯正する複数のロ−ルを組みあわせた装置と、該複数
のロ−ルを組みあわせた装置の下流に同一直線上に投射
ヘッドを向けて複数台配設したショットブラスト投射手
段と、集塵装置と、を具備したことから、線材ディスケ
−リングをコンパクト化、効率化及び省力化している。

【００２７】さらに、本発明のショットブラスト装置は
上記の説明から明らかなように、線材の搬送系から送ら
れてくる線材を投射室入口の下流直線上に投射ヘッドを
向けて共に線材の周方向から線材の断面中心に向けて投
射する複数の投射手段と、該複数の投射手段の少なくと
も一つの投射範囲を制限するライナ−と、を具備したこ
とから、ショトブラスト装置自体をコンパクトにするこ
とができる。以上のように本発明が産業界に与える効果
は著大である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態を示すレイアウトの正面図
である。

【図２】本発明の実施の形態を示すレイアウトの側面図
である。

【図３】ディスケ−リング準備時のロ−ル４Ｈ、４Ｉの
動きを示す図である。

【図４】ディスケ−リング時のロ−ル４Ｈ、４Ｉの動き
を示す図である。

【図５】ショットブラスト装置の投射室の断面図であ
る。

【図６】図５のＡ−Ａ断面図である。

【図７】図５のＢ−Ｂ断面図である。

【図８】図５のＣ−Ｃ断面図である。

【図９】ショットブラストの投射方向を示す図である。

【図１０】ライナ−付近の拡大図である。

【符号の説明】 1 複数のロ−ルを組み合わせた装置 ２ ショットブラスト装置 ４ ロ−ル Ｓ 線材 ９ 投射室 １３Ａ、１４Ａ、１５Ａ、１６Ａ 投射ヘッド １３、１４，１５，１６ 投射手段 １３Ｌ、１４Ｌ、１５Ｌ、１６Ｌ ライナ−

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 線材の機械的ディスケ−リング方法で
   あって、線材をスケ−ルブレ−カ−により１次的にディ
   スケ−ル若しくはスケ−ル分割をする工程と、引き続き
   ショットブラストにより２次的にディスケ−ルする工程
   とからなる線材のディスケ−リング方法。
2. 【請求項２】 前記２次的にディスケ−ルする工程
   が、粒径が３５０ミクロン以下の投射材を投射するショ
   ットブラストによりディスケ−リングすることを特徴と
   する請求項１に記載の線材のディスケ−リング方法。
3. 【請求項３】 線材を複数のロ−ルを組み合わせた装
   置内を通過することにより表面の酸化スケ−ル又は錆を
   １次的にディスケ−ル若しくはスケ−ル分割する工程
   と、引き続き粒径が３５０ミクロン以下の投射材を複数
   方向から投射するショトブラストにより２次的にディス
   ケ−ルする工程と、ショットブラストにより脱落したス
   ケ−ルを集塵機により集塵する工程と、を備えた線材の
   ディスケ−リング方法。
4. 【請求項４】 前記ショットブラストによるディスケ
   −リングの割合を５％から９０％に調整可能なことを特
   徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の線材
   のディスケ−リング方法。
5. 【請求項５】 前記複数のロ−ルを組み合わせた装置
   によるディスケ−リングの割合が、該複数のロ−ルのう
   ちの対向する１組のロ−ルの中心間の直線が水平面に対
   して回転可能に構成されていることを特徴とする請求項
   ３又は請求項４のいずれかに記載の線材のディスケ−リ
   ング方法。
6. 【請求項６】 線材の搬送系から送られてくる線材を上
   下間若しくは左右でジグザグに４乃至９本配設した屈曲
   及び矯正する複数のロ−ルを組み合わせた装置と、該複
   数のロ−ルを組み合わせた装置の下流に線材の搬送中心
   から放射状に投射ヘッドを複数台配設したショットブラ
   スト投射手段と、該ショットブラスト投射手段から脱落
   したスケ−ル、投射材の破片その他の粉塵を集塵する集
   塵装置と、を具備したことを特徴とするディスケ−リン
   グ装置。
7. 【請求項７】 前記複数のロ−ルのうちの対向する１
   組のロ−ルの中心間の直線が水平面内若しくは垂直面内
   で回転可能に構成されていることを特徴とする請求項６
   に記載のディスケ−リング装置。
8. 【請求項８】 前記複数の投射手段が、該複数のロ−ル
   を組みあわせた装置の下流に直線上に配置すると共に線
   材の周方向から線材の断面中心に向けて投射する上投射
   手段及び下投射手段と、前記複数のロ−ルを組みあわせ
   た装置の下流若しくは上流に前記同一直線上に配置する
   と共に線材の周方向から線材の断面中心に向けて投射す
   る前投射手段と後投射手段と、前記複数の投射手段によ
   り脱落したスケ−ル、投射材の破片その他の粉塵を集塵
   する集塵装置と、を具備したことを特徴とするディスケ
   −リング装置。
9. 【請求項９】 線材の搬送系から送られてくる線材を投
   射室入口の下流直線上に投射ヘッドを向けて共に線材の
   周方向から線材の断面中心に向けて投射する複数の投射
   手段と、該複数の投射手段の少なくとも一つの投射範囲
   を制限するライナ−と、を具備したことを特徴とするシ
   ョットブラスト装置。
10. 【請求項１０】 線材の搬送系から送られてくる線材を
    投射室入口の下流直線上に投射ヘッドを向けて投射室内
    部に配置した対向する一対の投射手段及び投射手段と、
    前記直線上に投射ヘッドを向けて前記一対の投射手段の
    下流若しくは上流に配置した対向する一対の投射手段
    と、前記各投射手段の投射範囲を制限する複数のライナ
    −と、を具備したことを特徴とするショットブラスト装
    置。
11. 【請求項１１】 線材の搬送系から送られてくる線材を
    投射室入口の下流直線上に投射ヘッドを向けて投射室内
    部に配置した対向する一対の上投射手段及び下投射手段
    と、前記直線上に投射ヘッドを向けて前記上投射手段及
    び下投射手段の下流若しくは上流に配置した対向する一
    対の前投射手段及び後投射手段と、前記上投射手段の投
    射範囲を制限する第１ライナ−と、前記上投射手段の投
    射範囲を制限する第２ライナ−と、前記上投射手段の投
    射範囲を制限する第３ライナ−と、前記上投射手段の投
    射範囲を制限する第４ライナ−と、を具備したことを特
    徴とするショットブラスト装置。