JP2002235079A - エレクトロルミネセンス燐光体を被覆するための方法及び装置 - Google Patents

エレクトロルミネセンス燐光体を被覆するための方法及び装置

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 硫化亜鉛ベースのエレクトロルミネセンス燐
光体に水分抑制性のコーティングを被覆するための方法
及び装置を提供する。 【解決手段】 所定の高さを有しかつ底部に多孔質ディ
スクを有する反応容器を選定し；反応容器に燐光体粒子
を投入し、不活性ガスを容器の中に多孔質ディスクを通
して導入することによって粒子を流動化させ；反応容器
を加熱して反応温度にし；コーティング前駆物質を反応
容器の中に容器の底部に近隣するがディスクよりも上の
位置に導入し；共反応物質を反応容器の中に所定の高さ
の実質的に中ほどの位置に導入し；並びに不活性ガス流
れ、前駆物質流れ及び共反応物質流れを、反応が起きか
つ燐光体に防湿性のコーティングを被覆する程の時間保
つ工程を含むプロセス。そのプロセスを実施するための
装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、硫化亜鉛ベースの
エレクトロルミネセンス燐光体に関し、一層特にそのよ
うな燐光体に水分抑制性のコーティングを被覆するため
の方法及び装置に関する。
【０００２】なお一層特に、本発明は、そのような燐光
体を商業量で製造するための方法及び装置に関する。
【０００３】
【従来の技術】米国特許第６，０６４，１５０号から、
エレクトロルミネセンス燐光体粒子上のアルミニウムニ
トリド又はアルミニウムニトリドアミンのコーティング
は、良好な寿命特性を有するエレクトロルミネセント光
源を製造するのを可能にすることが知られている。ま
た、そのような燐光体に金属酸化物ヒドロキシドを被覆
することも知られている。
【０００４】そのようなコーティングを燐光体物質の大
きなバッチに適用することができるならば、当分野にお
ける進歩になろう。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、従来技術の不利を無くすことにある。発明の別の目
的は、被覆されたエレクトロルミネセンス燐光体を商業
量で製造することを増進することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】発明の開示 発明の一態様では、これらの目的は、所定の高さを有し
かつ底部に多孔質ディスクを有する反応容器を選定する
工程；反応容器に燐光体粒子を投入し、不活性ガスを容
器の中に多孔質ディスクを通して導入することによって
粒子を流動化させる工程；反応容器を加熱して反応温度
にする工程；コーティング前駆物質を反応容器の中に容
器の底部に近隣するがディスクよりも上の位置に導入す
る工程；共反応物質を反応容器の中に所定の高さの実質
的に中ほどの位置に導入する工程；並びに不活性ガス流
れ、前駆物質流れ及び共反応物質流れを、反応が起きか
つ燐光体に防湿性のコーティングを被覆する程の時間保
つ工程を含む硫化亜鉛ベースのエレクトロルミネセンス
燐光体の粒子であってそれらの上に防湿性コーティング
を有する粒子を製造するプロセスによって達成される。
【０００７】硫化亜鉛ベースのエレクトロルミネセンス
燐光体であってその上に防湿性コーティングを有するも
のを商業量で製造する装置は、所定の高さを有しかつ底
部に多孔質ディスクを有する反応容器；容器内への燐光
体粒子の供給；容器に多孔質ディスクを通して入る粒子
を流動化させるための不活性ガスの第一供給；反応容器
を加熱して反応温度にするための反応容器を囲む加熱
器；コーティング前駆物質の供給；反応容器に容器の底
部の多孔質ディスクよりも上の位置に入る、コーティン
グ前駆物質を供給から反応容器に案内するための第一手
段；共反応物質の供給；及び反応容器に所定の高さの実
質的に中ほどの位置に入る、共反応物質を供給から反応
容器に案内するための第二手段を含む。
【０００８】この方法及び装置は、被覆されたエレクト
ロルミネセンス燐光体をかなり多量に製造することを可
能にする。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明を、発明のその他の及びそ
れ以上の目的、利点並びに能力と共に一層良く理解する
ために、下記の開示及び特許請求の範囲の記載を添付図
と共に参照する。
【００１０】今、図面を一層詳細に参照すると、図に、
直径が６インチ（１５ｃｍ）よりも大きく、高さが約６
フィート（１．８ｍ）でありかつ容量が５０キログラム
よりも大きい、ステンレスチールで形成されるのが好ま
しい反応容器１０ａを示す。好適な実施態様では、容器
１０ａは、直径が１０〜１２インチ（２５〜３０ｃｍ）
であり、高さが６フィート（１．８ｍ）でありかつ容量
が１５０キログラムよりも大きい。実際上、容量は、３
００キログラムよりも大きくなるのが可能である。容器
１０ａは、反応容器１０ａをコーティング温度１５０°
〜２２５℃にもたらすことができる適した加熱器３０ａ
で囲まれる。コーティング前駆物質は、ヘキサキス（ジ
メチルアミド）ジアルミニウムにすることができ、該前
駆物質を供給２０ａから供給２２ａからの窒素に同伴さ
せた後に、チューブ３２を通して容器１０ａの中に供給
する。チューブ３２の容器１０ａの中への入口は、多孔
質ディスク１０ａよりも約１．０ｃｍ高い点にある。チ
ューブ３２は、容器１０ａ内で狭いチップを有し、チッ
プは反応容器の中央に配置する。
【００１１】共反応物質は、希無水アンモニアにするこ
とができ、共反応物質を供給２４ａからチューブ３３を
経て反応容器１０ａの高さの実質的に中ほどの点の側部
の中に供給する。チューブ３３は、狭い開口スリットを
有し、該スリットを容器１０ａの中央に配置する。共反
応物質は、ユニット質量制御器２６ａを通過した後に、
容器１０ａに入ることができる。希釈は、精製された窒
素を加えることによって達成することができる。
【００１２】燐光体粒子１６を流動化させるための、窒
素のような不活性ガス１８ａの供給を供する。不活性ガ
スを、反応容器１０ａの底部から多孔質ディスク１２ａ
を通して供給し、こうして粒子の良好な流動化を確実に
する。
【００１３】このプロセス及び装置は、上に挙げたヘキ
サキス（ジメチルアミド）ジアルミニウムのような前駆
物質を反応容器の中に多孔質ディスク１２ａを通して投
入した従来の技術の問題を解決する。前駆物質の相対的
に極度に高い反応性は、ディスク１２ａの細孔内でニト
リド被覆反応を起きさせ、直ぐにディスク内の孔を閉塞
して所望の反応を停止させることが分かった。これは、
反応容器の温度が１５０°〜２２５℃と高いことによ
り、更に一層急速に行われる。
【００１４】前駆物質を反応容器の多孔質ディスクより
も上に投入することにより、被覆問題が除かれる。ま
た、従来技術が実施したようにニトリド前駆物質を反応
容器の上部から供給する代わりに側部から供給すること
によって、前駆物質が高温の容器内部で曝される時間は
一層短くなる。加えて、この反応容器デザインは、トリ
メチルアルミニウムと酸素及びオゾンとの反応のような
その他のコーティングプロセスに関して利用することが
できる。酸素−オゾン混合物を容器の上部から供給する
代わりに側部から供給すると、容器内の非常に反応性の
オゾンの寿命を伸ばし、一層大きなコーティング可能性
を可能にする。
【００１５】現時点で発明の好適な実施態様と考えられ
るものを示しかつ記載したが、種々の変更及び変更態様
を、特許請求の範囲に記載する通りの発明の範囲から逸
脱しないでなすことができることは、当業者にとり明ら
かであると思う。
【図面の簡単な説明】
【図１】発明の装置の図式化した図である。
【符号の説明】
１０ａ 反応容器 １２ａ 多孔質ディスク １６ 燐光体粒子 ２６ａ ユニット質量制御器 ３０ａ 加熱器 ３２ チューブ ３３ チューブ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 デイル・イー・ベンジャミン アメリカ合衆国ペンシルベニア州アシン ズ、ボックス230、アールディー・ナンバ ー２ Ｆターム(参考） 3K007 AB13 DC02 4H001 CA04 CC10 XA16 XA30

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 下記：所定の高さを有しかつ底部に多孔
    質ディスクを有する反応容器を選定する工程；該反応容
    器に燐光体粒子を投入し、不活性ガスを該容器の中に該
    多孔質ディスクを通して導入することによって該粒子を
    流動化させる工程；該反応容器を加熱して反応温度にす
    る工程；コーティング前駆物質を該反応容器の中に該容
    器の該底部に近隣するが該ディスクよりも上の位置に導
    入する工程；共反応物質を該反応容器の中に該所定の高
    さの実質的に中ほどの位置に導入する工程；並びに該不
    活性ガス流れ、該前駆物質流れ及び該共反応物質流れ
    を、反応が起きかつ該燐光体に該防湿性のコーティング
    を被覆する程の時間保つ工程を含む硫化亜鉛ベースのエ
    レクトロルミネセンス燐光体の粒子であってそれらの上
    に防湿性コーティングを有する粒子を製造する方法。
  2. 【請求項２】 前記防湿性コーティングがアルミニウム
    ニトリドアミンである請求項１の方法。
  3. 【請求項３】 前記コーティング前駆物質がヘキサキス
    （ジメチルアミド）ジアルミニウムである請求項１の方
    法。
  4. 【請求項４】 前記共反応物質が無水アンモニアである
    請求項３の方法。
  5. 【請求項５】 前記反応温度が１５０°〜２２５℃であ
    る請求項４の方法。
  6. 【請求項６】 下記：所定の高さを有しかつ底部に多孔
    質ディスクを有する反応容器；該容器内への燐光体粒子
    の供給；該容器に該多孔質ディスクを通して入る該粒子
    を流動化させるための不活性ガスの第一供給；該反応容
    器を加熱して反応温度にするための該反応容器を囲む加
    熱器；コーティング前駆物質の供給；該反応容器に該容
    器の底部の該多孔質ディスクよりも上の位置に入る、該
    コーティング前駆物質を該供給から該反応容器に案内す
    るための第一手段；共反応物質の供給；及び該反応容器
    に該所定の高さの実質的に中ほどの位置に入る、該共反
    応物質を該供給から該反応容器に案内するための第二手
    段を含む硫化亜鉛ベースのエレクトロルミネセンス燐光
    体であってその上に防湿性コーティングを有するものを
    商業量で製造する装置。
  7. 【請求項７】 前記反応容器が直径１５〜３０ｃｍ（６
    〜１２インチ）を有する請求項６の装置。
  8. 【請求項８】 前記反応容器がステンレスチールである
    請求項７の装置。
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