JP2002231663A

JP2002231663A - ウェーハ研磨装置

Info

Publication number: JP2002231663A
Application number: JP2001022141A
Authority: JP
Inventors: Tsuuzofu Michael; ツーゾフミハイル
Original assignee: Tokyo Seimitsu Co Ltd
Current assignee: Tokyo Seimitsu Co Ltd
Priority date: 2001-01-30
Filing date: 2001-01-30
Publication date: 2002-08-16

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明は、研磨パッドの回転数、研磨パッドに
対する押付部材の押圧力、及び研磨パッドの種類の変更
に１台のウェーハ研磨装置で対応することができるウェ
ーハ研磨装置を提供する。【解決手段】本発明のウェーハ研磨装置１０の押付部材
１６、１８は、位置決め機構８２、９０を介して保持ヘ
ッド１４に対する押付部材１６、１８の位置を微調整で
きるように設けられる。これにより、加工条件である研
磨パッド２０の回転数、研磨パッド２０に対する押付部
材１６、１８の押圧力、及び研磨パッドの種類に応じ
て、ウェーハ３０のエッジ３０が過剰に研磨されない最
適な位置に押付部材１６、１８を位置決め機構８２、９
０によって適宜配置する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、化学的機械研磨法
（ＣＭＰ：Chemical Mechanical Polishing ）によるウ
ェーハ研磨装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】特開平8-229808号公報等に開示されたウ
ェーハ研磨装置は、図７の如くキャリア１及びリング状
の押付部材２を備えた保持ヘッド３と、研磨パッド４が
貼付されたプラテン５とを主な構成としており、キャリ
ア１によってウェーハ６を、回転中の研磨パッド４に押
し付けて研磨するとともに、キャリア１の外周にキャリ
ア１と同軸上に配置された押付部材２を研磨パッド４に
押し付けてウェーハ６の周囲を包囲している。

【０００３】研磨パッド４は、ウェーハの研磨層（絶縁
膜）の材質（例えばＳi Ｏ₂）に応じて硬質のもの、又
は軟質のものが選択されて使用されるが、軟質の研磨パ
ッド４を使用した場合には、押付部材２の周縁に沿って
研磨パッド４が局部的に盛り上がる、という所謂波打ち
現象が研磨パッド４に生じる。このような現象が研磨パ
ッド４に生じると、研磨パッド４の盛り上がり部４Ｃに
よってウェーハ６のエッジ６Ａが過剰に研磨されるの
で、ウェーハ６を均一に研磨できない。

【０００４】波打ち現象による盛り上がり部は、研磨パ
ッド４の回転方向上流側に位置する押付部材２の外周縁
２Ａ及び内周縁２Ｂに対応する部分４Ａ、４Ｂと、研磨
パッド４の回転方向下流側に位置する押付部材２の内周
縁２Ｃに対応する部分４Ｃに発生する。ここで、前者で
発生する盛り上がり部４Ａ、４Ｂは、ウェーハ６のエッ
ジ６Ａから離れた位置に発生するので加工上問題はない
が、後者で発生する盛り上がり部４Ｃには、ウェーハ６
のエッジ６Ａが接触するため、エッジ６Ａが過剰に研磨
される。

【０００５】そこで、特開平8-229808号公報のウェーハ
研磨装置は、研磨パッド４に対する押付部材２の押圧力
を弱い適切値に設定することで、波打ち現象の発生を防
止し、エッジ６Ａの過剰研磨を防止している。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来のウェーハ研磨装置のように、研磨パッド４に対する
押付部材２の押圧力を弱い適切値に設定しても、波打ち
現象を完全に解消することができず、期待した効果を得
ることができなかった。また、研磨パッド４は、押付部
材２に押し付けられて弾性変形されることにより、押付
部材２で包囲される研磨パッド４の平面性が確保され
る。すなわち、押付部材２の押圧力は、研磨パッド４の
復元力に打ち勝つ力に設定されている。このような力の
バランス関係において、押付部材２の押圧力を弱くする
と、研磨パッド４の復元力が勝ってしまうので、研磨パ
ッド４がウェーハ６のエッジ６Ａに沿って盛り上がり、
エッジ６Ａが過剰に研磨される、という新たな問題が発
生した。したがって、研磨パッド４に対する押付部材２
の押圧力を下げることはできない。

【０００７】一方で、研磨パッド４の盛り上がり部４Ｃ
の大きさは、研磨パッド４の回転数、研磨パッド４に対
する押付部材２の押圧力に比例すること、及び研磨パッ
ド４の種類によって異なることも確認された。

【０００８】したがって、研磨パッド４の回転数、研磨
パッド４に対する押付部材２の押圧力、及び研磨パッド
４の種類の変更に対応できる、すなわち、これらの加工
条件が変更されても１台のウェーハ研磨装置でエッジ６
Ａの過剰研磨を防止できるウェーハ研磨装置が要求され
ていた。

【０００９】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、加工条件の変更に対応できるウェーハ研磨装
置を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、ウェーハを保持ヘッドに保持し、移動す
る研磨パッドに押し付けてウェーハの表面を研磨するウ
ェーハ研磨装置において、前記保持ヘッドの周囲に前記
研磨パッドに押し付けられる複数の押付部材が配置され
るとともに、該複数の押付部材を前記保持ヘッドに対し
て位置調整する位置調整手段が設けられたことを特徴と
する。

【００１１】本発明によれば、保持ヘッドの周囲に配置
された複数の押付部材を、位置調整手段によって保持ヘ
ッドに対し適切な位置に位置させる。これにより、研磨
パッドの回転数、研磨パッドに対する押付部材の押圧
力、及び研磨パッドの種類を変更しても、それに応じて
ウェーハのエッジが過剰に研磨されない最適な位置に複
数の押付部材を適宜配置することができるので、１台の
ウェーハ研磨装置で加工条件の変更に対応することがで
きる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下添付図面に従って本発明に係
るウェーハ研磨装置の好ましい実施の形態について詳説
する。

【００１３】図１、図２は実施の形態のウェーハ研磨装
置１０の構造図であり、このウェーハ研磨装置１０は、
主としてプラテン１２、保持ヘッド１４、一対の押付部
材１６、１８、及びスラリ供給装置１９から構成され
る。プラテン１２は円盤状に形成され、その上面には研
磨パッド２０が貼付されている。研磨パッド２０として
は、スエードタイプ、不織布、発泡ウレタンタイプ等が
あり、ウェーハの研磨層の材質によって適宜選択されて
プラテン１２に貼付されている。

【００１４】プラテン１２の下部には、スピンドル２２
が連結され、スピンドル２２はモータ２４の図示しない
出力軸に連結されている。このモータ２４を駆動するこ
とにより、プラテン１２は矢印Ａ方向に回転され、その
回転するプラテン１２の研磨パッド２０上に、スラリ供
給装置１９のノズル２６からメカノケミカル研磨剤（ス
ラリ）２８が供給される。ノズル２６は、保持ヘッド１
４と押付部材１６との間の隙間に配置され、これにより
スラリ２８は、保持ヘッド１４に対しプラテン１２の回
転方向上流側に配置された押付部材１６に邪魔されるこ
となく、ウェーハ３０と研磨パッド２０との間に供給さ
れる。このようにスラリ２８を供給すると、スラリ２８
の供給量を制御し易いという利点がある。スラリ２８
は、タンク３２に貯留されており、この貯留されたスラ
リ２８は、供給パイプ３４、及び不図示のレギュレータ
を介してノズル２６に供給される。スラリ２８として
は、例えば、研磨層がシリコンの場合には、ＢａＣＯ₃
微粉末をＫＯＨ水溶液に懸濁したものが使用される。

【００１５】保持ヘッド１４は、図示しない昇降装置に
よって上下移動自在に設けられ、研磨対象のウェーハ３
０を保持ヘッド１４にセットする際に上昇移動される。
また、保持ヘッド１４は、ウェーハ３０を研磨する際に
下降移動されてウェーハ３０とともに研磨パッド２０に
押圧当接される。なお、図１では、１台の保持ヘッド１
４のみ示したが、保持ヘッド１４の台数は１台に限定さ
れるものではなく、例えばスピンドル２２を中心とする
円周上に複数台等間隔に設置することが加工効率上好ま
しい。

【００１６】図３は、保持ヘッド１４の縦断面図であ
る。この保持ヘッド１４は、ヘッド本体３６、キャリア
３８、ゴムシート４０等から構成される。ヘッド本体３
６は、円盤状に形成され、回転軸４２に連結された不図
示のモータによって図３上矢印Ｂ方向に回転される。ま
た、ヘッド本体３６にはエア供給路４４が形成されてい
る。エア供給路４４は、図３上二点鎖線で示すように保
持ヘッド１４の外部に延設され、レギュレータ４６Ａを
介してエアポンプ４８に接続される。

【００１７】キャリア３８は、略円柱状に形成されてヘ
ッド本体３６の下部にヘッド本体３６と同軸上に配置さ
れるとともにウェーハ３０と略同径に形成されている。
また、キャリア３８には、キャリア３８の下面外周部に
噴出口が形成された多数のエア供給路５８、５８…（図
３では２ヵ所のみ図示）とキャリア３８の下面内周部に
噴出口が形成された多数のエア供給路５０、５０…（図
３では２ヵ所のみ図示）とが形成されている。このエア
供給路５０、５８…は、図３上二点鎖線で示すように保
持ヘッド１４の外部に延設され、切換バルブ５２を介し
て一方がサクションポンプ５４、他方がレギュレータ４
６Ｂを介してエアポンプ４８に接続されている。したが
って、切換バルブ５２によりエアポンプ４８側を閉に、
そして、サクションポンプ５４側を開にすると、サクシ
ョンポンプ５４による吸引力でウェーハ３０がキャリア
３８の下面に吸着保持される。また、切換バルブ５２に
よりエアポンプ４８側を開に、そして、サクションポン
プ５４側を閉にすると、エアポンプ４８からの圧縮エア
がエア供給路５０、５８…を介してキャリア３８とウェ
ーハ３０との間の空気室６０に噴き出される。これによ
り、空気室６０には圧力エア層が形成され、キャリア３
８の押圧力がこの圧力エア層を介してウェーハ３０に伝
達される。

【００１８】ウェーハ３０は、圧力エア層を介して伝達
される押圧力によって研磨パッド２０に押し付けられる
とともに、キャリア３８の下部外周縁にピン６２を介し
て着脱自在に設けられた保持リング６４の凸条部６４Ａ
によってキャリア３８からの飛び出しが防止されてい
る。また、研磨中のウェーハ３０は、研磨パッド２０の
回転によって、回転方向下流側の凸条部６４Ａの内周面
にそのエッジ３０Ａが当接される。この接触によってウ
ェーハ３０は、キャリア３８の回転力が保持リング６４
を介して伝達されて所定の回転数で回転される。なお、
ウェーハ３０のエッジ３０Ａが当接される凸条部６４Ａ
は、エッジ３０Ａを破損させない軟質材料、例えば、ゴ
ム、樹脂等で作られている。

【００１９】このように構成された保持ヘッド１４は、
キャリア３８にかける押圧力を制御してキャリア３８を
上下動させることにより、ウェーハ３０の研磨圧力（ウ
ェーハ３０を研磨パッド２０に押し付ける力）を制御す
るものなので、圧力エア層の圧力を制御してウェーハ３
０の研磨圧力を制御するよりも、研磨圧力の制御が容易
になる。すなわち、保持ヘッド１４では、キャリア３８
の上下位置を制御するだけでウェーハ３０の研磨圧力を
制御できるからである。なお、エア供給路５８、５８…
から噴き出されたエアは、凸条部６４Ａに形成された図
示しない排気孔から外部に排気される。

【００２０】一方、キャリア３８とヘッド本体３６との
間には１枚のゴムシート４０が配置されている。このゴ
ムシート４０は、均一な厚さで円盤状に形成される。ま
た、ゴムシート４０は、環状の止め金７２によってヘッ
ド本体３６の下面に固定され、キャリア３８を押圧する
エアバッグとして機能する。

【００２１】ヘッド本体３６の下方には、ゴムシート４
０と止め金７２とによって密閉される空間７４が形成さ
れる。この空間７４に、エア供給路４４が連通されてい
る。したがって、エア供給路４４から空間７４に圧縮エ
アを供給すると、ゴムシート４０がエア圧で弾性変形さ
れてキャリア３８の上面を押圧する。これにより、研磨
パッド２０に対するウェーハ３０の押し付け力を得るこ
とができる。また、エア圧をレギュレータ４６Ａで調整
すれば、ウェーハ３０の研磨圧力を制御することができ
る。

【００２２】ところで、図１に示した押付部材１６、１
８は、研磨パッド２０に押し付けられることにより、研
磨箇所における研磨パッド２０の平坦性を向上させるも
のであり、図２の如く、押付部材１６は加圧装置７６に
よって、そして、押付部材１８は、加圧装置７７によっ
て、所定の押圧力で研磨パッド２０に押し付けられる。
また、これらの加圧装置７６、７７は、ウェーハ研磨装
置１０を統括制御するＣＰＵ８０によって独立制御され
ている。

【００２３】加圧装置７６、７７としては、エアシリン
ダ装置、油圧シリンダ装置等が用いられている。また、
研磨パッド２０に押し付けられる押付部材１６、１８の
下面をダイヤモンドコーティングすることにより、押付
部材１６、１８の下面の耐磨耗性が向上し、また、下面
に凹凸加工を施すことにより、研磨パッド２０のドレッ
シングをウェーハ３０の研磨加工と同時に行うことがで
きる。これにより、ウェーハを安定して研磨することが
できる。

【００２４】なお、研磨パッド２０のドレッサ機構を別
途設け、このドレッサ機構の流体ジェットノズルやブラ
シ等のドレス手段を保持ヘッド１４と押付部材１６、１
８との間の隙間に配置してもよい。また、押付部材１
６、１８の下面に流体ジェット噴出孔を形成すれば、簡
単な構造で研磨パッド２０をドレッシングすることがで
きる。すなわち、本実施の形態のウェーハ研磨装置１０
は、保持ヘッド１４と押付部材１６、１８との間の隙間
を、スラリー供給手段やドレス手段の配置スペースとし
て有効利用することができる。

【００２５】押付部材１６は、図４の如く保持ヘッド１
４に対して研磨パッド２０の回転方向上流側に保持ヘッ
ド１４に近接して配置されている。また、押付部材１６
は、保持ヘッド１４の上流側全縁部をカバーするように
保持ヘッド１４の外周に沿った略三日月形状に形成され
ている。

【００２６】更に、押付部材１６は、図２の如く位置調
整手段に相当する位置決め機構８２を介してウェーハ研
磨装置１０の不図示の固定部に取り付けられている。こ
の位置決め機構８２は、押付部材１６に連結されたＬ字
状のアーム８４、前記固定部に固定されるとともに保持
ヘッド１４に近接配置されたＬ字状のアーム８６、及び
アーム８４とアーム８６とを着脱自在に連結するピン８
８等から構成される。アーム８４には、ピン８８が嵌挿
される複数の孔８５、８５…がアーム８４の水平部の長
手方向に沿って複数形成され、また、アーム８６も同様
にピン８８が嵌挿される複数の孔８７、８７…がアーム
８６の水平部の長手方向に沿って複数形成されている。
したがって、孔８５と孔８７との位置を適宜変更して、
所望の孔８５、８７同士を重ね、その孔８５、８７にピ
ン８８を嵌挿させることにより、保持ヘッド１４に対す
る押付部材１６の位置を接離方向に調整することができ
る。なお、孔８５の間隔及び孔８７の間隔は、保持ヘッ
ド１４に対する押付部材１６の位置を微調整できるよう
に、例えば１ｍｍ間隔に設定されている。

【００２７】押付部材１８は、図４の如く保持ヘッド１
４に対して研磨パッド２０の回転方向下流側に保持ヘッ
ド１４に近接して配置されている。また、押付部材１８
は、保持ヘッド１４の下流側全縁部をカバーするように
保持ヘッド１４の外周に沿った略三日月形状に形成され
ている。

【００２８】更に、押付部材１８は、図２の如く位置調
整手段に相当する位置決め機構９０を介してウェーハ研
磨装置１０の不図示の固定部に取り付けられている。こ
の位置決め機構９０は、押付部材１８に連結されたＬ字
状のアーム９２、前記固定部に固定されるとともに保持
ヘッド１４に近接配置されたＬ字状のアーム９４、及び
アーム９２とアーム９４とを着脱自在に連結するピン９
６等から構成される。アーム９２には、ピン９６が嵌挿
される複数の孔９３、９３…がアーム９２の水平部の長
手方向に沿って複数形成され、また、アーム９４も同様
にピン９６が嵌挿される複数の孔９５、９５…がアーム
９４の水平部の長手方向に沿って複数形成されている。
したがって、孔９３と孔９５との位置を適宜変更して、
所望の孔９３、９５同士を重ね、その孔９３、９５にピ
ン９６を嵌挿させることにより、保持ヘッド１４に対す
る押付部材１８の位置を接離方向に変更することができ
る。なお、孔９３の間隔及び孔９５の間隔は、保持ヘッ
ド１４に対する押付部材１８の位置を微調整できるよう
に、例えば１ｍｍ間隔に設定されている。

【００２９】位置決め機構８２、９０は押付部材１６、
１８につき１台でもよいが、押付部材１６、１８につき
複数設けることにより、押付部材１６、１８を研磨パッ
ド２０の回転力に打ち勝って強固に支持することができ
る。

【００３０】一方、保持ヘッド１４には、ウェーハ３０
の研磨量を検出する不図示の検出装置が設けられてい
る。この検出装置で検出された検出値は、図２に示した
ＣＰＵ８０に出力される。ＣＰＵ８０は、検出装置から
出力される検出値が、予めＲＡＭ等に記憶されている研
磨量に合致した時にウェーハ３０の研磨を停止するよう
ウェーハ研磨装置１０を制御する。

【００３１】次に、前記の如く構成されたウェーハ研磨
装置１０の作用について説明する。

【００３２】まず、保持ヘッド１４を上昇させた後、サ
クションポンプ５４を駆動して研磨対象のウェーハ３０
をキャリア３８の下面に吸着保持させる。

【００３３】次に、保持ヘッド１４を下降させて、ウェ
ーハ３０が研磨パッド２０に当接した位置で下降移動を
停止する。そして、切換バルブ５２によってサクション
ポンプ５４側を閉にしてウェーハ３０の吸着を解除し、
ウェーハ３０を研磨パッド２０上に載置する。

【００３４】次いで、加工条件である研磨パッド２０の
回転数、研磨パッド２０に対する押付部材１６、１８の
押圧力、及び研磨パッド２０の種類に応じて、ウェーハ
３０のエッジ３０が過剰に研磨されない最適な位置に押
付部材１６、１８を位置決め機構８２、９０によって適
宜配置する。

【００３５】図５は、前記加工条件に基づいて押付部材
１６を保持ヘッド１４から１ｍｍ（好ましくは２ｍｍ以
下）離し、押付部材１８を保持ヘッドから７ｍｍ（好ま
しくは５ｍｍ以上１０ｍｍ以下）離した実施例を示して
いる。同図によれば、研磨パッド２０の波打ち現象によ
る盛り上がり部は、研磨パッド２０の回転方向上流側に
位置する押付部材１６の外周縁１６Ａ及び内周縁１６Ｂ
に対応する部分２０Ａ、２０Ｂと、研磨パッド２０の回
転方向下流側に位置する押付部材１８の内周縁１８Ｃに
対応する部分２０Ｃに発生するが、盛り上がり部２０
Ａ、２０Ｂ、２０Ｃは、ウェーハ３０のエッジ３０Ａか
ら離れた位置に発生するので、ウェーハ３０のエッジ３
０Ａが過剰に研磨されることはない。

【００３６】次に、エアポンプ４８を駆動して圧縮エア
をエア供給路５８を介して空気室６０に供給し、圧力エ
ア層を空気室６０に形成する。

【００３７】そして、エアポンプ４８からの圧縮エア
を、エア供給路４４を介して空間７４に供給し、ゴムシ
ート４０を内部エア圧により弾性変形させてキャリア３
８を押圧し、圧力エア層を介してウェーハ３０を研磨パ
ッド２０に押し付ける。そして、レギュレータ４６Ａで
エア圧を調整して内部エア圧力を所望の圧力に制御し、
研磨パッド２０に対するウェーハ３０の研磨圧力を一定
に保持する。

【００３８】次に、加圧装置７６を駆動して押付部材１
６を研磨パッド２０に所定の力で押し付けるとともに、
加圧装置７７を駆動して押付部材１８を研磨パッド２０
に所定の力で押し付け、研磨箇所における研磨パッド２
０の平坦性を向上させる。

【００３９】この後、プラテン１２及び保持ヘッド１４
を回転させてウェーハ３０の研磨を開始する。そして、
不図示の研磨量検出装置によってウェーハ３０の研磨量
を算出し、この算出されたウェーハ３０の研磨量が、予
め設定された研磨目標値に達した時にＣＰＵ８０が研磨
終了信号を出力して、ウェーハ３０の研磨を停止する。
これにより、１枚のウェーハ３０の研磨が終了する。そ
して、２枚目以降のウェーハ３０を研磨する場合には、
前述した工程を繰り返せば良い。

【００４０】また、加工条件を変更する場合には、その
加工条件に応じて、ウェーハ３０のエッジ３０Ａが過剰
に研磨されない最適な位置に押付部材１６、１８を位置
決め機構８２、９０によって適宜配置すればよい。

【００４１】したがって、ウェーハ研磨装置１０によれ
ば、１台のウェーハ研磨装置で加工条件の変更に対応す
ることができる。

【００４２】図６は、保持ヘッド１４の周りに同一形状
の４個の押付部材１００、１０２、１０４、１０６を等
間隔に配置した例が示されている。これらの押付部材１
００〜１０６は、図２に示した位置決め機構８２、９０
と同一構造の位置決め機構（不図示）によって保持ヘッ
ド１４に対し位置調整可能に設けられている。このよう
に、押付部材１００〜１０６を細分化し、各々の押付部
材１００〜１０６の保持ヘッド１４に対する位置を調整
することにより、ウェーハ３０の研磨精度を更に向上さ
せることができる。また、研磨パッド２０の回転方向を
挟んで両側に押付部材１０４、１０６を配置することに
より、保持ヘッド１４の回転方向に直交する方向の移動
にも対応することができる。

【００４３】更に、保持ヘッド１４を研磨パッド２０の
回転方向に対して略直交する方向にスライド移動させて
ウェーハ３０を研磨する場合には、保持ヘッド１４の移
動方向上流側の押付部材よりも下流側の押付部材を、保
持ヘッドに対して離れた位置に位置させることが、エッ
ジ３０Ａの過剰研磨を防止するうえで好ましい。すなわ
ち、保持ヘッド１４を矢印Ｃ方向に移動させる場合に
は、押付部材１０４よりも押付部材１０６を、保持ヘッ
ド１４に対して離れた位置に位置させる。

【００４４】なお、実施の形態では、位置調整手段とし
てアーム８４、８６、９２、９４の孔８５、８７、９
３、９５にピン８８、９６を差し込むことにより位置を
調整する機構８２、９０について説明したが、これに限
られるものではない。例えば、ウェーハ研磨装置１０の
固定部に圧電素子を介して押付部材１６、１８を設け、
この圧電素子に印加する電圧を制御することにより圧電
素子を伸縮させて、保持ヘッド１４に対する押付部材１
６、１８の位置を調整するようにしてもよい。圧電素子
を適用すれば、押付部材１６、１８の位置をリアルタイ
ムに制御できるので、例えば、１枚のウェーハの研磨中
に研磨パッド１０の回転数を変更する場合や押付部材１
６、１８の押圧力を変更する場合等に有利である。

【００４５】また、実施の形態では、回転する研磨パッ
ド２０について説明したが、研磨パッド２０の移動は回
転に限定されず、リニアに移動するものにも適用でき
る。

【００４６】

【発明の効果】以上説明したように本発明に係るウェー
ハ研磨装置によれば、保持ヘッドの周囲に配置された複
数の押付部材を、位置調整手段によって保持ヘッドに対
し適切な位置に位置させたので、研磨パッドの回転数、
研磨パッドに対する押付部材の押圧力、及び研磨パッド
の種類を変更しても、それに応じてウェーハのエッジが
過剰に研磨されない最適な位置に複数の押付部材を適宜
配置することができる。よって、１台のウェーハ研磨装
置で加工条件の変更に対応できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態に係るウェーハ研磨装置の
全体斜視図

【図２】図１のウェーハ研磨装置の断面図

【図３】図１のウェーハ研磨装置に適用された保持ヘッ
ドの縦断面図

【図４】図２のウェーハ研磨装置におけるキャリアと押
付部材の配置関係を示す説明図

【図５】ウェーハ研磨時における研磨パッドのプロファ
イルを説明するための模式図

【図６】キャリアの周りに４個の押付部材が配置された
説明図

【図７】従来のウェーハ研磨時における研磨パッドのプ
ロファイルを説明するための模式図

【符号の説明】

１０…ウェーハ研磨装置、１２…プラテン、１４…保持
ヘッド、１６、１８、１００、１０２、１０４、１０６
…押付部材、１９…スラリ供給装置、２０…研磨パッ
ド、２８…スラリ、３６…ヘッド本体、３８…キャリ
ア、４０…ゴムシート、７６、７７…加圧装置、８０…
ＣＰＵ、８２、９０…位置決め機構

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ウェーハを保持ヘッドに保持し、移動す
る研磨パッドに押し付けてウェーハの表面を研磨するウ
ェーハ研磨装置において、前記保持ヘッドの周囲に前記研磨パッドに押し付けられ
る複数の押付部材が配置されるとともに、該複数の押付
部材を前記保持ヘッドに対して位置調整する位置調整手
段が設けられたことを特徴とするウェーハ研磨装置。
【請求項２】前記保持ヘッドに対して前記研磨パッド
の移動方向上流側の押付部材よりも下流側の押付部材
を、保持ヘッドに対して離れた位置に位置させたことを
特徴とする請求項１に記載のウェーハ研磨装置。
【請求項３】前記保持ヘッドの移動方向上流側の押付
部材よりも下流側の押付部材を、保持ヘッドに対して離
れた位置に位置させたことを特徴とする請求項１に記載
のウェーハ研磨装置。