JP2002230978A - 半導体メモリ装置 - Google Patents
半導体メモリ装置Info
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- JP2002230978A JP2002230978A JP2001391432A JP2001391432A JP2002230978A JP 2002230978 A JP2002230978 A JP 2002230978A JP 2001391432 A JP2001391432 A JP 2001391432A JP 2001391432 A JP2001391432 A JP 2001391432A JP 2002230978 A JP2002230978 A JP 2002230978A
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- sensing
- sense amplifier
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C7/00—Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
- G11C7/06—Sense amplifiers; Associated circuits, e.g. timing or triggering circuits
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- Dram (AREA)
- Static Random-Access Memory (AREA)
- Read Only Memory (AREA)
Abstract
速度を実現することができる、セル面積の微細化に対応
可能な半導体メモリ装置及びそのセンスアンプ制御回路
を提供すること。 【解決手段】 マトリクス状に配置されている複数のメ
モリセルアレイブロック10、そこに格納されたデータ
をセンシング及び増幅する複数のビットラインセンスア
ンプアレイブロック21及び22、センシング電力供給
制御信号RTOEN0、/SEN0等により制御され、
各ビットラインセンスアンプアレイブロックにセンシン
グ電力RTO0、/S0等を供給する複数のセンシング
電力供給手段31〜34、及びセンシング電力供給制御
信号RTOEN0、/SEN0等により制御され、2つ
以上のセンシング電力供給手段31〜34の供給ライン
を、共通センシング電力RTOC0、/SC0等の供給
ラインに共通して接続させる複数のスイッチング手段5
1a〜54a及び51b〜54bを含む。
Description
された複数のメモリセルアレイブロックを含む半導体メ
モリ装置に関し、より詳細には、メモリセルアレイブロ
ックのそれぞれについて、ビットラインセンスアンプア
レイブロックと、センシング電力を供給するセンシング
電力供給手段とを含んでいる半導体メモリ装置に関す
る。
を供給する方法として、メタルストラップを利用する方
法と、サブワードラインを利用する方法とがある。
れた方法である。これによると、センシング電力は、ブ
ロック選択アドレスに従ってセルアレイの外で制御さ
れ、センスアンプに供給されていた。
力が、セルアレイの外で制御されるセンシング電力の大
きさに従って決定されていた。そして、センシング電力
は、ブロック選択アドレス信号によって示されるメモリ
セルアレイブロック内に、1箇所だけ供給される形とな
っていた。
横方向に隣り合うメモリセルアレイブロックの間にサブ
ワードラインアレイブロックを配置する。さらに、縦方
向に隣り合うビットラインセンスアンプアレイブロック
を結ぶ縦長領域と、横方向に隣り合うメモリセルアレイ
ブロックを結ぶ横長領域とで囲まれたサブホール領域に
センシング電力供給手段を配置する。そして、ブロック
選択アドレス信号を含むセンシング電力供給制御信号に
より、センシング電力が制御される構成となっている。
以下、この構成について説明する。
置の構成を概略的に示したブロック図である。
半導体メモリ装置は、マトリクス状に配置されている複
数のメモリセルアレイブロック1と、ビットラインセン
スアンプアレイブロック2a及び2bと、センシング電
力供給手段3a、3b、3c及び3dと、サブワードラ
インアレイブロック4a及び4bとを含んでいる。
OEN0、/SEN0、RTOEN1及び/SEN1
を、センシング電力供給手段3a、3b、3c及び3d
に供給する伝送ラインと、センシング電力RTO0、/
S0、RTO1及び/S1を、ビットラインセンスアン
プアレイブロック2a及び2bに供給する供給ラインと
が示されている。
た複数のメモリセルアレイブロックのうち、1つのメモ
リセルアレイブロック1のみが記載され、他は省略され
ている。このことは、上記の他の構成要素についても同
様である。例えば、ビットラインセンスアンプアレイブ
ロック2bの図面下側にはメモリセルアレイブロック
(図示せず)が存在し、同様にセンシング電力供給手段
3bの図面右側にはビットラインセンスアンプアレイブ
ロック(図示せず)が存在する。
は、マトリクス状に配置された複数のメモリセルアレイ
ブロックのそれぞれに格納されたデータを、センシング
及び増幅するものである。図1において、ビットライン
センスアンプアレイブロック2a及び2bは、対応する
メモリセルアレイブロック1の縦方向(図面上下方向)
に隣接して配置されており、メモリセルアレイブロック
1に格納されたデータを、センシング及び増幅する。
力供給制御信号により制御され、ビットラインセンスア
ンプアレイブロックのそれぞれにセンシング電力を供給
するものであり、上記サブホール領域に配置されてい
る。図1において、センシング電力供給手段3aは、セ
ンシング電力供給制御信号RTOEN0及び/SEN0
により制御され、センシング電力RTO0及び/S0を
制御し、ビットラインセンスアンプアレイブロック2a
にセンシング電力RTO0及び/S0を供給するもので
あり、ビットラインセンスアンプアレイブロック2aの
横方向(図面左方向)に隣接して配置されている。
メモリセルアレイブロック1の横方向(図面左方向)に
隣接して配置されている。
の伝送ライン、及びセンシング電力供給制御信号/SE
N0の伝送ラインは、メモリセルアレイブロック1と、
メモリセルアレイブロック1に対して縦方向(図面上方
向)に隣り合うメモリセルアレイブロック(図示せず)
との間に、ビットラインセンスアンプアレイブロック2
aを挟んで、横方向(図面左右方向)に延びた状態で配
置されている。
びセンシング電力/S0の供給ラインは、センシング電
力供給制御信号RTOEN0の伝送ラインとセンシング
電力供給制御/SEN0信号の伝送ラインとの間に、横
方向(図面左右方向)に延びた状態で配置されている。
2b、センシング電力供給手段3b〜3d、サブワード
ラインアレイブロック4bに関しても、対応するメモリ
セルアレイブロック(図示せず)について、上記と同様
に配置されている。
センシング電力供給手段3aの構成を詳細に示した回路
図である。このような回路の構成は、センシング電力供
給手段3b〜3dについても同様である。
給手段3aは、ビットラインをプリチャージするための
制御信号BLPにより制御され、センシング電力RTO
0及び/S0の供給ラインを、プリチャージ電圧VBL
Pにプリチャージして均等化させるn型MOSトランジ
スタNM1〜NM3と、センシング電力供給制御信号R
TOEN0により制御され、センシング電力RTO0の
供給ラインに外部電力電圧VEXTを選択的に印加する
p型MOSトランジスタPM1と、センシング電力供給
制御信号/SEN0により制御され、センシング電力/
S0の供給ラインを選択的に接地するn型MOSトラン
ジスタNM4とを含んで構成されている。
術に係る半導体メモリ装置において、ビットラインセン
スアンプのセンシング電力供給手段3a、3b、3c及
び3dの動作について説明する。
a、3b、3c及び3dは、それぞれ、サブワードライ
ンアレイブロック4a又は4bと、センスアンプアレイ
ブロック2a又は2bとに隣接する上記サブホール領域
に配置される。
力供給手段3a及び3b、又はセンシング電力供給手段
3c及び3dは、それぞれセンシング電力供給制御信号
RTOEN0及び/SEN0、又はセンシング電力供給
制御信号RTOEN1及び/SEN1により制御され
る。
ロック1を通るi番目ワードラインWLiが選択される
場合を考える。まず、メモリセルアレイブロック1に隣
接するビットラインセンスアンプアレイブロック2a及
び2bは、データを読み出し(リード)又は書き込み
(ライト)するときに、データをセンシング及び増幅す
ることになる。
レイブロック1のデータをリード、又はライトするため
のビットラインセンスアンプアレイブロック2a及び2
bにおいて、これらのセンシング電力RTO0、/S
0、RTO1及び/S1は、それぞれセンシング電力供
給制御信号RTOEN0、/SEN0、RTOEN1及
び/SEN1により制御される。
ブルされるとき、ブロック選択アドレスによりセンシン
グ電力供給制御信号RTOEN0、/SEN0、RTO
EN1及び/SEN1がイネーブルされる。以下では、
センシング電力供給手段3aのみについて説明し、セン
シング電力供給手段3b〜3dについては、センシング
電力供給手段3aと同様であるので、その説明を省略す
る。
及び/SEN0がイネーブルされると、図2に示したセ
ンシング電力供給手段3aの回路図において、p型MO
SトランジスタPM1及びn型MOSトランジスタNM
4がターンオンされ、センシング電力RTO0及び/S
0の供給ラインにそれぞれ外部電力電圧VEXT及び接
地電圧VSSが供給されることになる。
O0及び/S0の供給ラインは、ビットラインプリチャ
ージ制御信号BLPによりn型MOSトランジスタNM
1〜NM3がターンオンされ、プリチャージ電圧VBL
Pにプリチャージされている状態である。
及び/S0は、サブホール領域に配置され、センシング
電力供給制御信号RTOEN0及び/SEN0によって
制御されるセンシング電力供給手段3aにより制御され
る。そのため、半導体メモリ装置の高集積化が進み、サ
ブホール領域の面積が、センスアンプアレイブロック2
aや、サブワードラインアレイブロック4aの縮小化に
追従して縮小されていくと、センシング電力供給手段3
aの大きさも縮小されることになり、制御能力が低下す
るという問題があった。
小されても十分な電力供給能力を有し、速いセンシング
速度を実現することができる、センシング電力供給手段
を備えた半導体メモリ装置を提供することを目的として
いる。
リ装置は、マトリクス状に配置されている複数のメモリ
セルアレイブロック、該メモリセルアレイブロックのそ
れぞれに格納されたデータを、センシング及び増幅する
複数のビットラインセンスアンプアレイブロック、セン
シング電力供給制御信号により制御され、前記ビットラ
インセンスアンプアレイブロックのそれぞれにセンシン
グ電力を供給する複数のセンシング電力供給手段、及び
前記センシング電力供給制御信号により制御され、複数
の前記センシング電力供給手段のうち、少なくとも2つ
以上の前記センシング電力供給手段の供給ラインのそれ
ぞれを、対応する共通センシング電力の供給ラインに共
通して接続させる複数のスイッチング手段を含んでいる
ことを特徴とする。
は、ブロック選択アドレス信号を基に生成されることが
望ましい。なお、ブロック選択アドレス信号とは、下位
ローアドレス信号をデコードして複数のメモリブロック
のうち、1つのメモリブロックを選択する信号である。
センシング電力供給制御信号は、このブロック選択アド
レス信号及びCAS信号を利用して選択されたメモリブ
ロックのビットラインセンスアンプアレイブロックだけ
をイネーブルさせるためのタイミングを決定する。
ル領域に配置されていることが望ましい。
トラインに平行な方向を意味し、横方向とはワードライ
ンに平行な方向を意味する。
ら、本発明に係る好ましい実施の形態について詳しく説
明する。
メモリ装置の構成を概略的に示したブロック図である。
態に係る半導体メモリ装置は、マトリクス状に配置され
ている複数のメモリセルアレイブロック10、メモリセ
ルアレイブロック10のそれぞれに格納されたデータ
を、センシング及び増幅する複数のビットラインセンス
アンプアレイブロック21及び22、センシング電力供
給制御信号RTOEN0及び/SEN0又はセンシング
電力供給制御信号RTOEN1及び/SEN1により制
御され、ビットラインセンスアンプアレイブロック21
又は22のそれぞれに、センシング電力RTO0及び/
S0又はセンシング電力RTO1及び/S1を供給する
複数のセンシング電力供給手段31、32、33及び3
4、サブワードラインアレイブロック41及び42、及
び、センシング電力供給制御信号RTOEN0及び/S
EN0又はセンシング電力供給制御信号RTOEN1及
び/SEN1により制御され、複数のセンシング電力供
給手段31、32、33及び34のうち、少なくとも2
つ以上のセンシング電力供給手段の供給ラインのそれぞ
れを、対応する共通センシング電力の供給ラインに共通
して接続させる複数のスイッチング手段51a〜54a
及び51b〜54bを含んでいる。
の伝送ライン、及びセンシング電力供給制御信号/SE
N0の伝送ラインは、メモリセルアレイブロック10
と、メモリセルアレイブロック10に対して縦方向(図
面上方向)に隣り合うメモリセルアレイブロック(図示
せず)との間に、ビットラインセンスアンプアレイブロ
ック21を挟んで、横方向(図面左右方向)に延びた状
態で配置されている。
びセンシング電力/S0の供給ラインは、センシング電
力供給制御信号RTOEN0の伝送ラインとセンシング
電力供給制御信号/SEN0の伝送ラインとの間に、横
方向(図面左右方向)に延びた状態で配置されている。
ン、及び共通センシング電力/SC0の供給ラインは、
センシング電力供給手段31と、センシング電力供給手
段31に対して横方向(図面左方向)に隣り合うビット
ラインセンスアンプアレイブロック(図示せず)との間
に、縦方向(図面上下方向)に延びた状態で配置されて
いる。
た複数のメモリセルアレイブロックのうち、1つのメモ
リセルアレイブロック10のみが記載され、他は省略さ
れている。このことは、上記の他の構成要素についても
同様である。例えば、ビットラインセンスアンプアレイ
ブロック22の図面下側にはメモリセルアレイブロック
(図示せず)が存在し、同様にセンシング電力供給手段
32の図面右側にはビットラインセンスアンプアレイブ
ロック(図示せず)が存在する。
は、マトリクス状に配置された複数のメモリセルアレイ
ブロックのそれぞれに格納されたデータを、センシング
及び増幅するものであり、対応するメモリセルアレイブ
ロックに隣接して配置されている。図3において、ビッ
トラインセンスアンプアレイブロック21及び22は、
対応するメモリセルアレイブロック10の縦方向(図面
上下方向)に隣接して配置されており、メモリセルアレ
イブロック10に格納されたデータを、センシング及び
増幅する。
力供給制御信号により制御され、ビットラインセンスア
ンプアレイブロックのそれぞれにセンシング電力を供給
するものである。これは、縦方向(図面上下方向)に隣
り合うビットラインセンスアンプアレイブロックを結ぶ
縦長領域と、横方向(図面左右方向)に隣り合うメモリ
セルアレイブロックを結ぶ横長領域とで囲まれたサブホ
ール領域に配置されている。図3において、センシング
電力供給手段31は、ブロック選択アドレス信号を含む
センシング電力供給制御信号RTOEN0及び/SEN
0により制御され、センシング電力RTO0及び/S0
を制御し、ビットラインセンスアンプアレイブロック2
1にセンシング電力RTO0及び/S0を制御して供給
するものであり、ビットラインセンスアンプアレイブロ
ック21の横方向(図面左方向)に隣接して配置されて
いる。
メモリセルアレイブロック10の横方向(図面左方向)
に隣接して配置されている。
制御信号により制御され、複数のセンシング電力供給手
段のうち、少なくとも2つ以上の前記センシング電力供
給手段のセンシング電力の供給ラインのそれぞれを、対
応する共通センシング電力の供給ラインに共通して接続
させ、両者の間で接続と切断とを切り替える。
は、センシング電力供給制御信号RTOEN0に制御さ
れ、センシング電力供給手段31におけるセンシング電
力RTO0の供給ラインを、共通センシング電力RTO
C0の供給ラインに接続させる。また、スイッチング手
段53aは、センシング電力供給制御信号RTOEN1
に制御され、センシング電力供給手段33におけるセン
シング電力RTO1の供給ラインを、共通センシング電
力RTOC0の供給ラインに共通して接続させる。
53aは、2つのセンシング電力供給手段31及び33
を含む、少なくとも2つ以上のセンシング電力供給手段
の供給ラインのそれぞれを、対応する共通センシング電
力RTOC0の供給ラインに共通して接続させる。
合うビットラインセンスアンプアレイブロックを結ぶ縦
長領域と、横方向に隣り合うメモリセルアレイブロック
を結ぶ横長領域とで囲まれたサブホール領域に配置され
ていることが望ましい。
22、センシング電力供給手段32〜34、サブワード
ラインアレイブロック42、及びスイッチング手段52
a、54a及び51b〜54bに関しても、対応するメ
モリセルアレイブロックについて、上記と同様に配置さ
れている。また、センシング電力供給制御信号RTOE
N1及び/SEN1、センシング電力RTO1及び/S
1、共通センシング電力RTOC1及び/SC1の供給
ラインに関しても、同様である。
センシング電力供給手段31と、スイッチング手段51
a及び51bとの構成をを詳細に示した回路図である。
このような回路の構成は、センシング電力供給手段31
〜34及びスイッチング手段52a〜54a及び52b
〜54bについても同様である。
給手段31は、プリチャージ制御信号BLPにより制御
され、センシング電力RTO0及び/S0の供給ライン
を、プリチャージ電圧VBLPにプリチャージするn型
MOSトランジスタNM11及びNM12と、プリチャ
ージ制御信号BLPにより制御され、センシング電力R
TO0及び/S0の供給ラインを均等化させるn型MO
SトランジスタNM13と、センシング電力供給制御信
号RTOEN0により制御され、センシング電力RTO
0の供給ラインに外部電力電圧VEXTを選択的に印加
するp型MOSトランジスタPM11と、センシング電
力供給制御信号/SEN0により制御され、センシング
電力/S0の供給ラインを選択的に接地するn型MOS
トランジスタNM14とを備えている。
シング電力供給制御信号RTOEN0により制御され、
センシング電力RTO0の供給ラインを、共通センシン
グ電力RTOC0の供給ラインに選択的に接続させるp
型MOSトランジスタPM12を含んで構成されてい
る。一方、スイッチング手段51bは、センシング電力
供給制御信号/SEN0により制御され、センシング電
力/S0の供給ラインを、共通センシング電力/SC0
の供給ラインに選択的に接続させるn型MOSトランジ
スタNM15を含んで構成されている。
実施の形態に係る半導体メモリ装置において、ビットラ
インセンスアンプのセンシング電力供給手段の動作につ
いて説明する。
1、32、33及び34は、それぞれ、サブワードライ
ンアレイブロック41又は42と、センスアンプアレイ
ブロック21又は22とに隣接する上記サブホール領域
に配置される。
力供給手段31及び32又はセンシング電力供給手段3
3及び34は、センシング電力供給制御信号RTOEN
0及び/SEN0又はセンシング電力供給制御信号RT
OEN1及び/SEN1によって制御される。
ロック10を通るi番目ワードラインWLiが選択され
る場合を考える。まず、メモリセルアレイブロック10
に隣接するビットラインセンスアンプアレイブロック2
1及び22は、それらに含まれるビットラインセンスア
ンプ(図示せず)を利用してデータをセンシング及び増
幅し、データをリード又はライトすることになる。
示せず)のセンシング電力RTO0、/S0、RTO1
及び/S1のそれぞれは、それぞれ対応する共通センシ
ング電力RTOC0、/SC0、RTOC1及び/SC
1の供給ラインにより接続されているセンシング電力供
給手段31、32、33及び34により制御される。
EN0、/SEN0、RTOEN1及び/SEN1がイ
ネーブルされて、センシング電力供給手段31、32、
33及び34を制御する。以下では、センシング電力供
給手段31を中心に説明する。
及び/SEN0がイネーブルされると、図4に示したセ
ンシング電力供給手段31の回路図において、p型MO
SトランジスタPM11及びn型MOSトランジスタN
M14がターンオンされ、センシング電力RTO0及び
/S0の供給ラインにそれぞれ外部電力電圧VEXT及
び接地電圧VSSが供給されることになる。
MOSトランジスタPM12がターンオンされ、センシ
ング電力RTO0の供給ラインが共通センシング電力R
TOC0の供給ラインに接続される。同様に、スイッチ
ング手段51bでは、n型MOSトランジスタNM15
がターンオンされ、センシング電力/S0の供給ライン
が共通センシング電力/SC0の供給ラインに接続され
る。
O0及び/S0の供給ラインは、ビットラインプリチャ
ージ制御信号BLPによりn型MOSトランジスタNM
11〜NM13がターンオンされ、一定電圧のプリチャ
ージ電圧VBLPにプリチャージされている状態であ
る。
OEN0及び/SEN0は、ブロック選択アドレス信号
を基に生成され、センスアンプアレイブロック21及び
22へのセンシング電力RTO0及び/S0の供給を調
節することになる。
0を示すブロック選択アドレス信号により、共通センシ
ング電力RTOC0及び/SC0の供給ラインに接続さ
れたセンシング電力制御部31及び33をイネーブルさ
せるためのセンシング電力供給制御信号RTOEN0、
/SEN0、RTOEN1及び/SEN1がイネーブル
され、共通センシング電力RTOC0及び/SC0の供
給ラインに接続されたセンシング電力RTO0、/S
0、RTO1及び/S1の供給ラインにより、センスア
ンプアレイブロック21及び22のセンシング電力RT
O0、/S0、RTO1及び/S1が制御される。
リ装置によれば、センシング電力供給ラインを共通セン
シング電力の供給ラインに接続して、制御能力を向上さ
せることにより、センシング速度を向上させることがで
きる。そのため、セル面積の微細化により、センシング
電力供給手段の大きさが縮小されて、制御能力が低下す
る場合、特にその性能を発揮することができる。
態を基に説明したが、これらの実施の形態は例示として
の開示であり、本発明の技術的範囲内で、当業者による
多様な改良、変更、付加等が可能である。このような改
良、変更等も、本発明の技術的範囲に属することは言う
までもない。
略的に示したブロック図である。
電力供給手段の構成を詳細に示した回路図である。
の構成を概略的に示したブロック図である。
電力供給手段とスイッチング手段との構成を詳細に示し
た回路図である。
ク 31、32、33、34 センシング電力供給手段 41、42 サブワードラインアレイブロック 51a〜54a、51b〜54b スイッチング手段 NM11〜NM15 n型MOSトランジスタ PM11、PM12 p型MOSトランジスタ
Claims (3)
- 【請求項1】 マトリクス状に配置されている複数のメ
モリセルアレイブロック、 該メモリセルアレイブロックのそれぞれに格納されたデ
ータを、センシング及び増幅する複数のビットラインセ
ンスアンプアレイブロック、 センシング電力供給制御信号により制御され、前記ビッ
トラインセンスアンプアレイブロックのそれぞれにセン
シング電力を供給する複数のセンシング電力供給手段、
及び前記センシング電力供給制御信号により制御され、
複数の前記センシング電力供給手段のうち、少なくとも
2つ以上の前記センシング電力供給手段の供給ライン
を、共通センシング電力の供給ラインに共通して接続さ
せる複数のスイッチング手段を含んでいることを特徴と
する半導体メモリ装置。 - 【請求項2】 前記センシング電力供給制御信号は、ブ
ロック選択アドレス信号を基に生成されることを特徴と
する請求項1に記載の半導体メモリ装置。 - 【請求項3】 前記スイッチング手段は、サブホール領
域に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の
半導体メモリ装置。
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