JP2002221713A - 液晶表示素子及び液晶表示素子の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶セルに設けた偏光反射ポリマー層から液
晶層に水分が侵入するのを防止することにより、水分を
原因とする表示むらを防止して、半透過型の液晶表示素
子の表示品位向上を図る。又大型ガラス板を裁断し、偏
光反射ポリマー層を有する液晶セルを複数切り出す際
に、偏光反射ポリマー層が損傷されるのを防止して、製
造歩留まりを向上する。 【解決手段】 対向基板１２にコレステリック液晶ポリ
マー層２７を形成後、対向基板１２周縁のシール剤１４
塗布領域に相当する領域のコレステリック液晶ポリマー
層２７ａを研磨除去して、ガラス基板面２４を露出後、
コレステリック液晶ポリマー層２７外周にて、ガラス基
板１７とガラス基板２４とをシール剤１４で直接シール
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示素子に係
り、特に基板上に偏光反射ポリマー層を有する液晶表示
素子及び液晶表示素子の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、パソコン端末、モニター等の液晶
表示装置には、薄型、軽量を特徴とする液晶表示素子が
多用されている。そのなかでも、反射板を備え画像表示
面から取り入れた光を画像表示面に反射して画像表示を
行う事によりバックライト等の光源を不要とする反射型
液晶表示素子は、消費電力の大幅な節約を図れる事か
ら、モバイルパソコンや携帯電話等の携帯機器用の液晶
表示装置ヘの適用が要望されている。

【０００３】しかしながら、液晶表示装置に光源を全く
備えずに使用しようとすると、使用する環境自体が暗い
場合には、画像表示面から取り入れられる光が弱いため
表示される画面が暗くて認識し難く、特に暗闇では全く
使用不能となる。このため従来は、反射機能のみでなく
透過機能も備え暗い環境でも画像表示可能となるよう
に、液晶表示装置内にバックライトを設けると共に反射
板にバックライトからの光を透過する透過機能を持たせ
た半透過型の液晶表示素子の開発が進められている。

【０００４】このような半透過型の液晶表示素子の１つ
として、図６に示すように液晶表示素子１のバックライ
ト６側の対向基板３に偏光機能を有する偏光反射ポリマ
ー層７を形成し、偏光反射ポリマー層７により選択的に
左右いずれかの円偏光を反射し逆極性の円偏光を透過す
ることにより、アレイ基板２側から取り入れた外光を反
射すると共に、バックライト６による対向基板３側から
の照射光をアレイ基板２側の画像表示面に透過して、表
示光量を増大し、暗い環境での使用を可能とする液晶表
示素子１の実用化が図られている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記偏光
反射ポリマー層を用いる半透過型の液晶表示素子にあっ
ては、従来偏光反射ポリマー層７を対向基板７全面に形
成して、偏光反射ポリマー層７を介してシール剤４によ
りアレイ基板２と対向基板３とを貼り合せていたため、
高温高湿度の条件下での表示試験を行うと、偏光反射ポ
リマー層を経由して水分が液晶層内に浸入しこの水分に
より表示むらを発生し表示品位を悪化させるという問題
を生じていた。また耐久性に劣り、液晶セルの組立製造
時、大型ガラス板上に復数面の基板パターンを形成した
大板状態で複数面の基板を貼り合わせ、その後、各基板
を所定のサイズに切り出して液晶セルを得るという工程
においては、複数面の液晶セルを個々に切り出す際の衝
撃により、裁断部の偏光反射ポリマー層に、割れ、欠
け、剥がれ等の損傷を生じ使用不能になるおそれがあっ
た。

【０００６】そこで本発明は上記課題を除去するもので
あり、液晶セルに偏光反射ポリマー層を形成するものに
おいて、液晶層中への水分の侵入を防止し、これらを起
因とする表示不良の発生を防止して、表示品位の向上を
図ると共に、液晶セルの耐久性を高め、製造時の偏光反
射ポリマー層の損傷を防止して、製造歩留まりが高く実
用化を実現する液晶表示素子及び液晶表示素子の製造方
法を提供することを目的とする、

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するための手段として、少なくともいずれか一方に透明
電極を有し画像表示側の表示基板及びこの表示基板に対
向配置される反射透過基板からなる一対の基板と、この
一対の基板の表示領域を囲繞して前記表示基板及び前記
反射透過基板を固着するシール剤と、このシール剤に囲
繞される領域にて前記一対の基板間に封入される液晶層
と、前記反射透過基板の前記液晶層側であって前記シー
ル剤に囲繞される領域より内側に形成され、第１の方向
に旋回される第１の円偏光を反射する一方、この第１の
円偏光と逆方向に旋回される第２の円偏光を透過する偏
光反射ポリマー層とを設けるものである。

【０００８】又本発明は上記課題を解決するための手段
として、少なくともいずれか一方に透明電極を有し画像
表示側の表示基板及びこの表示基板に対向配置される反
射透過基板からなる一対の基板の間隙に液晶層を封入し
てなる液晶表示素子の製造方法において、前記反射透過
基板の前記液晶層側に、第１の方向に旋回される第１の
円偏光を反射する一方、この第１の円偏光と逆方向に旋
回される第２の円偏光を透過する偏光反射ポリマー層を
形成する工程と、前記表示基板あるいは前記反射透過基
板のいずれか一方であって前記偏光反射ポリマー層の形
成領域より外周にシール剤を配置する工程と、前記表示
基板及び前記反射透過基板を前記シール剤で貼り合せる
工程とを実施するものである。

【０００９】上記構成により本発明は、偏光反射ポリマ
ー層を介して水分が液晶セル内の液晶層に侵入するのを
防止することにより表示品位の向上を図り、又、偏光反
射ポリマー層がシール剤との接着部に損傷を生じるのを
防止して、製造歩留まりを向上し、半透過型液晶表示素
子の実用化を図るものである。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明を図１乃至図３に示
す第１の実施の形態を参照して説明する。図１は液晶セ
ル内に偏光反射ポリマー層であるコレステリック液晶ポ
リマー層２７を有する半透過型の液晶表示素子１０及び
液晶表示素子を照射するバックライト３２の概略断面図
である。

【００１１】液晶表示素子１０は、表示基板であるアレ
イ基板１１及び反射透過基板である対向基板１２をスペ
ーサ１３を介して対向配置し、シール剤１４にて周囲を
接着して成る間隙に液晶層１６を封入し、更にアレイ基
板１１外面には光拡散フィルム１１ａ、位相差板１１
ｂ、及び偏光板１１ｃが貼り付けられ、対向基板１２外
面には位相差板１２ｂ及び偏光板１２ｃが貼り付けられ
ている。液晶表示素子１０の基板サイズは対角１０イン
チで、画素数はＳＶＧＡとする。

【００１２】アレイ基板１１は、ガラス基板１７上の図
示しない走査線及び信号線の交点近傍に液晶駆動用の薄
膜トランジスタ（以下ＴＦＴと略称する。）素子１８を
有している。ＴＦＴ素子１８の上にはＲ（赤）、Ｇ
（緑）、Ｂ（青）の着色層がストライプ状に配置されて
なるカラーフィルタ層２０が配置されている。尚１９
は、表示領域周囲をマスクする黒色フィルタである。

【００１３】カラーフィルタ層２０上であって図示しな
い走査線及び信号線で囲まれる領域には、複数の画素電
極２１がマトリクス状にパターン形成されていて、画素
電極２１はカラーフィルタ層２０に形成されるスルーホ
ール２２を介してＴＦＴ素子１８のソース電極（図示せ
ず）に接続し、ＴＦＴ素子１８により駆動される。更に
画素電極２１上には柱状のスペーサ１３が形成され、そ
の上から液晶配向膜２３が成膜されている。

【００１４】一方対向基板１２は、ガラス基板２４上の
シール剤１４塗布領域より内側に下地配向膜２６を介し
偏光反射ポリマー層であるコレステリック液晶ポリマー
層２７を有しており、コモン電極２８が形成され、更に
コモン電極２８上に液晶配向膜３０が成膜されている。
コレステリック液晶ポリマー層２７は、下地配向膜２６
の配向方向から、厚み方向に配向方向が螺旋状に連続的
に変化するものであり、ワッカーケミカル社製のコレス
テリック液晶シリコンを連続的に塗り重ねて形成し、均
一な厚みを持たせたものである。

【００１５】一般にコレステリック液晶ポリマー層は、
厚み方向上面に形成される配向方向に従い、上から入射
した光及び下から入射した光を共に左右いずれかの極性
の円偏光に分離し、一方の極性を透過し、逆極性を反射
する偏光機能を有するものである。

【００１６】ここで本実施の形態で用いるコレステリッ
ク液晶ポリマー層２７の偏光機能による半透過表示の原
理を図２に示すコレステリック液晶表示素子４８を参照
して詳述する。コレステリック液晶表示素子４８は、Ｒ
＝λ／２の位相差の液晶層（例えば９０度ＴＮ液晶）５
１を有する液晶セル５０の、バックライト６０側の反射
透過基板（図示せず）に、例えば左旋円偏光を反射し、
逆極性の右旋円偏光を透過する偏光反射ポリマー層であ
る左旋コレステリック液晶ポリマー層５２を設けたもの
である。液晶セル５０の画像表示側には、Ｒ＝λ／４の
位相差板５３ａ、偏光板５３ｂが設けられ、バックライ
ト６０側には、Ｒ＝λ／４の位相差板５４ａ、偏光板５
４ｂが設けられている。

【００１７】これによりコレステリック液晶表示素子４
８にあっては、白表示領域では、画像表示側からの光Ａ
は、 偏光板５３ｂ、位相差板５３ａを経て右旋円偏光
として液晶セル５０に入射され、液晶セル５０を通過す
る間に左旋円偏光に変換され左旋コレステリック液晶ポ
リマー層５２に照射されると、左旋円偏光を反射する左
旋コレステリック液晶ポリマー層５２で反射され、液晶
層５１を通過する間に右旋円偏光に変換され、位相差板
５３ａ、偏光板５３ｂを経て、反射光による白表示を行
う事となる。

【００１８】これと同時に、バックライト６０からの光
Ｂは、偏光板５４ｂ、位相差板５４ａを経て右旋円偏光
として左旋コレステリック液晶ポリマー層５２に照射さ
れ、左旋コレステリック液晶ポリマー層５２を透過し
て、液晶セル５０に入射され、液晶層５１を通過する間
に左旋円偏光に変換されるので、この後位相差板５３
ａ、偏光板５３ｂを経て、透過光による白表示を行う事
となる。

【００１９】一方黒表示領域では、画像表示側からの光
Ｃは、 偏光板５３ｂ、位相差板５３ａを経て右旋円偏
光として液晶セル５０に入射されるが、旋光する事無く
液晶層５１を通過し左旋コレステリック液晶ポリマー層
５２に照射される。そして光Ｃは右旋円偏光を透過する
左旋コレステリック液晶ポリマー層５２を透過し位相差
板５４ａを経て偏光板５４ｂに吸収される。

【００２０】これと同時にバックライト６０からの光Ｄ
は、偏光板５４ｂ、位相差板５４ａを経て右旋円偏光と
して右旋円偏光を透過する左旋コレステリック液晶ポリ
マー層５２を透過して、液晶セル５０に入射され、旋光
する事無く液晶層５１を通過し、位相差板５３ａを経て
偏光板５３ｂに吸収される。以上の原理によりコレステ
リック液晶ポリマー層２７は、半透過表示が成される。

【００２１】次に液晶表示素子１０の製造方法について
述べる。アレイ基板１１は、通常のフォトリソグラフィ
工程によるパターニングを繰り返してガラス基板１７上
にＴＦＴ素子１８を形成する。次いでＲ（赤）、Ｇ
（緑）、Ｂ（青）の着色層材料を順次ストライプ状にパ
ターン形成して、カラーフィルタ層２０を形成し、さら
に表示領域周囲に黒色フィルタ１９を形成後、スパッタ
法にてＩＴＯ膜を成膜し、フォトリソグラフィ工程によ
ってパターン形成し、カラーフィルタ層２０上にマトリ
クス配列される画素電極２１を形成後、液晶配向膜２３
を塗布し、更にスペーサ１３をパターン形成する。

【００２２】一方対向基板１２は、ガラス基板２４上に
下地配向膜２６を塗布し、ラビング処理した後、ワッカ
ーケミカル社製のコレステリック液晶シリコンを、左旋
円偏光を反射し右旋円偏光を透過する所望の厚さに達す
るまで連続的に均一に塗り重ねてコレステリック液晶ポ
リマー層２７を成膜する。

【００２３】次に図３に示すように、対向基板１２周縁
の液晶表示素子１０のシール剤１４塗布領域に相当す
る、表示領域［Ｆ］の約２ｍｍ外側からガラス基板２４
端部迄の領域のコレステリック液晶ポリマー層２７ａ、
下地配向膜２６ａを研磨除去する。これにより対向基板
１２のシール剤１４との接着領域にあってはガラス基板
２４が露出された状態となっている。更にコレステリッ
ク液晶ポリマー層２７上にスパッタ法にてＩＴＯ膜を成
膜しコモン電極２８を形成後、この上に液晶配向膜３０
を塗布する。

【００２４】この後、液晶配向膜２３、３０をラビング
により配向処理し、アレイ基板１１の周縁にシール剤１
４を印刷塗布し、アレイ基板１１からコモン電極２６に
電圧を印加するためのトランスファ材（図示せず）をア
レイ基板１１周辺に形成した後、アレイ基板１１及び対
向基板１２を、液晶配向膜２３、３０のそれぞれのラビ
ング方向が90°となるよう対向配置し、シール剤１４を
加熱硬化させて貼り合わせ液晶セルを形成する。この時
シール剤１４は、コレステリック液晶ポリマー層２７周
囲を囲繞した状態で、コレステリック液晶ポリマー層２
７を介する事無くガラス基板１７とガラス基板２４とを
直接シールする事となる。

【００２５】次に液晶セルの間隙に液晶組成物を封入し
て液晶層１６を形成後、アレイ基板１１に光拡散フィル
ム１１ａ・位相差板１１ｂ付き偏光板１１ｃを貼り付
け、対向基板１２に位相差板１２ｂ付き偏光板１２ｃを
貼り付けて液晶表示素子１０を完成する。

【００２６】こうして作製した液晶表示素子１０を高温
高湿度（５０℃、８０％）条件で１０００時間連続画像
表示試験をおこない、表示品位を評価した所、水分の侵
入を原因とする表示むらの発生は皆無で有り、良好な表
示画像を得られた。

【００２７】この様に構成すれば、消費電力の低減を図
ると共に、暗い環境での表示を可能とするために対向基
板１２に形成されるコレステリック液晶ポリマー層２７
の周囲は、シール剤１４に囲繞され密封された状態とな
っているので、コレステリック液晶ポリマー層２７から
液晶層１６に水分が侵入するおそれが無く、高温高湿度
での条件下においても白ずみ（黒ずみ）の発生を防止出
来、表示不良を防止して高い表示品位を得られる。

【００２８】次に本発明を図４に示す第２の実施の形態
を参照して説明する。尚第１の実施の形態と同一部分に
ついては同一符号を付しその説明を省略する。本実施の
形態は、第１の実施の形態におけるアレイ基板１１と同
一パターンを大型ガラス板６２上に４面作製し、対向基
板１２と同一パターンを同一サイズの大型ガラス板６３
上に４面作製して、大型ガラス板６２上の各アレイ基板
１１にシール剤１４を塗布後、両大型ガラス板６２、６
３を張り合わせ、裁断工程にて裁断線６４で切り出し、
同一の４面の液晶セルを形成する。この切り出し時、裁
断線６４及びシール剤１４領域にあってはコレステリッ
ク液晶ポリマー層２７が除去されているのでコレステリ
ック液晶ポリマー層２７は裁断時の衝撃を受けないの
で、衝撃による損傷を生じない。この後、第１の実施の
形態と同様にして同一の液晶表示素子１０を作製する。

【００２９】このようにして作製した液晶表示素子１０
は、第１の実施の形態と同様に、高温高湿度（５０℃、
８０％）条件で１０００時間連続画像表示試験をおこな
い、表示品位を評価した所、水分の侵入を原因とする白
ずみ（黒ずみ）の発生は皆無で有り、良好な表示画像を
得られた。

【００３０】この様に構成すれば、第１の実施の形態と
同様、コレステリック液晶ポリマー層２７周囲は、シー
ル剤１４に囲繞され密閉されているので、コレステリッ
ク液晶ポリマー層２７から液晶層１６に水分が侵入する
おそれが無く、高温高湿度での条件下においても白ずみ
（黒ずみ）の発生を防止出来、表示不良を防止して高い
表示品位を得られる。又大型ガラス板６２、６３を用い
ての量産時の液晶セル切り出し時に、シール剤との接触
部分にコレステリック液晶ポリマー層２７の損傷による
不良を生じる事が無く、製造歩留まりの向上を得られ
る。

【００３１】一方これに対して（比較例１）について図
５を参照して述べる。この（比較例１）の液晶表示素子
７０は、前記第１の実施の形態にて、対向基板１２にコ
レステリック液晶ポリマー層２７を形成後、対向基板２
４周縁領域のコレステリック液晶ポリマー層２７ａを除
去する事無く、ガラス基板２４の全面にコレステリック
液晶ポリマー層２７を成膜したままアレイ基板１１及び
対向基板１２をシール剤１４で貼り合せるものであり、
他は前記第１の実施の形態と全く同様とする。

【００３２】即ちこの（比較例１）の液晶表示素子７０
にあっては、コレステリック液晶ポリマー層２７がシー
ル剤１４の下にあるため、第１の実施の形態と同様の環
境で通電試験をし、表示評価を行ったところ、５２０時
間経過時に液晶表示素子７０外部から浸入した水分に起
因すると考えられる表示ムラが発生し、表示品位が著し
く低下した。

【００３３】次に（比較例２）について述べる。この
（比較例２）は、前記第２の実施の形態にて、対向基板
１２にコレステリック液晶ポリマー層２７を形成後、対
向基板１２周縁のコレステリック液晶ポリマー層２７ａ
を除去する事無く、ガラス基板２４の全面にコレステリ
ック液晶ポリマー層２７を成膜したまま大型ガラス板６
２、６３をシール剤１４で張り合わせ、裁断線６４に沿
って液晶セルを切り出して４個の液晶セルを形成するも
のであり、他は第２の実施の形態と全く同様とする。即
ちこの（比較例２）にあっては、裁断線６４にコレステ
リック液晶ポリマー層２７がある状態で液晶セルの切り
出しを行うものである。

【００３４】この（比較例２）により作製した液晶表示
素子の表示品位を評価したところ、画素領域の端部に表
示ムラが見られ、表示ムラ発生部分を調べたところ、裁
断部のコレステリック液晶ポリマー層２７が裁断時の衝
撃によって破損し、そのクラックラインが画素領域に到
達して表示ムラを起こしていることがわかった。又この
（比較例２）により作製した液晶表示素子を第１の実施
の形態と同様の環境で通電試験をし、表示評価を行った
ところ、３８０時間経過時に液晶表示素子外部から浸入
した水分に起因すると考えられる表示ムラが発生し、表
示品位が著しく低下した。

【００３５】尚本発明は上記実施の形態に限られるもの
で無く、その趣旨を変えない範囲での変更は可能であっ
て、例えば、偏光反射ポリマー層の厚さを調整しその配
向方向を変えて、偏光反射ポリマー層が、右旋円偏光を
反射し逆極性の左旋円偏光を透過する機能を有するよう
にしても良いし、偏光反射ポリマー層であるコレステリ
ック液晶ポリマー層の原材料も任意である。またコレス
テリック液晶ポリマー層を形成する際も、均一な厚さを
得られれば原材料を塗り重ね無くても良い。更に偏光反
射ポリマー層のシール剤塗布領域の除去をレーザカット
により行う等しても良いし、偏光反射ポリマー層は、液
晶セルのバックライト側であれば、アレイ基板上に設け
る等しても良い。

【００３６】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、偏
光反射ポリマー層を有する液晶セルにて、偏光反射ポリ
マー層周囲をシール剤で囲繞し密閉しているので、偏光
反射ポリマー層から液晶層に水分が侵入するのを防止
し、水分を原因とする表示不良の発生を防止して良好な
表示品位を有する液晶表示素子を得られる。又、裁断線
及びシール剤領域の偏光反射ポリマー層は除去されてい
るので、大型ガラス板から液晶セルを切り出す際に、裁
断の衝撃による偏光反射ポリマー層のクラックや剥がれ
等の損傷を生じるのを防止出来、製造歩留まりの向上を
図れる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態である液晶表示素子
及びバックライトを示す概略断面図である。

【図２】本発明の第１の実施の形態で用いるコレステリ
ック液晶ポリマー層の原理を示す説明図である。

【図３】本発明の第１の実施の形態のコレステリック液
晶ポリマー層の除去領域を示す説明図である。

【図４】本発明の第２の実施の形態における大型ガラス
板の裁断を示す概略説明図である。

【図５】（比較例１）の液晶素子を示す概略断面図であ
る。

【図６】従来の液晶表示素子を示す概略断面図である。

【符号の説明】

１０…液晶表示素子 １１…アレイ基板 １１ａ…光拡散フィルム １１ｂ…位相差板 １１ｃ…偏光板 １２…対向基板 １２ｂ…位相差板 １２ｃ…偏光板 １３…スペーサ １４…シール剤 １６…液晶層 １７…ガラス基板 １８…ＴＦＴ素子 ２０…カラーフィルタ層 ２１…画素電極 ２３…液晶配向膜 ２４…ガラス基板 ２６…下地配向膜 ２７…コレステリック液晶ポリマー層 ２８…コモン電極 ３０…液晶配向膜 ３２…バックライト

フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H049 BA05 BA46 BB03 BC09 BC22 2H089 HA02 LA41 NA37 QA02 QA07 QA12 TA02 TA04 TA09 TA12 TA14 TA15 TA17 TA18 2H091 FA02Y FA08X FA08Z FA11X GA02 GA06 GA08 GA09 GA13 LA02 LA06 LA12

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくともいずれか一方に透明電極を有
   し画像表示側の表示基板及びこの表示基板に対向配置さ
   れる反射透過基板からなる一対の基板と、 この一対の基板の表示領域を囲繞して前記表示基板及び
   前記反射透過基板を固着するシール剤と、 このシール剤に囲繞される領域にて前記一対の基板間に
   封入される液晶層と、 前記反射透過基板の前記液晶層側であって前記シール剤
   に囲繞される領域より内側に形成され、第１の方向に旋
   回される第１の円偏光を反射する一方、この第１の円偏
   光と逆方向に旋回される第２の円偏光を透過する偏光反
   射ポリマー層とを具備する事を特徴とする液晶表示素
   子。
2. 【請求項２】 前記表示基板及び前記反射透過基板が、
   それぞれ外面に位相差板付きの偏光板を有し、この位相
   差板付きの偏光板を介し、前記偏光反射ポリマー層に前
   記第１の円偏光あるいは前記第２の円偏光を入射する事
   を特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子。
3. 【請求項３】 前記偏光反射ポリマー層が、コレステリ
   ック液晶ポリマー層である事を特徴とする請求項１に記
   載の液晶表示素子。
4. 【請求項４】 前記偏光反射ポリマー層が、所定方向に
   配向処理してなる配向膜を介して前記反射透過基板上に
   形成されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示
   素子。
5. 【請求項５】 前記反射透過基板が、前記偏光反射ポリ
   マー層上に透明電極を配置してなることを特徴とする請
   求項１に記載の液晶表示素子。
6. 【請求項６】 少なくともいずれか一方に透明電極を有
   し画像表示側の表示基板及びこの表示基板に対向配置さ
   れる反射透過基板からなる一対の基板の間隙に液晶層を
   封入してなる液晶表示素子の製造方法において、 前記反射透過基板の前記液晶層側に、第１の方向に旋回
   される第１の円偏光を反射する一方、この第１の円偏光
   と逆方向に旋回される第２の円偏光を透過する偏光反射
   ポリマー層を形成する工程と、 前記表示基板あるいは前記反射透過基板のいずれか一方
   であって前記偏光反射ポリマー層の形成領域より外周に
   シール剤を配置する工程と、 前記表示基板及び前記反射透過基板を前記シール剤で貼
   り合せる工程とを具備することを特徴とする液晶表示素
   子の製造方法。
7. 【請求項７】 前記偏光反射ポリマー層がコレステリッ
   ク液晶ポリマーからなり、前記反射透過基板に所定方向
   に配向してなる配向膜を成膜後、前記配向膜上に前記コ
   レステリック液晶ポリマーを形成する事を特徴とする請
   求項６に記載の液晶表示素子の製造方法。
8. 【請求項８】 前記偏光反射ポリマー層を前記反射透過
   基板に形成後前記偏光反射ポリマーの周縁部を除去し、
   この除去した周縁部に前記シール剤を配置することを特
   徴とする請求項６に記載の液晶表示素子の製造方法。