JP2002350836A - 平面表示素子及び平面表示素子の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 偏光反射層を有する平面表示素子を規定サイ
ズに切り出す際に、切り出し時の衝撃による偏光反射層
の損傷を防止しして製造歩留まりを向上する。又、平面
表示セルのシール剤の接着強度を高め、シール剤の耐久
性を保持し。長時間にわたる良好な表示品位を得る。 【解決手段】 対向基板１２にて、コレステリック液晶
ポリマー層２７を、その端面が、液晶表示素子１０を規
定サイズに切り出す際の裁断線６４であるガラス基板２
４の端面より１mm内側に位置するようガラス基板２４上
に形成する。又シール剤１４を、コレステリック液晶ポ
リマー層２７領域上に位置する様に配置する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示素子に係
り、特に基板上に偏光反射層を有する平面表示素子及び
平面表示素子の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、パソコン端末、モニター等に用い
られ、透明電極を有する一対の基板を対向配置してなる
平面表示セルのシール剤でかこまれた間隙に、例えば液
晶やエレクトロ・ルミネセンス等の光変調層を備えてな
る平面表示装置として、更なる薄型、軽量化を特徴とす
る平面表示素子が多用されている。その中でも、反射板
を備え画像表示面から取り入れた光を画像表示面に反射
して画像表示を行う事によりバックライト等の光源を不
要とする反射型平面表示素子は、消費電力の大幅な節約
を図れる事から、モバイルパソコンや携帯電話等の携帯
機器用の平面表示装置ヘの適用が要望されている。

【０００３】但し、平面表示装置に光源を全く備えずに
使用しようとすると、使用する環境自体が暗い場合に
は、画像表示面から取り入れられる光が弱いため表示さ
れる画面が暗くなり認識し難く、特に暗闇では全く使用
不能となる。このため近年では、反射機能のみでなく透
過機能も備え暗い環境でも画像表示可能となるように、
平面表示装置内にバックライトを設けると共に反射板に
バックライトからの光を透過する透過機能を持たせた半
透過型の平面表示素子の開発が進められている。

【０００４】このような半透過型の平面表示素子の１つ
として、図７に示す第１の従来例のように液晶表示素子
１のバックライト６側の対向基板３に偏光機能を有する
偏光反射ポリマー層７を形成し、偏光反射ポリマー層７
により選択的に左右いずれかの円偏光を反射し逆極性の
円偏光を透過することにより、アレイ基板２側から取り
入れた外光を反射すると共に、バックライト６による対
向基板３側からの照射光をアレイ基板２側の画像表示面
に透過して、表示光量を増大し、暗い環境での使用を可
能とする液晶表示素子１の実用化が図られている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記第１
の従来例の偏光反射ポリマー層を用いる半透過型の液晶
表示素子１にあっては、従来偏光反射ポリマー層７を対
向基板７全面に形成して、偏光反射ポリマー層７を介し
てシール剤４によりアレイ基板２と対向基板３とを貼り
合せその間隙に液晶層８を封入していた。このため液晶
セルの組立製造時、大型ガラス板上に複数面の基板パタ
ーンを形成した大板状態で複数面の基板を貼り合せ、そ
の後、各基板を規定のサイズに切り出して液晶セルを得
るという工程においては、複数面の液晶セルを個々に切
り出す際の衝撃により、裁断部の偏光反射ポリマー層
に、割れ、欠け、剥がれによる基板からの浮き等の損傷
を生じ使用不能に成ったり、あるいはクラックを生じて
いた場合には、クラックからの水分の浸入により表示む
らを発生し表示品位を悪化させ使用不能になるおそれが
あった。尚、単面にてアレイ基板２と対向基板３をシー
ル剤４で貼り合せた場合であっても、液晶表示素子１を
規定サイズに切り出す際に、同様に偏光反射ポリマー層
７を損傷するおそれを有していた。

【０００６】このため図８に示す第２の従来例のように
偏光反射ポリマー層７ａをシール剤４ａの内側領域にの
み設ける様にした液晶表示素子１ａ、あるいは図９に示
す第３の従来例のように偏光反射ポリマー層７ｂをシー
ル剤４ｂのセンターまで位置するように設ける液晶表示
素子１ｂ等の提案もなされている。

【０００７】しかしながら、上記第２あるいは第３の従
来例の液晶表示素子１ａ、１ｂにあっては、通常液晶層
８ａ、８ｂの高さが４〜５μｍ程度であるのに対して、
偏光反射ポリマー層７ａ、７ｂの高さが１５μｍ程度
と、液晶層８ａ、８ｂの約３倍である事から、シール剤
４ａ、４ｂの高さを第１の従来例のシール剤４に比し、
約４倍の２０μ程度と高くされ又、これに伴いシール剤
の幅も広くされる。このため、従来の塗布装置を用いた
場合には第１の従来例の塗布時間に比し数倍の塗布時間
を要し、製造時間が著しく増大する一方、シール幅が広
くなること又シール幅の均一化が困難となり、シール幅
が広い箇所にあってはシール剤４ａ、４ｂの凝集破壊が
起こりやすく、アレイ基板２及び対向基板３のシール剤
４ａ、４ｂによる接着強度が低下されるおそれを有して
いた。

【０００８】更にシール剤の塗布装置は、基板上のシー
ル剤塗布領域を予めプレスキャンして、基板の凹凸を検
知することによりシール剤の塗布量を制御し、シール幅
の均一化を図っているが、偏光反射ポリマー層７ａ、７
ｂ端部がシール剤塗布領域近傍あるいはシール剤塗布領
域中心にあると、少しのずれでも、偏光反射ポリマー層
の有無を誤検知する可能性が有り、基板の凹凸検知誤差
を生じ易く、プレスキャンの精度を出し難く、結果とし
てシール幅が不均一になり、部分的に広い箇所では凝集
破壊が起こり易く接着強度が低下されるおそれを有し、
シール不良により使用する間に表示品位の低下を来たす
という問題を生じていた。これは、偏光反射ポリマー層
の無いアレイ基板２側にシール剤を均一に塗布したとし
ても、対向基板３との貼り合せ時の製造誤差による多少
のずれによる、偏光反射ポリマー層の有無、あるいは偏
光反射ポリマー層の占める割合の変動によって、シール
幅が不均一になり、シール不良を生じるという問題を有
していた。

【０００９】そこで本発明は上記課題を除去するもので
あり、平面表示セルに偏光反射層を形成するものにおい
て、平面表示セル製造時の平面表示セルの切り出し操作
に起因する偏光反射層の損傷を防止して製造歩留まりを
向上すると共に、シール幅の均一化を図ることによりシ
ール剤の接着強度を高め、耐久性に優れ良好な表示品位
を長時間得られ、その実用化を可能とする平面表示素子
及び平面表示素子の製造方法を提供することを目的とす
る、

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するための手段として、少なくともいずれか一方に透明
電極を有し画像表示側の表示基板及びこの表示基板に対
向配置される反射透過基板からなる一対の基板と、端面
が前記反射透過基板の端面より内側に位置するよう前記
反射透過基板上に設けられる偏光反射層と、この偏光反
射層上にて前記一対の基板の表示領域を囲うよう配置さ
れるシール剤と、このシール剤に囲まれる領域にて前記
一対の基板間に封入される光変調層とを設けるものであ
る。

【００１１】又本発明は上記課題を解決するための手段
として、少なくともいずれか一方に透明電極を有し画像
表示側の表示基板及びこの表示基板に対向配置される反
射透過基板からなる一対の基板の間隙に光変調層を封入
してなる平面表示素子の製造方法において、前記表示基
板の複数面分の面積を有する第１の大型基板上に複数面
の前記表示基板を形成する工程と、前記反射透過基板の
複数面分の面積を有する第２の大型基板上に、所定の間
隙を隔てて偏光反射層を複数面形成後、前記偏光反射層
上に前記反射透過基板を形成する工程と、前記第１の大
型基板あるいは前記第２の大型基板のいずれかであって
前記複数の偏光反射層の形成領域上に相当する領域にそ
れぞれシール剤を配置する工程と、前記第１の大型基板
及び前記第２の大型基板を前記シール剤で貼り合せる工
程と、前記所定の間隙の領域で、前記貼り合わた第１及
び第２の大型基板を切り離す工程とを実施するものであ
る。

【００１２】上記構成により本発明は、製造時に平面表
示セルを切り出す際に偏光反射層を損傷することなく、
且つシール剤の幅を均一に形成し、高い接着強度を保持
して良好な表示品位を得ると共に製造歩留まりの向上を
図り、半透過型の平面表示素子の実用化を図るものであ
る。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明を図１乃至図３に示
す実施の形態を参照して説明する。図１は平面表示素子
である、半透過型の液晶表示素子１０及びこの液晶表示
素子１０を照射するバックライト３２を示す概略断面図
である。

【００１４】液晶表示素子１０は、表示基板であるアレ
イ基板１１及び反射透過基板である対向基板１２をスペ
ーサ１３を介して対向配置し、シール剤１４にて周囲を
接着して成る間隙に液晶層１６を封入し、更にアレイ基
板１１外面には光拡散フィルム１１ａ、位相差板１１
ｂ、及び偏光板１１ｃが貼り付けられ、対向基板１２外
面には位相差板１２ｂ及び偏光板１２ｃが貼り付けられ
ている。液晶表示素子１０の基板サイズは対角１０イン
チで、画素数はＳＶＧＡとする。

【００１５】アレイ基板１１は、ガラス基板１７上の図
示しない走査線及び信号線の交点近傍に液晶駆動用の薄
膜トランジスタ（以下ＴＦＴと略称する。）素子１８を
有している。ＴＦＴ素子１８の上にはＲ（赤）、Ｇ
（緑）、Ｂ（青）の着色層がストライプ状に配置されて
なるカラーフィルタ層２０が配置されている。尚１９
は、表示領域周囲をマスクする黒色フィルタである。

【００１６】カラーフィルタ層２０上であって図示しな
い走査線及び信号線で囲まれる領域には、複数の画素電
極２１がマトリクス状にパターン形成されていて、画素
電極２１はカラーフィルタ層２０に形成されるスルーホ
ール２２を介してＴＦＴ素子１８のソース電極（図示せ
ず）に接続し、ＴＦＴ素子１８により駆動される。更に
画素電極２１上には柱状のスペーサ１３が形成され、そ
の上から液晶配向膜２３が成膜されている。

【００１７】一方対向基板１２は、ガラス基板２４上に
下地配向膜２６を介し偏光反射層であるコレステリック
液晶ポリマー層２７を有しており、コレステリック液晶
ポリマー層２７上にコモン電極２８が形成され、更にコ
モン電極２８上に液晶配向膜３０が成膜されている。コ
レステリック液晶ポリマー層２７はその端面が、ガラス
基板２４の端面より１ｍｍ内側に位置する様形成されて
いる。又シール剤１４は、コレステリック液晶ポリマー
層２７上にて幅約１ｍｍで、複数の画素電極２１からな
る表示領域を囲うよう配置されている。尚シール剤１４
は、コレステリック液晶ポリマー層２７と貼り合わされ
る事から、その高さは、柱状スペーサ１３高さとカラー
フィルタ層２０厚の和に近似される５μmに形成されて
いる。

【００１８】コレステリック液晶ポリマー層２７は、下
地配向膜２６の配向方向から、厚み方向に配向方向が螺
旋状に連続的に変化するものであり、ワッカーケミカル
社製のコレステリック液晶シリコンを連続的に塗り重ね
て形成し、均一な厚みを持たせたものである。

【００１９】一般にコレステリック液晶ポリマー層は、
厚み方向上面に形成される配向方向に従い、上から入射
した光及び下から入射した光を共に左右いずれかの極性
の円偏光に分離し、一方の極性を透過し、逆極性を反射
する偏光機能を有するものである。

【００２０】ここで本実施の形態で用いるコレステリッ
ク液晶ポリマー層２７の偏光機能による半透過表示の原
理を図２に示すコレステリック液晶表示素子４８を参照
して詳述する。コレステリック液晶表示素子４８は、Ｒ
＝λ／２の位相差の液晶層（例えば９０度ＴＮ液晶）５
１を有する液晶セル５０の、バックライト６０側の反射
透過基板（図示せず）に、例えば左旋円偏光を反射し、
逆極性の右旋円偏光を透過する偏光反射ポリマー層であ
る左旋コレステリック液晶ポリマー層５２を設けたもの
である。液晶セル５０の画像表示側には、Ｒ＝λ／４の
位相差板５３ａ、偏光板５３ｂが設けられ、バックライ
ト６０側には、Ｒ＝λ／４の位相差板５４ａ、偏光板５
４ｂが設けられている。

【００２１】これによりコレステリック液晶表示素子４
８にあっては、白表示領域では、画像表示側からの光Ａ
は、 偏光板５３ｂ、位相差板５３ａを経て右旋円偏光
として液晶セル５０に入射され、液晶セル５０を通過す
る間に左旋円偏光に変換され左旋コレステリック液晶ポ
リマー層５２に照射されると、左旋円偏光を反射する左
旋コレステリック液晶ポリマー層５２で反射され、液晶
層５１を通過する間に右旋円偏光に変換され、位相差板
５３ａ、偏光板５３ｂを経て、反射光による白表示を行
う事となる。

【００２２】これと同時に、バックライト６０からの光
Ｂは、偏光板５４ｂ、位相差板５４ａを経て右旋円偏光
として左旋コレステリック液晶ポリマー層５２に照射さ
れ、左旋コレステリック液晶ポリマー層５２を透過し
て、液晶セル５０に入射され、液晶層５１を通過する間
に左旋円偏光に変換されるので、この後位相差板５３
ａ、偏光板５３ｂを経て、透過光による白表示を行う事
となる。

【００２３】一方黒表示領域では、画像表示側からの光
Ｃは、 偏光板５３ｂ、位相差板５３ａを経て右旋円偏
光として液晶セル５０に入射されるが、旋光する事無く
液晶層５１を通過し左旋コレステリック液晶ポリマー層
５２に照射される。そして光Ｃは右旋円偏光を透過する
左旋コレステリック液晶ポリマー層５２を透過し位相差
板５４ａを経て偏光板５４ｂに吸収される。

【００２４】これと同時にバックライト６０からの光Ｄ
は、偏光板５４ｂ、位相差板５４ａを経て右旋円偏光と
して右旋円偏光を透過する左旋コレステリック液晶ポリ
マー層５２を透過して、液晶セル５０に入射され、旋光
する事無く液晶層５１を通過し、位相差板５３ａを経て
偏光板５３ｂに吸収される。以上の原理によりコレステ
リック液晶ポリマー層２７は、半透過表示が成される。

【００２５】次に液晶表示素子１０の製造方法について
述べる。本実施の形態にあっては、図３に示すように第
１及び第２の大型ガラス板６２、６３上にそれぞれアレ
イ基板１１及び対向基板１２を４面づつ作成し、両大型
ガラス板６２、６３を貼り合せた後裁断し、同一の４面
の液晶セルを形成するものである。

【００２６】まずアレイ基板１１は、第１の大型ガラス
板６２上の４面のそれぞれに、通常のフォトリソグラフ
ィ工程によるパターニングを繰り返してＴＦＴ素子１８
を形成する。次いでＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の着
色層材料を順次ストライプ状にパターン形成して、カラ
ーフィルタ層２０を形成し、更に表示領域周囲に黒色フ
ィルタ１９を形成後、スパッタ法にてＩＴＯ膜を成膜
し、フォトリソグラフィ工程によってパターン形成し、
カラーフィルタ層２０上にマトリクス配列される画素電
極２１を形成後、液晶配向膜２３を塗布し、更にスペー
サ１３をパターン形成して、第１の大型ガラス板６２上
にアレイ基板１１を４面形成する。

【００２７】一方対向基板１２は、第２の大型ガラス板
６３上の４面のそれぞれに、下地配向膜２６を塗布し、
ラビング処理した後、ワッカーケミカル社製のコレステ
リック液晶シリコンを、左旋円偏光を反射し右旋円偏光
を透過する所望の厚さに達するまで連続的に均一に塗り
重ねてコレステリック液晶ポリマー層２７を成膜する。

【００２８】次に図３に示すように、対向基板１２の切
り出しサイズ、すなわち第２の大型ガラス板６３の裁断
線６４から±１mmの領域のコレステリック液晶ポリマー
層２７、下地配向膜２６を研磨除去する。更にコレステ
リック液晶ポリマー層２７上にスパッタ法にてＩＴＯ膜
を成膜しコモン電極２８をパターン形成後、この上に液
晶配向膜３０を塗布して、第２の大型ガラス板６３上に
対向基板１２を４面形成する。

【００２９】この後、各液晶配向膜２３、３０をラビン
グによりそれぞれ配向処理し、第１の大型ガラス板６２
上の各アレイ基板１１上に、シール剤１４として三井化
学社製のＸＮ−２１Ｓを出来上がりのシール幅が１．０
ｍｍとなるように印刷塗布し、且つアレイ基板１１から
コモン電極２６に電圧を印加するためのトランスファ材
（図示せず）を塗布する。更に液晶配向膜２３、３０の
それぞれのラビング方向が９０°となるよう両大型ガラ
ス板６２、６３を対向配置し、シール剤１４を加熱硬化
して貼り合せる。この時シール剤１４は、第２の大型ガ
ラス板６３の対向基板１２側にあってはコレステリック
液晶ポリマー層２７上の領域内に配置される事となる。

【００３０】次いで、裁断線６４で切り出す裁断工程を
行い、同一の４面の液晶セルを形成する。この液晶セル
を切り出す際、裁断線６４をセンターとする±１ｍｍの
領域にあってはコレステリック液晶ポリマー層２７が除
去されているのでコレステリック液晶ポリマー層２７は
裁断時の衝撃を受けない。従ってコレステリック液晶ポ
リマー層２７は、裁断時の衝撃による損傷を生じる事が
無く高い製造歩留まりにて裁断工程が実施される。

【００３１】この後、各液晶セルの間隙に液晶組成物を
封入して液晶層１６を形成後、アレイ基板１１に光拡散
フィルム１１ａ・位相差板１１ｂ付き偏光板１１ｃを貼
り付け、対向基板１２に位相差板１２ｂ付き偏光板１２
ｃを貼り付けて液晶表示素子１０を完成する。

【００３２】このようにして作製した液晶表示素子１０
の裁断品位を評価したところ、コレステリック液晶ポリ
マー層２７更にはガラス基板２４に、割れや欠けあるい
はクラックは観察されなかった。又、コレステリック液
晶ポリマー層２７の剥がれによるガラス基板２４からの
浮きも観察されなかった。更に得られた液晶表示素子１
０を高温高湿度（５０℃、８０％）条件で１０００時間
連続画像表示試験をおこない、表示品位を評価したとこ
ろ、水分の浸入を原因とする表示むらの発生や、シール
幅の不均一による剥がれ等による表示不良の発生は皆無
で有り、良好な表示画像を得られた。

【００３３】これに対し（比較例１）として、第２の大
型ガラス板６３上の裁断線６４領域のコレステリック液
晶ポリマー層を除去せずに、第２の大型ガラス板６３の
全面にコレステリック液晶ポリマー層を形成したまま両
大型ガラス板６２、６３をシール剤１４で貼り合せ、裁
断線６４に沿って４面の液晶セルを切り出す以外は、本
実施の形態と全く同様にして図４に示す液晶表示素子７
０を作製した。

【００３４】この（比較例１）の液晶表示素子の裁断品
位を評価したところ、コレステリック液晶ポリマー層７
１及びガラス基板２４にて割れや欠けあるいはクラック
が観察された。又、コレステリック液晶ポリマー層７１
の剥がれによるガラス基板２４からの浮きも観察され
た。更にこの（比較例１）の液晶表示素子７０を本実施
の形態と同様、高温高湿度（５０℃、８０％）条件で連
続画像表示試験を行い、表示品位を評価したところ、３
８０時間経過時に、コレステリック液晶ポリマー層７１
のクラックや剥がれによるガラス基板からの浮き部分を
伝い液晶表示素子７０外部から浸入した水分に起因する
と考えられる表示ムラが発生し、表示品位が著しく低下
した。

【００３５】次に（比較例２）として、第２の大型ガラ
ス板６３上のコレステリック液晶ポリマー層の除去範囲
を、両大型ガラス板６２、６３を貼り合せた時に、コレ
ステリック液晶ポリマー層７４の端面がシール剤７２の
センターに相当する位置までとした以外は、本実施の形
態と同様の図５に示す液晶表示素子７３を作製した。
尚、シール剤７２の半分はコレステリック液晶ポリマー
層７４上に形成され、半分はガラス基板２４上に形成さ
れる事から、その高さは、半分は、柱状スペーサ１３高
さとカラーフィルタ層２０厚の和に近似される５μmと
され、残り半分は、柱状スペーサ１３高さとカラーフィ
ルタ層２０厚とコレステリック液晶ポリマー層７４厚の
和に近似される２０μmとなっている。

【００３６】更に（比較例３）として、第２の大型ガラ
ス板６３上のコレステリック液晶ポリマー層の除去範囲
を、両大型ガラス板６２、６３を貼り合せた時に、コレ
ステリック液晶ポリマー層７６の端面がシール剤７７の
内周面より内側に位置するようにした以外は、本実施の
形態と同様の図６に示す液晶表示素子７８を作製した。
尚、シール剤７７はコレステリック液晶ポリマー層７６
を除去されたガラス基板２４上に形成される事から、そ
の高さは、柱状スペーサ１３高さとカラーフィルタ層２
０厚とコレステリック液晶ポリマー層７６厚の和に近似
される２０μmとなっている。

【００３７】そしてこの（比較例２）及び（比較例３）
の液晶表示素子７３、７８のシール剤７２、７７による
シールの出来映えとして、出来上がりシール幅とシール
部の接着強度を本実施の形態と比較した結果を（表１）
に示す。シール幅は、各液晶表示素子１０、７３、７８
の4辺のシール幅を、２５点／辺の合計１００点で測定
し、平均値と、標準偏差の３倍（平均±３σ）で表記し
て比較評価した。この結果標準偏差の３倍（平均±３
σ）が本実施の形態にあっては±０．１１mmであるのに
比して、（比較例２）では±０．２３mm、（比較例３）
では±０．３８mmと大きく、本実施の形態に比して、
（比較例２）あるいは（比較例３）のシール幅は不均一
となっていた。

【００３８】シール部の接着強度は、各液晶表示素子１
０、７３、７８を構成する２枚のガラス基板１７、２４
を、ガラス面に対して垂直方向に引き合い、２枚のガラ
ス基板１７、２４が引き剥がされる引っ張り加重で比較
評価した。この結果本実施の形態に比し（比較例２）で
はシール幅が全面的に広いことから、又（比較例３）で
はシール幅が不均一で部分的に広いことから、いずれも
シール幅の広い部分で凝集破壊が起こり易くなってい
て、強度が低下してしまった。

【表１】 以上の構成により、本実施の形態にあっては、消費電力
の低減を図ると共に、暗い環境での表示を可能とするた
めのコレステリック液晶ポリマー層２７を有する液晶セ
ルを、第１及び第２の大型ガラス板６２、６３を用いて
４面同時に作製後に切り出す時に、裁断線６４領域にあ
ってはコレステリック液晶ポリマー層２７が除去されて
いることから、裁断時の衝撃によりコレステリック液晶
ポリマー層２７に割れや欠けあるいはクラックを生じる
ことがなく、又剥がれによるガラス基板２４からの浮き
も無く、製造歩留まりを向上出来た。

【００３９】又、シール剤１４をコレステリック液晶ポ
リマー層２７上に形成することにより、シールの高さを
柱状スペーサ１３高さとカラーフィルタ層２０厚の和に
近似出来、シール剤塗布装置による塗布時間の短縮を得
られ又、出来上がりシール幅を約１ｍｍに設定出来ると
共にその均一化を図れた。従ってシール幅の増大により
発生される凝集破壊を防止出来、シール全面にわたり良
好な接着強度を得られ、シール不良を生じることなく高
い耐久性を保持し、長時間にわたる良好な表示品位を得
られた。

【００４０】尚本発明は上記実施の形態に限られるもの
で無く、その趣旨を変えない範囲での変更は可能であっ
て、例えば、反射透過基板端面から偏光反射層端面迄の
距離は前述の実施の形態の１ｍｍに限定されるものでは
なく、大型基板上への表示基板あるいは反射透過基板の
製造精度、両大型基板の貼り合せ精度、第２の大型基板
の切り離し領域での偏光反射層の除去精度、及び両大型
基板の切り離し精度等を考慮し、大型基板を切り離す際
の裁断線上に偏光反射層が残るおそれの無い距離であれ
ば良い。更にシール剤のシール幅も凝集破壊を生じるお
それの無い範囲で任意である。

【００４１】又、大型基板上に形成する表示基板及び反
射透過基板の面数も限定されず、単面であっても良く、
単面にて規定の平面表示素子サイズに切り出す場合に、
偏光反射層を、その端面が反射透過基板端面より内側に
なるように形成し、且つシール剤を偏光反射層上の領域
に配置すれば、切り出し時の衝撃による偏光反射層の損
傷を防止出来、且つシール幅を狭く且つ均一に形成出来
る。

【００４２】更に、偏光反射層は、例えばコレステリッ
ク液晶ポリマー層の厚さを調整することによりその配向
方向を変えて、コレステリック液晶ポリマー層の特性
を、右旋円偏光を反射する一方逆極性の左旋円偏光を透
過する機能を有するようにしても良い。又、偏光反射層
であるコレステリック液晶ポリマー層の原材料も任意で
あるし、偏光反射層としてコレステリック液晶ポリマー
層を形成する際も、均一な厚さを得られれば原材料を塗
り重ね無くても良い。尚偏光反射層の裁断線領域の除去
をレーザカットにより行う等しても良いし、偏光反射ポ
リマー層は、液晶セルのバックライト側であれば、アレ
イ基板上に設ける等しても良い。

【００４３】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、偏
光反射層を有する平面表示セルを規定サイズに切り出す
際に、切り出し時の衝撃により偏光反射層に割れ、欠
け、クラックあるいは剥がれによる基板からの浮き等の
損傷を生じるのを防止出来、製造歩留まりの向上を図れ
る。又、本発明によればシール剤のシール幅を均一且つ
狭く形成出来、ひいてはシール剤の凝集破壊を生じるこ
となく、強い接着強度を得られ、シール不良を生じるこ
となく長時間にわたり良好な表示品位を得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態である液晶表示素子及びバ
ックライトを示す概略構成図である。

【図２】本発明の実施の形態で用いるコレステリック液
晶ポリマー層の原理を示す説明図である。

【図３】本発明の実施の形態における大型ガラス板の裁
断を示す概略説明図である。

【図４】（比較例１）の液晶素子を示す概略構成図であ
る。

【図５】（比較例２）の液晶素子を示す概略構成図であ
る。

【図６】（比較例３）の液晶素子を示す概略構成図であ
る。

【図７】第１の従来例の液晶表示素子を示す概略構成図
である。

【図８】第２の従来例の液晶表示素子を示す概略構成図
である。

【図９】第３の従来例の液晶表示素子を示す概略構成図
である。

【符号の説明】

１０…液晶表示素子 １１…アレイ基板 １１ａ…光拡散フィルム １１ｂ…位相差板 １１ｃ…偏光板 １２…対向基板 １２ｂ…位相差板 １２ｃ…偏光板 １３…スペーサ １４…シール剤 １６…液晶層 １７…ガラス基板 １８…ＴＦＴ素子 ２０…カラーフィルタ層 ２１…画素電極 ２３…液晶配向膜 ２４…ガラス基板 ２６…下地配向膜 ２７…コレステリック液晶ポリマー層 ２８…コモン電極 ３０…液晶配向膜 ３２…バックライト ６２…第１の大型ガラス板 ６３…第２の大型ガラス板 ６４…裁断線

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H049 BA05 BA46 BB03 BB63 BB66 BC09 BC12 BC22 2H088 FA01 FA05 FA27 FA28 HA15 HA18 HA21 2H091 FA08X FA08Z FA14Y FB02 LA02 LA12

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくともいずれか一方に透明電極を有
   し画像表示側の表示基板及びこの表示基板に対向配置さ
   れる反射透過基板からなる一対の基板と、 端面が前記反射透過基板の端面より内側に位置するよう
   前記反射透過基板上に設けられる偏光反射層と、 この偏光反射層上にて前記一対の基板の表示領域を囲う
   よう配置されるシール剤と、 このシール剤に囲まれる領域にて前記一対の基板間に封
   入される光変調層とを具備する事を特徴とする平面表示
   素子。
2. 【請求項２】 前記偏光反射層が、第１の方向に旋回さ
   れる第１の円偏光を反射する一方、この第１の円偏光と
   逆方向に旋回される第２の円偏光を透過する偏光反射ポ
   リマー層である事を特徴とする請求項１に記載の平面表
   示素子。
3. 【請求項３】 前記表示基板及び前記反射透過基板が、
   それぞれ外面に偏光板を有する事を特徴とする請求項２
   に記載の平面表示素子。
4. 【請求項４】 前記光変調層が液晶層である事を特徴と
   する請求項１に記載の平面表示素子。
5. 【請求項５】 前記偏光反射層が、第１の方向に旋回さ
   れる第１の円偏光を反射する一方、この第１の円偏光と
   逆方向に旋回される第２の円偏光を透過するコレステリ
   ック液晶ポリマー層であり、前記表示基板及び前記反射
   透過基板が、それぞれ外面に偏光板を有する事を特徴と
   する請求項４に記載の平面表示素子。
6. 【請求項６】 少なくともいずれか一方に透明電極を有
   し画像表示側の表示基板及びこの表示基板に対向配置さ
   れる反射透過基板からなる一対の基板のシール剤で囲ま
   れた間隙に光変調層を封入してなる平面表示素子の製造
   方法において、 前記表示基板の複数面分の面積を有する第１の大型基板
   上に複数面の前記表示基板を形成する工程と、 前記反射透過基板の複数面分の面積を有する第２の大型
   基板上に、所定の間隙を隔てて偏光反射層を複数面形成
   後、前記偏光反射層上に前記反射透過基板を形成する工
   程と、 前記第１の大型基板あるいは前記第２の大型基板のいず
   れかであって前記複数の偏光反射層の形成領域上に相当
   する領域にそれぞれ前記シール剤を配置する工程と、 前記第１の大型基板及び前記第２の大型基板を前記シー
   ル剤で貼り合せる工程と、 前記所定の間隙の領域で、前記貼り合わせた第１及び第
   ２の大型基板を切り離す工程とを具備することを特徴と
   する平面表示素子の製造方法。
7. 【請求項７】 前記光変調層が液晶層からなり、前記偏
   光反射層がコレステリック液晶ポリマー層からなる事を
   特徴とする請求項６に記載の平面表示素子の製造方法。