JP2002212783A - 水中使用型希土類系永久磁石およびその製造方法 - Google Patents

水中使用型希土類系永久磁石およびその製造方法

Info

Publication number
JP2002212783A
JP2002212783A JP2001009311A JP2001009311A JP2002212783A JP 2002212783 A JP2002212783 A JP 2002212783A JP 2001009311 A JP2001009311 A JP 2001009311A JP 2001009311 A JP2001009311 A JP 2001009311A JP 2002212783 A JP2002212783 A JP 2002212783A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
permanent magnet
plating film
ions
earth permanent
plating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001009311A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4572468B2 (ja
Inventor
Kazuhide Oshima
一英 大島
Toshinobu Aranae
稔展 新苗
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Metals Ltd
Original Assignee
Sumitomo Special Metals Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Special Metals Co Ltd filed Critical Sumitomo Special Metals Co Ltd
Priority to JP2001009311A priority Critical patent/JP4572468B2/ja
Publication of JP2002212783A publication Critical patent/JP2002212783A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4572468B2 publication Critical patent/JP4572468B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F41/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H01F41/02Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
    • H01F41/0253Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing permanent magnets
    • H01F41/026Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing permanent magnets protecting methods against environmental influences, e.g. oxygen, by surface treatment

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 酸化性で腐食性の高い電解質溶液(腐食液)
に浸漬して使用しても優れた耐食性を発揮する水中使用
型希土類系永久磁石およびその製造方法を提供するこ
と。 【解決手段】 自然電極電位(対SCE飽和カロメル電
極)がCuイオンを10ppm含む水溶液中で−0.1
V以上であり、かつ、Cuイオンを100ppm含む水
溶液中で0V以上の特性を有するNiめっき被膜を磁石
表面の最表層に形成したことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、酸化性で腐食性の
高い電解質溶液(腐食液)に浸漬して使用しても優れた
耐食性を発揮する水中使用型希土類系永久磁石およびそ
の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】Nd−Fe−B系永久磁石に代表される
R−Fe−B系永久磁石などの希土類系永久磁石は、高
い磁気特性を有しているが、酸化腐食されやすい金属種
(特にR)を含むので、表面処理を行わずに使用した場
合には、わずかな酸やアルカリや水分などの影響によっ
て表面から腐食が進行して錆が発生し、それに伴って、
磁気特性の劣化やばらつきを招くことになる。さらに、
磁気回路などの装置に組み込んだ磁石に錆が発生した場
合、錆が飛散して周辺部品を汚染する恐れがある。従っ
て、これらの問題点を回避するために、従来から、該磁
石に要求される耐食性を付与すべく電気Niめっきによ
り、耐食性被膜としてのNiめっき被膜をその表面に形
成することが行われている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、井戸水汲み
上げ用や送液用の水中ポンプ、家電送液ポンプ、自動車
の熱交換器部品用のモーターなどに使用される磁石とし
ては、耐食性に優れたフェライト磁石が従来から使用さ
れてきているが、ポンプやモーターなどの小型化による
省スペース化や効率アップによる省エネルギー化などの
要請から高い磁気特性を有する希土類系永久磁石をフェ
ライト磁石に代えて使用することが検討されている。し
かしながら、希土類系永久磁石を水中で使用されるこれ
らの用途に供するためには当然のことながら大気中で使
用されるものよりも優れた耐食性が要求される。特に家
電や自動車などのエアコンエバポレーター、コンデン
サ、ラジエーター、暖房ヒーターなどの熱交換器部品用
のモーターにおいては、液循環系の構成材料、大気環
境、補給液などから不可避的に混入するCuイオン、塩
素イオン(塩分)、硫酸イオン、硝酸イオン、炭酸イオ
ンなどの不純物イオンや溶存酸素などの影響により、磁
石が使用される環境が酸化性で腐食性の高い電解質溶液
(腐食液)環境となる場合がある。不純物イオンの中で
もCuイオンや塩素イオンは腐食性が高く、とりわけ、
Cuイオンは強酸化性であるため、希土類系永久磁石表
面にNiめっき被膜を形成した場合でも、Cuイオンが
Niめっき被膜表面に置換析出して腐食の起点になった
り、局部電池を形成して深さ方向の腐食を進行させる傾
向が強く、結果的に、磁石素地に至る腐食(孔食や点
食)により磁気特性が大きく劣化してしまうなどの使用
上の問題がある。従って、希土類系永久磁石を水中で使
用する場合にはCuイオンや塩素イオンに対して如何に
して耐食性を向上させるかが重要な課題となる。そこで
本発明は、酸化性で腐食性の高い電解質溶液(腐食液)
に浸漬して使用しても優れた耐食性を発揮する水中使用
型希土類系永久磁石およびその製造方法を提供すること
を目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の点
に鑑み種々の検討を行う過程において、水溶液中におけ
るCuイオンとCuの平衡電位(Cu2+/Cu平衡電
位)に着目し、自然電極電位が該平衡電位以上という特
性を有するNiめっき被膜を希土類系永久磁石表面の最
表層に形成することにより、酸化性で腐食性の高い電解
質溶液(腐食液)に浸漬して使用しても優れた耐食性を
発揮する磁石が得られることを知見した。
【0005】本発明は、上記の知見に基づいてなされた
ものであり、本発明の水中使用型希土類系永久磁石は、
請求項1記載の通り、自然電極電位(対SCE飽和カロ
メル電極)がCuイオンを10ppm含む水溶液中で−
0.1V以上であり、かつ、Cuイオンを100ppm
含む水溶液中で0V以上の特性を有するNiめっき被膜
を磁石表面の最表層に形成したことを特徴とする。ま
た、請求項2記載の水中使用型希土類系永久磁石は、請
求項1記載の水中使用型希土類系永久磁石において、前
記Niめっき被膜が芳香族スルホン酸またはその塩を供
給源とするSを含有することを特徴とする。また、請求
項3記載の水中使用型希土類系永久磁石は、請求項2記
載の水中使用型希土類系永久磁石において、前記Niめ
っき被膜のS含有量が10ppm〜800ppmである
ことを特徴とする。また、請求項4記載の水中使用型希
土類系永久磁石は、請求項1乃至3のいずれかに記載の
水中使用型希土類系永久磁石において、前記Niめっき
被膜の平均電析結晶粒径が0.1μm以下であることを
特徴とする。また、請求項5記載の水中使用型希土類系
永久磁石は、請求項1乃至4のいずれかに記載の水中使
用型希土類系永久磁石において、磁石表面に多層めっき
被膜層を形成するに際しての最表層としての前記Niめ
っき被膜の膜厚が0.1μm〜10μmであることを特
徴とする。また、請求項6記載の水中使用型希土類系永
久磁石は、請求項5記載の水中使用型希土類系永久磁石
において、前記Niめっき被膜が下層となるNiめっき
被膜の表面に形成されていることを特徴とする。また、
請求項7記載の水中使用型希土類系永久磁石は、請求項
1乃至6のいずれかに記載の水中使用型希土類系永久磁
石において、希土類系永久磁石がR−Fe−B系永久磁
石であることを特徴とする。また、本発明の水中使用型
希土類系永久磁石の製造方法は、請求項8記載の通り、
芳香族スルホン酸またはその塩を含有するNiめっき液
を使用して電気Niめっきを行うことにより、自然電極
電位(対SCE飽和カロメル電極)がCuイオンを10
ppm含む水溶液中で−0.1V以上であり、かつ、C
uイオンを100ppm含む水溶液中で0V以上の特性
を有するNiめっき被膜を磁石表面の最表層に設けるこ
とを特徴とする。また、本発明の芳香族スルホン酸また
はその塩の希土類系永久磁石を製造するための使用方法
は、請求項9記載の通り、希土類系永久磁石表面の最表
層に形成されるNiめっき被膜の水溶液中における自然
電極電位がCuイオンとCuの平衡電位(Cu2+/C
u平衡電位)以上となるように、Niめっき液中に芳香
族スルホン酸またはその塩を含有させることを特徴とす
る。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明の水中使用型希土類系永久
磁石は、自然電極電位(対SCE飽和カロメル電極)が
Cuイオンを10ppm含む水溶液中で−0.1V以上
であり、かつ、Cuイオンを100ppm含む水溶液中
で0V以上の特性を有するNiめっき被膜を磁石表面の
最表層に形成したことを特徴とするものである。希土類
系永久磁石表面の最表層にこの特性を有するNiめっき
被膜を形成することにより、該被膜の水溶液中における
自然電極電位をCuイオンとCuの平衡電位(Cu2+
/Cu平衡電位)以上とすることで、酸化性で腐食性の
高い電解質溶液(腐食液)に浸漬して使用しても優れた
耐食性を発揮する磁石とする。なお、より優れた耐食性
を付与するためには自然電極電位(対SCE飽和カロメ
ル電極)がCuイオンを10ppm含む水溶液中で0V
以上であり、かつ、Cuイオンを100ppm含む水溶
液中で0.1V以上の特性を有するNiめっき被膜を形
成することが望ましい。
【0007】本発明において自然電極電位とは、水溶液
中においてNiめっき被膜の表面で複数の化学反応が起
きている際のNiと水溶液との間の電位を意味し、具体
的には、アノード反応としてのNiの溶解反応(Ni→
Ni2++2e)、カソード反応としてのCuイオンの
還元反応(Cu2++2e→Cu、Cu2++e
Cu)や溶存酸素の還元反応(O+2HO+4e
→4OH)などに基づく混成電位を意味する。
【0008】自然電極電位(対SCE飽和カロメル電
極)がCuイオンを10ppm含む水溶液中で−0.1
V以上であり、かつ、Cuイオンを100ppm含む水
溶液中で0V以上の特性を有するNiめっき被膜を希土
類系永久磁石表面の最表層に形成する方法としては、例
えば、芳香族スルホン酸またはその塩を含有するNiめ
っき液を使用して電気Niめっきを行うことにより、N
iめっき被膜に芳香族スルホン酸またはその塩を供給源
とするSを含有させる方法がある。
【0009】希土類系永久磁石の電気Niめっきにおい
ては、一般的なめっき浴(ワット浴など)組成単独では
緻密で光沢性に優れたNiめっき被膜を形成することが
できないことから、従来からめっき被膜中にサッカリン
に代表される芳香族スルホンイミドや芳香族スルホンア
ミドを供給源とするSを含有させてめっき被膜を緻密化
させる方法が広く採用されている。しかしながら、この
ようにしてめっき被膜中にSを含有させると、Niめっ
き被膜の表面電位が下がるので、電気化学的にめっき被
膜自身の耐食性が低下することになる。上記の現象を利
用して、希土類系永久磁石表面に多層Niめっき被膜を
形成するに際して、最表層のNiめっき被膜にのみSを
含有させたり(例えば特開平2−23603号公報を参
照)、磁石表面から上層のNiめっき被膜になるほどS
の含有量を多くして意図的に表面電位を下げる(例えば
特開平4−267305号公報や特許第2941446
号公報を参照)ことで上層のNiめっき被膜を優先的に
腐食させるようにして全体としての耐食性を向上させる
方法が提案されているが、Cuイオンなどを含む腐食液
中でこのような磁石を使用した場合、磁石表面の最表層
のNiめっき被膜の自然電極電位がCu2+/Cu平衡
電位よりも低くなってしまうことでCuイオンがNiめ
っき被膜表面に置換析出してしまい、その結果、腐食が
進行して充分な耐食性を確保することができなかった。
ところが、本発明者らの検討によって、Niめっき被膜
中に含有させるSの供給源として、広く使用されている
芳香族スルホンイミドや芳香族スルホンアミドを使用し
た場合、上記のような問題が起こるのにもかかわらず、
芳香族スルホン酸またはその塩をSの供給源として使用
した場合、Cuイオンなどを含む腐食液に浸漬して使用
しても優れた耐食性を発揮するNiめっき被膜が形成さ
れることが判明した。
【0010】ここで、芳香族スルホン酸としては、ベン
ゼンスルホン酸や1,3,6ナフタレントリスルホン酸
などが挙げられる。芳香族スルホン酸の塩としては、ナ
トリウム塩やカリウム塩などが挙げられる。
【0011】Niめっき液への芳香族スルホン酸または
その塩の添加は、形成されるNiめっき被膜のS含有量
が10ppm〜800ppmとなるように行うことが望
ましい。形成されるNiめっき被膜のS含有量が10p
pmよりも少ないとその効果が十分に発揮されない恐れ
があり、800ppmよりも多いと脆くて密着性に欠け
るNiめっき被膜となる恐れがある。
【0012】芳香族スルホン酸またはその塩の添加対象
となるNiめっき液は、特段限定されるものではなく、
電気Niめっきに使用される自体公知のもの、例えば、
ワット浴、スルファミン酸浴、塩化物浴、ほうふっ化物
浴、塩化アンモニウム浴などに使用されるものでよい。
電気Niめっき条件は個々のめっき浴に応じた自体公知
の条件を設定して行えばよい。なお、必要に応じて、電
気Niめっき後に熱処理(ベーキング)を大気中で15
0℃〜250℃にて10分〜1時間程度行ってもよい。
この処理により、形成されるNiめっき被膜の水溶液中
での自然電極電位をより貴な方向に移動させることがで
きる。
【0013】自然電極電位(対SCE飽和カロメル電
極)がCuイオンを10ppm含む水溶液中で−0.1
V以上であり、かつ、Cuイオンを100ppm含む水
溶液中で0V以上の特性を有するNiめっき被膜は、被
膜の緻密化の観点からその平均電析結晶粒径が0.1μ
m以下となるように形成することが望ましい。このよう
なめっき被膜は、Niめっき液に上記の芳香族スルホン
酸またはその塩を単独で添加したり、これを例えばポリ
エチレングリコールなどのアルコール系添加剤と組み合
わせて添加することなどで形成することができる。な
お、電析結晶粒径はFE−SEM(電界放射型走査顕微
鏡)やAFM(原子間力顕微鏡)による観察によって測
定することができる。
【0014】自然電極電位(対SCE飽和カロメル電
極)がCuイオンを10ppm含む水溶液中で−0.1
V以上であり、かつ、Cuイオンを100ppm含む水
溶液中で0V以上の特性を有するNiめっき被膜の膜厚
は、希土類系永久磁石表面にこのNiめっき被膜のみを
形成する場合は5μm〜30μmが望ましく、磁石表面
に多層めっき被膜層を形成するに際しての最表層にこの
Niめっき被膜を形成する場合は0.1μm〜10μm
が望ましい。磁石表面に多層めっき被膜層を形成するに
際しての最表層にこのNiめっき被膜を形成する場合に
おけるその下層は、電気めっきや無電解めっきなどの湿
式めっきや、気相めっきなど、自体公知の方法で形成さ
れるNiめっき被膜をはじめとする種々の金属めっき被
膜でよく、例えば、第1層が公知のNiめっき被膜で第
2層(最表層)がこのNiめっき被膜、第1層と第2層
が公知のNiめっき被膜で第3層(最表層)がこのNi
めっき被膜、第1層が公知のNiめっき被膜で第2層が
公知のCuめっき被膜で第3層(最表層)がこのNiめ
っき被膜などの形態がある。
【0015】本発明に適用される希土類系永久磁石の
内、R−Fe−B系永久磁石における希土類元素(R)
は、Nd、Pr、Dy、Ho、Tb、Smのうち少なく
とも1種、あるいはさらに、La、Ce、Gd、Er、
Eu、Tm、Yb、Lu、Yのうち少なくとも1種を含
むものが望ましい。また、通常はRのうち1種をもって
足りるが、実用上は2種以上の混合物(ミッシュメタル
やジジムなど)を入手上の便宜などの理由によって使用
することもできる。さらに、Al、Ti、V、Cr、M
n、Bi、Nb、Ta、Mo、W、Sb、Ge、Sn、
Zr、Ni、Si、Zn、Hf、Gaのうち少なくとも
1種を添加することで、保磁力や減磁曲線の角型性の改
善、製造性の改善、低価格化を図ることが可能となる。
また、Feの一部をCoで置換することによって、得ら
れる磁石の磁気特性を損なうことなしに温度特性を改善
することができる。
【0016】
【実施例】本発明を以下の実施例によってさらに詳細に
説明するが、本発明は以下の記載に何ら限定されるもの
ではない。
【0017】粉末冶金法により作製した15Nd−1D
y−7B−77Fe(原子%)の組成をもつ焼結体をア
ルゴン雰囲気中600℃で2時間時効処理を施し、厚さ
2mm、幅15mm、長さ30mmの平板状に加工し、
さらにバレル面取り加工を行って得られた焼結磁石を希
釈硝酸で酸洗清浄化した。水洗後にさらにアルカリ液で
電解洗浄し、水洗した。この磁石に対し、硫酸ニッケル
・6水和物260g/l、塩化ニッケル・6水和物40
g/l、ホウ酸40g/l、添加剤としてプロパギルア
ルコールを0.5g/lを含み、pHを4に調整したN
iめっき液を使用し、めっき浴の液温50℃、電流密度
0.2A/dm、陽極としてNi板という電気Niめ
っき条件にて、膜厚が20μmのNiめっき被膜を第1
層めっき被膜として磁石表面に形成した。次に、硫酸ニ
ッケル・6水和物300g/l、塩化ニッケル・6水和
物50g/l、ホウ酸30g/l、クエン酸ナトリウム
10g/l、表1に示した各種の濃度に調整した添加剤
を含み、pHを4に調整したNiめっき液を使用し、め
っき浴の液温50℃、電流密度0.3A/dm、陽極
としてNi板という電気Niめっき条件にて、膜厚が5
μmのNiめっき被膜を第2層(最表層)めっき被膜と
して第1層めっき被膜表面に形成した。第2層Niめっ
き被膜について、EPMA(電子線マイクロアナライザ
ー:島津製作所社製EPM−810を使用)を使用して
測定したS含有量と、AFM(原子間力顕微鏡:島津製
作所社製SPM−9500を使用)を使用して測定した
平均電析結晶粒径を表1に示す。上記のようにして得ら
れためっき磁石サンプルを水洗して乾燥させた後、これ
をCuイオン100ppm(塩化銅・2水和物で調整)
と塩素イオン200ppm(塩化ナトリウムで調整)を
含有してさらに溶存酸素が存在する50℃の腐食液1
と、Cuイオン10ppm(同)と塩素イオン200p
pm(同)を含有してさらに溶存酸素が存在する50℃
の腐食液2(いずれの腐食液もpHは6.5〜7)に浸
漬し第2層Niめっき被膜の自然電極電位を測定すると
ともにその性能を評価した。結果を表1に示す。
【0018】表1において、自然電極電位の測定は以下
のようにして行った。即ち、500mlビーカーに腐食
液を入れ液温50℃とした。めっき磁石サンプルを腐食
液に浸漬してから30分経過後、一般的な飽和塩化カリ
ウム溶液を寒天詰めしたガラス製ルギン管を用い、参照
電極をSCE飽和カロメル電極としてサンプル表面の電
位を市販のポテンショスタット装置により測定すること
により行った(自然電極電位の測定はNiめっき被膜表
面の電位が安定する腐食液浸漬20分〜30分経過後に
行うことが望ましい)。なお、この測定はビーカー内を
マグネットスターラーにて500rpmで攪拌しながら
行った。
【0019】表1における被膜健全性の評価はめっき被
膜の緻密性及び耐食性促進評価(発色反応試験)により
行った。評価方法を簡単に説明すると以下の通りであ
る。フェリシアン化カリウム3g/l、エタノール10
0ml/lおよび塩酸にてpH2に調整した試験液にめ
っき磁石サンプルを常温で浸漬して60分間観察した。
磁石素材に腐食が至ったり被膜欠陥(ピンホールなど)
が存在する場合には青色斑点が発生するので、60分浸
漬後も青色斑点の発生がない場合は○、浸漬後30分以
上で青色斑点が発生した場合は△、浸漬後10分〜20
分で青色斑点が発生した場合は×と評価した。
【0020】表1における耐食性の評価はめっき磁石サ
ンプルを液温50℃の腐食液1に1000時間浸漬し、
赤錆の発生と着磁後のフラックス量測定に基づく磁気特
性劣化を調べ、赤錆発生がなく、かつ、減磁率が1%以
下の場合は○、それ以外の場合は×と評価することで行
った。
【0021】
【表1】
【0022】表1から明らかなように、芳香族スルホン
酸やその塩を含有するNiめっき液を使用して電気Ni
めっきを行うことにより、自然電極電位(対SCE飽和
カロメル電極)がCuイオンを10ppm含む水溶液中
で−0.1V以上であり、かつ、Cuイオンを100p
pm含む水溶液中で0V以上の特性を有し、腐食液に浸
漬して使用しても優れた耐食性を発揮するNiめっき被
膜を形成することができることがわかった。一方、芳香
族スルホンイミドや芳香族スルホンアミドを含有するN
iめっき液を使用して電気Niめっきを行った場合、形
成されるNiめっき被膜は、そのS含有量が芳香族スル
ホン酸やその塩を含有するNiめっき液を使用して電気
Niめっきを行うことにより形成されるNiめっき被膜
のS含有量と同程度であっても、水溶液中での自然電極
電位が大きく低下して卑となり、腐食液に浸漬して使用
した場合、耐食性を維持できないことがわかった。この
違いは、芳香族スルホン酸やその塩をSの供給源として
使用した場合と芳香族スルホンイミドや芳香族スルホン
アミドをSの供給源として使用した場合との間での、形
成されるNiめっき被膜中でのSの供給源としてのこれ
らの添加剤の析出状態の違いや、Niめっき被膜中のS
の分布の均一性の差に基づくものであると推察される。
また、チオ尿素とプロパギルアルコールを組み合わせて
Niめっき液に添加した場合やポリエチレングリコール
をNiめっき液に添加した場合にも芳香族スルホン酸や
その塩と同様の効果が得られることがわかった。
【0023】
【発明の効果】本発明の水中使用型希土類系永久磁石
は、自然電極電位(対SCE飽和カロメル電極)がCu
イオンを10ppm含む水溶液中で−0.1V以上であ
り、かつ、Cuイオンを100ppm含む水溶液中で0
V以上の特性を有するNiめっき被膜を磁石表面の最表
層に形成したことで、酸化性で腐食性の高い電解質溶液
(腐食液)に浸漬して使用しても優れた耐食性を発揮す
る。本発明の水中使用型希土類系永久磁石の製造方法と
しては、例えば、芳香族スルホン酸またはその塩を含有
するNiめっき液を使用して電気Niめっきを行うこと
により、Niめっき被膜に芳香族スルホン酸またはその
塩を供給源とするSを含有させる方法がある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4K023 AA12 BA06 BA08 CA09 CB03 CB07 CB08 CB32 4K024 AA03 AA14 AA15 AB01 AB02 AB19 BA02 BB14 CA02 GA04 5E062 CD04 CG07

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 自然電極電位(対SCE飽和カロメル電
    極)がCuイオンを10ppm含む水溶液中で−0.1
    V以上であり、かつ、Cuイオンを100ppm含む水
    溶液中で0V以上の特性を有するNiめっき被膜を磁石
    表面の最表層に形成したことを特徴とする水中使用型希
    土類系永久磁石。
  2. 【請求項2】 前記Niめっき被膜が芳香族スルホン酸
    またはその塩を供給源とするSを含有することを特徴と
    する請求項1記載の水中使用型希土類系永久磁石。
  3. 【請求項3】 前記Niめっき被膜のS含有量が10p
    pm〜800ppmであることを特徴とする請求項2記
    載の水中使用型希土類系永久磁石。
  4. 【請求項4】 前記Niめっき被膜の平均電析結晶粒径
    が0.1μm以下であることを特徴とする請求項1乃至
    3のいずれかに記載の水中使用型希土類系永久磁石。
  5. 【請求項5】 磁石表面に多層めっき被膜層を形成する
    に際しての最表層としての前記Niめっき被膜の膜厚が
    0.1μm〜10μmであることを特徴とする請求項1
    乃至4のいずれかに記載の水中使用型希土類系永久磁
    石。
  6. 【請求項6】 前記Niめっき被膜が下層となるNiめ
    っき被膜の表面に形成されていることを特徴とする請求
    項5記載の水中使用型希土類系永久磁石。
  7. 【請求項7】 希土類系永久磁石がR−Fe−B系永久
    磁石であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか
    に記載の水中使用型希土類系永久磁石。
  8. 【請求項8】 芳香族スルホン酸またはその塩を含有す
    るNiめっき液を使用して電気Niめっきを行うことに
    より、自然電極電位(対SCE飽和カロメル電極)がC
    uイオンを10ppm含む水溶液中で−0.1V以上で
    あり、かつ、Cuイオンを100ppm含む水溶液中で
    0V以上の特性を有するNiめっき被膜を磁石表面の最
    表層に形成することを特徴とする水中使用型希土類系永
    久磁石の製造方法。
  9. 【請求項9】 希土類系永久磁石表面の最表層に形成さ
    れるNiめっき被膜の水溶液中における自然電極電位が
    CuイオンとCuの平衡電位(Cu2+/Cu平衡電
    位)以上となるように、Niめっき液中に芳香族スルホ
    ン酸またはその塩を含有させることを特徴とする芳香族
    スルホン酸またはその塩の希土類系永久磁石を製造する
    ための使用方法。
JP2001009311A 2001-01-17 2001-01-17 Cuイオンと塩素イオンを含む水中での希土類系永久磁石の使用方法 Expired - Lifetime JP4572468B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001009311A JP4572468B2 (ja) 2001-01-17 2001-01-17 Cuイオンと塩素イオンを含む水中での希土類系永久磁石の使用方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001009311A JP4572468B2 (ja) 2001-01-17 2001-01-17 Cuイオンと塩素イオンを含む水中での希土類系永久磁石の使用方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002212783A true JP2002212783A (ja) 2002-07-31
JP4572468B2 JP4572468B2 (ja) 2010-11-04

Family

ID=18876813

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001009311A Expired - Lifetime JP4572468B2 (ja) 2001-01-17 2001-01-17 Cuイオンと塩素イオンを含む水中での希土類系永久磁石の使用方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4572468B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006009137A1 (ja) * 2004-07-16 2006-01-26 Tdk Corporation 希土類磁石
JP2010177585A (ja) * 2009-01-30 2010-08-12 Tdk Corp 希土類永久磁石
US7794859B2 (en) 2005-09-30 2010-09-14 Tdk Corporation Rare-earth magnet
CN103290413A (zh) * 2012-02-22 2013-09-11 罗伯特·博世有限公司 用于Nd2Fe14B磁体的防腐涂层
CN111074305A (zh) * 2020-01-14 2020-04-28 江西理工大学 一种基于双脉冲技术在磁钢表面沉积Ni层的方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01268004A (ja) * 1988-04-19 1989-10-25 Hitachi Metals Ltd 耐食性を改善したr−tm−b系永久磁石及び製造方法
JPH04288804A (ja) * 1991-03-18 1992-10-13 Tdk Corp 永久磁石およびその製造方法
JPH0657480A (ja) * 1992-08-05 1994-03-01 Sumitomo Special Metals Co Ltd R−Fe−B系永久磁石の表面処理方法
JPH06290935A (ja) * 1992-02-20 1994-10-18 Tdk Corp 希土類磁石
JP2000204495A (ja) * 1999-01-08 2000-07-25 Okuno Chem Ind Co Ltd 電気ニッケルメッキ液

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01268004A (ja) * 1988-04-19 1989-10-25 Hitachi Metals Ltd 耐食性を改善したr−tm−b系永久磁石及び製造方法
JPH04288804A (ja) * 1991-03-18 1992-10-13 Tdk Corp 永久磁石およびその製造方法
JPH06290935A (ja) * 1992-02-20 1994-10-18 Tdk Corp 希土類磁石
JPH0657480A (ja) * 1992-08-05 1994-03-01 Sumitomo Special Metals Co Ltd R−Fe−B系永久磁石の表面処理方法
JP2000204495A (ja) * 1999-01-08 2000-07-25 Okuno Chem Ind Co Ltd 電気ニッケルメッキ液

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006009137A1 (ja) * 2004-07-16 2006-01-26 Tdk Corporation 希土類磁石
US7553561B2 (en) 2004-07-16 2009-06-30 Tdk Corporation Rare earth magnet
US7794859B2 (en) 2005-09-30 2010-09-14 Tdk Corporation Rare-earth magnet
JP2010177585A (ja) * 2009-01-30 2010-08-12 Tdk Corp 希土類永久磁石
CN103290413A (zh) * 2012-02-22 2013-09-11 罗伯特·博世有限公司 用于Nd2Fe14B磁体的防腐涂层
CN111074305A (zh) * 2020-01-14 2020-04-28 江西理工大学 一种基于双脉冲技术在磁钢表面沉积Ni层的方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4572468B2 (ja) 2010-11-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI548782B (zh) 無氰化物之酸性消光銀電鍍組成物及方法
JP4482744B2 (ja) 無電解銅めっき液、無電解銅めっき方法、配線板の製造方法
JP6062010B2 (ja) 銅(i)イオンに基づくホワイトブロンズ用のシアン化物非含有電気めっき浴
EP1300489B1 (en) Electrolytic copper-plated r-t-b magnet and plating method thereof
US7785460B2 (en) Method for producing rare earth metal-based permanent magnet having copper plating film on the surface thereof
US20090035603A1 (en) Method for producing rare earth metal-based permanent magnet having copper plating film on surface thereof
JP4572468B2 (ja) Cuイオンと塩素イオンを含む水中での希土類系永久磁石の使用方法
JP4538959B2 (ja) 希土類系永久磁石の電気Niめっき方法
JP2008285732A (ja) ニッケルめっき液及びそのニッケルめっき液を用いた電気めっき方法並びにその電気めっき方法でニッケルめっき皮膜を形成したチップ部品
JP4045530B2 (ja) R−t−b系磁石の電解銅めっき方法
US6979392B2 (en) Method for forming Re—Cr alloy film or Re-based film through electroplating process
US7135103B2 (en) Preparation of soft magnetic thin film
JP2004137533A (ja) 銅めっき被膜を表面に有する希土類系永久磁石の製造方法
JP4423377B2 (ja) 軟磁性薄膜の製造方法及び軟磁性薄膜
JP2004111516A (ja) 高耐蝕性r−t−b系希土類磁石
JP2005256045A (ja) 白金−鉄合金膜形成用のめっき液及びめっき方法
JP2003193284A (ja) 電気ニッケルめっき液
JP3614754B2 (ja) 表面処理方法および磁石の製造方法
US7368048B2 (en) Method for forming Re alloy coating film having high-Re-content through electroplating
JPWO2005100641A1 (ja) 物品への耐水素性付与方法
JP2006013399A (ja) 耐食性希土類系永久磁石およびその製造方法
JP3868380B2 (ja) めっき浴、めっき膜の製造方法および希土類磁石の製造方法
JP4539179B2 (ja) 物品の表面に形成したニッケルめっき被膜の濡れ性を改善する方法
JP2006013398A (ja) 耐食性希土類系永久磁石およびその製造方法
JPH0729734A (ja) 磁性薄膜およびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20070608

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070918

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080911

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100415

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100427

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100628

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100720

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100802

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 4572468

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130827

Year of fee payment: 3

EXPY Cancellation because of completion of term