JP2002212146A

JP2002212146A - 光学活性４−アリール−４−ヒドロキシ酪酸類の製造法

Info

Publication number: JP2002212146A
Application number: JP2001015226A
Authority: JP
Inventors: Makoto Ueda; 真上田; Akira Nishiyama; 章西山; Shigemi Kishimoto; 成己岸本; Naoaki Taoka; 直明田岡; Noriyuki Kizaki; 憲之木崎; Yoshihiko Yasohara; 良彦八十原; Kenji Inoue; 健二井上
Original assignee: Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Current assignee: Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Priority date: 2001-01-24
Filing date: 2001-01-24
Publication date: 2002-07-31

Abstract

(57)【要約】【課題】医薬中間体として有用な光学活性４−アリー
ル−４−ヒドロキシ酪酸類を安価で入手容易な原料から
簡便に製造できる方法を提供する。【解決手段】入手容易な４−アリール−４−オキソ−
２−ブテン酸誘導体のカルボニル基を、微生物由来の酵
素源存在下で立体特異的に還元して光学活性４−アリー
ル−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸誘導体を製造し、更
に遷移金属触媒存在下で水素化することにより、光学活
性４−アリール−４−ヒドロキシ酪酸誘導体を製造す
る。又は、４−アリール−４−オキソ−２−ブテン酸誘
導体のカルボニル基を、微生物由来の酵素源存在下で立
体特異的に還元するとともに、該酵素源で２重結合も還
元することにより、光学活性４−アリール−４−ヒドロ
キシ酪酸誘導体を製造する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、医薬中間体として
有用な光学活性４−アリール−４−ヒドロキシ酪酸類、
即ち光学活性４−アリール−４−ヒドロキシ−２−ブテ
ン酸誘導体、及び光学活性４−アリール−４−ヒドロキ
シ酪酸誘導体の製造法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、光学活性４−アリール−４−ヒド
ロキシ−２−ブテン酸誘導体の製造法としては、以下の
様な方法が知られている。１）ベンズアルデヒドと３−ヨードーアクリル酸メチル
を、触媒量のニッケル／コバルト錯体とキラルアミン存
在下にカップリングさせ、光学活性４−フェニル−４−
ヒドロキシ−２−ブテン酸メチルを合成する方法（Ｊ．
Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９９５，６０，５３８６−５３８
７）。２）４−フェニル−３−ブテン酸メチルを、キラルセレ
ノ化合物でヒドロキシセレノ化し、脱セレノ化すること
により、光学活性４−フェニル−４−ヒドロキシ−２−
ブテン酸メチルを製造する方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏ
ｎＡｓｙｍｍｅｔｒｙ１９９９，１０，７４７−７
５７．）。３）フェニルアセトアルデヒドとキラルなα―スルフィ
ニル酢酸メチル誘導体とカップリング、ヒドロキシル基
の２，３−転位により、光学活性４−フェニル−４−ヒ
ドロキシ−２−ブテン酸メチルを製造する方法（Ｊ．Ｏ
ｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９９１，５６，２０５０−２０５
７）。

【０００３】しかしながら、上記従来技術で製造される
４−フェニル−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル
は、いずれも０〜６０％ｅｅ．と低光学純度であり、実
用的ではない。

【０００４】また、光学活性４−アリール−４−ヒドロ
キシ酪酸誘導体の製造法としては、以下の様な方法が知
られている。４）４−（３，４−ジクロロフェニル）−４−オキソ酪
酸ｔｒｅｔ−ブチルを、化学量論量の（＋）−クロロジ
イソピノカンフィルボランで不斉還元することにより、
（Ｒ）−４−（３，４−ジクロロフェニル）−４−ヒド
ロキシ酪酸ｔｒｅｔ−ブチルを製造する方法（Ｔｅｔ
ｒａｈｅｄｒｏｎ１９９２，４８，１０２３９−１０
２４８．）。５）４−フェニル−４−オキソ酪酸メチル、及び４−
（３，４−ジメトキシフェニル）−４−オキソ酪酸メチ
ルを、触媒量のキラルなオキサゾボロリジン存在下にボ
ラン還元することにより、（Ｒ）−４−フェニル−４−
ヒドロキシ酪酸メチル、及び（Ｒ）−４−（３，４−ジ
メトキシフェニル）−４−ヒドロキシ酪酸メチルを製造
する方法（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９８７，
１０９，７９２５−７９２６．）。６）４−フェニル−４−オキソ酪酸メチルを、プロリン
から誘導されるキラルアミン存在下に塩化スズとジイソ
ブチルアルミニウムヒドリドから調製される還元剤を用
いて、不斉還元することにより、光学活性４−フェニル
−４−ヒドロキシ酪酸メチルを製造する方法（Ｃｈｅｍ
ｉｓｔｒｙＬｅｔｔ．１９８５，８１３−８１
６．）。

【０００５】しかしながら、従来技術４）〜５）におい
ては、高い光学純度を達成しているが、高価な還元剤を
使用しており、さらに基質である４−アリール−４−オ
キソ酪酸誘導体が、主に置換ベンゼンとコハク酸無水物
とのフリーデルクラフツ反応により製造されるため、特
にニトロ基やメタンスルホニルアミノ基等の電子吸引性
置換基や異なる複数の置換基を有する４−アリール−４
−ヒドロキシ酪酸誘導体の合成に適用することが困難で
あった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】上記に鑑み、本発明の
目的は、医薬中間体として有用な光学活性４−アリール
−４−ヒドロキシ酪酸類、即ち光学活性４−アリール−
４−ヒドロキシ−２−ブテン酸誘導体、及び光学活性４
−アリール−４−ヒドロキシ酪酸誘導体を安価で入手容
易な原料から簡便に製造できる方法を提供することにあ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記に鑑
み、鋭意検討を行った結果、安価で入手容易な原料から
光学活性４−アリール−４−ヒドロキシ酪酸類を簡便に
製造できる方法を開発するに至った。

【０００８】即ち、本発明は、一般式（２）；

【０００９】

【化１５】（式中、Ａｒは置換基を有しても良い炭素数４〜１５の
アリール基を表す。Ｒは水素原子、炭素数１〜１０のア
ルキル基、又は炭素数１〜１０のアラルキル基を表す。
＊は不斉炭素を表す。）において、Ａｒが置換基を有す
るフェニル基、又は置換基を有しても良いナフチル基で
ある光学活性４−アリール−４−ヒドロキシ−２−ブテ
ン酸誘導体を提供する。

【００１０】また、一般式（３）；

【００１１】

【化１６】（式中、Ａｒ、Ｒ、＊は上記に同じ。）において、Ａｒ
が４−アミノフェニル基、４−メタンスルホニルアミノ
フェニル基、又は４−ニトロフェニル基である光学活性
４−アリール−４−ヒドロキシ酪酸誘導体を提供する。

【００１２】また、一般式（１）：

【００１３】

【化１７】（式中、Ａｒ、Ｒは上記に同じ。）で表わされる４−ア
リール−４−オキソ−２−ブテン酸誘導体のカルボニル
基を立体特異的に還元する活性を有する酵素源の存在
下、前記式（１）で表される４−アリール−４−オキソ
−２−ブテン酸誘導体のカルボニル基を立体特異的に還
元するとともに、該酵素源で２重結合も還元することを
特徴とする、一般式（３）：

【００１４】

【化１８】（式中、Ａｒ、Ｒ、＊は上記に同じ。）で表される光学
活性４−アリール−４−ヒドロキシ酪酸誘導体の製造法
を提供する。また、一般式（１）：

【００１５】

【化１９】（式中、Ａｒ、Ｒは上記に同じ。）で表わされる４−ア
リール−４−オキソ−２−ブテン酸誘導体のカルボニル
基を立体特異的に還元する活性を有する酵素源の存在
下、前記式（１）で表される４−アリール−４−オキソ
−２−ブテン酸誘導体のカルボニル基を立体特異的に還
元し、一般式（２）：

【００１６】

【化２０】（式中、Ａｒ、Ｒ、＊は上記に同じ。）で表される光学
活性４−アリール−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸誘導
体を製造し、更に遷移金属触媒存在下に水素化すること
を特徴とする、一般式（３）：

【００１７】

【化２１】（式中、Ａｒ、Ｒ、＊は上記に同じ。）で表される光学
活性４−アリール−４−ヒドロキシ酪酸誘導体の製造法
を提供する。

【００１８】また、一般式（１a）：

【００１９】

【化２２】（式中、Ｒは上記に同じ。）で表わされる４−（４−ニ
トロフェニル）−４−オキソ−２−ブテン酸誘導体のカ
ルボニル基を立体特異的に還元する活性を有する酵素源
の存在下、前記式（１ａ）で表される化合物のカルボニ
ル基を立体特異的に還元することにより、一般式（２
a）：

【００２０】

【化２３】（式中、Ｒ、＊は上記に同じ。）で表される光学活性４
−（４―ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテ
ン酸誘導体を製造し、遷移金属触媒存在下に水素化する
と同時にニトロ基を還元することにより、一般式（３
ｂ）：

【００２１】

【化２４】（式中、Ｒ、＊は上記に同じ。）で表される光学活性４
−（４―アミノフェニル）−４−ヒドロキシ酪酸誘導体
を製造し、更にアミノ基を保護することを特徴とする、
一般式（３ｃ）：

【００２２】

【化２５】（式中、Ｒ、Ｐ¹、Ｐ²、＊は上記に同じ。）で表される
光学活性４−（４―Ｎ−保護アミノフェニル）−４−ヒ
ドロキシ酪酸誘導体の製造法を提供する。

【００２３】また、一般式（１a）：

【００２４】

【化２６】（式中、Ｒは上記に同じ。）で表わされる４−（４−ニ
トロフェニル）−４−オキソ−２−ブテン酸誘導体のカ
ルボニル基を立体特異的に還元する活性を有する酵素源
の存在下、前記式（１ａ）で表される化合物のカルボニ
ル基を立体特異的に還元するとともに、該酵素源で２重
結合も還元することにより、一般式（３ａ）：

【００２５】

【化２７】（式中、Ｒ、＊は上記に同じ。）で表わされる光学活性
４−（４―ニトロフェニル）―４―ヒドロキシ酪酸誘導
体を製造し、遷移金属触媒存在下にニトロ基を還元する
ことにより、一般式（３ｂ）：

【００２６】

【化２８】（式中、Ｒ、＊は上記に同じ。）で表される光学活性４
−（４―アミノフェニル）−４−ヒドロキシ酪酸誘導体
を製造し、更にアミノ基を保護することを特徴とする、
一般式（３ｃ）：

【００２７】

【化２９】（式中、Ｒ、Ｐ¹、Ｐ²、＊は上記に同じ。）で表される
光学活性４−（４―Ｎ−保護アミノフェニル）−４−ヒ
ドロキシ酪酸誘導体の製造法を提供する。

【００２８】また、不純物が混入している一般式（２
ａ）；

【００２９】

【化３０】（式中、Ｒ、＊は上記に同じ。）で表される光学活性４
−（４−ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテ
ン酸誘導体から有機溶剤を用いて、前記式（２ａ）で表
される化合物に混入している不純物を除去し、前記式
（２ａ）で表される化合物を結晶として取得することを
特徴とする、単離精製法を提供する。

【００３０】

【発明の実施の形態】以下に、本発明について詳述す
る。

【００３１】本発明で用いる４−アリール−４−オキソ
−２−ブテン酸誘導体は、一般式（１）で表される。

【００３２】

【化３１】本発明で製造される光学活性４−アリール−４−ヒドロ
キシ−２−ブテン酸誘導体は、一般式（２）で表され
る。

【００３３】

【化３２】本発明で製造される光学活性４−アリール−４−ヒドロ
キシ酪酸誘導体は、一般式（３）で表される。

【００３４】

【化３３】前記式（１）、（２）、及び（３）で表される化合物に
おいて、Ａｒは置換基を有しても良い炭素数４〜１５の
アリール基を表す。アリール基としては、例えばフェニ
ル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられ、更にピ
リジル基、フラニル基、チエニル基、ピローリル基、オ
キサゾイル基、イソオキサゾイル基、ピラゾリル基、ベ
ンゾフラニル基、ベンゾチアゾリル基、又はインドリル
基等の複素環も含まれる。好ましくは、フェニル基、ナ
フチル基、ピリジル基、又はインドリル基等であり、更
に好ましくは、フェニル基、又はナフチル基である。

【００３５】上記Ａｒの置換基としては、例えばフッ
素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン、ニトロ基、ニト
ロソ基、シアノ基、アミノ基、ヒドロキシアミノ基、炭
素数１〜１０のアルキルアミノ基、炭素数１〜１０のジ
アルキルアミノ基、Ｎ−保護アミノ基、アジド基、トリ
フルオロメチル基、カルボキシル基、ホルミル基、アセ
チル基、ベンゾイル基、ヒドロキシル基、炭素数１〜１
０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアシルオキシ基、
炭素数１〜１０のアルキルチオ基等が挙げられ、好まし
くはニトロ基、アミノ基、Ｎ−保護アミノ基、ハロゲ
ン、又は炭素数１〜１０のアルキコキシ基等であり、置
換基の数は０〜３個が挙げられる。

【００３６】ここで、Ｎ−保護アミノ基の保護基として
は例えば、プロテクティブ・グループス・イン・オーガ
ニック・シンセシス第２版（ＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅＧ
ｒｏｕｐｓｉｎＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉ
ｓ，２ｎｄＥｄ．）、テオドラダブリュ．グリーン
（ＴｈｅｏｄｏｒａＷ．Ｇｒｅｅｎ）著、ジョン・ウ
イリー・アンド・サンズ（ＪＯＨＮＷＩＬＥＹ＆
ＳＯＮＳ）出版、１９９０年の３０９頁〜３８４頁に記
載された保護基が挙げられ、具体的には、ベンジル基、
フェネチル基、トリフェニルメチル基等のアラルキル型
保護基；メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、
ｐ−トルエンスルホニル基、ｏ−ニトロベンゼンスルホ
ニル基、ｍ−ニトロベンゼンスルホニル基、ｐ−ニト
ロベンゼンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニ
ル基等のスルホニル型保護基；メトキシカルボニル基、
エトキシカルボニル基、ベンジロキシカルボニル基、ｔ
ｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等のカルバメート型保護
基；フタロイル基、アセチル基、クロロアロチル基、ト
リフルオロアセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等
のアセチル型保護基が挙げられ、好ましくはメタンスル
ホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホ
ニル基、ｏ−ニトロベンゼンスルホニル基、ｍ−ニトロ
ベンゼンスルホニル基、ｐ−ニトロベンゼンスルホニル
基、トリフルオロメタンスルホニル基等のスルホニル型
保護基が挙げられ、更に好ましくはメタンスルホニル基
である。

【００３７】また、前記式（１）、（２）、及び（３）
で表される化合物において、Ｒは水素原子、炭素数１〜
１０のアルキル基、又は炭素数７〜１０のアラルキル基
を表す。アルキル基としては、例えばメチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル
基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−
ブチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ、好ましくはメ
チル基、又はエチル基等である。アラルキル基として
は、例えばベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。

【００３８】また、前記式（２）及び（３）で表される
化合物において、＊は不斉炭素を表す。

【００３９】前記式（１）で表される４−アリール−４
−オキソ−２−ブテン酸誘導体は、安価で入手容易なア
リールメチルケトンから、特開平４−２３５１４２に記
載の方法に従って、簡便に製造することが出来る。具体
的には例えば、グリオキシル酸とメタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、又はベンジル
アルコール等のアルコールを硫酸、又はメタンスルホン
酸等の酸触媒存在下に加熱脱水することにより、グリオ
キシル酸エステル誘導体を製造し、更にアリールメチル
ケトンと加熱攪拌することにより容易に製造することが
出来る。

【００４０】なお、前記式（２）において、Ａｒが置換
基を有するフェニル基、又は置換基を有しても良いナフ
チル基である光学活性４−アリール−４−ヒドロキシ−
２−ブテン酸誘導体は、文献に未記載の新規化合物であ
る。ここで、置換基として好ましくは、ニトロ基、Ｎ−
保護アミノ基、ハロゲン、炭素数１〜１０のアルコキシ
基である。また、Ａｒとして更に好ましくは、４−ニト
ロフェニル基、４−メタンスルホニルアミノフェニル
基、３，４−ジクロロフェニル基、３，４−ジメトキシ
フェニル基、ナフタレン−１−イル基が挙げられる。ま
た、Ｒとして好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基で
あり、更に好ましくはメチル基、又はエチル基である。

【００４１】また、前記式（２）で表される化合物の絶
対配置として、好ましくはＳ体である。

【００４２】前記式（３）において、Ａｒが４−アミノ
フェニル基、又は４−ニトロフェニル基である光学活性
４−アリール−４−ヒドロキシ酪酸誘導体は、文献に未
記載の新規化合物である。ここで、Ｒとして好ましくは
炭素数１〜１０のアルキル基であり、更に好ましくはメ
チル基、又はエチル基である。また、前記式（３）で表
される化合物の絶対配置として、好ましくはＳ体であ
る。

【００４３】次に、４−（４−ニトロフェニル）−４−
オキソ−２−ブテン酸誘導体は、一般式（１a）で表さ
れる。

【００４４】

【化３４】光学活性４−（４−ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ
−２−ブテン酸誘導体は、一般式（２a）で表される。

【００４５】

【化３５】光学活性４−（４−ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ
酪酸誘導体は、一般式（３a）で表される。

【００４６】

【化３６】光学活性４−（４−アミノフェニル）−４−ヒドロキシ
酪酸誘導体は、一般式（３ｂ）で表される。

【００４７】

【化３７】光学活性４−（４−Ｎ−保護アミノフェニル）−４−ヒ
ドロキシ酪酸誘導体は、一般式（３ｃ）で表される。

【００４８】

【化３８】前記式（１ａ）、（２ａ）、（３ａ）、（３ｂ）、及び
（３ｃ）で表される化合物において、Ｒは水素原子、炭
素数１〜１０のアルキル基、又は炭素数７〜１０のアラ
ルキル基を表す。アルキル基としては、例えばメチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、
ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、
ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ、好
ましくはメチル基、又はエチル基等である。アラルキル
基としては、例えばベンジル基、フェネチル基等が挙げ
られる。

【００４９】また、前記式（３ｃ）で表される化合物に
おいて、Ｐ¹とＰ²は、独立して水素原子、又はアミノ基
の保護基を表し、Ｐ¹とＰ²が一緒になってフタルロイル
基であってもよく、Ｐ¹とＰ²が共に水素原子であること
はない。ここで、アミノ基の保護基としては、例えば、
プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シ
ンセシス第２版（ＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅＧｒｏｕｐｓ
ｉｎＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓ，２ｎｄ
Ｅｄ．）、テオドラダブリュ．グリーン（Ｔｈｅｏ
ｄｏｒａＷ．Ｇｒｅｅｎ）著、ジョン・ウイリー・ア
ンド・サンズ（ＪＯＨＮＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ）
出版、１９９０年の３０９頁〜３８４頁に記載された保
護基が挙げられ、具体的には、ベンジル基、フェネチル
基、トリフェニルメチル基等のアラルキル型保護基；メ
タンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエ
ンスルホニル基、ｏ−ニトロベンゼンスルホニル基、
ｍ−ニトロベンゼンスルホニル基、ｐ−ニトロベンゼン
スルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基等のス
ルホニル型保護基；メトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基、ベンジロキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブ
トキシカルボニル基等のカルバメート型保護基；フタロ
イル基、アセチル基、クロロアロチル基、トリフルオロ
アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等のアセチル
型保護基が挙げられ、好ましくはメタンスルホニル基、
ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、ｏ
−ニトロベンゼンスルホニル基、ｍ−ニトロベンゼンス
ルホニル基、ｐ−ニトロベンゼンスルホニル基、トリフ
ルオロメタンスルホニル基等のスルホニル型保護基が挙
げられ、更に好ましくはメタンスルホニル基である。

【００５０】また、前記式（２ａ）、（３ａ）、（３
ｂ）、及び（３ｃ）で表される化合物において、＊は不
斉炭素を表す。

【００５１】次に、本発明における光学活性４−アリー
ル−４−ヒドロキシ酪酸類、即ち光学活性４−アリール
−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸誘導体、及び光学活性
４−アリール−４−ヒドロキシ酪酸誘導体の製造法につ
いて説明する。

【００５２】まず、本発明における光学活性４−アリー
ル−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸誘導体、又は光学活
性４−アリール−４−ヒドロキシ酪酸誘導体の製造法に
ついて説明する。

【００５３】前記式（１）で表される光学活性４−アリ
ール−４−オキソ−２−ブテン酸誘導体のカルボニル基
を立体特異的に還元する活性を有する酵素源の存在下、
前記式（１）のカルボニル基を立体特異的に還元するこ
とにより、前記式（２）で表される光学活性４−アリー
ル−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸誘導体を製造するこ
とが出来る。また、前記式（１）で表される光学活性４
−アリール−４−オキソ−２−ブテン酸誘導体のカルボ
ニル基を立体特異的に還元する活性を有する酵素源の存
在下、前述式（１）のカルボニル基を立体特異的に還元
するとともに、該酵素源で２重結合も還元することによ
り、前記式（３）で表される光学活性４−アリール−４
−ヒドロキシ酪酸誘導体を製造することが出来る。

【００５４】本発明の還元工程において、４−アリール
−４−オキソ−２−ブテン酸誘導体を立体特異的に還元
する活性を有する酵素源としては、キャンディダ属、ク
リプトコッカス属、デバリオマイセス属、デッカラ属、
クリベロマイセス属、コマガタエラ属、ロッデロマイセ
ス属、メッチニコビア属、オガタエア属、ピキア属、ロ
ードスポリディウム属、ロードトルラ属、サッカロマイ
セス属、サッカロマイコプシス属、スポロボロマイセス
属、トルラスポラ属、トリゴノプシス属、ウィリオプシ
ス属、ヤマダザイマ属、チゴサッカロマイセス属、セル
ロモナス属、エンテロバクター属、エンセニア属、マイ
クロバクテリウム属、マイクロコッカス属、ノカルディ
ア属、ロードコッカス属、セラチア属に属する微生物の
菌体、培養物またはそれらの処理物が挙げられ、好まし
くは、キャンディダ・アルビカンス、キャンディダ・カ
ンタレリー、キャンディダ・グラエボーサ、キャンディ
ダ・インターメディア、キャンディダ・マグノリエ、キ
ャンディダ・マルトサ、キャンディダ・マリス、キャン
ディダ・モギー、キャンディダ・オレオフィラ、キャン
ディダ・テヌイス、キャンディダ・トロピカリス、キャ
ンディダ・バーサチリス、クリプトコッカス・アルビダ
ス・バー・アルビダス、デバリオマイセス・カルソニ
ー、デバリオマイセス・シュードポリモルファス、デッ
カラ・アノマラ、クリベロマイセス・サーモトレラン
ス、コマガタエラ・パストリス、ロッデロマイセス・エ
ロンギスポラス、メッチニコビア・ビカスピダータ、メ
ッチニコビア・プルケリマ、オガタエア・ミヌタ・バー
・ミヌタ、オガタエア・ポリモルファ、ピキア・アノマ
ラ、ピキア・ボビス、ピキア・シルビコーラ、ピキア・
トリアングラリス、ロードスポリディウム・スファエロ
カルファム、ロードスポリディウム・トルロイデス、ロ
ードトルラ・アラウカリアエ、ロードトルラ・グルチニ
ス、ロードトルラ・グラミニス、サッカロマイセス・ダ
イレンシス、サッカロマイコプシス・マランガ、スポロ
ボロマイセス・パラロセウス、スポロボロマイセス・サ
ルモニコーラ、トルラスポラ・デルブルエッキー、トル
ラスポラ・グロボサ、トリゴノプシス・バリアビリス、
ウィリオプシス・サターナス・バー・ムラキー、ウィリ
オプシス・サターナス・バー・サターナス、ウィリオプ
シス・サターナス・バー・スアベオレンス、ヤマダザイ
マ・ファリノサ、ヤマダザイマ・ハプロフィラ、ヤロヴ
ィア・リポリティカ、チゴサッカロマイセス・バイリ
ー、チゴサッカロマイセス・ルキシー、セルロモナス・
スピーシーズ、セルロモナス・フィミ、エンテロバクタ
ー・アエロジェネス、エンセニア・カニクルリア、マイ
クロバクテリウム・アルボレッセンス、マイクロバクテ
リウム・インペリアレ、マイクロコッカス・ルテアス、
ノカルディア・グロベルーラ、ロードコッカス・エリス
ロポリス、ロードコッカス・ロードクロウス、セラチア
・プロテアマクランス・サブスピーシーズ・プロテアマ
クランスからなる群から選ばれた微生物の菌体、培養物
またはそれらの処理物である。

【００５５】ここで、「微生物の培養物」とは、菌体を
含む培養液あるいは培養菌体を意味し、「その処理物」
とは、例えば、粗抽出液、凍結乾燥微生物体、アセトン
乾燥微生物体、またはそれら菌体の磨砕物等を意味す
る。さらにそれらは、酵素自体あるいは菌体のまま公知
の手段で固定化されて用いることが出来る。固定化は、
当業者に周知の方法（例えば架橋法、物理的吸着法、包
括法等）で行うことが出来る。

【００５６】なお、上記微生物は野生株であっても変異
株であってもよい。さらに、酵素源として、細胞融合ま
たは遺伝子操作等の遺伝学的手法により誘導される形質
転換細胞も用いることが出来る。形質転換細胞は、例え
ば、該カルボニル還元酵素を単離及び／または精製して
酵素のアミノ酸配列の一部または全部を決定する工程、
このアミノ酸配列に基づいて酵素をコードするＤＮＡ配
列を得る工程、このＤＮＡを宿主細胞に導入して形質転
換細胞を得る工程、及びこの形質転換細胞を培養して、
本酵素を得る工程を含有する方法により得ることが出来
る（ＷＯ９８−３５０２５）。

【００５７】形質転換細胞として、カルボニル還元酵素
と該酵素が依存する補酵素を再生する能力を有する酵素
の遺伝子を同一宿主細胞内に導入することによって、還
元酵素及びこの酵素が依存する補酵素を再生する能力を
有する酵素を生産できる形質転換細胞を育種し、その培
養物またはその処理物等を用いて上記と同様の反応を行
えば、別途に補酵素の再生に必要な酵素源を調整し添加
する必要がないため、より低コストで光学活性４−アリ
ール−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸誘導体、または光
学活性４−アリール−４−ヒドロキシ酪酸誘導体を製造
することができる。

【００５８】このような形質転換細胞としては、例え
ば、上記カルボニル還元酵素をコードするＤＮＡ、及び
該酵素が依存する補酵素を再生する能力を有する酵素を
コードするＤＮＡを有するプラスミドで形質転換された
形質転換細胞が挙げられ、好ましくは前記補酵素を再生
する能力を有する酵素がグルコース脱水素酵素である上
記形質転換細胞、前記グルコース脱水素酵素が、バシラ
ス・メガテリウム（Ｂａｃｉｌｌｕｓｍｅｇａｔｅｒ
ｉｕｍ）由来である上記形質転換細胞、前記プラスミド
がｐＮＴＣＲＧである上記形質転換細胞、形質転換細胞
が大腸菌である上記形質転換細胞等が挙げられ、より好
ましくは、ＥｓｃｈｅｒｉｃｈｉａｃｏｌｉＨＢ１
０１（ｐＮＴＣＲＧ）受託番号ＦＥＲＭＢＰ-６８９
８が挙げられる。

【００５９】酵素源として用いる微生物の為の培養培地
は、その微生物が増殖し得るものである限り特に限定さ
れない。例えば、炭素源として、グルコース、シューク
ロース等の糖質、エタノール、グリセロール等のアルコ
ール類、オレイン酸、ステアリン酸等の脂肪酸及びその
エステル類、菜種油、大豆油等の油類、窒素源として、
硫酸アンモニウム、硝酸ナトリウム、ペプトン、カザミ
ノ酸、コーンスティープリカー、ふすま、酵母エキスな
ど、無機塩類として、硫酸マグネシウム、塩化ナトリウ
ム、炭酸カルシウム、燐酸１水素カリウム、燐酸２水素
カリウムなど、他の栄養源として、麦芽エキス、肉エキ
ス等を含有する通常の液体培地が使用することが出来
る。培養は好気的に行い、通常、培養時間は１〜５日間
程度、培地のｐＨ３〜９、培養温度は１０〜５０℃で行
うことが出来る。

【００６０】本発明の還元工程において、反応は適当な
溶媒中に基質の４−アリール−４−オキソ−２−ブテン
酸誘導体、補酵素ＮＡＤ（Ｐ）及び上記微生物の培養物
またはその処理物等を添加し、ｐＨ調整下攪拌する事に
より行うことが出来る。反応条件は用いる酵素、微生物
またはその処理物、基質濃度等によって異なるが、通
常、基質濃度は約０．１〜９０重量％、補酵素ＮＡＤ
（Ｐ）は基質に対して０．０００１〜１モル％、反応温
度は１０〜５０℃、反応ｐＨ４〜９、反応時間は１〜７
２時間で行うことが出来る。基質は一括、または連続的
に添加して行うことが出来る。反応はバッチ方式または
連続方式で行うことが出来る。

【００６１】本還元工程においては、一般に用いられる
補酵素ＮＡＤ（Ｐ）Ｈ再生系を組み合わせて用いる事に
より、高価な補酵素の使用量を大幅に減少させることが
出来る。代表的な補酵素再生系としては、グルコース脱
水素酵素及びグルコースを用いる方法、又は、ギ酸脱水
素酵素とギ酸を用いる方法等が挙げられる。

【００６２】還元反応で生じた光学活性４−アリール−
４−ヒドロキシ−２−ブテン酸誘導体、または光学活性
４−アリール−４−ヒドロキシ酪酸誘導体は、常法によ
り精製することが出来る。例えば、（Ｓ）−４−（４−
ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチ
ルは、微生物等を用いた場合には必要に応じ遠心分離、
濾過等の処理を施して菌体等の懸濁物を除去し、次いで
酢酸エチル、トルエン等の有機溶媒で抽出し、有機溶媒
を減圧下に除去し、そして減圧蒸留またはクロマトグラ
フィー等の処理を行う事により、精製することが出来
る。

【００６３】次に、本発明における光学活性４−アリー
ル−４−ヒドロキシ酪酸誘導体の製造法について説明す
る。

【００６４】前記式（２）で表される光学活性４−アリ
ール−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸誘導体は、遷移金
属触媒存在下に水素化することにより、前記式（３）で
表される光学活性４−アリール−４−ヒドロキシ酪酸誘
導体に変換することが出来る。上記遷移金属触媒として
は、例えば白金、ロジウム、パラジウム、ニッケル、ル
テニウム、イリジウム、又はレニウム触媒であり、好ま
しくは、白金、ロジウム、パラジウム、ルテニウム、又
はニッケル触媒が挙げられる。

【００６５】具体的には白金、ロジウム、パラジウム、
ニッケル、ルテニウム、イリジウム、又はレニウム等の
金属、合金、若しくはその塩化物、臭化物、ヨウ化物、
硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、酸化物、硫化物、硼化物、
水酸化物、シアン化物、アセチルアセトネート、酢酸
塩、又はトリフルオロ酢酸塩等が挙げられ、更に具体的
には、白金金属、白金ブラック、白金（ＩＩ）アセチル
アセトネート、白金（ＩＩ）ビス（ベンゾニトリル）ジ
クロリド、白金（ＩＩ）ブロミド、白金（ＩＶ）ブロミ
ド、白金（ＩＩ）クロリド、白金（ＩＶ）クロリド、白
金（ＩＩ）シアニド、白金（ＩＩ）ヨージド、白金イリ
ジウム合金、酸化（ＩＶ）白金、酸化（ＩＶ）白金水和
物、白金ロジウム合金、白金パラジウム合金、白金（Ｉ
Ｖ）スルフィド、ロジウム金属、ロジウムブラック、ロ
ジウム（ＩＩ）酢酸塩、ロジウム（ＩＩ）アセチルアセ
テート、ロジウム（ＩＩ）ブロミド水和物、ロジウム
（ＩＩＩ）クロリド、ロジウム（ＩＩＩ）クロリド水和
物、ロジウム（ＩＩ）ヘキサフルオロブタン酸塩、ロジ
ウム（ＩＩ）ヘキサン酸塩、ロジウム（ＩＩＩ）ヨージ
ド水和物、硝酸ロジウム（ＩＩＩ）、酸化ロジウム（Ｉ
ＩＩ）、酸化ロジウム（ＩＩＩ）水和物、リン酸ロジウ
ム（ＩＩＩ）、硫酸ロジウム（ＩＩＩ）、ロジウム（Ｉ
Ｉ）トリフルオロ酢酸塩、パラジウム金属、パラジウム
ブラック、パラジウム（ＩＩ）酢酸塩、パラジウム（Ｉ
Ｉ）アセチルアセトネート、パラジウム（ＩＩ）ビス
（ベンゾニトリル）ジクロリド、パラジウム（ＩＩ）ブ
ロミド、パラジウム（ＩＩ）クロリド、パラジウム（Ｉ
Ｉ）シアニド、水酸化パラジウム（ＩＩ）、パラジウム
（ＩＩ）ヨージド、硝酸パラジウム（ＩＩ）、硝酸パラ
ジウム（ＩＩ）水和物、酸化パラジウム（ＩＩ）、酸化
パラジウム（ＩＩ）水和物、パラジウム（ＩＩ）プロピ
オン酸塩、硫酸パラジウム（ＩＩ）、パラジウム（Ｉ
Ｉ）スルフィド、パラジウム（ＩＩ）トリフルオロ酢酸
塩、ニッケル金属、ラネーニッケル、硼化ニッケル、酸
化ニッケル（ＩＩ）、ルテニウム金属、ルテニウムブラ
ック、ルテニウム（ＩＩＩ）アセチルアセトネート、ル
テニウム（ＩＩＩ）ブロミド、ルテニウム（ＩＩＩ）ブ
ロミド水和物、ルテニウム（ＩＩＩ）クロリド、ルテニ
ウム（ＩＩＩ）クロリド水和物、ルテニウム（ＩＩＩ）
ヨージド、ルテニウム（ＩＩＩ）ニトロシルクロリド水
和物、硝酸ルテニウム（ＩＩＩ）ニトロシル、酸化ルテ
ニウム（ＩＶ）、酸化ルテニウム（ＩＶ）水和物、イリ
ジウム金属、イリジウム（ＩＩＩ）アセチルアセトネー
ト、イリジウム（ＩＩＩ）ブロミド水和物、イリジウム
（ＩＩＩ）クロリド、イリジウム（ＩＩＩ）クロリド塩
酸塩、イリジウム（ＩＶ）クロリド水和物、酸化イリジ
ウム（ＩＶ）、酸化イリジウム（ＩＶ）水和物、レニウ
ム金属、レニウム（ＩＩＩ）クロリド、レニウム（Ｖ）
クロリド、レニウム（ＩＶ）フルオリド、酸化レニウム
（ＩＶ）、酸化レニウム（ＶＩ）、酸化レニウム（ＶＩ
Ｉ）、レニウム（ＶＩＩ）スルフィド等が挙げられる。
好ましくは、酸化白金、酸化パラジウム、プラチナブラ
ック、パラジウムブラック、ラネーニッケル、硼化ニッ
ケル等が挙げられる。

【００６６】また、これらの触媒は、触媒活性、再現
性、保存安定性、操作性、リサイクルの観点から、粉末
担体に分散させた触媒を用いることがより好ましい。上
記粉末担体としては、例えば、炭素、アルミナ、シリカ
ーアルミナ、シリカ、炭酸バリウム、硫酸バリウム、炭
酸カルシウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、ゼオラ
イト、又はアスベスト等が挙げられ、好ましくは、これ
ら粉末担体に担持された白金、ロジウム、ルテニウム、
又はパラジウムの金属、若しくはその硫化物、又は水酸
化物等である。

【００６７】具体的には、例えば、白金−炭素、白金
（ＩＩ）スルフィド−炭素、白金−アルミナ、白金−シ
リカーアルミナ、白金−シリカ、白金−炭酸バリウム、
白金−硫酸バリウム、白金−炭酸カルシウム、白金−酸
化チタン、白金−酸化ジルコニウム、白金−ゼオライ
ト、白金−アスベスト、白金ロジウム合金−炭素、白金
パラジウム合金−炭素、ロジウム−炭素、ロジウム−ア
ルミナ、ロジウム−シリカ、ロジウム−炭酸カルシウ
ム、パラジウム−炭素、水酸化パラジウム（ＩＩ）−炭
素、パラジウム（ＩＩ）スルフィド−炭素、パラジウム
−アルミナ、パラジウム−シリカーアルミナ、パラジウ
ム−シリカ、パラジウム−炭酸バリウム、パラジウム−
硫酸バリウム、パラジウム−炭酸カルシウム、パラジウ
ム−酸化チタン、パラジウム−酸化ジルコニウム、パラ
ジウム−ゼオライト、パラジウム−アスベスト、ルテニ
ウム−炭素、ルテニウム−アルミナ、ルテニウム−シリ
カ、ルテニウム−炭酸カルシウム、イリジウム−炭素、
イリジウム−アルミナ、イリジウム−シリカ、イリジウ
ム−炭酸カルシウム等が挙げられ、好ましくは、パラジ
ウム−炭素、ロジウム−炭素、白金−炭素、ルテニウム
−炭素、パラジウム−アルミナ、白金−アルミナ、パラ
ジウム−炭酸カルシウム、白金−炭酸カルシウム、パラ
ジウム−硫酸バリウム、白金−硫酸バリウム等が挙げら
れる。

【００６８】これら遷移金属触媒は、単独で用いてもよ
く、２種以上併用してもよい。上記遷移金属触媒の使用
量としては、光学活性４−アリール−４−ヒドロキシ−
２−ブテン酸誘導体に対し、１倍モル量以下、好ましく
は０．５倍モル量以下、更に好ましくは０．２倍モル量
以下である。

【００６９】本反応の反応温度としては、好ましくは−
２０〜１００℃、更に好ましくは０〜５０℃である。本
反応における水素圧は、好ましくは５０気圧以下であ
り、更に好ましくは１０気圧以下である。

【００７０】本反応に使用できる反応溶媒は、例えば、
水；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−
ブタノール等のアルコール系溶媒；ヘキサン、ヘプタ
ン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶剤；ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、
メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジメトキシエタン等
のエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢
酸ｔｅｒｔ−ブチル等のエステル系溶媒；アセトン、メ
チルエチルケトン等のケトン系溶媒；塩化メチレン、ク
ロロホルム、１，１，１−トリクロロエタン等のハロゲ
ン系溶媒；ジメチルホルムアミド、アセトアミド、ホル
ムアミド、アセトニトリル、プロピオニトリル等の含窒
素系溶媒；ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリド
ン、ヘキサメチルリン酸トリアミド等の非プロトン性極
性溶媒等が挙げられる。上記有機溶媒は、単独で用いて
もよく、２種以上を併用してもよい。好ましくは、メタ
ノール、エタノール、トルエン、酢酸エチル、アセト
ン、塩化メチレン、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド等である。

【００７１】本反応においては、副反応として、例えば
４位の水酸基の水素化分解による４−アリール酪酸誘導
体の副生、及び、４位の炭素上のアリル水素が転位する
ことによる４−アリール−４−オキソ酪酸誘導体の副生
等が生じることから、反応を効率よく実施するために
は、これら副反応を最小限に抑制するのが好ましい。本
発明者らは鋭意検討の結果、本反応を触媒量の塩基の存
在下で実施することにより、これら副反応を最小限に抑
制出来ることを見出した。

【００７２】ここで、塩基としては、例えば水酸化リチ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カル
シウム、水酸化マグネシウム、炭酸リチウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸カルシウ
ム、炭酸マグネシウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸水素カリウム等の無機塩基；リチウムメ
トキシド、リチウムエトキシド、ナトリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ−ブト
キシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カ
リウムｔｅｒｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド；ア
ンモニア、メチルアミン、ブチルアミン、アニリン、ジ
メチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミ
ン、Ｎ−メチルアニリン、ピペリジン、モルホリン、ト
リエチルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルモ
ルホリン、ピリジン、２−メチルピリジン、３−メチル
ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、イミダゾ
ール等のアミン類が挙げられる。好ましくは、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナトリ
ウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、アンモニア、
トリエチルアミン、又はピリジン等であり、更に好まし
くはトリエチルアミン、又はピリジンである。

【００７３】上記塩基の使用量としては、光学活性４−
アリール−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸誘導体に対
し、好ましくは０．００１〜１０倍モル量であり、更に
好ましくは０．０１〜２倍モル量である。

【００７４】本反応の後処理としては、例えば反応液か
ら生成物を取得するための一般的な後処理を行えばよ
い。例えば、反応終了後の反応液に水を加え、一般的な
抽出溶媒、例えば酢酸エチル、ジエチルエーテル、塩化
メチレン、トルエン、ヘキサン等を用いて抽出操作を行
う。得られた抽出液から、減圧加熱等の操作により反応
溶媒及び抽出溶媒を留去すると、目的物が得られる。ま
た、反応溶剤に不溶の遷移金属触媒を用いる場合は、減
圧濾過、加圧濾過、又は遠心分離等の操作により遷移金
属触媒を濾別した後、減圧加熱等の操作により反応溶媒
を留去して目的物を得ることが出来、更に溶液のまま次
工程に用いることも出来る。

【００７５】前記式（３）で表される光学活性４−アリ
ール−４−ヒドロキシ酪酸誘導体の中でも、特に前記式
（３ｃ）で表される光学活性４−（Ｎ−保護アミノフェ
ニル）−４−ヒドロキシ酪酸誘導体は医薬品等の中間体
として有用な化合物であることから、その製造法につい
て、下記に示した式に従い順を追って説明する。

【００７６】

【化３９】まず、工程１は、前記式（１ａ）で表される光学活性４
−（４−ニトロフェニル）−４−オキソ−２−ブテン酸
誘導体のカルボニル基を立体特異的に還元する活性を有
する酵素源の存在下、前記式（１ａ）で表される化合物
のカルボニル基を立体特異的に還元することにより、前
記式（２ａ）で表わされる光学活性４−（４―ニトロフ
ェニル）―４―ヒドロキシ−２−ブテン酸誘導体を製造
する工程である。本工程の反応条件については、前記式
（１）で表される光学活性４−アリール−４−オキソ−
２−ブテン酸誘導体から、前記式（３）で表される光学
活性４−アリール−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸誘導
体に変換する工程で行った詳細説明と同じである。

【００７７】次に、工程２は、前記式（２ａ）で表わさ
れる光学活性４−（４―ニトロフェニル）―４―ヒドロ
キシ−２−ブテン酸誘導体を、遷移金属触媒存在下に水
素化すると同時に、ニトロ基を還元することにより、前
記式（３ｂ）で表される光学活性４−（４−アミノフェ
ニル）−４−ヒドロキシ酪酸誘導体を製造する工程であ
る。本反応において、使用できる遷移金属触媒とその使
用量、反応温度、水素圧、使用できる反応溶剤、使用で
きる塩基とその使用量、後処理法等は、前記式（２）で
表わされる光学活性４−アリール―４―ヒドロキシ−２
−ブテン酸誘導体から、前記式（３）で表される光学活
性４−アリール−４−ヒドロキシ酪酸誘導体に変換する
工程で行った詳細説明と同じである。

【００７８】次に、工程３は、前記式（３ｂ）で表され
る光学活性４−（４−アミノフェニル）−４−ヒドロキ
シ酪酸誘導体のアミノ基を保護することにより、前記式
（３ｃ）で表される光学活性４−（４−Ｎ−保護アミノ
フェニル）−４−ヒドロキシ酪酸誘導体を製造する工程
である。ここで、アミノ基の保護基としては特に限定さ
れず、保護基に応じて条件を設定する。例えば、プロテ
クティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシ
ス第２版（ＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅＧｒｏｕｐｓｉｎ
ＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓ，２ｎｄＥ
ｄ．）、テオドラダブリュ．グリーン（Ｔｈｅｏｄｏｒ
ａＷ．Ｇｒｅｅｎ）著、ジョン・ウイリー・アンド・
サンズ（ＪＯＨＮＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ）出版、
１９９０年の３０９頁〜３８４頁に記載された方法を用
いて行うことが出来る。

【００７９】具体的には、例えば前記式（３ｂ）で表さ
れる光学活性４−（４−アミノフェニル）−４−ヒドロ
キシ酪酸誘導体を、塩基存在下に保護試薬で処理するこ
とにより、アミノ基を保護することが出来る。

【００８０】前記塩基としては、例えば水酸化リチウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシ
ウム、水酸化マグネシウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸カルシウム、
炭酸マグネシウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム等の無機塩基、又はトリエチル
アミン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルモルホリ
ン、ピリジン、２−メチルピリジン、３−メチルピリジ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、イミダゾール等
の３級アミン類が挙げられる。好ましくは、トリエチル
アミン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルモルホリ
ン、ピリジン、２−メチルピリジン、３−メチルピリジ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、イミダゾール等
の３級アミン類であり、更に好ましくはトリエチルアミ
ン、又はピリジンである。前記塩基の使用量としては、
光学活性４−（４−アミノフェニル）−４−ヒドロキシ
酪酸誘導体に対し、好ましくは０．８〜１０倍モル量で
あり、更に好ましくは１〜４倍モル量である。

【００８１】前記保護試薬としては、ベンジルクロライ
ド、ベンジルブロマイド、ｐ−クロロベンジルクロライ
ド、ｐ−メトキシベンジルクロライド、ｐ−ニトロベン
ジルクロライド、フェネチルクロライド、トリフェニル
メチルクロライド等のアラルキル化剤；メタンスルホニ
ルクロライド、ベンゼンスルホニルクロライド、ｐ−ト
ルエンスルホニルクロライド、ｏ−ニトロベンゼンスル
ホニルクロライド、ｍ−ニトロベンゼンスルホニルクロ
ライド、ｐ−ニトロベンゼンスルホニルクロライド、無
水トリフルオロメタンスルホン酸等のスルホン化剤；メ
トキシカルボニルクロライド、エトキシカルボニルクロ
ライド、ベンジロキシカルボニルクロライド、ジｔｅｒ
ｔ−ブトキシジカーボネート等のカルバメート化剤；ア
セチルクロライド、アセチルブロマイド、プロピオニル
クロライド、ピバロイルクロライド、ベンゾイルクロラ
イド、ｐ−ニトロベンゾイルクロライド、クロロアセチ
ルクロライド、トリクロロアセチルクロライド、無水酢
酸、無水トリフルオロ酢酸、無水安息香酸、無水フタル
酸等のアシル化剤等が挙げられる。好ましくは、メタン
スルホニクロライド、ベンゼンスルホニルクロライド、
ｐ−トルエンスルホニルクロライド、ｏ−ニトロベンゼ
ンスルホニルクロライド、ｍ−ニトロベンゼンスルホ
ニルクロライド、ｐ−ニトロベンゼンスルホニルクロラ
イド、無水トリフルオロメタンスルホン酸等のスルホン
化剤であり、更に好ましくはメタンスルホニルクロライ
ドである。

【００８２】前記保護試薬の使用量としては、光学活性
４−（４−アミノフェニル）−４−ヒドロキシ酪酸誘導
体に対し、好ましくは０．８〜１０倍モル量であり、更
に好ましくは１〜３倍モル量である。

【００８３】本反応の反応温度としては、好ましくは−
２０〜８０℃、更に好ましくは−１０〜４０℃である。

【００８４】本反応に使用できる反応溶媒は、例えば、
ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素
系溶剤；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，
４−ジオキサン、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジ
メトキシエタン等のエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸
ｎ−プロピル、酢酸ｔｅｒｔ−ブチル等のエステル系溶
媒；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒；
塩化メチレン、クロロホルム、１，１，１−トリクロロ
エタン等のハロゲン系溶媒；ジメチルホルムアミド、ア
セトアミド、ホルムアミド、アセトニトリル、プロピオ
ニトリル等の含窒素系溶媒；ジメチルスルホキシド、Ｎ
−メチルピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド等
の非プロトン性極性溶媒等が挙げられる。上記有機溶媒
は、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
好ましくは、トルエン、酢酸エチル、アセトン、塩化メ
チレン、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジメチルホルムアミド等である。

【００８５】本反応の後処理としては、例えば反応液か
ら生成物を取得するための一般的な後処理を行えばよ
い。例えば、反応終了後の反応液に水、又は塩酸、硫
酸、塩化アンモニウム等の酸水溶液を加え、一般的な抽
出溶媒、例えば酢酸エチル、ジエチルエーテル、塩化メ
チレン、トルエン、ヘキサン等を用いて抽出操作を行
う。得られた抽出液から、減圧加熱等の操作により反応
溶媒及び抽出溶媒を留去すると、目的物が得られる。さ
らに目的物は、カラムクロマトグラフィー、分別蒸留、
晶析等の操作により精製を行い、純度を高めることが出
来る。

【００８６】次に、工程４は、前記式（１ａ）で表され
る光学活性４−（４−ニトロフェニル）−４−オキソ−
２−ブテン酸誘導体のカルボニル基を立体特異的に還元
する活性を有する酵素源の存在下、前記式（１ａ）で表
される化合物のカルボニル基を立体特異的に還元すると
ともに、該酵素源で２重結合も還元することにより、前
記式（３ａ）で表わされる光学活性４−（４―ニトロフ
ェニル）―４―ヒドロキシ酪酸誘導体を製造する工程で
ある。本工程の反応条件については、前記式（１）で表
される光学活性４−アリール−４−オキソ−２−ブテン
酸誘導体から、前記式（３）で表される光学活性４−ア
リール−４−ヒドロキシ酪酸誘導体に変換する工程で行
った詳細説明と同じである。

【００８７】次に、工程５は、前記式（３ａ）で表わさ
れる光学活性４−（４―ニトロフェニル）―４―ヒドロ
キシ酪酸誘導体を、遷移金属触媒存在下にニトロ基を還
元することにより、前記式（３ｂ）で表される光学活性
４−（４−アミノフェニル）−４−ヒドロキシ酪酸誘導
体を製造する工程である。

【００８８】本工程において、使用できる遷移金属触媒
とその使用量、反応温度、水素圧、使用できる反応溶
剤、使用できる塩基とその使用量、後処理法等は、前記
式（２）で表わされる光学活性４−アリール―４―ヒド
ロキシ−２−ブテン酸誘導体から、前記式（３）で表さ
れる光学活性４−アリール−４−ヒドロキシ酪酸誘導体
に変換する工程で行った詳細説明と同じである。

【００８９】次に、本発明における光学活性４−（４−
ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸誘導
体の単離精製法について説明する。

【００９０】前記式（１ａ）で表される４−（４−ニト
ロフェニル）−４−オキソ−２−ブテン酸誘導体のカル
ボニル基を、微生物由来の酵素源存在下に立体特異的に
還元することにより製造される、前記式（２ａ）で表さ
れる光学活性４−（４−ニトロフェニル）−４−ヒドロ
キシ−２−ブテン酸誘導体は、製造過程における分解や
副反応のため、各種不純物を含有しやすい。とりわけ、
立体選択性の低い酵素源による還元反応では、前記化合
物（２ａ）の鏡像異性体（エナンチオマー）を多量に副
生する傾向があり、高品質の目的物を得るためには、こ
れらの不純物を除去する必要がある。一般に、構造の類
似した不純物（類縁物質）の除去は難しく、これらの不
純物を除去して高品質の目的物を得るためには、優れた
精製、単離方法が必要である。本発明者らは鋭意検討の
結果、不純物を含む前記化合物（２ａ）を有機溶剤から
晶析することにより、これら不純物を除去し、高純度の
目的物を効率よく取得できる方法を開発するに至った。

【００９１】本工程において使用される有機溶剤として
は、湿結晶からの溶剤の乾燥や溶剤の回収再利用（蒸留
回収）等の観点から、比較的沸点の低い有機溶剤が好ま
しく、このような有機溶剤としては、一般には、１気圧
以下で沸点が約１００℃以下のものが挙げられる。

【００９２】前記有機溶剤としては特に限定されず、具
体的には例えば、蟻酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｔｒｅｔ
−ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、
γ―ブチロラクトン等のエステル系溶剤；ジエチルエー
テル、ジイソプロピルエーテル、ジｎ−ブチルエーテ
ル、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチル
エーテル、テトラヒドロフランアセトン等のエーテル系
溶剤；メチルエチルケトン、ジエチルケトン、シクロペ
ンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；アセト
ニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶剤、塩化
メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロ
ロエタン、１，１，１―トリクロロエタン等のハロゲン
系溶剤；メタノール、エタノール、ｉｓｏ−プロパノー
ル、ｎ−ブタノール等のアルコール系溶剤等が挙げられ
る。好ましくは蟻酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｔｒｅｔ−ブ
チル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ―
ブチロラクトン等のエステル系溶剤であり、更に溶剤コ
ストや取り扱い性の総合的観点から、酢酸エチル等が好
ましい。これらは単独で用いてもよく、２種以上併用し
てもよい。

【００９３】前記有機溶剤を使用すると、前記化合物
（２ａ）の高い精製効果、即ち、各種不純物、とりわけ
前記化合物（２ａ）の鏡像異性体（エナンチオマー）の
効果的な除去が達成される。

【００９４】前記有機溶剤の使用量は、前記化合物（２
ａ）の晶析操作終了時において、取得物の流動性が維持
できる量であるのが好ましく、例えば、前記化合物（２
ａ）に対し、好ましくは約３０倍重量以下であり、更に
好ましくは約１〜３０倍重量である。

【００９５】本発明において、前記化合物（２ａ）の晶
析の際には、冷却晶析、濃縮晶析等の晶析方法、又は、
これらの晶析方法を組み合わせて用いることが出来る。
なお、前記濃縮晶析は、前記有機溶剤以外の他の溶剤か
らなる溶液を前記有機溶剤からなる溶液に置換していく
晶析法であってもよい。また、晶析に際しては、種晶を
添加してもよい。

【００９６】本発明において、晶析に際しては前記有機
溶剤の他に、前記化合物（２ａ）の収量、処理濃度、液
性状、及び得られる結晶の物性のうち、少なくとも１つ
を改善するために、更に補助的な溶剤を用いることがで
きる。前記補助的な溶剤は、必要に応じて、前記有機溶
剤に添加してもよく、予め補助的な溶剤と前記有機溶剤
の混合溶液に前記化合物（２ａ）を加熱溶解させ、冷却
晶析することもできる。

【００９７】前記補助的な溶剤としては、特に限定され
ず、例えばペンタン、石油エーテル、ネオペンタン、ヘ
キサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ヘプ
タン、シクロヘプタン、オクタン、イソオクタン、ノナ
ン、デカン等の脂肪族炭化水素系溶剤、又はベンゼン、
トルエン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレ
ン、エチルベンゼン、クメン、ｎ−ブチルベンゼン、
１，３，５−メシチレン等の芳香族炭化水素系溶剤が挙
げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上併用
してもよい。なかでも、湿体からの溶剤の乾燥、溶剤の
回収再利用（蒸留回収）、溶剤コストや取り扱い性等の
総合的観点から、ヘキサン又はトルエン等が好ましい。
さらに、前記有機溶剤が水と相溶性のある溶剤、具体的
にはメタノール、エタノール、アセトン、又はアセトニ
トリル等である場合は、前記補助的な溶剤として水が使
用できる。

【００９８】前記補助的な溶剤の適切な使用量は、簡単
な実験により設定できる。前記補助的な溶剤の使用量
は、収量や結晶スラリーの流動性の観点から、前記化合
物（２ａ）の晶析操作が終了した時点において、前記有
機溶剤と前記補助的な溶剤の容量比（前記有機溶剤／補
助的な溶剤）が、２０以下となる量が好ましい。より好
ましくは、１０以下となる量が用いられる。

【００９９】本発明の精製、単離方法は、室温付近で実
施することができる。必要に応じて、加温又は冷却をす
ることができ、例えば、約６０℃以下、通常は−３０℃
〜５０℃で行う。

【０１００】このようにして得られた前記化合物（２
ａ）は、固液分離を行い、必要に応じて、更にケーキ洗
浄し、乾燥することもできる。前記固液分離の方法とし
ては特に限定されず、例えば、加圧濾過、減圧濾過、遠
心分離等の方法が挙げられる。前記乾燥の方法として
は、例えば、熱分解や溶融を避けて約６０℃以下で、減
圧乾燥（真空乾燥）するのが好ましい。

【０１０１】

【実施例】以下に実施例を挙げて、本発明を更に具体的
に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるもの
ではない。

【０１０２】実施例１４−（４−ニトロフェニル）−
４−オキソ−２−ブテン酸メチルの製造グリオキシル酸水溶液（３８．５重量％）３００．０ｇ
（１．５６ｍｏｌ）を、減圧加熱下に約７０重量％まで
濃縮した。ここに、メタノール４００ｍＬ、トルエン３
００ｍＬ、濃硫酸３．０６ｇ（３１．２ｍｍｏｌ）を加
え、３時間加熱還流させ、得られた溶液を減圧濃縮する
と、黄色油状物１９４．６ｇが得られた。ここに、トル
エン５００ｍＬ、ｐ−ニトロアセトフェノン１４７．１
ｇ（８９１ｍｍｏｌ）を加え、１３０℃、８時間共沸脱
水させながら、加熱還流させた。得られる黒色溶液を、
水５００ｍＬ、重曹１０．４８ｇ、酢酸エチル１Ｌから
なる溶液に加えて抽出し、更に有機層を水５００ｍＬで
洗浄後、活性炭５ｇで攪拌処理を行った。次に、活性炭
を濾別後、約１／３容量まで減圧濃縮すると結晶が析出
したため、さらにヘキサン５００ｍＬを加えて、５℃、
１時間攪拌した。減圧濾過にて結晶を濾別し、冷トルエ
ン／ヘキサン溶液で洗浄、４０℃で真空乾燥することに
より、４−（４−ニトロフェニル）−４−オキソ−２−
ブテン酸メチルを黄色結晶（１３４．９ｇ）として得た
（単離収率：６４％）。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，４００ＭＨｚ／ｐｐｍ）；
３．８８（３Ｈ，ｓ）、６．９８（１Ｈ，ｄ）、７．８
９（１Ｈ，ｄ）、８．１５（２Ｈ，ｄ）、８．３７（２
Ｈ，ｄ）。

【０１０３】実施例２４−（４−ニトロフェニル）−
４−オキソ−２−ブテン酸エチルの製造グリオキシル酸水溶液（３８．５重量％）４４．９ｇ
（２２７．１ｍｍｏｌ）を、減圧加熱下に約７０重量％
まで濃縮した。ここに、エタノール６０ｍＬ、トルエン
５０ｍＬ、濃硫酸２９７ｍｇ（３．０３ｍｍｏｌ）を加
え、３時間加熱還流させた。得られた溶液を減圧濃縮す
ると、黄色油状物が得られ、ここに、トルエン５０ｍ
Ｌ、ｐ−ニトロアセトフェノン２５．０ｇ（１５１．４
ｍｍｏｌ）を加えて、１３０℃、８時間共沸脱水させな
がら、加熱還流させた。得られる黒色溶液を、水１００
ｍＬ、トルエン２００ｍＬからなる溶液に加えて抽出を
行い、更に有機層を飽和重曹水１００ｍＬで２回、水１
００ｍＬ、飽和食塩水１００ｍＬで順次洗浄後、活性炭
３．８ｇで攪拌処理を行った。活性炭を濾別後、減圧濃
縮することにより黄色固体４９．１３ｇが得られ、ここ
に酢酸エチル１５ｍＬを加えて、７０℃で加温溶解させ
た。更にヘキサン４５ｍＬを加えて、室温まで冷却する
ことにより結晶が析出、減圧濾過にて結晶を濾別し、酢
酸エチル／ヘキサン＝１／５溶液２５ｍＬで洗浄、４０
℃で真空乾燥することにより、黄色固体２３．０ｇを得
た。さらにこの固体を酢酸エチル２０ｍＬ、ヘキサン２
０ｍＬからなる溶液から再結晶することにより、４−
（４−ニトロフェニル）−４−オキソ−２−ブテン酸エ
チルを淡黄色結晶（１１．７３ｇ）として得た（単離収
率：３１％）。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，４００ＭＨｚ／ｐｐｍ）；
１．３７（３Ｈ，ｔ）、４．３２（２Ｈ，ｑ）、６．９
４（１Ｈ，ｄ）、７．８７（１Ｈ，ｄ）、８．１５（２
Ｈ，ｄ）、８．３７（２Ｈ，ｄ）。

【０１０４】実施例３４−（４−ニトロフェニル）−
４−オキソ−２−ブテン酸イソプロピルの製造グリオキシル酸水溶液（３８．５重量％）６０．０ｇ
（３０３．７ｍｍｏｌ）を、減圧加熱下に約７０重量％
まで濃縮した。ここに、イソプロパノール９０ｍＬ、ト
ルエン６９ｍＬ、濃硫酸６２０ｍｇ（６．３３ｍｍｏ
ｌ）を加え、３時間加熱還流させた。得られた溶液を減
圧濃縮すると、黄色油状物（４０．５２ｇ）が得られ、
ここにトルエン５０ｍＬ、ｐ−ニトロアセトフェノン２
５．０ｇ（１５１．４ｍｍｏｌ）を加え、１３０℃、８
時間共沸脱水させながら、加熱還流させた。得られる黒
色溶液を、水１５０ｍＬ、トルエン２００ｍＬからなる
溶液に加えて抽出を行い、更に有機層を飽和重曹水１０
０ｍＬで２回、飽和食塩水１００ｍＬで順次洗浄後、活
性炭３．５ｇで攪拌処理を行った。活性炭を濾別後、減
圧濃縮することにより褐色固体５２．３６ｇが得られ、
ここにトルエン２０ｍＬを加えて、６０℃で加温溶解さ
せた。室温まで冷却することにより、結晶が析出し、減
圧濾過にて結晶を濾別し、冷トルエン４０ｍＬで洗浄、
４０℃で真空乾燥することにより、４−（４−ニトロフ
ェニル）−４−オキソ−２−ブテン酸イソプロピルを淡
黄色固結晶（１１．１２ｇ）として得た（単離収率：４
０％）。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，４００ＭＨｚ／ｐｐｍ）；
１．３４（６Ｈ，ｄ）、５．１７（１Ｈ，ｍ）、６．９
２（１Ｈ，ｄ）、７．８２（１Ｈ，ｄ）、８．１５（２
Ｈ，ｄ）、８．３７（２Ｈ，ｄ）。

【０１０５】実施例４４−（４−メタンスルホニルア
ミノフェニル）−４−オキソ−２−ブテン酸メチルの製
造グリオキシル酸メチル・メチルヘミアセタール／トルエ
ン溶液（７７．６重量％）３０．９ｇ（２００ｍｍｏ
ｌ）、濃硫酸１９６ｍｇ（２ｍｍｏｌ）、トルエン６０
ｍＬ、４−（メタンスルホニルアミノ）アセトフェノン
２１．３ｇ（１００ｍｍｏｌ）からなる溶液を、１３０
℃、８時間共沸脱水させながら、加熱還流させた。得ら
れる黒色溶液を、飽和重曹水溶液１００ｍＬ、酢酸エチ
ル５００ｍＬからなる溶液に加え、５０℃に加温後、抽
出した。更に有機層を飽和食塩水１００ｍＬで洗浄し、
活性炭５ｇ、無水硫酸マグネシウムで攪拌処理を行っ
た。活性炭、無水硫酸マグネシウムを濾別後、約１／２
容量まで減圧濃縮することにより結晶が析出、さらにト
ルエン２００ｍＬを加えて、５℃、１時間攪拌した。減
圧濾過にて結晶を濾別し、冷トルエン／ヘキサン溶液で
洗浄、４０℃で真空乾燥することにより、４−（４−メ
タンスルホニルアミノフェニル）−４−オキソ−２−ブ
テン酸メチルを黄色結晶（１３．４４ｇ）として得た
（単離収率：４６％）。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ，４００ＭＨｚ／ｐｐｍ）；
３．０５（３Ｈ，ｓ）、３．８５（３Ｈ，ｓ）、６．８
６（１Ｈ，ｄ）、７．３９（２Ｈ，ｄ）、７．９０（１
Ｈ，ｄ）、７．９７（２Ｈ，ｄ）、１０．０６（１Ｈ，
ｂｓ）。

【０１０６】実施例５４−（３，４−ジクロロフェニ
ル）−４−オキソ−２−ブテン酸エチルの製造グリオキシル酸エチル・エチルヘミアセタール／トルエ
ン溶液４．２８ｇ（３９．７ｍｍｏｌ）、濃硫酸５２ｍ
ｇ（０．５３ｍｍｏｌ）、トルエン２０ｍＬ、３，４−
ジクロロアセトフェノン４．２８ｇ（２６．４５ｍｍｏ
ｌ）からなる溶液を、１３０℃、８時間共沸脱水させな
がら、加熱還流させた。得られる黒色溶液を、水５０ｍ
Ｌ、トルエン１００ｍＬからなる溶液に加え、抽出し
た。有機層は更に飽和重曹水５０ｍＬで２回、飽和食塩
水５０ｍＬで順次洗浄し、活性炭７２０ｍｇ、無水硫酸
ナトリウムで攪拌処理を行った。活性炭、無水硫酸ナト
リウムを濾別後、減圧濃縮することにより、黄色固体
（９．２８ｇ）を得た。シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（酢酸エチル／ヘキサン＝１／７）にて精製し、
黄色固体（６．２８ｇ）を得た。さらにこの固体を酢酸
エチル５ｍＬ、ヘキサン２５ｍＬから再結晶することに
より、４−（３，４−ジクロロフェニル）−４−オキソ
−２−ブテン酸エチルを淡黄色固体（３．４９ｇ）とし
て得た（単離収率：４８％）。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，４００ＭＨｚ／ｐｐｍ）；
１．３６（３Ｈ，ｔ）、４．３１（２Ｈ，ｑ）、６．９
１（１Ｈ，ｄ）、７．６０（１Ｈ，ｄ）、７．８１（１
Ｈ，ｄ）、７．８３（１Ｈ，ｄ）、８．０８（１Ｈ，
ｓ）。

【０１０７】実施例６４−（３，４−ジメトキシフェ
ニル）−４−オキソ−２−ブテン酸メチルの製造グリオキシル酸メチル・メチルヘミアセタール／トルエ
ン溶液（７７．６重量％）３０．９ｇ（２００ｍｍｏ
ｌ）、濃硫酸１９６ｍｇ（２ｍｍｏｌ）、トルエン６０
ｍＬ、３，４−ジメトキシアセトフェノン１８．０ｇ
（１００ｍｍｏｌ）からなる溶液を、１３０℃、８時間
共沸脱水させながら、加熱還流させた。得られる黒色溶
液を、飽和重曹水溶液１００ｍＬ、酢酸エチル３００ｍ
Ｌからなる溶液に加え、抽出した。有機層は更に飽和食
塩水１００ｍＬで洗浄し、活性炭５ｇ、無水硫酸マグネ
シウムで攪拌処理を行った。活性炭、無水硫酸マグネシ
ウムを濾別後、減圧下に濃縮することにより、黒色油状
物４０．８ｇを得た。シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（酢酸エチル／ヘキサン＝１／３）にて精製するこ
とにより、４−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−
オキソ−２−ブテン酸メチルを黄色固体（１０．６０
ｇ）として得た（単離収率：５４％）。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，４００ＭＨｚ／ｐｐｍ）；
３．８５（３Ｈ，ｓ）、３．９６（３Ｈ，ｓ）、３．９
８（３Ｈ，ｓ）、６．８９（１Ｈ，ｄ）、６．９３（１
Ｈ，ｄ）、７．５８（１Ｈ，ｓ）、７．６７（１Ｈ，
ｄ）、７．９５（１Ｈ，ｄ）。

【０１０８】実施例７４−（ナフタレン−１−イル）
−４−オキソ−２−ブテン酸メチルの製造グリオキシル酸メチル・メチルヘミアセタール／トルエ
ン溶液（７７．６重量％）３０．９ｇ（２００ｍｍｏ
ｌ）、濃硫酸１９６ｍｇ（２ｍｍｏｌ）、トルエン６０
ｍＬ、１−アセトナフトン１７．０ｇ（１００ｍｍｏ
ｌ）からなる溶液を、１３０℃、８時間共沸脱水させな
がら、加熱還流させた。得られる黒色溶液を、飽和重曹
水溶液５０ｍＬ、酢酸エチル２００ｍＬからなる溶液に
加え、抽出した。有機層は更に飽和食塩水５０ｍＬで洗
浄し、活性炭５ｇ、無水硫酸マグネシウムで攪拌処理を
行った。活性炭、無水硫酸マグネシウムを濾別後、減圧
下に濃縮することにより、濃赤色油状物を得た。シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン
＝１／３）にて精製することにより、４−（ナフタレン
−１−イル）−４−オキソ−２−ブテン酸メチルを黄色
油状物（２８．９４ｇ）として得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，４００ＭＨｚ／ｐｐｍ）；
３．８４（３Ｈ，ｓ）、６．８０（１Ｈ，ｄ）、７．５
１−７．６３（３Ｈ，ｍ）、７．７６（１Ｈ，ｄ）、
７．８６（１Ｈ，ｄ）、７．９０（１Ｈ，ｄ）、８．０
４（１Ｈ，ｄ）、８．５３（１Ｈ，ｄ）。

【０１０９】実施例８光学活性４−（４−ニトロフェ
ニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル及び、光
学活性４−（４−ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ酪
酸メチルの製造（酵母）表１及び表２に示した微生物を、試験管中で滅
菌した５ｍＬの半合成培地Ａ（グルコース４０ｇ、イ
ーストエキス３ｇ、（ＮＨ₄）₂ＨＰＯ₄ ６．５ｇ、Ｋ
Ｈ ₂ＰＯ₄ １ｇ、ＭｇＳ０₄・７Ｈ₂Ｏ０．８ｇ、ＺｎＳ
０₄・７Ｈ₂Ｏ０.０６ｇ、ＦｅＳ０₄・７Ｈ₂Ｏ０．０
９ｇ、ＣｕＳ０₄・５Ｈ₂Ｏ０．００５ｇ、ＭｎＳ０ ₄・
４Ｈ₂Ｏ０.０１ｇ、ＮａＣｌ０.１ｇ、水１Ｌ）に接
種し、２８℃で３〜４日間振盪培養した。培養終了後、
遠心分離により培養液より菌体を回収し、０．１Ｍカ
リウム-リン酸緩衝液（ｐＨ６．５）２．５ｍｌにて懸
濁した。菌体懸濁液０．５ｍｌに、実施例１で製造した
４−（４−ニトロフェニル）−４−オキソ-２−ブテン
酸メチル２．５ｍｇ、グルコース１０ｍｇを添加し、２
８℃で１日間振とうした。反応終了後、反応液を酢酸エ
チル２ｍｌで抽出し、有機層をアセトニトリルで０．０
２％になるように希釈し、高速液体クロマトグラフィー
（ＨＰＬＣ）で生成した４−（４−ニトロフェニル）−
４−ヒドロキシ酪酸メチル（表中、ＭＮＨＢ）および４
−（４−ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテ
ン酸メチル（表中、ＭＮＨＣ）の収率、光学純度、及び
立体配置を調べた結果を表１及び表２に示した。ＨＰＬＣ分析条件（変換率）カラム：野村化学ＤｅｖｅｌｏｓｉｌＯＤＳ−ＨＧ−
３４．６φ×１５０ｍｍ、溶離液：アセトニトリル／
０．１％リン酸水溶液＝１／１、流速：０．５ｍＬ／ｍ
ｉｎ．、温度：２５℃、検出器：ＵＶ２１０nm ＨＰＬＣ分析条件（光学純度）カラム：ダイセルＣＨＩＲＡＬＰＡＫＯＤ４．６φ
×２５０mm、溶離液：ヘキサン／イソプロパノール＝９
５／５、流速：１ｍＬ／ｍｉｎ．、カラム温度：２５
℃、検出器：ＵＶ２３０nm

【０１１０】

【表１】

【０１１１】

【表２】

【０１１２】（細菌）表３に示した微生物を、試験管中
で滅菌した５ｍＬの半合成培地Ｂ（グリセリン１５ｇ、
プロエキス１０ｇ、イーストエキス５ｇ、水１Ｌ、ｐ
Ｈ７．０）に接種し、２８℃で３〜４日間振盪培養し
た。培養終了後、遠心分離により培養液より菌体を回収
し、０．１Ｍカリウム-リン酸緩衝液（ｐＨ６．５）
２．５ｍｌにて懸濁した。菌体懸濁液０．５ｍｌに実施
例１で製造した４−（４−ニトロフェニル）−４−オキ
ソ-２−ブテン酸メチル２．５ｍｇ、グルコース１０ｍ
ｇを添加し、２８℃で１日間振とうした。反応終了後、
上記と同様に変換率、光学純度および立体配置を調べた
結果を表３に示した。

【０１１３】

【表３】

【０１１４】実施例９（Ｓ）−４−（４−ニトロフェ
ニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチルの製造ＥｓｃｈｅｒｉｃｈｉａｃｏｌｉＨＢ１０１（ｐＮ
ＴＣＲＧ）受託番号ＦＥＲＭＢＰ-６８９８を、５０
０ｍＬ容坂口フラスコ中で滅菌した１００ｍＬの半合成
培地Ｃ（グリセリン１５ｇ、イーストエキス３ｇ、Ｎａ
₂ＨＰＯ₄６ｇ、Ｋ₂ＨＰＯ₄３ｇ、ＮａＣｌ２ｇ、ＭｇＳ
Ｏ₄・７Ｈ₂Ｏ０．５ｇ、水１Ｌ、ｐＨ＝７．２）に接種
し、３７℃で２８時間振とう培養した。得られた培養液
５０mlにグルコース５．７５ｇ、ＮＡＤＰ２．８ｍ
ｇ、エマルゲン８１０（花王社製）５０μｌを添加し、
実施例１で製造した４−（４−ニトロフェニル）−４−
オキソ-２−ブテン酸メチル０．５ｇを１時間おきに１
０回分割添加した。５ＮＮａＯＨにてｐＨ＝６．５に
調整しつつ３０℃で攪拌、２０時間反応を行った。反応
終了後、反応液を２倍量の酢酸エチルで抽出、減圧濃縮
し、黄色の固体として（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ-２−ブテン酸メチルの粗結晶
４．９２ｇ（光学純度８０．５％ｅｅ．）を得た。こ
の固体をＨＰＬＣにて分析（分析条件カラム：野村化
学ＤｅｖｅｌｏｓｉｌＯＤＳ−ＨＧ−３４．６φ×１
５０ｍｍ、溶離液：アセトニトリル／０．１％リン酸水
溶液＝１／１、流速：０．５ｍＬ／ｍｉｎ．、温度：２
５℃、検出器：ＵＶ２１０nm）した結果、(Ｓ）−４−
（４−ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ-２−ブテン
酸メチルの反応収率は８０．３％であった。

【０１１５】実施例１０（Ｓ）−４−（４−ニトロフ
ェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸エチルの製造ＥｓｃｈｅｒｉｃｈｉａｃｏｌｉＨＢ１０１（ｐＮ
ＴＣＲＧ）受託番号ＦＥＲＭＢＰ-６８９８を、５０
０ｍＬ容坂口フラスコ中で滅菌した１００ｍＬの前記半
合成培地Ｃに接種し、３７℃で２８時間振とう培養し
た。得られた培養液１００ｍＬにグルコース１０．８
ｇ、ＮＡＤＰ１１．２ｍｇ、エマルゲン８１０（花王社
製）１００μｌを添加し、実施例２で製造した４−（４
−ニトロフェニル）−４−オキソ-２−ブテン酸エチル
１０．０ｇを添加した。５ＮＮａＯＨにてｐＨ＝６．
５に調整しつつ３０℃で攪拌、４２時間反応を行った。
反応終了後、反応液を２倍量の酢酸エチルで抽出、減圧
濃縮し、黄色の固体として（Ｓ）−４−（４−ニトロフ
ェニル）−４−ヒドロキシ-２−ブテン酸エチルの粗結
晶９．２６ｇを得た（光学純度８３．７％ｅｅ．）。こ
の粗結晶８．５１ｇを酢酸エチル／ヘキサン＝１／１
からなる溶媒２０ｍｌを用いて冷却晶析を行い、薄黄色
の結晶として(Ｓ）−４−（４−ニトロフェニル）−４
−ヒドロキシ-２−ブテン酸エチル３．３４ｇ（単離収
率３２．８％、光学純度１００％ｅｅ．）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，４００ＭＨｚ／ｐｐｍ）：
１．２９（ｔ,３Ｈ）,２．３７（ｄ,１Ｈ）,４．１８−
４．２３（ｍ,２Ｈ）,５．５０（ｂｓ,１Ｈ）,６．１８
（ｄ,１Ｈ）,７．１２（ｄｄ,１Ｈ）,７．５６（ｄ,２
Ｈ）,８．２４（ｄ,２Ｈ）。 [α]_D ²⁵＝−４４．３（ｃ＝１．６２,ＣＨＣｌ₃）。

【０１１６】実施例１１（Ｓ）−４−（４−ニトロフ
ェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸イソプロピル
の製造ＥｓｃｈｅｒｉｃｈｉａｃｏｌｉＨＢ１０１（ｐＮ
ＴＣＲＧ）受託番号ＦＥＲＭＢＰ-６８９８を、５０
０ｍＬ容坂口フラスコ中で滅菌した１００ｍＬの前記半
合成培地Ｃに接種し、３７℃で２８時間振とう培養し
た。得られた培養液１５０ｍＬにグルコース１５．４
ｇ、ＮＡＤＰ２５．２ｍｇ、エマルゲン８１０（花王社
製）１５０μｌを添加し、実施例３で製造した４−（４
−ニトロフェニル）−４−オキソ-２−ブテン酸イソプ
ロピル１５．０ｇを添加した。５ＮＮａＯＨにてｐＨ＝
６．５に調整しつつ３０℃で攪拌、４４時間反応を行っ
た。反応終了後、反応液を２倍量の酢酸エチルで抽出、
減圧濃縮し、黄色油状物質１４．４ｇを得た。シリカゲ
ルカラムで生成することにより黄色固体状の（Ｓ）−４
−（４−ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテ
ン酸イソプロピル１２．９ｇ（単離収率８５．８％、光
学純度９０．１％ｅｅ．）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，４００ＭＨｚ／ｐｐｍ）：
１．２６（ｄ,６Ｈ）,５．０３−５．０９（ｍ,１Ｈ）,
５．４９（ｄ,１Ｈ）,６．１４（ｄ,１Ｈ）,６．９５
（ｄｄ,１Ｈ）,７．５６（ｄ,２Ｈ）,８．２３（ｄ,２
Ｈ）。[α]_D ²⁵＝−３１．２（ｃ＝１．５９,ＣＨＣ
ｌ₃）。

【０１１７】実施例１２（Ｒ）−４−（４−メチルス
ルホニルアミノフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテ
ン酸メチルの製造ＥｓｃｈｅｒｉｃｈｉａｃｏｌｉＨＢ１０１（ｐＮ
ＴＣＲＧ）受託番号ＦＥＲＭＢＰ-６８９８を、５０
０ｍＬ容坂口フラスコ中で滅菌した１００ｍＬの半合成
培地Ｃに接種し、３７℃で２８時間振とう培養した。得
られた培養液５００ｍＬにグルコース９．５４ｇ、ＮＡ
ＤＰ１０８ｍｇ、エマルゲン８１０（花王社製）５００
μｌを添加し、実施例４で製造した４−（４−メチルス
ルホニルアミノフェニル）−４−オキソ-２−ブテン酸
メチル５．００ｇを添加した。５ＮＮａＯＨにてｐＨ
＝６．５に調整しつつ３０℃で攪拌、７２時間反応を行
った。反応終了後、反応液を２倍量の酢酸エチルで抽
出、減圧濃縮し、茶色油状物質を得た。シリカゲルカラ
ムで精製することにより黄色油状の（Ｒ）−４−（４−
メチルスルホニルアミノフェニル）−４−ヒドロキシ−
２−ブテン酸メチル４．０１ｇ（単離収率７９．９％、
光学純度１６．７％ｅｅ．）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（δＣＤＣｌ₃，４００ＭＨｚ／ｐｐｍ）：
３．０２（ｓ,３Ｈ）,３．７６（ｓ,３Ｈ）,５．３７
（ｄ,１Ｈ）,６．１８（ｄ,１Ｈ）,６．９７（ｂｓ,１
Ｈ）,７．０２（ｄｄ,１Ｈ）,７．２２（ｄ,２Ｈ）,
７．３４（ｄ,２Ｈ）。

【０１１８】実施例１３（−）−４−（３,４−ジク
ロロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸エチル
の製造ＥｓｃｈｅｒｉｃｈｉａｃｏｌｉＨＢ１０１（ｐＮ
ＴＣＲＧ）受託番号ＦＥＲＭＢＰ-６８９８を、５０
０ｍＬ容坂口フラスコ中で滅菌した１００ｍＬの前記半
合成培地Ｃに接種し、３７℃で２８時間振とう培養し
た。得られた培養液５０ｍＬにグルコース２．４７
ｇ、ＮＡＤＰ５．６ｍｇ、エマルゲン８１０（花王社
製）５０μｌを添加し、実施例５で製造した４−（３,
４−ジクロロフェニル）−４−オキソ-２−ブテン酸エ
チル２．５０ｇを添加した。５ＮＮａＯＨにてｐＨ＝
６．５に調整しつつ３０℃で攪拌、４３時間反応を行っ
た。反応終了後、反応液を２倍量の酢酸エチルで抽出、
減圧濃縮し、黄色固体の物質を得た。シリカゲルカラム
で精製することにより黄色固体状の（−）−４−（３,
４−ジクロロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン
酸エチル２．０８ｇ（単離収率８３．０％、光学純度８
１．８％ｅｅ．）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，４００ＭＨｚ／ｐｐｍ）：
１．２９（ｔ,３Ｈ）,４．１７−４．２３（ｍ,２Ｈ）,
５．４６（ｄ,１Ｈ）,６．１５（ｄ,１Ｈ）,６．９６
（ｄｄ,１Ｈ）,７．２０（ｄ,１Ｈ）, ７．４４（ｄ,１
Ｈ）,７．４６（ｄ,１Ｈ）。 [α]_D ²⁵＝−４５．２（ｃ＝１．５２,ＣＨＣｌ₃）。

【０１１９】実施例１４（＋）−４−（３,４−ジメ
トキシフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチ
ルの製造ＥｓｃｈｅｒｉｃｈｉａｃｏｌｉＨＢ１０１（ｐＮ
ＴＣＲＧ）受託番号ＦＥＲＭＢＰ-６８９８を、５０
０ｍＬ容坂口フラスコ中で滅菌した１００ｍＬの半合成
培地Ｃに接種し、３７℃で２８時間振とう培養した。得
られた培養液５００ｍＬにグルコース１１．３ｇ、ＮＡ
ＤＰ５６．０ｍｇ、エマルゲン８１０（花王社製）５０
０μｌを添加し、実施例６で製造した４−（３,４−ジ
メトキシフェニル）−４−オキソ-２−ブテン酸メチル
５．００ｇを添加した。５ＮＮａＯＨにてｐＨ＝６．
５に調整しつつ３０℃で攪拌、４５時間反応を行った。
反応終了後、反応液を２倍量の酢酸エチルで抽出、減圧
濃縮し、茶色油状物質５．５０ｇを得た。シリカゲルカ
ラムで精製することにより黄色油状の（＋）−４−
（３,４−ジメトキシフェニル）−４−ヒドロキシ−２
−ブテン酸メチル３．５０ｇ（単離収率６９．１％、光
学純度４３．９％ｅｅ．）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，４００ＭＨｚ／ｐｐｍ）：
３．７４（ｓ,３Ｈ）,３．８８（ｓ,３Ｈ）,３．８９
（ｓ,３Ｈ）,５．３２（ｄ,１Ｈ）,６．２７（ｄ,１
Ｈ）,６．８４−６．９１（ｍ,３Ｈ）,７．０６（ｄｄ,
１Ｈ）。 [α]_D ²⁵＝＋２２．０（ｃ＝１．８４,ＣＨＣｌ₃）。

【０１２０】実施例１５（−）−４−（ナフタレン−
１−イル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチルの製
造ＥｓｃｈｅｒｉｃｈｉａｃｏｌｉＨＢ１０１（ｐＮ
ＴＣＲＧ）受託番号ＦＥＲＭＢＰ-６８９８を、５０
０ｍＬ容坂口フラスコ中で滅菌した１００ｍＬの半合成
培地Ｃに接種し、３７℃で２８時間振とう培養した。得
られた培養液２００ｍＬにグルコース５．６３ｇ、ＮＡ
ＤＰ２２．４ｍｇ、エマルゲン８１０（花王社製）２０
０μｌを添加し、実施例７で製造した４−（ナフタレン
−１−イル）−４−オキソ−２−ブテン酸メチル１０．
０ｇを添加した。５ＮＮａＯＨにてｐＨ６．５に調整
しつつ３０℃で攪拌、４５時間反応を行った。反応終了
後、反応液を２倍量の酢酸エチルで抽出、減圧濃縮し、
赤色油状物質を得た。シリカゲルカラムで精製すること
により黄色油状の（―）−４−（２−ナフチル）−４−
ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル７．３３ｇ（単離収率
７３．１％、光学純度９７．８％ｅｅ．）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，４００ＭＨｚ／ｐｐｍ）：
３．７２（ｓ,３Ｈ）,６．０９（ｄ,１Ｈ）,６．２８
（ｄ,１Ｈ）,７．２５（ｄｄ,１Ｈ）,７．４３−７．５
７（ｍ,４Ｈ）,７．８２−７．９１（ｍ,１Ｈ）,８．１
４（ｄ,１Ｈ）。 [α]_D ²⁵＝−９５．５（ｃ＝１．８９,ＣＨＣｌ₃）。

【０１２１】実施例１６（Ｓ）−４−（４−ニトロフ
ェニル）−４−ヒドロキシ酪酸メチルの製造クリベロマイセス・サーモトレランス（Ｋｌｕｙｖｅｒ
ｏｍｙｃｅｓｔｈｅｒｍｏｔｏｌｅｒａｎｓ）ＩＦＯ
０６６２を、５００ｍｌ容量坂口フラスコ内で滅菌した
５０ｍｌの前記半合成培地Aに接種し、３０℃にて４日
間振とう培養した。培養終了後、実施例１で製造した４
−（４−ニトロフェニル）−４−オキソ-２−ブテン酸
メチル１２５ｍｇ、グルコース１．５０ｇを添加し、３
０℃で１日間振とうした。反応終了後、反応液を酢酸エ
チル１００ｍｌで抽出、減圧濃縮し、茶色油状物質を得
た。シリカゲルカラムで精製することにより黄色油状の
（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ
酪酸メチル６２mg（単離収率４９．４％、光学純度８
０．０％ｅｅ．）を得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，４００ＭＨｚ／ｐｐｍ）：
２．００−２．１２（ｍ,１Ｈ）,２．４４−２．５２
（ｍ,１Ｈ）,２．８６（ｂｓ,１Ｈ）,３．７０（ｓ,３
Ｈ）,４．９２（ｂｓ,１Ｈ）,７．５４（ｄ,２Ｈ）,
８．２１（ｄ,２Ｈ）。

【０１２２】実施例１７（Ｓ）−４−（４−ニトロフ
ェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチルの単離
精製実施例９にて製造した（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチルのクルード
固体をＨＰＬＣ分析（カラム：ダイセルＣｈｉｒａｌｐ
ａｃｋＡＳ２５０ｘ４．６ｍｍ、溶離液：イソプロパ
ノール／ヘキサン＝１／９（ｖ／ｖ）、カラム温度：３
０℃、流速：０．４ｍｌ／ｍｉｎ．、検出器：ＵＶ２３
０ｎｍ）した結果、（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：８
２．５重量％、（Ｒ）−４−（４−ニトロフェニル）−
４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：８．９重量
％、光学純度８０．５％ｅｅ．であった。上記クルード
固体３．８２ｇに、酢酸エチル７．６ｍＬを加えて、６
０℃で加温溶解させ、５℃に冷却、１時間攪拌した。析
出した結晶を濾過し、ヘキサン洗浄後、真空乾燥するこ
とにより、淡黄色結晶２．２４ｇを得た。この結晶をＨ
ＰＬＣ分析した結果、（Ｓ）−４−（４−ニトロフェ
ニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：９
９．０重量％（晶析回収率：７０．３％）、（Ｒ）−４
−（４−ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテ
ン酸メチル含量：０．１重量％（除去率：９９．０
％）、光学純度９９．７％ｅｅ．であった。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，４００ＭＨｚ／ｐｐｍ）：
２．４９（ｄ,１Ｈ）,３．７５（ｓ,３Ｈ）,５．５０
（ｂｓ,１Ｈ）,６．２０（ｄ,１Ｈ）,７．００（ｄｄ,
１Ｈ）,７．５５（ｄ,２Ｈ）,８．２３（ｄ,２Ｈ）。 [α]_D ²⁵＝−４８．８（ｃ＝１．６０,ＣＨＣｌ₃）。

【０１２３】実施例１８（Ｓ）−４−（４−ニトロフ
ェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチルの単離
精製実施例９にて製造した（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチルのクルード
固体をＨＰＬＣ分析（カラム：ダイセルＣｈｉｒａｌｐ
ａｃｋＡＳ２５０ｘ４．６ｍｍ、溶離液：イソプロパ
ノール／ヘキサン＝１／９（ｖ／ｖ）、カラム温度：３
０℃、流速：０．４ｍｌ／ｍｉｎ．、検出器：ＵＶ２３
０ｎｍ）した結果，（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：８
２．５重量％、（Ｒ）−４−（４−ニトロフェニル）−
４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：８．９重量
％、光学純度８０．５％ｅｅ．であった。上記クルード
固体１．３０ｇに、酢酸エチル５ｍＬを加え、６０℃に
加温溶解させた。ここに、ヘキサン５ｍＬを加え、５℃
に冷却、１時間攪拌した。析出した結晶を濾過し、ヘキ
サン洗浄後、真空乾燥することにより、淡黄色結晶７７
５．８ｍｇを得た。この結晶をＨＰＬＣ分析した結果、
（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニル）−４−ヒドロキ
シ−２−ブテン酸メチル含量：９７．９重量％（晶析回
収率：７０．８％）、（Ｒ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：０．
９重量％（除去率：９４．１％）、光学純度９８．２％
ｅｅ．であった。

【０１２４】実施例１９（Ｓ）−４−（４−ニトロフ
ェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチルの単離
精製実施例９にて製造した（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチルのクルード
固体をＨＰＬＣ分析（カラム：ダイセルＣｈｉｒａｌｐ
ａｃｋＡＳ２５０ｘ４．６ｍｍ、溶離液：イソプロパ
ノール／ヘキサン＝１／９（ｖ／ｖ）、カラム温度：３
０℃、流速：０．４ｍｌ／ｍｉｎ．、検出器：ＵＶ２３
０ｎｍ）した結果，（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：８
２．５重量％、（Ｒ）−４−（４−ニトロフェニル）−
４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：８．９重量
％、光学純度８０．５％ｅｅ．であった。上記クルード
固体１．３０ｇに、酢酸エチル５ｍＬを加え、６０℃に
加温溶解させた。ここに、トルエン５ｍＬを加え、５℃
に冷却、１時間攪拌した。析出した結晶を濾過し、ヘキ
サン洗浄後、真空乾燥することにより、淡黄色結晶６０
７．６ｍｇを得た。この結晶をＨＰＬＣ分析した結果、
（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニル）−４−ヒドロキ
シ−２−ブテン酸メチル含量：９７．２重量％（晶析回
収率：５５．０％）、（Ｒ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：０．
８重量％（除去率：９５．９％）、光学純度９８．４％
ｅｅ．であった。

【０１２５】実施例２０（Ｓ）−４−（４−ニトロフ
ェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチルの単離
精製実施例９にて製造した（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチルのクルード
固体をＨＰＬＣ分析（カラム：ダイセルＣｈｉｒａｌｐ
ａｃｋＡＳ２５０ｘ４．６ｍｍ、溶離液：イソプロパ
ノール／ヘキサン＝１／９（ｖ／ｖ）、カラム温度：３
０℃、流速：０．４ｍｌ／ｍｉｎ．、検出器：ＵＶ２３
０ｎｍ）した結果，（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：８
２．５重量％、（Ｒ）−４−（４−ニトロフェニル）−
４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：８．９重量
％、光学純度８０．５％ｅｅ．であった。上記クルード
固体１．３０ｇに、トルエン１０ｍＬを加え、６０℃に
加温後に５℃まで冷却、１時間攪拌した。析出した結晶
を濾過し、ヘキサン洗浄後、真空乾燥することにより、
淡黄色結晶１００３．９ｍｇを得た。この結晶をＨＰＬ
Ｃ分析した結果、（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：９
５．５重量％（晶析回収率：８９．３％）、（Ｒ）−４
−（４−ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテ
ン酸メチル含量：３．２重量％（除去率：７２．７
％）、光学純度９３．６％ｅｅ．であった。

【０１２６】実施例２１（Ｓ）−４−（４−ニトロフ
ェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチルの単離
精製実施例９にて製造した（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチルのクルード
固体をＨＰＬＣ分析（カラム：ダイセルＣｈｉｒａｌｐ
ａｃｋＡＳ２５０ｘ４．６ｍｍ、溶離液：イソプロパ
ノール／ヘキサン＝１／９（ｖ／ｖ）、カラム温度：３
０℃、流速：０．４ｍｌ／ｍｉｎ．、検出器：ＵＶ２３
０ｎｍ）した結果，（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：８
２．５重量％、（Ｒ）−４−（４−ニトロフェニル）−
４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：８．９重量
％、光学純度８０．５％ｅｅ．であった。上記クルード
固体１．３０ｇに、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル１
０ｍＬを加え、６０℃に加温溶解させた。更にこの溶液
を５℃に冷却、１時間攪拌した。析出した結晶を濾過
し、ヘキサン洗浄後、真空乾燥することにより、淡黄色
結晶７１５．５ｍｇを得た。この結晶をＨＰＬＣ分析し
た結果、（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニル）−４−
ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：９２．７重量％
（晶析回収率：６１．８％）、（Ｒ）−４−（４−ニト
ロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含
量：０．９重量％（除去率：９４．２％）、光学純度９
８．０％ｅｅ．であった。

【０１２７】実施例２２（Ｓ）−４−（４−ニトロフ
ェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチルの単離
精製実施例９にて製造した（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチルのクルード
固体をＨＰＬＣ分析（カラム：ダイセルＣｈｉｒａｌｐ
ａｃｋＡＳ２５０ｘ４．６ｍｍ、溶離液：イソプロパ
ノール／ヘキサン＝１／９（ｖ／ｖ）、カラム温度：３
０℃、流速：０．４ｍｌ／ｍｉｎ．、検出器：ＵＶ２３
０ｎｍ）した結果，（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：８
２．５重量％、（Ｒ）−４−（４−ニトロフェニル）−
４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：８．９重量
％、光学純度８０．５％ｅｅ．であった。上記クルード
固体１．３０ｇに、酢酸ｔｅｒｔ−ブチル１０ｍＬを加
え、６０℃に加温溶解させた。更にこの溶液を５℃に冷
却、１時間攪拌した。析出した結晶を濾過し、ヘキサン
洗浄後、真空乾燥することにより、淡黄色結晶８１１．
６ｍｇを得た。この結晶をＨＰＬＣ分析した結果、
（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ
−２−ブテン酸メチル含量：９５．６重量％（晶析回収
率：７２．３％）、（Ｒ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：１．
１重量％（除去率：９２．６％）、光学純度９７．８％
ｅｅ．であった。

【０１２８】実施例２３（Ｓ）−４−（４−ニトロフ
ェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチルの単離
精製実施例９にて製造した（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチルのクルード
固体をＨＰＬＣ分析（カラム：ダイセルＣｈｉｒａｌｐ
ａｃｋＡＳ２５０ｘ４．６ｍｍ、溶離液：イソプロパ
ノール／ヘキサン＝１／９（ｖ／ｖ）、カラム温度：３
０℃、流速：０．４ｍｌ／ｍｉｎ．、検出器：ＵＶ２３
０ｎｍ）した結果，（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：８
２．５重量％、（Ｒ）−４−（４−ニトロフェニル）−
４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：８．９重量
％、光学純度８０．５％ｅｅ．であった。上記クルード
固体１．３０ｇに、テトラヒドロフラン５ｍＬを加え、
６０℃に加温溶解させた。ここに、ヘキサン５ｍＬを加
え、５℃に冷却、１時間攪拌した。析出した結晶を濾過
し、ヘキサン洗浄後、真空乾燥することにより、淡黄色
結晶６８２．１ｍｇを得た。この結晶をＨＰＬＣ分析し
た結果、（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニル）−４−
ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：９８．０重量％
（晶析回収率：６２．３％）、（Ｒ）−４−（４−ニト
ロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含
量：１．０重量％（除去率：９４．２％）、光学純度９
８．０％ｅｅ．であった。

【０１２９】実施例２４（Ｓ）−４−（４−ニトロフ
ェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチルの単離
精製実施例９にて製造した（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチルのクルード
固体をＨＰＬＣ分析（カラム：ダイセルＣｈｉｒａｌｐ
ａｃｋＡＳ２５０ｘ４．６ｍｍ、溶離液：イソプロパ
ノール／ヘキサン＝１／９（ｖ／ｖ）、カラム温度：３
０℃、流速：０．４ｍｌ／ｍｉｎ．、検出器：ＵＶ２３
０ｎｍ）した結果，（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：８
２．５重量％、（Ｒ）−４−（４−ニトロフェニル）−
４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：８．９重量
％、光学純度８０．５％ｅｅ．であった。上記クルード
固体１．３０ｇに、エタノール５ｍＬを加え、６０℃に
加温溶解させた。ここに、ヘキサン１０ｍＬを加え、５
℃に冷却、１時間攪拌した。析出した結晶を濾過し、ヘ
キサン洗浄後、真空乾燥することにより、淡黄色結晶９
４２．６ｍｇを得た。この結晶をＨＰＬＣ分析した結
果、（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニル）−４−ヒド
ロキシ−２−ブテン酸メチル含量：９２．５重量％（晶
析回収率：８１．３％）、（Ｒ）−４−（４−ニトロフ
ェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：
２．８重量％（除去率：７７．６％）、光学純度９４．
２％ｅｅ．であった。

【０１３０】実施例２５（Ｓ）−４−（４−ニトロフ
ェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチルの単離
精製実施例９にて製造した（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチルのクルード
固体をＨＰＬＣ分析（カラム：ダイセルＣｈｉｒａｌｐ
ａｃｋＡＳ２５０ｘ４．６ｍｍ、溶離液：イソプロパ
ノール／ヘキサン＝１／９（ｖ／ｖ）、カラム温度：３
０℃、流速：０．４ｍｌ／ｍｉｎ．、検出器：ＵＶ２３
０ｎｍ）した結果，（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：８
２．５重量％、（Ｒ）−４−（４−ニトロフェニル）−
４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：８．９重量
％、光学純度８０．５％ｅｅ．であった。上記クルード
固体１．３０ｇに、イソプロパノール５ｍＬを加え、６
０℃に加温溶解させた。ここに、ヘキサン５ｍＬを加
え、５℃に冷却、１時間攪拌した。析出した結晶を濾過
し、ヘキサン洗浄後、真空乾燥することにより、淡黄色
結晶８１２．３ｍｇを得た。この結晶をＨＰＬＣ分析し
た結果、（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニル）−４−
ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：９５．５重量％
（晶析回収率：７２．３％）、（Ｒ）−４−（４−ニト
ロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含
量：１．９重量％（除去率：８７．０％）、光学純度９
６．２％ｅｅ．であった。

【０１３１】実施例２６（Ｓ）−４−（４−ニトロフ
ェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチルの単離
精製実施例９にて製造した（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチルのクルード
固体をＨＰＬＣ分析（カラム：ダイセルＣｈｉｒａｌｐ
ａｃｋＡＳ２５０ｘ４．６ｍｍ、溶離液：イソプロパ
ノール／ヘキサン＝１／９（ｖ／ｖ）、カラム温度：３
０℃、流速：０．４ｍｌ／ｍｉｎ．、検出器：ＵＶ２３
０ｎｍ）した結果，（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：８
２．５重量％、（Ｒ）−４−（４−ニトロフェニル）−
４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：８．９重量
％、光学純度８０．５％ｅｅ．であった。上記クルード
固体１．３０ｇに、塩化メチレン５ｍＬを加えて４０℃
に加温後、ヘキサン５ｍＬを加え、５℃に冷却、１時間
攪拌した。析出した結晶を濾過し、ヘキサン洗浄後、真
空乾燥することにより、淡黄色結晶９４７．９ｍｇを得
た。この結晶をＨＰＬＣ分析した結果、（Ｓ）−４−
（４−ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン
酸メチル含量：９４．３重量％（晶析回収率：８３．３
％）、（Ｒ）−４−（４−ニトロフェニル）−４−ヒド
ロキシ−２−ブテン酸メチル含量：５．３重量％（除去
率：５６．９％）、光学純度８９．４％ｅｅ．であっ
た。

【０１３２】実施例２７（Ｓ）−４−（４−ニトロフ
ェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチルの単離
精製実施例９にて製造した（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチルのクルード
固体をＨＰＬＣ分析（カラム：ダイセルＣｈｉｒａｌｐ
ａｃｋＡＳ２５０ｘ４．６ｍｍ、溶離液：イソプロパ
ノール／ヘキサン＝１／９（ｖ／ｖ）、カラム温度：３
０℃、流速：０．４ｍｌ／ｍｉｎ．、検出器：ＵＶ２３
０ｎｍ）した結果，（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：８
２．５重量％、（Ｒ）−４−（４−ニトロフェニル）−
４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：８．９重量
％、光学純度８０．５％ｅｅ．であった。上記クルード
固体１．３０ｇに、アセトニトリル５ｍＬを加え、６０
℃に加温溶解させた。ここに、トルエン５ｍＬ、ヘキサ
ン５ｍＬを加え、５℃に冷却、１時間攪拌した。析出し
た結晶を濾過し、ヘキサン洗浄後、真空乾燥することに
より、淡黄色結晶５４４．２ｍｇを得た。この結晶をＨ
ＰＬＣ分析した結果、（Ｓ）−４−（４−ニトロフェ
ニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：９
６．３重量％（晶析回収率：４８．８％）、（Ｒ）−４
−（４−ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテ
ン酸メチル含量：１．３重量％（除去率：９４．０
％）、光学純度９７．４％ｅｅ．であった。

【０１３３】実施例２８（Ｓ）−４−（４−ニトロフ
ェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチルの単離
精製実施例９にて製造した（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチルのクルード
固体をＨＰＬＣ分析（カラム：ダイセルＣｈｉｒａｌｐ
ａｃｋＡＳ２５０ｘ４．６ｍｍ、溶離液：イソプロパ
ノール／ヘキサン＝１／９（ｖ／ｖ）、カラム温度：３
０℃、流速：０．４ｍｌ／ｍｉｎ．、検出器：ＵＶ２３
０ｎｍ）した結果，（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：８
２．５重量％、（Ｒ）−４−（４−ニトロフェニル）−
４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：８．９重量
％、光学純度８０．５％ｅｅ．であった。上記クルード
固体１．３０ｇに、メタノール５ｍＬを加え、４０℃に
加温溶解させた。ここに、水５ｍＬを加え、５℃に冷
却、１時間攪拌した。析出した結晶を濾過し、水洗浄
後、真空乾燥することにより、黄色結晶１１３４．０ｍ
ｇを得た。この結晶をＨＰＬＣ分析した結果、（Ｓ）
−４−（４−ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−
ブテン酸メチル含量：８６．２重量％（晶析回収率：９
１．１％）、（Ｒ）−４−（４−ニトロフェニル）−４
−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：８．２重量％
（除去率：１９．７％）、光学純度８２．６％ｅｅ．で
あった。

【０１３４】実施例２９（Ｓ）−４−（４−ニトロフ
ェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチルの単離
精製実施例９にて製造した（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチルのクルード
固体をＨＰＬＣ分析（カラム：ダイセルＣｈｉｒａｌｐ
ａｃｋＡＳ２５０ｘ４．６ｍｍ、溶離液：イソプロパ
ノール／ヘキサン＝１／９（ｖ／ｖ）、カラム温度：３
０℃、流速：０．４ｍｌ／ｍｉｎ．、検出器：ＵＶ２３
０ｎｍ）した結果，（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：８
２．５重量％、（Ｒ）−４−（４−ニトロフェニル）−
４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル含量：８．９重量
％、光学純度８０．５％ｅｅ．であった。上記クルード
固体１．３０ｇに、アセトン５ｍＬを加え、４０℃に加
温溶解させた。ここに、水５ｍＬを加え、５℃に冷却、
１時間攪拌した。析出した結晶を濾過し、水洗浄後、真
空乾燥することにより、黄色結晶１１０４．４ｍｇを得
た。この結晶をＨＰＬＣ分析した結果、（Ｓ）−４−
（４−ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン
酸メチル含量：８８．６重量％（晶析回収率：９１．１
％）、（Ｒ）−４−（４−ニトロフェニル）−４−ヒド
ロキシ−２−ブテン酸メチル含量：５．０重量％（除去
率：５２．８％）、光学純度８９．４％ｅｅ．であっ
た。

【０１３５】実施例３０（Ｓ）−４−（４−アミノフ
ェニル）−４−ヒドロキシ酪酸メチルの製造１０％パラジウム−炭素２０ｍｇ、メタノール４ｍＬ、
ナトリウムメトキシド２．３ｍｇ（０．０４ｍｍｏｌ）
からなる溶液に、実施例１７で製造した（Ｓ）−４−
（４−ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン
酸メチル１００ｍｇ（０．４２２ｍｍｏｌ）を加え、常
圧水素雰囲気下で１５℃、５時間攪拌した。減圧濾過に
て触媒を濾別後、酢酸２．４ｍｇ、水１０ｍＬ、酢酸エ
チル１０ｍＬを加えて抽出し、飽和食塩水１０ｍＬで洗
浄した。有機層を減圧濃縮することにより、黄色油状物
７７．６ｍｇを得た。シリカゲル薄層クロマトグラフィ
ー（酢酸エチル／ヘキサン＝５／１）にて精製すること
により、（Ｓ）−４−（４−アミノフェニル）−４−ヒ
ドロキシ酪酸メチルを黄色油状物（４７．０ｍｇ）とし
て得た（単離収率：５４％）。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，４００ＭＨｚ／ｐｐｍ）；
１．９９−２．０９（２Ｈ，ｍ）、２．４０（２Ｈ，
ｔ）、３．６６（３Ｈ，ｓ）、４．６１（１Ｈ，ｔ）、
６．６５（２Ｈ，ｄ）、７．１２（２Ｈ，ｄ）。

【０１３６】実施例３１（Ｓ）−４−（４−アミノフ
ェニル）−４−ヒドロキシ酪酸メチルの製造１０％パラジウム−炭素５０ｍｇ、エタノール３ｍＬか
らなる溶液に、実施例１７で製造した（Ｓ）−４−（４
−ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メ
チル５０ｍｇ（０．２ｍｍｏｌ）を加え、常圧水素雰囲
気下で３０℃、１時間攪拌した。このものをＨＰＬＣ
（カラム：野村化学ＤｅｖｅｌｏｓｉｌＯＤＳ−ＨＧ−
３１５０ｘ４．６ｍｍ、溶離液：１０ｍＭリン酸バッ
ファー（ｐＨ＝６．５）／アセトニトリル＝２／１、流
速：０．５ｍＬ／ｍｉｎ．、カラム温度：４０℃、検出
器：ＵＶ２１０ｎｍ）にて分析した結果、（Ｓ）−４−
（４−アミノフェニル）−４−ヒドロキシ酪酸メチルの
反応収率は４７％であった。

【０１３７】実施例３２（Ｓ）−４−（４−アミノフ
ェニル）−４−ヒドロキシ酪酸メチルの製造１０％白金−炭素５０ｍｇ、エタノール３ｍＬからなる
溶液に、実施例１７で製造した（Ｓ）−４−（４−ニト
ロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル５
０ｍｇ（０．２ｍｍｏｌ）を加え、常圧水素雰囲気下で
３０℃、１時間攪拌した。このものをＨＰＬＣ（カラ
ム：野村化学ＤｅｖｅｌｏｓｉｌＯＤＳ−ＨＧ−３
１５０ｘ４．６ｍｍ、溶離液：１０ｍＭリン酸バッファ
ー（ｐＨ＝６．５）／アセトニトリル＝２／１、流速：
０．５ｍＬ／ｍｉｎ．、カラム温度：４０℃、検出器：
ＵＶ２１０ｎｍ）にて分析した結果、（Ｓ）−４−（４
−アミノフェニル）−４−ヒドロキシ酪酸メチルの反応
収率は６０％であった。

【０１３８】実施例３３（Ｓ）−４−（４−アミノフ
ェニル）−４−ヒドロキシ酪酸メチルの製造酸化白金５ｍｇ、エタノール３ｍＬからなる溶液に、実
施例１７で製造した（Ｓ）−４−（４−ニトロフェニ
ル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル５０ｍｇ
（０．２ｍｍｏｌ）を加え、常圧水素雰囲気下で３０
℃、１時間攪拌した。このものをＨＰＬＣ（カラム：野
村化学ＤｅｖｅｌｏｓｉｌＯＤＳ−ＨＧ−３１５０ｘ
４．６ｍｍ、溶離液：１０ｍＭリン酸バッファー（ｐＨ
＝６．５）／アセトニトリル＝２／１、流速：０．５ｍ
Ｌ／ｍｉｎ．、カラム温度：４０℃、検出器：ＵＶ２１
０ｎｍ）にて分析した結果、（Ｓ）−４−（４−アミノ
フェニル）−４−ヒドロキシ酪酸メチルの反応収率は８
９％であった。

【０１３９】実施例３４（Ｓ）−４−（４−アミノフ
ェニル）−４−ヒドロキシ酪酸メチルの製造プラチナブラック５ｍｇ、エタノール３ｍＬからなる溶
液に、実施例１７で製造した（Ｓ）−４−（４−ニトロ
フェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル５０
ｍｇ（０．２ｍｍｏｌ）を加え、常圧水素雰囲気下で３
０℃、６時間攪拌した。このものをＨＰＬＣ（カラム：
野村化学ＤｅｖｅｌｏｓｉｌＯＤＳ−ＨＧ−３１５
０ｘ４．６ｍｍ、溶離液：１０ｍＭリン酸バッファー
（ｐＨ６．５）／アセトニトリル＝２／１、流速：０．
５ｍＬ／ｍｉｎ．、カラム温度：４０℃、検出器：ＵＶ
２１０ｎｍ）にて分析した結果、（Ｓ）−４−（４−ア
ミノフェニル）−４−ヒドロキシ酪酸メチルの反応収率
は９７％であった。

【０１４０】実施例３５（Ｓ）−４−（４−アミノフ
ェニル）−４−ヒドロキシ酪酸エチルの製造１０％パラジウム−炭素２００ｍｇ、メタノール４０ｍ
Ｌ、２９％アンモニア水３９７ｍｇ（６．７７ｍｍｏ
ｌ）からなる溶液に、実施例１０で製造した（Ｓ）−４
−（４−ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテ
ン酸エチル１．００ｇ（３．９８ｍｍｏｌ）を加え、３
気圧の水素雰囲気下で４０℃、５時間攪拌した。減圧濾
過にて触媒を濾別後、減圧濃縮することにより、黄色油
状物８８３ｍｇを得た。シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（酢酸エチル／ヘキサン＝１／１）にて精製する
ことにより、（Ｓ）−４−（４−アミノフェニル）−４
−ヒドロキシ酪酸エチルを黄色油状物（３８９ｍｇ）と
して得た（単離収率：４４％）。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，４００ＭＨｚ／ｐｐｍ）；
１．２４（３Ｈ，ｔ）、１．９５−２．１２（２Ｈ，
ｍ）、２．４６（２Ｈ，ｔ）、２．９６（２Ｈ，ｂ
ｓ）、３．４７（１Ｈ，ｓ）、４．１２（２Ｈ，ｑ）、
４．６１（１Ｈ，ｔ）、６．６６（２Ｈ，ｄ）、７．１
４（２Ｈ，ｄ）。

【０１４１】実施例３６４−（３，４−ジクロロフェ
ニル）−４−ヒドロキシ酪酸エチルの製造酸化白金６５ｍｇ、テトラヒドロフラン２０ｍＬからな
る溶液を常温、常圧水素雰囲気下で３０分攪拌した。こ
こに、実施例１３で製造した４−（３，４−ジクロロフ
ェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸エチル１．３
０５ｇ（４．７５ｍｍｏｌ）を加え、水素雰囲気下に２
０℃、８時間攪拌した。減圧濾過にて白金触媒を濾別
し、減圧濃縮することにより、黒色油状物１．３４６６
ｇを得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸
エチル／ヘキサン＝１／２）にて精製することにより、
４−（３，４−ジクロロフェニル）−４−ヒドロキシ酪
酸エチルを無色油状物（１．２２０ｇ）として得た（単
離収率：９３％）。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，４００ＭＨｚ／ｐｐｍ）；
１．２６（３Ｈ，ｔ）、２．０１−２．０６（２Ｈ，
ｍ）、２．４１−２．４６（２Ｈ，ｍ）、２．７０（１
Ｈ，ｂｓ）、４．１４（２Ｈ，ｑ）、４．７５（１Ｈ，
ｍ）、７．１８（１Ｈ，ｄ）、７．４１（１Ｈ，ｄ）、
７．４６（１Ｈ，ｓ）。

【０１４２】実施例３７４−（３，４−ジメトキシフ
ェニル）−４−ヒドロキシ酪酸メチルの製造酸化白金１００ｍｇ、テトラヒドロフラン２０ｍＬから
なる溶液を常温、常圧水素雰囲気下で３０分攪拌した。
ここに、実施例１４で製造した４−（３，４−ジメトキ
シフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル
２．０１ｇ（７．４２ｍｍｏｌ）を加え、水素雰囲気下
に３０℃、２０時間攪拌した。減圧濾過にて白金触媒を
濾別し、減圧濃縮することにより、黒色油状物２．１３
２ｇを得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢
酸エチル／ヘキサン＝１／３）にて精製することによ
り、４−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−ヒドロ
キシ酪酸メチルを黄色油状物（１．５７２ｇ）として得
た（単離収率：７８％）。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，４００ＭＨｚ／ｐｐｍ）；
１．９９−２．１３（２Ｈ，ｍ）、２．３２（１Ｈ，ｂ
ｓ）、２．４３（２Ｈ，ｔ）、３．７１（３Ｈ，ｓ）、
３．８７（３Ｈ，ｓ）、３．９４（３Ｈ，ｓ）、４．６
９（１Ｈ，ｍ）、６．８０−６．９１（３Ｈ，ｍ）。

【０１４３】実施例３８４−（ナフタレン−１−イ
ル）−４−ヒドロキシ酢酸メチルの製造酸化白金１００ｍｇ、テトラヒドロフラン２０ｍＬから
なる溶液を常温、常圧水素雰囲気下で３０分攪拌した。
ここに、実施例１５で製造した４−（ナフタレン−１−
イル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル２．０１
ｇ（７．８９ｍｍｏｌ）を加え、水素雰囲気下に３０
℃、２０時間攪拌した。減圧濾過にて白金触媒を濾別
し、減圧濃縮することにより、黒色油状物２．０８６ｇ
を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エ
チル／ヘキサン＝１／４）にて精製することにより、４
−（ナフタレン−１−イル）−４−ヒドロキシ酪酸メチ
ルを黄色油状物（１．６７６ｇ）として得た（単離収
率：８４％）。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，４００ＭＨｚ／ｐｐｍ）；
２．１２−２．１６（１Ｈ，ｍ）、２．２９−２．３２
（１Ｈ，ｍ）、２．４３（１Ｈ，ｂｓ）、２．４３−
２．６３（２Ｈ，ｍ）３．６７（３Ｈ，ｓ）、５．５５
（１Ｈ，ｍ）、７．４５−７．５４（３Ｈ，ｍ）、７．
６６（１Ｈ，ｄ）、７．７７（１Ｈ，ｄ）、７．８６
（１Ｈ，ｄ）、８．１１（１Ｈ，ｄ）。

【０１４４】実施例３９（Ｓ）−４−（４−メタンス
ルホニルアミノフェニル）−４−ヒドロキシ酪酸メチル
の製造酸化白金２１０ｍｇ、テトラヒドロフラン７０ｍＬから
なる溶液を常温、常圧水素雰囲気下で３０分攪拌した。
ここに、実施例１７で製造した（Ｓ）−４−（４−ニト
ロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル
７．００ｇ（３０．０ｍｍｏｌ）を加え、水素雰囲気下
に３０℃、７時間攪拌した。減圧濾過にて白金触媒を濾
別後、ピリジン４．９８ｇ（６３．０ｍｍｏｌ）、メタ
ンスルホニルクロライド３．７８ｇ（３３．０ｍｍｏ
ｌ）を加え、２０℃、１６時間攪拌した。ここに、５重
量％クエン酸水溶液４２ｍＬを加えて反応をクエンチし
た後、さらに水７０ｍＬ、酢酸エチル１４０ｍＬを加え
て抽出した。有機層は更に飽和食塩水で洗浄後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥、減圧濃縮することにより、桃色
油状物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（酢酸エチル／ヘキサン＝２／１）にて精製することに
より、（Ｓ）−４−（４−メタンスルホニルアミノフェ
ニル）−４−ヒドロキシ酪酸メチルを淡黄色固体（９．
１０１ｇ）として得た（単離収率：７８％）。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，４００ＭＨｚ／ｐｐｍ）；
２．０４（２Ｈ，ｄｔ）、２．４４（２Ｈ，ｔ）、２．
６７（１Ｈ，ｄ）、３．００（３Ｈ，ｓ）、３．６８
（３Ｈ，ｓ）、４．７４（１Ｈ，ｍ）、７．０６（１
Ｈ，ｓ）、７．１９（２Ｈ，ｄ）、７．３２（２Ｈ，
ｄ）。

【０１４５】実施例４０（Ｓ）−４−（４−メタンス
ルホニルアミノフェニル）−４−ヒドロキシ酪酸エチル
の製造酸化白金１３６ｍｇ、テトラヒドロフラン３０ｍＬから
なる溶液を常温、常圧水素雰囲気下で３０分攪拌した。
ここに、実施例１０で製造した（Ｓ）−４−（４−ニト
ロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸エチル
３．００ｇ（１１．９ｍｍｏｌ）を加え、水素雰囲気下
に３０℃、１６時間攪拌した。減圧濾過にて白金触媒を
濾別後、ピリジン１．９８ｇ（２５．０ｍｍｏｌ）、メ
タンスルホニルクロライド１．５０ｇ（１３．１ｍｍｏ
ｌ）を加え、２０℃、３時間攪拌した。ここに、５重量
％クエン酸水溶液１５ｍＬを加えて反応をクエンチした
後、さらに水３０ｍＬ、酢酸エチル５０ｍＬを加えて抽
出した。有機層は更に飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥、減圧濃縮することにより、桃色油状
物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸
エチル／ヘキサン＝２／１）にて精製することにより、
（Ｓ）−４−（４−メタンスルホニルアミノフェニル）
−４−ヒドロキシ酪酸エチルを淡黄色固体（１．８５８
ｇ）として得た（単離収率：５１％）。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，４００ＭＨｚ／ｐｐｍ）；
１．２６（３Ｈ，ｔ）、２．０４（２Ｈ，ｄｔ）、２．
４２（２Ｈ，ｔ）、２．８１（１Ｈ，ｂｓ）、２．９９
（３Ｈ，ｓ）、４．７３（１Ｈ，ｍ）、７．１９（２
Ｈ，ｄ）、７．２０（１Ｈ，ｓ）、７．３１（２Ｈ，
ｄ）。

【０１４６】実施例４１（Ｓ）−４−（４−メタンス
ルホニルアミノフェニル）−４−ヒドロキシ酪酸イソプ
ロピルの製造酸化白金４３ｍｇ、テトラヒドロフラン１０ｍＬからな
る溶液を常温、常圧水素雰囲気下で３０分攪拌した。こ
こに、実施例１１で製造した（Ｓ）−４−（４−ニトロ
フェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸イソプロピ
ル１．００ｇ（３．７７ｍｍｏｌ）を加え、水素雰囲気
下に３０℃、１６時間攪拌した。減圧濾過にて白金触媒
を濾別後、ピリジン６３０ｍｇ（７．９２ｍｍｏｌ）、
メタンスルホニルクロライド６００ｍｇ（４．１５ｍｍ
ｏｌ）を加え、２０℃、３時間攪拌した。ここに、５重
量％クエン酸水溶液５ｍＬを加えて反応をクエンチした
後、さらに水１０ｍＬ、酢酸エチル２０ｍＬを加えて抽
出した。有機層は更に飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥、減圧濃縮することにより、桃色油状
物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸
エチル／ヘキサン＝１／１）にて精製することにより、
（Ｓ）−４−（４−メタンスルホニルアミノフェニル）
−４−ヒドロキシ酪酸イソプロピルを淡黄色油状物（８
３９ｍｇ）として得た（単離収率：７０％）。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，４００ＭＨｚ／ｐｐｍ）；
１．２３（６Ｈ，ｄ）、２．０２（２Ｈ，ｄｔ）、２．
３９（２Ｈ，ｔ）、２．９８（４Ｈ，ｓ）、４．７２
（１Ｈ，ｍ）、５．０１（１Ｈ，ｍ）、７．１９（２
Ｈ，ｄ）、７．２８（１Ｈ，ｓ）、７．３０（２Ｈ，
ｄ）。

【０１４７】実施例４２（Ｓ）−４−（４−メタンス
ルホニルアミノフェニル）−４−ヒドロキシ酪酸メチル
の製造２０％パラジウム−炭素１００ｍｇ、テトラヒドロフラ
ン５ｍＬ、ピリジン１７ｍｇ（０．２１ｍｍｏｌ）から
なる溶液に、実施例１７で製造した（Ｓ）−４−（４−
ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチ
ル５００ｍｇ（２．１１ｍｍｏｌ）を加え、常圧水素雰
囲気下で１５℃、５時間攪拌した。減圧濾過にて触媒を
濾別後、ピリジン３３４ｍｇ（４．２ｍｍｏｌ）、メタ
ンスルホニルクロライド２６６ｍｇ（２．３２ｍｍｏ
ｌ）を加え、１５℃、２時間攪拌した。ここに、５重量
％クエン酸水溶液３ｍＬを加えて反応をクエンチした
後、さらに水５ｍＬ、酢酸エチル２０ｍＬを加えて抽出
した。有機層は更に飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥、減圧濃縮することにより、桃色油状物
を得た。このものをＨＰＬＣ（カラム：野村化学Ｄｅｖ
ｅｌｏｓｉｌＯＤＳ−ＨＧ−３１５０ｘ４．６ｍ
ｍ、溶離液：１０ｍＭリン酸バッファー（ｐＨ＝６．
５）／アセトニトリル＝２／１、流速：０．５ｍＬ／ｍ
ｉｎ．、カラム温度：４０℃、検出器：ＵＶ２３０ｎ
ｍ）にて分析した結果、（Ｓ）−４−（４−メタンスル
ホニルアミノフェニル）−４−ヒドロキシ酪酸メチルの
反応収率は６１％であった。

【０１４８】実施例４３（Ｓ）−４−（４−メタンス
ルホニルアミノフェニル）−４−ヒドロキシ酪酸メチル
の製造５％ロジウム−炭素２００ｍｇ、テトラヒドロフラン８
ｍＬからなる溶液に、実施例１７で製造した（Ｓ）−４
−（４−ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテ
ン酸メチル５００ｍｇ（２．１１ｍｍｏｌ）を加え、常
圧水素雰囲気下で１５℃、２２時間攪拌した。減圧濾過
にて触媒を濾別後、ピリジン３３４ｍｇ（４．２ｍｍｏ
ｌ）、メタンスルホニルクロライド２６６ｍｇ（２．３
２ｍｍｏｌ）を加え、１５℃、６０時間攪拌した。ここ
に、５重量％クエン酸水溶液３ｍＬを加えて反応をクエ
ンチした後、さらに水５ｍＬ、酢酸エチル２０ｍＬを加
えて抽出した。有機層は更に飽和食塩水で洗浄後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥、減圧濃縮することにより、桃
色油状物（７６５ｍｇ）を得た。このものをＨＰＬＣ
（カラム：野村化学ＤｅｖｅｌｏｓｉｌＯＤＳ−ＨＧ
−３１５０ｘ４．６ｍｍ、溶離液：１０ｍＭリン酸バ
ッファー（ｐＨ＝６．５）／アセトニトリル＝２／１、
流速：０．５ｍＬ／ｍｉｎ．、カラム温度：４０℃、検
出器：ＵＶ２３０ｎｍ）にて分析した結果、（Ｓ）−４
−（４−メタンスルホニルアミノフェニル）−４−ヒド
ロキシ酪酸メチルの反応収率は５１％であった。

【０１４９】実施例４４（Ｓ）−４−（４−メタンス
ルホニルアミノフェニル）−４−ヒドロキシ酪酸メチル
の製造ラネーニッケル含水物約１．０ｇ、エタノール５ｍＬか
らなる溶液に、実施例１７で製造した（Ｓ）−４−（４
−ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メ
チル５００ｍｇ（２．１１ｍｍｏｌ）を加え、常圧水素
雰囲気下で１５℃、１９時間攪拌した。減圧濾過にて触
媒を濾別後、減圧濃縮により溶媒を留去し、ここにテト
ラヒドロフラン５ｍＬ、ピリジン３３４ｍｇ（４．２ｍ
ｍｏｌ）、メタンスルホニルクロライド２６６ｍｇ
（２．３２ｍｍｏｌ）を加え、１５℃、３時間攪拌し
た。ここに、５重量％クエン酸水溶液３ｍＬを加えて反
応をクエンチした後、さらに水５ｍＬ、酢酸エチル２０
ｍＬを加えて抽出した。有機層は更に飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、減圧濃縮することに
より、桃色油状物（７８１ｍｇ）を得た。このものをＨ
ＰＬＣ（カラム：野村化学ＤｅｖｅｌｏｓｉｌＯＤＳ
−ＨＧ−３１５０ｘ４．６ｍｍ、溶離液：１０ｍＭリ
ン酸バッファー（ｐＨ＝６．５）／アセトニトリル＝２
／１、流速：０．５ｍＬ／ｍｉｎ．、カラム温度：４０
℃、検出器：ＵＶ２３０ｎｍ）にて分析した結果、
（Ｓ）−４−（４−メタンスルホニルアミノフェニル）
−４−ヒドロキシ酪酸メチルの反応収率は３６％であっ
た。

【０１５０】実施例４５（Ｒ）−４−（４−メタンス
ルホニルアミノフェニル）−４−ヒドロキシ酪酸メチル
の製造酸化白金１００ｍｇ、テトラヒドロフラン５ｍＬ、ピリ
ジン１７ｍｇからなる溶液に、実施例１２で製造した
（Ｒ）−４−（４−メタンスルホニルアミノフェニル）
−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸メチル５００ｍｇ
（２．１１ｍｍｏｌ）を加え、常圧水素雰囲気下で１５
℃、５時間攪拌した。減圧濾過にて触媒を濾別後、得ら
れた溶液を、ＨＰＬＣ（カラム：野村化学Ｄｅｖｅｌｏ
ｓｉｌＯＤＳ−ＨＧ−３１５０ｘ４．６ｍｍ、溶離
液：１０ｍＭリン酸バッファー（ｐＨ＝６．５）／アセ
トニトリル＝２／１、流速：０．５ｍＬ／ｍｉｎ．、カ
ラム温度：４０℃、検出器：ＵＶ２３０ｎｍ）にて分析
した結果、（Ｒ）−４−（４−メタンスルホニルアミノ
フェニル）−４−ヒドロキシ酪酸メチルの反応収率は６
１％であった。

【０１５１】

【発明の効果】本発明によれば、医薬品等の中間体とし
て有用な４−アリール−４−ヒドロキシ−ブテン酸誘導
体、及び、４−アリール−４−ヒドロキシ酪酸誘導体
を、簡便かつ実用的な方法で製造、提供することができ
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ０７Ｃ 311/08 Ｃ０７Ｃ 311/08 Ｃ１２Ｐ 7/62 Ｃ１２Ｐ 7/62 //(Ｃ１２Ｐ 7/62 (Ｃ１２Ｐ 7/62 Ｃ１２Ｒ 1:72）Ｃ１２Ｒ 1:72） (Ｃ１２Ｐ 7/62 (Ｃ１２Ｐ 7/62 Ｃ１２Ｒ 1:645）Ｃ１２Ｒ 1:645） (Ｃ１２Ｐ 7/62 (Ｃ１２Ｐ 7/62 Ｃ１２Ｒ 1:84）Ｃ１２Ｒ 1:84） (Ｃ１２Ｐ 7/62 (Ｃ１２Ｐ 7/62 Ｃ１２Ｒ 1:725）Ｃ１２Ｒ 1:725） (Ｃ１２Ｐ 7/62 (Ｃ１２Ｐ 7/62 Ｃ１２Ｒ 1:74）Ｃ１２Ｒ 1:74） (Ｃ１２Ｐ 7/62 (Ｃ１２Ｐ 7/62 Ｃ１２Ｒ 1:85）Ｃ１２Ｒ 1:85） (Ｃ１２Ｐ 7/62 (Ｃ１２Ｐ 7/62 Ｃ１２Ｒ 1:01）Ｃ１２Ｒ 1:01） (Ｃ１２Ｐ 7/62 (Ｃ１２Ｐ 7/62 Ｃ１２Ｒ 1:265）Ｃ１２Ｒ 1:265） (Ｃ１２Ｐ 7/62 (Ｃ１２Ｐ 7/62 Ｃ１２Ｒ 1:425）Ｃ１２Ｒ 1:425） (Ｃ１２Ｐ 7/62 (Ｃ１２Ｐ 7/62 Ｃ１２Ｒ 1:365）Ｃ１２Ｒ 1:365）Ｃ０７Ｍ 7:00 Ｃ０７Ｍ 7:00 (72)発明者八十原良彦兵庫県高砂市高砂町宮前町１−８ (72)発明者井上健二兵庫県高砂市高砂町宮前町１−８Ｆターム(参考） 4B064 AD75 BH01 BH04 CA02 CA03 CA04 CA05 CA06 CA19 CB17 CB18 CC24 DA01 4H006 AA02 AC11 AC41 AC81 BA22 BA24 BA25 BA26 BA29 BA34 BA36 BA37 BE20 4H039 CA60 CB20

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式（２）；【化１】（式中、Ａｒは炭素数４〜１５のアリール基を表す。Ｒ
は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素数
７〜１０のアラルキル基を表す。＊は不斉炭素を表
す。）において、Ａｒが置換基を有するフェニル基、又
は置換基を有しても良いナフチル基である光学活性４−
アリール−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸誘導体。
【請求項２】置換基がニトロ基、Ｎ−保護アミノ基、
ハロゲン、炭素数１〜１０のアルコキシ基からなる群よ
り選択された少なくとも１種である請求項１記載の化合
物。
【請求項３】Ａｒが４−ニトロフェニル基、４−メタ
ンスルホニルアミノフェニル基、３，４−ジクロロフェ
ニル基、３，４−ジメトキシフェニル基、ナフタレン−
１−イル基である請求項１記載の化合物。
【請求項４】Ａｒが４−ニトロフェニル基である請求
項１記載の化合物。
【請求項５】Ｒが炭素数１〜１０のアルキル基である
請求項１〜４のいずれかに記載の化合物。
【請求項６】アルキル基がメチル基またはエチル基で
ある請求項５記載の化合物。
【請求項７】化合物の絶対配置がＳである請求項１〜
６のいずれかに記載の化合物。
【請求項８】一般式（３）；【化２】（式中、Ａｒ、Ｒ、＊は上記に同じ。）において、Ａｒ
が４−アミノフェニル基、又は４−ニトロフェニル基で
ある光学活性４−アリール−４−ヒドロキシ酪酸誘導
体。
【請求項９】Ｒが炭素数１〜１０のアルキル基である
請求項８記載の化合物。
【請求項１０】アルキル基がメチル基またはエチル基
である請求項９記載の化合物。
【請求項１１】化合物の絶対配置がＳである請求項８
〜１０のいずれかに記載の化合物。
【請求項１２】一般式（１）：【化３】（式中、Ａｒ、Ｒは上記に同じ。）で表わされる４−ア
リール−４−オキソ−２−ブテン酸誘導体のカルボニル
基を立体特異的に還元する活性を有する酵素源の存在
下、前記式（１）で表される４−アリール−４−オキソ
−２−ブテン酸誘導体のカルボニル基を立体特異的に還
元し、該酵素源で二重結合を還元してもよいことを特徴
とする一般式（２）：【化４】（式中、Ａｒ、Ｒ、＊は上記に同じ。）で表される光学
活性４−アリール−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸誘導
体、または、一般式（３）：【化５】（式中、Ａｒ、Ｒ、＊は上記に同じ。）で表される光学
活性４−アリール−４−ヒドロキシ酪酸誘導体の製造
法。
【請求項１３】酵素源が、一般式（１）で表される４
−アリール−４−オキソ−２−ブテン酸誘導体をＳ選択
的に還元する活性を有する事を特徴とする請求項１２に
記載の製造法。
【請求項１４】Ｓ選択的な酵素源が、キャンディダ
属、クリプトコッカス属、デバリオマイセス属、デッカ
ラ属、クリベロマイセス属、コマガタエラ属、ロッデロ
マイセス属、メッチニコビア属、オガタエア属、ピキア
属、ロードスポリディウム属、ロードトルラ属、スポロ
ボロマイセス属、トリゴノプシス属、ウィリオプシス
属、ヤロヴィア属、チゴサッカロマイセス属、セルロモ
ナス属、エンテロバクター属、マイクロバクテリウム
属、マイクロコッカス属、ロードコッカス属、セラチア
属に属する微生物の菌体、培養物またはそれらの処理物
である請求項１３記載の製造法。
【請求項１５】Ｓ選択的な酵素源が、キャンディダ・
カンタレリー、キャンディダ・グラエボーサ、キャンデ
ィダ・インターメディア、キャンディダ・マグノリエ、
キャンディダ・マルトサ、キャンディダ・マリス、キャ
ンディダ・モギー、キャンディダ・オレオフィラ、キャ
ンディダ・バーサチルス、クリプトコッカス・アルビダ
ス・バー・アルビダス、デバリオマイセス・カルソニ
ー、デバリオマイセス・シュードポリモルファス、デッ
カラ・アノマラ、クリベロマイセス・サーモトレラン
ス、コマガタエラ・パストリス、ロッデロマイセス・エ
ロンギスポラス、メッチニコビア・ビカスピダータ、オ
ガタエア・ミヌタ・バー・ミヌタ、オガタエア・ポリモ
ルファ、ピキア・アノマラ、ピキア・シルビコーラ、ピ
キア・トリアングラリス、ロードスポリディウム・スフ
ァエロカルファム、ロードスポリディウム・トルロイデ
ス、ロードトルラ・グルチニス、ロードトルラ・グラミ
ニス、スポロボロマイセス・パラロセウス、スポロボロ
マイセス・サルモニコーラ、トリゴノプシス・バリアビ
リス、ウィリオプシス・サターナス・バー・ムラキー、
ウィリオプシス・サターナス・バー・サターナス、ウィ
リオプシス・サターナス・バー・スアベオレンス、ヤロ
ヴィア・リポリティカ、チゴサッカロマイセス・バイリ
ー、チゴサッカロマイセス・ルキシー、セルロモナス・
スピーシ−ズ、エンテロバクター・アエロジェネス、マ
イクロバクテリウム・アルボレッセンス、マイクロバク
テリウム・インペリアレ、マイクロコッカス・ルテア
ス、ロードコッカス・ロードクロウス、セラチア・プロ
テアマクランス・サブスピーシーズ・プロテアマクラン
スからなる群から選ばれた微生物の菌体、培養物または
それらの処理物であるで請求項１３記載の製造法。
【請求項１６】Ｓ選択的な酵素源が、キャンディダ属
（Ｃａｎｄｉｄａ）属に属する微生物由来であるカルボ
ニル還元酵素をコードするＤＮＡ、及び該酵素が依存す
る補酵素を再生する能力を有する酵素をコードするＤＮ
Ａを有するプラスミドで形質転換された形質転換細胞で
ある請求項１３に記載の製造法。
【請求項１７】形質転換細胞がＥｓｃｈｅｒｉｃｈｉ
ａｃｏｌｉＨＢ１０１（ｐＮＴＣＲＧ）受託番号Ｆ
ＥＲＭＢＰ-６８９８である請求項１６記載の製造
法。
【請求項１８】酵素源が、一般式（１）で表される４
−アリール−４−オキソ−２−ブテン酸誘導体をＲ選択
的に還元する活性を有する事を特徴とする請求項１２に
記載の製造法。
【請求項１９】Ｒ選択的な酵素源が、キャンディダ
属、メッチニコビア属、ピキア属、ロードトルラ属、サ
ッカロマイセス属、サッカロマイコプシス属、トルラス
ポラ属、ヤマダザイマ属、セルロモナス属、エンセニア
属、ノカルディア属、ロードコッカス属に属する微生物
の菌体、培養物またはその処理物である請求項１８記載
の製造法。
【請求項２０】Ｒ選択的な酵素源が、キャンディダ・
アルビカンス、キャンディダ・テヌイス、キャンディダ
・トロピカリス、キャンディダ・バーサチリス、メッチ
ニコビア・プルケリマ、ピキア・ボビス、ロードトルラ
・アラウカリアエ、サッカロマイセス・ダイレンシス、
サッカロマイコプシス・マランガ、トルラスポラ・デル
ブルエッキー、トルラスポラ・グロボサ、ヤマダザイマ
・ファリノサ、ヤマダザイマ・ハプロフィラ、セルロモ
ナス・フィミ、エンセニア・カニクルリア、ノカルディ
ア・グロベルーラ、ロードコッカス・エリスロポリスか
らなる群から選ばれた微生物の菌体、培養物またはその
処理物である請求項１８記載の製造法。
【請求項２１】Ａｒが置換基を有してもよいフェニル
基、置換基を有しても良いナフチル基、置換基を有して
もよいピリジル基、または置換基を有しても良いインド
リル基である請求項１２〜２０のいずれかに記載の製造
法。
【請求項２２】置換基がニトロ基、Ｎ−保護アミノ
基、ハロゲン、炭素数１〜１０のアルコキシ基からなる
群より選択された少なくとも１種である請求項２１記載
の製造法。
【請求項２３】Ａｒが４−ニトロフェニル基、４−メ
タンスルホニルアミノフェニル基、３，４−ジクロロフ
ェニル基、３，４−ジメトキシフェニル基、又はナフタ
レン−１−イル基である請求項１２〜２０のいずれかに
記載の製造法。
【請求項２４】Ａｒが４−ニトロフェニル基である請
求項１２〜２０のいずれかに記載の製造法。
【請求項２５】Ｒが炭素数１〜１０のアルキル基であ
る請求項１２〜２４のいずれかに記載の製造法。
【請求項２６】アルキル基がメチル基またはエチル基
である請求項２５記載の製造法。
【請求項２７】一般式（２）：【化６】（式中、Ａｒ、Ｒ、＊は上記に同じ。）で表される光学
活性４−アリール−４−ヒドロキシ−２−ブテン酸誘導
体を遷移金属触媒存在下に水素化することを特徴とする
一般式（３）：【化７】（式中、Ａｒ、Ｒ、＊は上記に同じ。）で表される光学
活性４−アリール−４−ヒドロキシ酪酸誘導体の製造
法。
【請求項２８】遷移金属触媒が、白金、ロジウム、パ
ラジウム、ルテニウム、又はニッケル触媒である請求項
２７に記載の製造法。
【請求項２９】遷移金属触媒が、白金、ロジウム、パ
ラジウム、ルテニウム、又はニッケルの金属、若しくは
その塩化物、臭化物、ヨウ化物、硝酸塩、硫酸塩、酸化
物、硫化物、硼化物、水酸化物、シアン化物、アセチル
アセトネート、酢酸塩、又はトリフルオロ酢酸塩である
請求項２７記載の製造法。
【請求項３０】遷移金属触媒が、酸化白金、酸化パラ
ジウム、プラチナブラック、パラジウムブラック、ラネ
ーニッケル、又は硼化ニッケルである請求項２７記載の
製造法。
【請求項３１】遷移金属触媒が、炭素、アルミナ、シ
リカーアルミナ、シリカ、炭酸バリウム、硫酸バリウ
ム、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、
ゼオライト、又はアスベストに坦持された白金、ロジウ
ム、ルテニウム、又はパラジウムの金属、又は、その硫
化物若しくは水酸化物である請求項２７記載の製造法。
【請求項３２】遷移金属触媒が、パラジウム−炭素、
ロジウム−炭素、白金−炭素、ルテニウム−炭素、パラ
ジウム−アルミナ、白金−アルミナ、パラジウム−炭酸
カルシウム、白金−炭酸カルシウム、パラジウム−硫酸
バリウム、又は白金−硫酸バリウムである請求項２７記
載の製造法。
【請求項３３】触媒量の塩基の存在下に水素化を行う
ことを特徴とする請求項２７〜３２に記載の製造法。
【請求項３４】塩基が、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、ナトリウムメトキシド、ナ
トリウムエトキシド、アンモニア、トリエチルアミン、
又はピリジンである請求項３３に記載の製造法。
【請求項３５】Ａｒが置換基を有してもよいフェニル
基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有して
もよいピリジル基、または置換基を有しても良いインド
リル基である請求項２７〜３４のいずれかに記載の製造
法。
【請求項３６】置換基がＮ−置換アミノ基、ハロゲ
ン、炭素数１〜１０のアルコキシ基からなる群より選択
された少なくとも１種である請求項３５に記載の製造
法。
【請求項３７】Ａｒが４−メタンスルホニルアミノフ
ェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、３，４−ジメ
トキシフェニル基、又はナフチタレン−１−イル基であ
る請求項２７〜３４のいずれかに記載の製造法。
【請求項３８】Ａｒが４−ニトロフェニル基である一
般式（２ａ）；【化８】（式中、Ｒ、＊は上記に同じ。）で表される光学活性４
−（４−ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテ
ン酸誘導体を遷移金属触媒存在下に水素化すると同時に
ニトロ基も還元し、一般式（３ｂ）：【化９】（式中、Ｒ、＊は上記に同じ。）で表される光学活性４
−（４―アミノフェニル）−４−ヒドロキシ酪酸誘導体
を製造することを特徴とする、請求項２７〜３４のいず
れかに記載の製造法。
【請求項３９】Ｒが炭素数１〜１０のアルキル基であ
る請求項２７〜３８のいずれかに記載の製造法。
【請求項４０】Ｒがメチル基またはエチル基である請
求項２７〜３９に記載の製造法。
【請求項４１】請求項１２〜２６のいずれかに記載の
方法により製造された光学活性４−アリール−４−ヒド
ロキシ−２−ブテン酸誘導体を出発原料に用いることを
特徴とする、請求項２７〜４０のいずれかに記載の製造
法。
【請求項４２】請求項１２〜２６のいずれかに記載の
方法により製造された一般式（２ａ）；【化１０】（式中、Ｒ、＊は上記に同じ。）で表される光学活性４
−（４−ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテ
ン酸誘導体を遷移金属触媒存在下に水素化すると同時に
ニトロ基を還元するか、又は、請求項１２〜２６のいず
れかに記載の方法により製造された一般式（３a）：【化１１】（式中、Ｒ、＊は上記に同じ。）で表される光学活性４
−（４―ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ酪酸誘導体
を、遷移金属触媒存在下にニトロ基を還元することによ
り、一般式（３ｂ）：【化１２】（式中、Ｒ、＊は上記に同じ。）で表される光学活性４
−（４―アミノフェニル）−４−ヒドロキシ酪酸誘導体
を製造し、更にアミノ基を保護することを特徴とする、
一般式（３ｃ）：【化１３】（式中、Ｒ、＊は上記に同じ。Ｐ¹、Ｐ²は、独立して水
素原子、又はアミノ基の保護基を表し、Ｐ¹とＰ²が一緒
になってフタルロイル基であってもよく、Ｐ¹とＰ²が共
に水素原子であることはない。）で表される光学活性４
−（４―Ｎ−保護アミノフェニル）−４−ヒドロキシ酪
酸誘導体の製造法。
【請求項４３】遷移金属触媒が、白金、ロジウム、パ
ラジウム、ルテニウム、又はニッケル触媒である請求項
４２に記載の製造法。
【請求項４４】遷移金属触媒が、白金、ロジウム、パ
ラジウム、ルテニウム、又はニッケルの金属、若しくは
その塩化物、臭化物、ヨウ化物、硝酸塩、硫酸塩、酸化
物、硫化物、硼化物、水酸化物、シアン化物、アセチル
アセトネート、酢酸塩、又はトリフルオロ酢酸塩である
請求項４２記載の製造法。
【請求項４５】遷移金属触媒が、酸化白金、酸化パラ
ジウム、プラチナブラック、パラジウムブラック、ラネ
ーニッケル、又は硼化ニッケルである請求項４２記載の
製造法。
【請求項４６】遷移金属触媒が、炭素、アルミナ、シ
リカーアルミナ、シリカ、炭酸バリウム、硫酸バリウ
ム、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、
ゼオライト、又はアスベストに坦持された白金、ロジウ
ム、ルテニウム、又はパラジウムの金属、若しくはその
硫化物、又は水酸化物である請求項４２記載の製造法。
【請求項４７】遷移金属触媒が、パラジウム−炭素、
ロジウム−炭素、白金−炭素、ルテニウム−炭素、パラ
ジウム−アルミナ、白金−アルミナ、パラジウム−炭酸
カルシウム、白金−炭酸カルシウム、パラジウム−硫酸
バリウム、又は白金−硫酸バリウムである請求項４２記
載の製造法。
【請求項４８】触媒量の塩基の存在下に還元を行うこ
とを特徴とする請求項４２〜４７のいずれかに記載の製
造法。
【請求項４９】塩基が、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、ナトリウムメトキシド、ナ
トリウムエトキシド、アンモニア、トリエチルアミン、
又はピリジンである請求項４８に記載の製造法。
【請求項５０】アミノ基の保護を塩基存在下で行うこ
とを特徴とする請求項４２〜４９のいずれかに記載の製
造法。
【請求項５１】塩基が第３級アミン類である請求項５
０記載の製造法。
【請求項５２】第３級アミン類がピリジンまたはトリ
エチルアミンである請求項５１記載の製造法。
【請求項５３】Ｐ¹がメタンスルホニル基、ベンゼン
スルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、ｏ−ニトロ
ベンゼンスルホニル基、ｐ−ニトロベンゼンスルホニ
ル基、トリフルオルメタンスルホニル基、アセチル基、
ピバロイル基、ベンゾイル基、トリフルオロアセチル
基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ
ｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジロキシカルボニ
ル基であり、Ｐ²が水素原子であるか、又は、Ｐ¹とＰ²
がベンジル基であるか、又はＰ¹とＰ²が一緒になってフ
タロイル基である請求項４２〜５２のいずれかに記載の
製造法。
【請求項５４】Ｐ¹がメタンスルホニル基であり、Ｐ²
が水素原子である請求項４２〜５２のいずれかに記載の
製造法。
【請求項５５】不純物が混入している一般式（２
ａ）；【化１４】（式中、Ｒ、＊は上記に同じ。）で表される光学活性４
−（４−ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテ
ン酸誘導体から有機溶剤を用いて、前記式（２ａ）で表
される化合物に混入している不純物を除去し、前記式
（２ａ）で表される化合物を結晶として取得することを
特徴とする単離精製法。
【請求項５６】前記式（２ａ）で表される光学活性４
−（４−ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−ブテ
ン酸誘導体に混入している不純物が、前記式（２ａ）で
表される化合物の鏡像異性体である請求項５５記載の単
離精製法。
【請求項５７】有機溶剤がエステル系溶剤、エーテル
系溶剤、ケトン系溶剤、ニトリル系溶剤、ハロゲン系溶
剤、又はアルコールらなる群より選択された少なくとも
１種である請求項５５、又は５６に記載の単離精製法。
【請求項５８】有機溶剤が酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸プロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｔｅｒｔ−ブチ
ル、プロピオン酸メチル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエー
テル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ
ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキ
サン、アニソール、アセトン、メチルエチルケトン、ジ
エチルケトン、アセトニトリル、プロピオニトリル、塩
化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジク
ロロエタン、クロロベンゼン、メタノール、エタノー
ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノ
ールからなる群より選択された少なくとも１種である請
求項５５、又は５６に記載の単離精製法。
【請求項５９】有機溶剤が酢酸エチルである請求項５
５、又は５６に記載の製造法。
【請求項６０】前記式（２ａ）で表される化合物の収
量、処理濃度、液性状、得られる結晶の物性のうち少な
くとも１つを改善するために、さらに補助的な溶剤をを
用いて行う請求項５５〜５９のいずれかに記載の単離精
製法。
【請求項６１】補助的な溶剤が水、又は炭化水素系溶
剤である請求項６０に記載の単離精製法。
【請求項６２】炭化水素系溶剤が、ペンタン、ヘキサ
ン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、エ
チルベンゼン、プロピルベンゼン、ｏ−キシレン、ｍ−
キシレン、ｐ−キシレンからなる群より選択された少な
くとも１種である請求項６１記載の単離精製法。
【請求項６３】炭化水素系溶剤が、ヘキサン、又はト
ルエンである請求項６１記載の製造法。
【請求項６４】補助的な溶剤は、結晶化のための操作
が終了した時点で、有機溶剤と前記補助的な溶剤との容
量比（有機溶剤／前記補助的な溶剤）が、１０以下とな
る量で用いられる請求項６０〜６３のいずれかに記載の
単離精製法。
【請求項６５】請求項１２〜２６のいずれかに記載の
方法により製造された前記式（２ａ）で表される光学活
性４−（ｐ−ニトロフェニル）−４−ヒドロキシ−２−
ブテン酸誘導体を用いることを特徴とする請求項５５〜
６４のいずれかにに記載の単離精製法。