JP2002208589A - ガス分離ボックス - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 プロセス・ガスの供給、排出、パージが可能
であり、単一のガス取扱装置で複数のプロセス・ガスを
取扱い可能なガス取扱装置を提供すること。 【解決手段】 ガス分離ボックス１０は、エンクロージ
ャ１４と、エンクロージャ内に収容された複数のガス・
スティックとを含み、各ガス・スティックが、ガス・ス
ティック内へのプロセス・ガスの流れを制御するための
第１のプロセス・ガス・セクションと、パージ・ガスの
流れを制御するためのパージ・ガス・セクションと、ガ
ス・スティックからのプロセス・ガスまたはパージ・ガ
スの流出を制御するための第１の排出弁と、閉位置のと
きにプロセス・ガスが流出できるようにし、開位置のと
きにパージ・ガスが自由に流動できるようにするブリー
ド弁と、真空を引いて残留プロセス・ガスを第１の排出
弁およびブリード弁を介して排出する真空発生器モジュ
ールとを含む排出セクションとを含む。
であり、単一のガス取扱装置で複数のプロセス・ガスを
取扱い可能なガス取扱装置を提供すること。 【解決手段】 ガス分離ボックス１０は、エンクロージ
ャ１４と、エンクロージャ内に収容された複数のガス・
スティックとを含み、各ガス・スティックが、ガス・ス
ティック内へのプロセス・ガスの流れを制御するための
第１のプロセス・ガス・セクションと、パージ・ガスの
流れを制御するためのパージ・ガス・セクションと、ガ
ス・スティックからのプロセス・ガスまたはパージ・ガ
スの流出を制御するための第１の排出弁と、閉位置のと
きにプロセス・ガスが流出できるようにし、開位置のと
きにパージ・ガスが自由に流動できるようにするブリー
ド弁と、真空を引いて残留プロセス・ガスを第１の排出
弁およびブリード弁を介して排出する真空発生器モジュ
ールとを含む排出セクションとを含む。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般に、ガス取扱
装置に関し、より具体的には、プロセス・ガスの供給、
排出、パージが可能であり、単一のガス取扱装置で複数
のプロセス・ガスを取り扱うことが可能なガス取扱装置
に関する。
装置に関し、より具体的には、プロセス・ガスの供給、
排出、パージが可能であり、単一のガス取扱装置で複数
のプロセス・ガスを取り扱うことが可能なガス取扱装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造プロセスでは、ステッパ、エ
ッチング装置などの様々なプロセス・ツールを使用する
が、いずれも均一な品質の半導体デバイスを生産するた
めにプロセス・ガスの一定供給を必要とする。１つのツ
ールが、窒素、酸素、水素、三塩化ホウ素、フッ素、四
フッ化ケイ素、シラン、アルゴンなどの複数のプロセス
・ガスの供給ラインを必要とする場合もある。また、多
くのプロセス・ガスは、可燃性、有毒性、または発火性
であり、したがって、安全に使用するために特別な予防
措置を必要とする。
ッチング装置などの様々なプロセス・ツールを使用する
が、いずれも均一な品質の半導体デバイスを生産するた
めにプロセス・ガスの一定供給を必要とする。１つのツ
ールが、窒素、酸素、水素、三塩化ホウ素、フッ素、四
フッ化ケイ素、シラン、アルゴンなどの複数のプロセス
・ガスの供給ラインを必要とする場合もある。また、多
くのプロセス・ガスは、可燃性、有毒性、または発火性
であり、したがって、安全に使用するために特別な予防
措置を必要とする。
【０００３】ガス分離ボックスとしても知られる従来の
ガス取扱装置は、通常、ガス・スティックまたはガス分
離アセンブリとしても知られる複数のガス取扱ユニット
を含む。簡潔にするため、ガス取扱装置は、以後、ガス
分離ボックスまたはＧＩＢと呼び、ガス取扱ユニット
は、以後、ガス・スティックと呼ぶ。
ガス取扱装置は、通常、ガス・スティックまたはガス分
離アセンブリとしても知られる複数のガス取扱ユニット
を含む。簡潔にするため、ガス取扱装置は、以後、ガス
分離ボックスまたはＧＩＢと呼び、ガス取扱ユニット
は、以後、ガス・スティックと呼ぶ。
【０００４】各ガス・スティックは、当業者にとって周
知の通り、様々なタイプのユニオン・フィッティングに
よって互いに結合された様々な止め弁、マス・フロー・
コントローラ、圧力変換器、フィルタなどを有する可能
性がある。また、ガス・スティックは、遠隔ガス供給源
からプロセス・ガスを提供するガス入口と、配置するこ
ともあるツールに至るガス出口に結合される。各ガス・
スティックの構成要素は、取付けブロックに堅く固定さ
れる。次に、取付けブロックにこのように取り付けられ
た各ガス・スティックの構成要素は、エンクロージャ内
に位置決めされて、ＧＩＢを構成する。安全上の理由
で、ＧＩＢに至るすべてのチューブは、ＧＩＢに溶接し
て漏れを防止する。
知の通り、様々なタイプのユニオン・フィッティングに
よって互いに結合された様々な止め弁、マス・フロー・
コントローラ、圧力変換器、フィルタなどを有する可能
性がある。また、ガス・スティックは、遠隔ガス供給源
からプロセス・ガスを提供するガス入口と、配置するこ
ともあるツールに至るガス出口に結合される。各ガス・
スティックの構成要素は、取付けブロックに堅く固定さ
れる。次に、取付けブロックにこのように取り付けられ
た各ガス・スティックの構成要素は、エンクロージャ内
に位置決めされて、ＧＩＢを構成する。安全上の理由
で、ＧＩＢに至るすべてのチューブは、ＧＩＢに溶接し
て漏れを防止する。
【０００５】Barr他の米国特許第５７３２７４４号、Se
aman他の米国特許５９１５４１４号、Johnsonの米国特
許第６０７６５４３号に示されているものを含む様々な
ＧＩＢが従来技術に例示されているが、これらの特許の
開示内容は参照により本明細書に組み込まれる。Seaman
他に開示されているように、複数のガス・スティックは
エンクロージャ内に位置する。パージ・ガスはマニホル
ドから供給され、ＧＩＢの外部で手動制御される。
aman他の米国特許５９１５４１４号、Johnsonの米国特
許第６０７６５４３号に示されているものを含む様々な
ＧＩＢが従来技術に例示されているが、これらの特許の
開示内容は参照により本明細書に組み込まれる。Seaman
他に開示されているように、複数のガス・スティックは
エンクロージャ内に位置する。パージ・ガスはマニホル
ドから供給され、ＧＩＢの外部で手動制御される。
【０００６】従来技術からいくつかの欠点が明らかにな
っている。第１に、パージなどのＧＩＢの一部の機能が
ＧＩＢ内に収容されていないので、この外部機能に対応
するためにＧＩＢの周りに余分な空間を設ける必要があ
る。第２に、所与のＧＩＢには１種類のプロセス・ガス
しか供給されない。したがって、複数のプロセス・ガス
に対応するためには複数のＧＩＢが存在する必要があ
る。第３に従来のＧＩＢは手動制御され、必ず、ＧＩＢ
に付き添うオペレータを用意する必要がある。第４に、
従来のＧＩＢに存在する機能は限られている。
っている。第１に、パージなどのＧＩＢの一部の機能が
ＧＩＢ内に収容されていないので、この外部機能に対応
するためにＧＩＢの周りに余分な空間を設ける必要があ
る。第２に、所与のＧＩＢには１種類のプロセス・ガス
しか供給されない。したがって、複数のプロセス・ガス
に対応するためには複数のＧＩＢが存在する必要があ
る。第３に従来のＧＩＢは手動制御され、必ず、ＧＩＢ
に付き添うオペレータを用意する必要がある。第４に、
従来のＧＩＢに存在する機能は限られている。
【０００７】従来のＧＩＢに固有の問題点を解決するＧ
ＩＢを備えることは望ましいことであろう。
ＩＢを備えることは望ましいことであろう。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
一目的は、ＧＩＢのすべての機能をＧＩＢ内に収容する
ことにある。
一目的は、ＧＩＢのすべての機能をＧＩＢ内に収容する
ことにある。
【０００９】本発明の他の目的は、同時に複数のプロセ
ス・ガスを取り扱うことができるＧＩＢを得ることにあ
る。
ス・ガスを取り扱うことができるＧＩＢを得ることにあ
る。
【００１０】本発明のさらに他の目的は、空気圧式また
は電子式あるいはその両方で制御されるＧＩＢを得るこ
とにある。
は電子式あるいはその両方で制御されるＧＩＢを得るこ
とにある。
【００１１】本発明のさらに他の目的は、プロセス・ガ
スの供給、排出、パージという複数の機能を取り扱うこ
とができるＧＩＢを得ることにある。
スの供給、排出、パージという複数の機能を取り扱うこ
とができるＧＩＢを得ることにある。
【００１２】本発明のこれらおよびその他の目的は、添
付図面と共に考察する本発明の以下の説明を参照する
と、より明らかになるだろう。
付図面と共に考察する本発明の以下の説明を参照する
と、より明らかになるだろう。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、本発明
の第１の態様により、ガス・スティック内へのプロセス
・ガスの流れをゲート制御するための第１のプロセス・
ガス入口弁を含むプロセス・ガス・セクションと、ガス
・スティック内へのパージ・ガスの流れをゲート制御す
るための空気抜き弁を含むパージ・ガス・セクション
と、ガス・スティックからのプロセス・ガスまたはパー
ジ・ガスの流出をゲート制御するための第１の排出弁
と、閉位置のときにプロセス・ガスがブリード弁を介し
て流出できるようにし、開位置のときにパージ・ガスが
ブリード弁を介して自由に流動できるようにするブリー
ド弁と、真空を引いてガス・スティックまたはツール内
のパージ・ガスまたはいずれかの残留プロセス・ガスを
第１の排出弁およびブリード弁を介してガス・スティッ
クから排気流に排出する真空発生器モジュールとを含む
排出セクションとを含むガス・スティックを提供するこ
とにより達成された。
の第１の態様により、ガス・スティック内へのプロセス
・ガスの流れをゲート制御するための第１のプロセス・
ガス入口弁を含むプロセス・ガス・セクションと、ガス
・スティック内へのパージ・ガスの流れをゲート制御す
るための空気抜き弁を含むパージ・ガス・セクション
と、ガス・スティックからのプロセス・ガスまたはパー
ジ・ガスの流出をゲート制御するための第１の排出弁
と、閉位置のときにプロセス・ガスがブリード弁を介し
て流出できるようにし、開位置のときにパージ・ガスが
ブリード弁を介して自由に流動できるようにするブリー
ド弁と、真空を引いてガス・スティックまたはツール内
のパージ・ガスまたはいずれかの残留プロセス・ガスを
第１の排出弁およびブリード弁を介してガス・スティッ
クから排気流に排出する真空発生器モジュールとを含む
排出セクションとを含むガス・スティックを提供するこ
とにより達成された。
【００１４】本発明の第２の態様によれば、エンクロー
ジャと、エンクロージャ内に収容された複数のガス・ス
ティックとを含み、各ガス・スティックが、ガス・ステ
ィック内へのプロセス・ガスの流れをゲート制御するた
めの第１のプロセス・ガス入口弁を含むプロセス・ガス
・セクションと、ガス・スティック内へのパージ・ガス
の流れをゲート制御するための空気抜き弁を含むパージ
・ガス・セクションと、ガス・スティックからのプロセ
ス・ガスまたはパージ・ガスの流出をゲート制御するた
めの第１の排出弁と、閉位置のときにはプロセス・ガス
がブリード弁を介して流出できるようにし、開位置のと
きにはパージ・ガスがブリード弁を自由に流動できるよ
うにするブリード弁と、真空を引いてガス・スティック
またはツール内のパージ・ガスまたはいずれかの残留プ
ロセス・ガスを第１の排出弁およびブリード弁を介して
ガス・スティックから排気流に排出する真空発生器モジ
ュールとを含む排出セクションとを含む、ガス分離ボッ
クスが提供される。
ジャと、エンクロージャ内に収容された複数のガス・ス
ティックとを含み、各ガス・スティックが、ガス・ステ
ィック内へのプロセス・ガスの流れをゲート制御するた
めの第１のプロセス・ガス入口弁を含むプロセス・ガス
・セクションと、ガス・スティック内へのパージ・ガス
の流れをゲート制御するための空気抜き弁を含むパージ
・ガス・セクションと、ガス・スティックからのプロセ
ス・ガスまたはパージ・ガスの流出をゲート制御するた
めの第１の排出弁と、閉位置のときにはプロセス・ガス
がブリード弁を介して流出できるようにし、開位置のと
きにはパージ・ガスがブリード弁を自由に流動できるよ
うにするブリード弁と、真空を引いてガス・スティック
またはツール内のパージ・ガスまたはいずれかの残留プ
ロセス・ガスを第１の排出弁およびブリード弁を介して
ガス・スティックから排気流に排出する真空発生器モジ
ュールとを含む排出セクションとを含む、ガス分離ボッ
クスが提供される。
【００１５】新規と思われる本発明の特徴ならびに本発
明の特有な要素は特許請求の範囲に具体的に記載されて
いる。添付図面は例示のみを目的とし、原寸に比例して
示されていない。しかし、本発明自体は、構成および動
作方法のいずれについても、添付図面に関連して以下に
示す詳細な説明を参照することによって最もよく理解で
きよう。
明の特有な要素は特許請求の範囲に具体的に記載されて
いる。添付図面は例示のみを目的とし、原寸に比例して
示されていない。しかし、本発明自体は、構成および動
作方法のいずれについても、添付図面に関連して以下に
示す詳細な説明を参照することによって最もよく理解で
きよう。
【００１６】
【発明の実施の形態】添付図面をより詳細に参照し、特
に図１を参照すると、本発明のガス分離ボックス（以
下、ＧＩＢ）が位置する環境が示されている。ＧＩＢ１
０は、ガス・スティックおよび制御モジュール１２を収
容するエンクロージャ１４から構成され、ツール１８に
近接して位置する。プロセス・ガスは、供給ライン２０
によってガス供給キャビネット１６からＧＩＢ１０に供
給される。ＧＩＢ１０からツール１８に供給する追加の
供給ライン２２が存在する場合もある。
に図１を参照すると、本発明のガス分離ボックス（以
下、ＧＩＢ）が位置する環境が示されている。ＧＩＢ１
０は、ガス・スティックおよび制御モジュール１２を収
容するエンクロージャ１４から構成され、ツール１８に
近接して位置する。プロセス・ガスは、供給ライン２０
によってガス供給キャビネット１６からＧＩＢ１０に供
給される。ＧＩＢ１０からツール１８に供給する追加の
供給ライン２２が存在する場合もある。
【００１７】図２に示す環境は図１に示すものと同一で
あるが、本発明によるＧＩＢ１０の制御モジュール１２
はエンクロージャ１４から遠隔に位置する。たとえば、
エンクロージャ１４は壁面または床に取り付けることが
でき、一方制御モジュール１２はツール付近に取り付け
られる。制御モジュール１２とエンクロージャ１４は配
線２４を介してよりやり取りする。
あるが、本発明によるＧＩＢ１０の制御モジュール１２
はエンクロージャ１４から遠隔に位置する。たとえば、
エンクロージャ１４は壁面または床に取り付けることが
でき、一方制御モジュール１２はツール付近に取り付け
られる。制御モジュール１２とエンクロージャ１４は配
線２４を介してよりやり取りする。
【００１８】次に図３を参照すると、壁面または柱に取
り付けられたＧＩＢ１０の好ましい実施形態が示されて
いる。エンクロージャ１４は、エンクロージャ１４内の
ガス・スティックにアクセスできるようにするためにド
ア２６を有する。エンクロージャ１４の上部には、図１
および図２に示す供給キャビネット１６からガス・ステ
ィックにプロセス・ガスを供給する供給ライン３０と、
ガス・スティックからツールにプロセス・ガスを供給す
る出口ライン３２とがある。エンクロージャ１４は排気
管２８に隣接して取り付けられていることが好ましい。
り付けられたＧＩＢ１０の好ましい実施形態が示されて
いる。エンクロージャ１４は、エンクロージャ１４内の
ガス・スティックにアクセスできるようにするためにド
ア２６を有する。エンクロージャ１４の上部には、図１
および図２に示す供給キャビネット１６からガス・ステ
ィックにプロセス・ガスを供給する供給ライン３０と、
ガス・スティックからツールにプロセス・ガスを供給す
る出口ライン３２とがある。エンクロージャ１４は排気
管２８に隣接して取り付けられていることが好ましい。
【００１９】本発明の好ましい実施形態では、ガス・ス
ティックの機能は制御モジュール１２によって制御され
る。図３に示す制御モジュール１２の外観は例示のため
に示したにすぎず、限定するものではない。制御モジュ
ール１２の前面には、オペレータ・インタフェース５０
上で制御すべきガス・スティックを選択するアクティブ
・チャネル・セレクタ３２と、制御モジュール１２用の
オン／オフ・スイッチ３４と、エンクロージャ１４内の
圧力を監視し制御する不完全パージ・インディケータ３
６、パージ調整器３８、圧力計４０と、空気圧計４２
と、それぞれのガス・スティックの入口弁の動作を空気
圧式に抑制する空気圧ロックアウト４４と、各ガス・ス
ティック用の入口弁が使用可能であるかまたは閉鎖され
ているかを示す空気圧インディケータ４６と、ガス・ス
ティック内のすべての弁を閉じる緊急オフ（ＥＭＯ）ボ
タンとを含む様々な制御部がある。
ティックの機能は制御モジュール１２によって制御され
る。図３に示す制御モジュール１２の外観は例示のため
に示したにすぎず、限定するものではない。制御モジュ
ール１２の前面には、オペレータ・インタフェース５０
上で制御すべきガス・スティックを選択するアクティブ
・チャネル・セレクタ３２と、制御モジュール１２用の
オン／オフ・スイッチ３４と、エンクロージャ１４内の
圧力を監視し制御する不完全パージ・インディケータ３
６、パージ調整器３８、圧力計４０と、空気圧計４２
と、それぞれのガス・スティックの入口弁の動作を空気
圧式に抑制する空気圧ロックアウト４４と、各ガス・ス
ティック用の入口弁が使用可能であるかまたは閉鎖され
ているかを示す空気圧インディケータ４６と、ガス・ス
ティック内のすべての弁を閉じる緊急オフ（ＥＭＯ）ボ
タンとを含む様々な制御部がある。
【００２０】次に図４を参照すると、複数のガス・ステ
ィック５２を明らかにするために、ドア２６（図３に示
す）はエンクロージャ１４から取り外されている。図４
に示すように、それぞれの関連配管をすべて備えた４つ
のガス・スティックが存在する。ここでは４つしか存在
しないが、図４に示すエンクロージャ１４の実施形態は
５つのガス・スティック用の容量を有する。このＧＩＢ
は、所与の時点で５つ以上または５つ以下のガス・ステ
ィックを収容するように設計することができる。
ィック５２を明らかにするために、ドア２６（図３に示
す）はエンクロージャ１４から取り外されている。図４
に示すように、それぞれの関連配管をすべて備えた４つ
のガス・スティックが存在する。ここでは４つしか存在
しないが、図４に示すエンクロージャ１４の実施形態は
５つのガス・スティック用の容量を有する。このＧＩＢ
は、所与の時点で５つ以上または５つ以下のガス・ステ
ィックを収容するように設計することができる。
【００２１】安全上の理由で、エンクロージャは加圧さ
れている。周囲空気は、エンクロージャ１４内の潜在的
な各漏れ箇所を通過して約１００直線フィート／分の速
度で流れなければならない。次に図４および図８を参照
すると、新鮮な周囲空気は、エンクロージャ１４の外面
に位置する穿孔９０を介してエンクロージャ１４内に引
き込まれ、穿孔９２を介して排気管２８に引き出され、
ガス・スティック５２の様々な構成要素から漏れる可能
性のあるプロセス・ガスを除去する。穿孔９２は、隣接
するガス・スティック同士の間に位置するように配置さ
れている。図４に示すエンクロージャ１４内の穿孔５４
は、通常、第５のガス・スティックの供給ライン３０と
出口ライン３２でふさがれることになる。
れている。周囲空気は、エンクロージャ１４内の潜在的
な各漏れ箇所を通過して約１００直線フィート／分の速
度で流れなければならない。次に図４および図８を参照
すると、新鮮な周囲空気は、エンクロージャ１４の外面
に位置する穿孔９０を介してエンクロージャ１４内に引
き込まれ、穿孔９２を介して排気管２８に引き出され、
ガス・スティック５２の様々な構成要素から漏れる可能
性のあるプロセス・ガスを除去する。穿孔９２は、隣接
するガス・スティック同士の間に位置するように配置さ
れている。図４に示すエンクロージャ１４内の穿孔５４
は、通常、第５のガス・スティックの供給ライン３０と
出口ライン３２でふさがれることになる。
【００２２】次に図５を参照すると、本発明によるガス
・スティック５２の１つが示されている。ガス・スティ
ック５２のすべての構成要素は、剛性ベース７６に取り
付けられ、次にエンクロージャ１４の内面に固定されて
いる。ガス・スティック５２の構成要素としては、供給
ライン３０に接続するための取付け具８２と、第１の入
口弁５４（Ｖ１）と、第１の圧力変換器５６（ＰＴ１）
と、第２の入口弁５８（Ｖ２）と、クロスオーバ６２
と、空気抜き弁６０（Ｖ３）と、ガス・スティック５２
をパージ・ガス供給源（たとえば、窒素）に接続するた
めの取付け具７８と、ガス・スティック５２をツールへ
の出口ライン３２に接続するための取付け具８０と、第
１の排出弁６４（Ｖ４Ａ）と、ブリード弁６６（Ｖ６）
と、第２の排出弁６８（Ｖ４Ｂ）と、第２の変換器７０
（ＰＴ２）と、真空発生器モジュール７２（Ｖ５）と、
排気管２８への排気ライン９４（図４および図８に示
す）に接続するための取付け具７４と、空気圧ハーネス
８４と、電気ハーネス８６とを含む。ガス・スティック
５２の空気圧配管の概略図は図６に示す。
・スティック５２の１つが示されている。ガス・スティ
ック５２のすべての構成要素は、剛性ベース７６に取り
付けられ、次にエンクロージャ１４の内面に固定されて
いる。ガス・スティック５２の構成要素としては、供給
ライン３０に接続するための取付け具８２と、第１の入
口弁５４（Ｖ１）と、第１の圧力変換器５６（ＰＴ１）
と、第２の入口弁５８（Ｖ２）と、クロスオーバ６２
と、空気抜き弁６０（Ｖ３）と、ガス・スティック５２
をパージ・ガス供給源（たとえば、窒素）に接続するた
めの取付け具７８と、ガス・スティック５２をツールへ
の出口ライン３２に接続するための取付け具８０と、第
１の排出弁６４（Ｖ４Ａ）と、ブリード弁６６（Ｖ６）
と、第２の排出弁６８（Ｖ４Ｂ）と、第２の変換器７０
（ＰＴ２）と、真空発生器モジュール７２（Ｖ５）と、
排気管２８への排気ライン９４（図４および図８に示
す）に接続するための取付け具７４と、空気圧ハーネス
８４と、電気ハーネス８６とを含む。ガス・スティック
５２の空気圧配管の概略図は図６に示す。
【００２３】図５および図６に関連して、ガス・スティ
ック５２の動作について説明する。ガス・スティック５
２は、３つのセクション、すなわち、プロセス・ガス分
離セクション、パージ・ガス・セクション、排出セクシ
ョンから構成される。
ック５２の動作について説明する。ガス・スティック５
２は、３つのセクション、すなわち、プロセス・ガス分
離セクション、パージ・ガス・セクション、排出セクシ
ョンから構成される。
【００２４】プロセス・ガス分離セクションは、ツール
１８へのプロセス・ガスの流れを制御し、たとえばベロ
ーまたはダイヤフラム弁にもすることができる入口弁Ｖ
１５４から構成される。好ましくは、プロセス・ガス分
離セクションは、圧力変換器ＰＴ１ ５６と第２の入口
弁Ｖ２ ５８をさらに含み、この弁もベローまたはダイ
ヤフラム弁にすることができる。プロセス・ガス分離セ
クションはＰＴ１５６およびＶ２ ５８がなくても十分
機能するが、これらの部材はどちらも安全上の理由で存
在する。好ましくは、Ｖ１ ５４は高圧弁（たとえば、
３５００ｐｓｉ用の定格）であり、Ｖ２ ５８は低圧弁
（たとえば、１２５ｐｓｉ用の定格）である。Ｖ１ ５
４は、プロセス・ガスがツール１８に供給される場合の
み開いている。それ以外のいずれの時点でもＶ１ ５４
は閉じている。
１８へのプロセス・ガスの流れを制御し、たとえばベロ
ーまたはダイヤフラム弁にもすることができる入口弁Ｖ
１５４から構成される。好ましくは、プロセス・ガス分
離セクションは、圧力変換器ＰＴ１ ５６と第２の入口
弁Ｖ２ ５８をさらに含み、この弁もベローまたはダイ
ヤフラム弁にすることができる。プロセス・ガス分離セ
クションはＰＴ１５６およびＶ２ ５８がなくても十分
機能するが、これらの部材はどちらも安全上の理由で存
在する。好ましくは、Ｖ１ ５４は高圧弁（たとえば、
３５００ｐｓｉ用の定格）であり、Ｖ２ ５８は低圧弁
（たとえば、１２５ｐｓｉ用の定格）である。Ｖ１ ５
４は、プロセス・ガスがツール１８に供給される場合の
み開いている。それ以外のいずれの時点でもＶ１ ５４
は閉じている。
【００２５】パージ・ガス・セクションは、プロセス・
ガス分離セクション（Ｖ１ ５４まで）、排出セクショ
ン、ツール１８へのプロセス・ガス出口ライン３２を介
してパージ・ガス（たとえば、窒素、アルゴンなど）を
流すことができるパージ・ガス供給源として動作する。
パージ・ガス・セクションは、好ましくは低圧ベローま
たはダイヤフラム弁である弁Ｖ３を含む。
ガス分離セクション（Ｖ１ ５４まで）、排出セクショ
ン、ツール１８へのプロセス・ガス出口ライン３２を介
してパージ・ガス（たとえば、窒素、アルゴンなど）を
流すことができるパージ・ガス供給源として動作する。
パージ・ガス・セクションは、好ましくは低圧ベローま
たはダイヤフラム弁である弁Ｖ３を含む。
【００２６】排出セクションは、排出弁Ｖ４Ａ ６４
と、ブリード弁Ｖ６ ６６と、真空発生器モジュールＶ
５ ７２とを含む。好ましくは、第２の排出弁Ｖ４Ｂ
６８と圧力交換機ＰＴ２ ７０も存在し、この場合も、
これらは安全上の理由で存在する。弁Ｖ４Ａ ６４およ
びＶ４Ｂ ６８は好ましくは低圧ベローまたはダイヤフ
ラム弁である。真空発生器モジュールＶ５ ７２は、結
合弁と逆止め弁とベンチュリ管が１つのユニットになっ
たものである。ブリード弁Ｖ６ ６６は、好ましくは、
入口から出口まで貫通した０．００８インチのオリフィ
スを備えたダイヤフラム弁である。ブリード弁Ｖ６ ６
６が閉じていると、プロセス・ガスはブリード弁Ｖ６
６６内のオリフィスをゆっくり通過（すなわち、ブリー
ド）することができる。ブリード弁Ｖ６ ６６が開いて
いると、プロセス・ガスは自由に通過することができ
る。窒素（または同様のガス）はＶ５ ７２のベンチュ
リ管を介して流れ、真空を作ってガス・スティック５２
およびプロセス・ガス出口ライン３２からプロセス・ガ
スを排出するとともに、排気流内のプロセス・ガスを希
釈するための排気流も作成する。希釈したプロセス・ガ
スは、真空発生器モジュールＶ５ ７２の弁部分を介し
て排出される。ブリード弁Ｖ６ ６６は、排気系統内に
安全に排出できるように有毒で腐食性、可燃性、発火性
のプロセス・ガスの濃度を制限するために使用する。ブ
リード弁Ｖ６ ６６が閉じていると、プロセス・ガスが
窒素排気流内に流れ込み、プロセス・ガスが希釈され
る。一般に、プロセス・ガスは、排気管２８に排出され
る前に窒素排気流の２〜１０体積％まで希釈しなければ
ならない。
と、ブリード弁Ｖ６ ６６と、真空発生器モジュールＶ
５ ７２とを含む。好ましくは、第２の排出弁Ｖ４Ｂ
６８と圧力交換機ＰＴ２ ７０も存在し、この場合も、
これらは安全上の理由で存在する。弁Ｖ４Ａ ６４およ
びＶ４Ｂ ６８は好ましくは低圧ベローまたはダイヤフ
ラム弁である。真空発生器モジュールＶ５ ７２は、結
合弁と逆止め弁とベンチュリ管が１つのユニットになっ
たものである。ブリード弁Ｖ６ ６６は、好ましくは、
入口から出口まで貫通した０．００８インチのオリフィ
スを備えたダイヤフラム弁である。ブリード弁Ｖ６ ６
６が閉じていると、プロセス・ガスはブリード弁Ｖ６
６６内のオリフィスをゆっくり通過（すなわち、ブリー
ド）することができる。ブリード弁Ｖ６ ６６が開いて
いると、プロセス・ガスは自由に通過することができ
る。窒素（または同様のガス）はＶ５ ７２のベンチュ
リ管を介して流れ、真空を作ってガス・スティック５２
およびプロセス・ガス出口ライン３２からプロセス・ガ
スを排出するとともに、排気流内のプロセス・ガスを希
釈するための排気流も作成する。希釈したプロセス・ガ
スは、真空発生器モジュールＶ５ ７２の弁部分を介し
て排出される。ブリード弁Ｖ６ ６６は、排気系統内に
安全に排出できるように有毒で腐食性、可燃性、発火性
のプロセス・ガスの濃度を制限するために使用する。ブ
リード弁Ｖ６ ６６が閉じていると、プロセス・ガスが
窒素排気流内に流れ込み、プロセス・ガスが希釈され
る。一般に、プロセス・ガスは、排気管２８に排出され
る前に窒素排気流の２〜１０体積％まで希釈しなければ
ならない。
【００２７】ブリード弁Ｖ６ ６６が閉じているときと
ブリード弁Ｖ６ ６６が開いているときの流量の差は、
プロセス・ガスとその比重、ダイヤフラム内のオリフィ
スのサイズによって決まる。ブリード弁Ｖ６ ６６は、
使用が予想されるプロセス・ガス用のサイズになるもの
と思われる。たとえば、シランは、ブリード弁Ｖ６６６
が閉じているときに４４．７ｐｓｉａの圧力でオリフィ
スを介して０．８０リットル／分の流量になる。ブリー
ド弁Ｖ６ ６６が完全に開いていると、シランは、４
４．７ｐｓｉａの圧力で５６．６リットル／分の流量に
なるだろう。
ブリード弁Ｖ６ ６６が開いているときの流量の差は、
プロセス・ガスとその比重、ダイヤフラム内のオリフィ
スのサイズによって決まる。ブリード弁Ｖ６ ６６は、
使用が予想されるプロセス・ガス用のサイズになるもの
と思われる。たとえば、シランは、ブリード弁Ｖ６６６
が閉じているときに４４．７ｐｓｉａの圧力でオリフィ
スを介して０．８０リットル／分の流量になる。ブリー
ド弁Ｖ６ ６６が完全に開いていると、シランは、４
４．７ｐｓｉａの圧力で５６．６リットル／分の流量に
なるだろう。
【００２８】上記のように、第２の入口弁Ｖ２ ５８と
第２の排出弁Ｖ４Ｂ ６８は安全上の理由で存在する。
半導体業界で使用するには、一点故障を排除するために
２つの弁が必要である。圧力変換器ＰＴ１ ５６とＰＴ
２ ７０は、ガス・スティック５２内のガス（または真
空）の圧力を測定するために存在し、−１４．７〜１０
０ｐｓｉｇの範囲のキャパシタンス・マノメータ・タイ
プのものにすることができる。
第２の排出弁Ｖ４Ｂ ６８は安全上の理由で存在する。
半導体業界で使用するには、一点故障を排除するために
２つの弁が必要である。圧力変換器ＰＴ１ ５６とＰＴ
２ ７０は、ガス・スティック５２内のガス（または真
空）の圧力を測定するために存在し、−１４．７〜１０
０ｐｓｉｇの範囲のキャパシタンス・マノメータ・タイ
プのものにすることができる。
【００２９】本発明によるガス分離ボックス１０は、プ
ロセス・ガス・セクション、パージ・ガス・セクショ
ン、排出セクションの機能の少なくとも一部、通常は全
部を制御する制御モジュール１２をさらに含む。これら
の機能は空気圧およびソフトウェアによって制御され
る。制御モジュールの概略は図７に示す。
ロセス・ガス・セクション、パージ・ガス・セクショ
ン、排出セクションの機能の少なくとも一部、通常は全
部を制御する制御モジュール１２をさらに含む。これら
の機能は空気圧およびソフトウェアによって制御され
る。制御モジュールの概略は図７に示す。
【００３０】次に図７を参照すると、制御モジュール１
２の中心部はボックス９６で示すプログラマブル・ロジ
ック・コントローラ（ＰＬＣ）である。本発明者が使用
したＰＬＣは、Direct Logic ４０５というＰＬＣであ
る。オペレータ・インタフェース１０８は、ＧＩＢ内の
個々のガス分離アセンブリ９８（すなわち、ガス・ステ
ィック）の動作モードを選択するためにＰＬＣ９６との
インタフェースを取る。ＰＬＣは、ガス分離アセンブリ
９８上の空気圧を制御する電空制御部１００とのインタ
フェースを取る。電空制御部１００は、本質的に、ガス
分離アセンブリ９８上の個々の弁を制御する電磁弁のバ
ンクを有する制御パネルである。ＰＬＣ９６はさらに、
ハードウェア・インタロック１０２とのインタフェース
を取る。このようなハードウェア・インタロックとして
は、以下により詳細に説明するＧＩＢドア・スイッチ、
設備排気スイッチ、排気温度スイッチ、およびメイン圧
力スイッチを含む。これらのスイッチのいずれかによる
障害が発生した場合、ハードウェア・インタロック１０
２により、ＰＬＣ９６がＧＩＢを停止する。外部インタ
フェース１０４は遠隔に配置された制御パネルであり、
オペレータがＧＩＢを監視して、必要であればそれを停
止できるようにするものである。最後に、電源／緊急オ
フ（ＥＭＯ）ボタン／ロックアウト１０６は、電源スイ
ッチと、前述の緊急オフ・ボタンと、オペレータが個々
のガス・スティックを使用禁止にし、それを使用禁止位
置にロックできるようにするロックアウト機能とを含
む。ロックアウト機能については、以下により詳細に説
明する。
２の中心部はボックス９６で示すプログラマブル・ロジ
ック・コントローラ（ＰＬＣ）である。本発明者が使用
したＰＬＣは、Direct Logic ４０５というＰＬＣであ
る。オペレータ・インタフェース１０８は、ＧＩＢ内の
個々のガス分離アセンブリ９８（すなわち、ガス・ステ
ィック）の動作モードを選択するためにＰＬＣ９６との
インタフェースを取る。ＰＬＣは、ガス分離アセンブリ
９８上の空気圧を制御する電空制御部１００とのインタ
フェースを取る。電空制御部１００は、本質的に、ガス
分離アセンブリ９８上の個々の弁を制御する電磁弁のバ
ンクを有する制御パネルである。ＰＬＣ９６はさらに、
ハードウェア・インタロック１０２とのインタフェース
を取る。このようなハードウェア・インタロックとして
は、以下により詳細に説明するＧＩＢドア・スイッチ、
設備排気スイッチ、排気温度スイッチ、およびメイン圧
力スイッチを含む。これらのスイッチのいずれかによる
障害が発生した場合、ハードウェア・インタロック１０
２により、ＰＬＣ９６がＧＩＢを停止する。外部インタ
フェース１０４は遠隔に配置された制御パネルであり、
オペレータがＧＩＢを監視して、必要であればそれを停
止できるようにするものである。最後に、電源／緊急オ
フ（ＥＭＯ）ボタン／ロックアウト１０６は、電源スイ
ッチと、前述の緊急オフ・ボタンと、オペレータが個々
のガス・スティックを使用禁止にし、それを使用禁止位
置にロックできるようにするロックアウト機能とを含
む。ロックアウト機能については、以下により詳細に説
明する。
【００３１】制御モジュール１２は、図１に示すように
エンクロージャ１４に隣接する場合もあれば、図２に示
すようにエンクロージャ１４から分離されている場合も
ある。たとえば、複数のガス・スティック５２を備えた
エンクロージャ１４がツール１８付近の床に位置し、制
御モジュール１２がツール１８付近またはツール１８上
に単独で位置することもできる。
エンクロージャ１４に隣接する場合もあれば、図２に示
すようにエンクロージャ１４から分離されている場合も
ある。たとえば、複数のガス・スティック５２を備えた
エンクロージャ１４がツール１８付近の床に位置し、制
御モジュール１２がツール１８付近またはツール１８上
に単独で位置することもできる。
【００３２】現在使用されているプロセス・ガスの多く
が腐食性なので、ＧＩＢのすべての構成要素は、耐食性
材料、たとえば、ステンレス鋼で作らなければならな
い。
が腐食性なので、ＧＩＢのすべての構成要素は、耐食性
材料、たとえば、ステンレス鋼で作らなければならな
い。
【００３３】本発明によるガス分離ボックスは、好まし
くは制御モジュールによって駆動され、複数の動作モー
ドで動作可能である。このようなモードは、障害、オ
ン、システム・パージ、システム排出、ツール・ポンプ
／パージ、ローカル排出、ローカル・ポンプ／パージで
ある。それぞれのモードについて詳細に説明する。
くは制御モジュールによって駆動され、複数の動作モー
ドで動作可能である。このようなモードは、障害、オ
ン、システム・パージ、システム排出、ツール・ポンプ
／パージ、ローカル排出、ローカル・ポンプ／パージで
ある。それぞれのモードについて詳細に説明する。
【００３４】障害モードでは、障害が検出されると、選
択したガス・スティック５２上のすべての弁が閉じられ
る。システムが検出する障害としては、ＧＩＢドア・ス
イッチ障害、設備排気スイッチ障害、排気温度スイッチ
障害、メイン圧力スイッチ障害を含む。図３に関連して
前述したように、エンクロージャ１４は、エンクロージ
ャ１４内のガス・スティック５２にアクセスできるよう
にするためにドア２６を有する。ＧＩＢドアの内部には
磁気的に動作するリード・スイッチ（図示せず）が位置
する。ＧＩＢドアが閉じていないことをスイッチが検出
した場合、障害が発生し、すべてのガス・スティックが
障害モードに入る。設備排気スイッチは、十分な排気流
が排気系統内に存在することを示す。排気流が不十分で
あるとスイッチが開き、障害を発生する。排気温度スイ
ッチは、排気管内の温度を測定し、排気ダクト内に炎が
一切存在しないことを検証する熱スイッチである。メイ
ン圧力スイッチは、空気圧弁を駆動するのに十分な空気
圧が存在しないときに障害を示す。
択したガス・スティック５２上のすべての弁が閉じられ
る。システムが検出する障害としては、ＧＩＢドア・ス
イッチ障害、設備排気スイッチ障害、排気温度スイッチ
障害、メイン圧力スイッチ障害を含む。図３に関連して
前述したように、エンクロージャ１４は、エンクロージ
ャ１４内のガス・スティック５２にアクセスできるよう
にするためにドア２６を有する。ＧＩＢドアの内部には
磁気的に動作するリード・スイッチ（図示せず）が位置
する。ＧＩＢドアが閉じていないことをスイッチが検出
した場合、障害が発生し、すべてのガス・スティックが
障害モードに入る。設備排気スイッチは、十分な排気流
が排気系統内に存在することを示す。排気流が不十分で
あるとスイッチが開き、障害を発生する。排気温度スイ
ッチは、排気管内の温度を測定し、排気ダクト内に炎が
一切存在しないことを検証する熱スイッチである。メイ
ン圧力スイッチは、空気圧弁を駆動するのに十分な空気
圧が存在しないときに障害を示す。
【００３５】オン・モードでは、入口弁Ｖ１ ５４およ
びＶ２ ５８が開かれ、空気抜き弁Ｖ３ ６０と排出弁
Ｖ４Ａ ６４およびＶ４Ｂ ６８は閉じたままになる。
その場合、プロセス・ガスはツール１８まで流れること
ができるようになる。ガス圧は圧力変換器ＰＴ１によっ
て監視される。
びＶ２ ５８が開かれ、空気抜き弁Ｖ３ ６０と排出弁
Ｖ４Ａ ６４およびＶ４Ｂ ６８は閉じたままになる。
その場合、プロセス・ガスはツール１８まで流れること
ができるようになる。ガス圧は圧力変換器ＰＴ１によっ
て監視される。
【００３６】システム・パージ・モードでは、パージ・
ガス・セクションは、ツール１８からプロセス・ガスを
パージできるようになる。開いている弁は入口弁Ｖ２
５８とパージ・ガス弁Ｖ３ ６０だけである。したがっ
て、パージ・ガス（たとえば、窒素）はガス・スティッ
ク５２とツール１８を介して流れ、ツール１８からプロ
セス・ガスをパージする。パージ・ガスの存在は、ＰＴ
１ ５６上の圧力指示値を監視することによって検証す
ることができる。
ガス・セクションは、ツール１８からプロセス・ガスを
パージできるようになる。開いている弁は入口弁Ｖ２
５８とパージ・ガス弁Ｖ３ ６０だけである。したがっ
て、パージ・ガス（たとえば、窒素）はガス・スティッ
ク５２とツール１８を介して流れ、ツール１８からプロ
セス・ガスをパージする。パージ・ガスの存在は、ＰＴ
１ ５６上の圧力指示値を監視することによって検証す
ることができる。
【００３７】システム排出モードでは、入口弁Ｖ２ ５
８のみが開き、ツールの真空系統がガス・スティック５
２およびツール１８内のプロセス・ガスを除去する。真
空の存在はＰＴ１ ５６上で監視することができる。
８のみが開き、ツールの真空系統がガス・スティック５
２およびツール１８内のプロセス・ガスを除去する。真
空の存在はＰＴ１ ５６上で監視することができる。
【００３８】ツール・ポンプ／パージ・モードでは、シ
ステム排出とシステム・パージが所定の回数、交互に行
われる。すなわち、入口弁Ｖ２ ５８のみが開き、ツー
ルの真空系統がガス・スティック５２およびツール１８
内のプロセス・ガスを除去する。真空の存在はＰＴ１
５６上で監視することができる。次に、パージ・ガス弁
Ｖ３ ６０が開き、パージ・ガスがガス・スティック５
２とツール１８を介して流れる。パージ・ガスの存在
は、ＰＴ１ ５６上の圧力指示値を監視することによっ
て検証することができる。次にＶ３ ６０が閉じ、シス
テム排出がもう一度始まり、続いてシステム・パージが
もう一度行われ、所望の反復回数が完了するまで同様に
行われる。限定ではなく例示のため、本発明者は、８回
の反復で十分であると判断した。
ステム排出とシステム・パージが所定の回数、交互に行
われる。すなわち、入口弁Ｖ２ ５８のみが開き、ツー
ルの真空系統がガス・スティック５２およびツール１８
内のプロセス・ガスを除去する。真空の存在はＰＴ１
５６上で監視することができる。次に、パージ・ガス弁
Ｖ３ ６０が開き、パージ・ガスがガス・スティック５
２とツール１８を介して流れる。パージ・ガスの存在
は、ＰＴ１ ５６上の圧力指示値を監視することによっ
て検証することができる。次にＶ３ ６０が閉じ、シス
テム排出がもう一度始まり、続いてシステム・パージが
もう一度行われ、所望の反復回数が完了するまで同様に
行われる。限定ではなく例示のため、本発明者は、８回
の反復で十分であると判断した。
【００３９】システム排出を行えないような障害がツー
ルで発生した場合、存在するプロセス・ガスを排出する
必要がある。このような排出は、ローカル排出モードで
行われるものと思われる。ローカル排出モードでは、入
口弁Ｖ２ ５８と、真空発生器モジュールＶ５ ７２の
弁が開く。窒素（またはその他の同様のガス）は、真空
スイッチ７３（図４に示す）、窒素マニホルド７５（図
４に示す）、さらにＶ５ ７２のベンチュリ管を介して
流れる。真空スイッチ７３を介して十分な窒素が流れる
と、真空スイッチ７３は閉じ（すなわち、オンにな
り）、真空が発生したことを示す。十分な真空が発生す
るまで真空発生器モジュールＶ５ ７２内の弁が開かな
いようなインタロックが存在する。真空の存在はＰＴ２
７０でＰＬＣによって検証される。次に、排出弁Ｖ４
Ａ ６４およびＶ４Ｂ ６８が開き、プロセス・ガスが
ブリード弁Ｖ６ ６６内のオリフィスを介して流出でき
るようになる。本発明の好ましい実施形態では、真空ス
イッチ７３が閉じ、ＰＴ２ ７０が真空を示す負の圧力
（たとえば、−１１．５ｐｓｉｇ以下）を示しているこ
とをＰＬＣが検証するまで、排出弁Ｖ４Ａ ６４および
Ｖ４Ｂ ６８は開かない。ＰＴ１ ５６で十分な真空が
示されると、ツール１８とガス・スティック５２が十分
排出され、プロセス・ガスが除去されたことになる。プ
ロセス・ガスがブリード弁Ｖ６ ６６を介して流出し、
Ｖ５ ７２を介して流れる窒素（またはその他の同様の
ガス）と混合できるようにすることにより、窒素流およ
び排気管２８内のプロセス・ガスの量が１０体積％を超
えず、特に発火性のガスの場合は２体積％を超えないこ
とが保証される。それが望ましい場合、ブリード弁Ｖ６
６６は、システムの排出が完了するよう完全に開くこ
ともできる。
ルで発生した場合、存在するプロセス・ガスを排出する
必要がある。このような排出は、ローカル排出モードで
行われるものと思われる。ローカル排出モードでは、入
口弁Ｖ２ ５８と、真空発生器モジュールＶ５ ７２の
弁が開く。窒素（またはその他の同様のガス）は、真空
スイッチ７３（図４に示す）、窒素マニホルド７５（図
４に示す）、さらにＶ５ ７２のベンチュリ管を介して
流れる。真空スイッチ７３を介して十分な窒素が流れる
と、真空スイッチ７３は閉じ（すなわち、オンにな
り）、真空が発生したことを示す。十分な真空が発生す
るまで真空発生器モジュールＶ５ ７２内の弁が開かな
いようなインタロックが存在する。真空の存在はＰＴ２
７０でＰＬＣによって検証される。次に、排出弁Ｖ４
Ａ ６４およびＶ４Ｂ ６８が開き、プロセス・ガスが
ブリード弁Ｖ６ ６６内のオリフィスを介して流出でき
るようになる。本発明の好ましい実施形態では、真空ス
イッチ７３が閉じ、ＰＴ２ ７０が真空を示す負の圧力
（たとえば、−１１．５ｐｓｉｇ以下）を示しているこ
とをＰＬＣが検証するまで、排出弁Ｖ４Ａ ６４および
Ｖ４Ｂ ６８は開かない。ＰＴ１ ５６で十分な真空が
示されると、ツール１８とガス・スティック５２が十分
排出され、プロセス・ガスが除去されたことになる。プ
ロセス・ガスがブリード弁Ｖ６ ６６を介して流出し、
Ｖ５ ７２を介して流れる窒素（またはその他の同様の
ガス）と混合できるようにすることにより、窒素流およ
び排気管２８内のプロセス・ガスの量が１０体積％を超
えず、特に発火性のガスの場合は２体積％を超えないこ
とが保証される。それが望ましい場合、ブリード弁Ｖ６
６６は、システムの排出が完了するよう完全に開くこ
ともできる。
【００４０】本発明によるガス分離ボックスの最後のモ
ードはローカル・ポンプ／パージ・モードである。この
モードも、前述のツール障害の場合に使用されるものと
思われる。このモードでは、ガス・スティック５２に対
して直前に述べたようにシステム排出が行われる。入口
弁Ｖ２ ５８を除くすべての弁が閉じることになる。パ
ージ・ガス弁Ｖ３ ６０が開き、パージ・ガスがガス・
スティック５２とツール１８内の配管を充填できるよう
になる。圧力はＰＴ１ ５６上で監視される。パージ・
ガス弁Ｖ３ ６０が閉じる。次に、真空発生器モジュー
ルＶ５ ７２、排出弁Ｖ４Ａ ６４、ブリード弁Ｖ６
６６、排出弁Ｖ４Ｂ ６８を開くことにより、排出が行
われる。パージ・ガスの排出後、もう一度パージが始ま
り、続いて排出が行われ、必要な反復回数が完了するま
で同様に行われる。
ードはローカル・ポンプ／パージ・モードである。この
モードも、前述のツール障害の場合に使用されるものと
思われる。このモードでは、ガス・スティック５２に対
して直前に述べたようにシステム排出が行われる。入口
弁Ｖ２ ５８を除くすべての弁が閉じることになる。パ
ージ・ガス弁Ｖ３ ６０が開き、パージ・ガスがガス・
スティック５２とツール１８内の配管を充填できるよう
になる。圧力はＰＴ１ ５６上で監視される。パージ・
ガス弁Ｖ３ ６０が閉じる。次に、真空発生器モジュー
ルＶ５ ７２、排出弁Ｖ４Ａ ６４、ブリード弁Ｖ６
６６、排出弁Ｖ４Ｂ ６８を開くことにより、排出が行
われる。パージ・ガスの排出後、もう一度パージが始ま
り、続いて排出が行われ、必要な反復回数が完了するま
で同様に行われる。
【００４１】安全上の懸念のため、システム排出モード
とローカル・ポンプ／パージ・モード時には、任意の時
点で１つのガス・スティック５２のみが動作可能であ
り、そのガス・スティック５２が排出中である。これに
より、複数の不適合なプロセス・ガス（たとえば、酸化
剤と発火性のガス）が排出中に排気ダクト内で混合し
て、爆発または火災の原因になるのを防止する。
とローカル・ポンプ／パージ・モード時には、任意の時
点で１つのガス・スティック５２のみが動作可能であ
り、そのガス・スティック５２が排出中である。これに
より、複数の不適合なプロセス・ガス（たとえば、酸化
剤と発火性のガス）が排出中に排気ダクト内で混合し
て、爆発または火災の原因になるのを防止する。
【００４２】それぞれのガス・スティック５２は、図３
に示す制御モジュール１２上に位置するロックアウト・
スイッチ４４によって個別に使用禁止にすることができ
る。あるガス・スティック５２を使用禁止にすることが
望ましい場合、そのガス・スティック５２用のロックア
ウト・スイッチを使用禁止に切り換えることになり、次
にロックアウト・スイッチの隣にロックが置かれ、それ
を使用禁止位置にロックする。
に示す制御モジュール１２上に位置するロックアウト・
スイッチ４４によって個別に使用禁止にすることができ
る。あるガス・スティック５２を使用禁止にすることが
望ましい場合、そのガス・スティック５２用のロックア
ウト・スイッチを使用禁止に切り換えることになり、次
にロックアウト・スイッチの隣にロックが置かれ、それ
を使用禁止位置にロックする。
【００４３】図５および図６に戻って参照すると、ガス
・スティック５２は、入口弁Ｖ１５４と排出弁Ｖ４Ａ
６４およびＶ４Ｂ ６８の両方にリンクされたＡＮＤ弁
８８をさらに含む。入口弁Ｖ１ ５４と排出弁Ｖ４Ａ
６４およびＶ４Ｂ ６８は決して同時に開いてはならな
い。というのは、これによって、プロセス・ガスを直接
排出できるようになるからである。また、ＰＬＣはこれ
らの弁を同時に開いたままにしてはならない。しかし、
安全上の予防措置として、ガス・スティック５２上にＡ
ＮＤ弁８８が存在する。好ましくは、ＡＮＤ弁８８は空
気圧ＡＮＤゲートであり、以下のように機能するだろ
う。入口弁Ｖ１ ５４と排出弁Ｖ４Ａ６４およびＶ４Ｂ
６８が同時に開くような空気圧が感知された場合（す
なわち、ＡＮＤ＝１）、空気圧は大気まで低下し、入口
弁Ｖ１ ５４と排出弁Ｖ４Ａ６４およびＶ４Ｂ ６８は
開かなくなる。障害はＰＴ１ ５６で圧力なしとして検
出され、ガス分離ボックスは障害モードに入るものと思
われる。
・スティック５２は、入口弁Ｖ１５４と排出弁Ｖ４Ａ
６４およびＶ４Ｂ ６８の両方にリンクされたＡＮＤ弁
８８をさらに含む。入口弁Ｖ１ ５４と排出弁Ｖ４Ａ
６４およびＶ４Ｂ ６８は決して同時に開いてはならな
い。というのは、これによって、プロセス・ガスを直接
排出できるようになるからである。また、ＰＬＣはこれ
らの弁を同時に開いたままにしてはならない。しかし、
安全上の予防措置として、ガス・スティック５２上にＡ
ＮＤ弁８８が存在する。好ましくは、ＡＮＤ弁８８は空
気圧ＡＮＤゲートであり、以下のように機能するだろ
う。入口弁Ｖ１ ５４と排出弁Ｖ４Ａ６４およびＶ４Ｂ
６８が同時に開くような空気圧が感知された場合（す
なわち、ＡＮＤ＝１）、空気圧は大気まで低下し、入口
弁Ｖ１ ５４と排出弁Ｖ４Ａ６４およびＶ４Ｂ ６８は
開かなくなる。障害はＰＴ１ ５６で圧力なしとして検
出され、ガス分離ボックスは障害モードに入るものと思
われる。
【００４４】ここに具体的に記述した実施形態以外に本
発明の他の変更態様が本発明の精神を逸脱せずに可能で
あることは、本開示を顧慮する当業者には明らかになる
だろう。したがって、このような変更態様は、特許請求
の範囲のみによって限定される本発明の範囲内にあると
見なす。
発明の他の変更態様が本発明の精神を逸脱せずに可能で
あることは、本開示を顧慮する当業者には明らかになる
だろう。したがって、このような変更態様は、特許請求
の範囲のみによって限定される本発明の範囲内にあると
見なす。
【００４５】まとめとして、本発明の構成に関して以下
の事項を開示する。
の事項を開示する。
【００４６】（１）エンクロージャと、前記エンクロー
ジャ内に収容された複数のガス・スティックとを含み、
各ガス・スティックが、前記ガス・スティック内へのプ
ロセス・ガスの流れをゲート制御するための第１のプロ
セス・ガス入口弁を含むプロセス・ガス・セクション
と、前記ガス・スティック内へのパージ・ガスの流れを
ゲート制御するための空気抜き弁を含むパージ・ガス・
セクションと、前記ガス・スティックからプロセス・ガ
スまたはパージ・ガスを流出するための排出セクション
とを含むガス分離ボックス。 （２）前記複数のガス・スティックの少なくとも第１の
ガス・スティックが第１のプロセス・ガスを収容し、前
記複数のガス・スティックの少なくとも第２のガス・ス
ティックが第２のプロセス・ガスを収容し、前記第１お
よび第２のプロセス・ガスが互いに異なるものである上
記（１）に記載のガス分離ボックス。 （３）前記複数のガス・スティックのそれぞれ用のロッ
クアウト・スイッチであって、そのロックアウト・スイ
ッチがロックアウト・モードであるときに前記第１のプ
ロセス・ガス入口弁が動作しないようにするロックアウ
ト・スイッチをさらに含む上記（１）に記載のガス分離
ボックス。 （４）前記エンクロージャ上のドアであって、そのドア
が開いているときに前記複数のガス・スティックのそれ
ぞれが使用禁止になるような前記エンクロージャとのイ
ンタロックを有するドアをさらに含む上記（１）に記載
のガス分離ボックス。 （５）前記複数のガス・スティックのうち１つのガス・
スティックのみ前記排出セクションが、いずれの所与の
時点でも使用可能になっている上記（１）に記載のガス
分離ボックス。 （６）前記プロセス・ガス・セクション、前記パージ・
ガス・セクション、前記排出セクションの機能のうち少
なくとも一部を制御する制御モジュールをさらに含む、
上記（１）に記載のガス分離ボックス。 （７）前記制御モジュールと前記エンクロージャが分離
されている、上記（１）に記載のガス分離ボックス。 （８）前記ガス分離ボックスが床に位置する、上記
（１）に記載のガス分離ボックス。 （９）動作時に、前記パージ・ガス・セクションと前記
排出セクションが所定の回数で交互に使用可能になる、
上記（１）に記載のガス分離ボックス。 （１０）動作時に、前記パージ・ガス・セクションが所
定の回数で使用可能と使用不能に交互に切り替わる、上
記（１）に記載のガス分離ボックス。 （１１）エンクロージャと、前記エンクロージャ内に収
容された複数のガス・スティックとを含み、各ガス・ス
ティックが、前記ガス・スティック内へのプロセス・ガ
スの流れをゲート制御するための第１のプロセス・ガス
入口弁を含むプロセス・ガス・セクションと、前記ガス
・スティック内へのパージ・ガスの流れをゲート制御す
るための空気抜き弁を含むパージ・ガス・セクション
と、排出セクションとを含み、前記排出セクションが、
前記ガス・スティックからのプロセス・ガスまたはパー
ジ・ガスの流出をゲート制御するための第１の排出弁
と、閉位置のときにプロセス・ガスがブリード弁を介し
て流出できるようにし、開位置のときにパージ・ガスが
ブリード弁を介して自由に流動できるようにするブリー
ド弁と、真空を引いて前記ガス・スティックまたはツー
ル内のパージ・ガスまたはいずれかの残留プロセス・ガ
スを前記第１の排出弁および前記ブリード弁を介して前
記ガス・スティックから排気流に排出する真空発生器モ
ジュールとを含むガス分離ボックス。 （１２）前記プロセス・ガス・セクションが、前記第１
のプロセス・ガス入口弁の下流に第２のプロセス・ガス
入口弁をさらに含み、前記第１のプロセス・ガス入口弁
が高圧弁であり、前記第２のプロセス・ガス入口弁が低
圧弁である、上記（１１）に記載のガス分離ボックス。 （１３）前記第１のプロセス・ガス入口弁と前記第２の
プロセス・ガス入口弁の間に圧力変換器をさらに含む、
上記（１２）に記載のガス分離ボックス。 （１４）前記第１の排出弁の下流にあって、前記ブリー
ド弁と前記真空発生器モジュールとの間に位置する第２
の排出弁をさらに含む、上記（１１）に記載のガス分離
ボックス。 （１５）前記第２の排出弁の下流にあって、前記真空発
生器モジュールの前にある第２の圧力変換器をさらに含
む、上記（１１）に記載のガス分離ボックス。 （１６）前記第１の排出弁および前記第１のプロセス・
ガス入口弁と連絡しており、前記第１の排出弁と前記第
１のプロセス・ガス入口弁が同時に開かないようにする
ＡＮＤ弁をさらに含む、上記（１１）に記載のガス分離
ボックス。 （１７）前記ＡＮＤ弁が空気圧論理要素を含む、上記
（１６）に記載のガス分離ボックス。 （１８）前記複数のガス・スティックの少なくとも第１
のガス・スティックが第１のプロセス・ガスを収容し、
前記複数のガス・スティックの少なくとも第２のガス・
スティックが第２のプロセス・ガスを収容し、前記第１
および第２のプロセス・ガスが互いに異なるものであ
る、上記（１１）に記載のガス分離ボックス。 （１９）前記複数のガス・スティックのそれぞれ用のロ
ックアウト・スイッチであって、そのロックアウト・ス
イッチがロックアウト・モードであるときに前記第１の
プロセス・ガス入口弁が動作しないようにするロックア
ウト・スイッチをさらに含む、上記（１１）に記載のガ
ス分離ボックス。 （２０）前記エンクロージャ上のドアであって、そのド
アが開いているときに前記複数のガス・スティックのそ
れぞれが使用禁止になるように前記エンクロージャとの
インタロックを有するドアをさらに含む、上記（１１）
に記載のガス分離ボックス。 （２１）熱スイッチをさらに含む、上記（１１）に記載
のガス分離ボックス。 （２２）いかなる所与の時点でも、前記複数のガス・ス
ティックのうち１つのガス・スティックのみの前記排出
セクションが使用可能になる、上記（１１）に記載のガ
ス分離ボックス。 （２３）前記真空発生器モジュール内への希釈ガス流
と、前記真空発生器モジュール内への前記希釈ガス流の
流れを登録する真空スイッチと、前記真空スイッチと前
記排出弁との間のインタロックとをさらに含み、前記真
空スイッチが前記希釈ガス流の所定レベルの流れを登録
するまで前記排出弁が開かない、上記（１１）に記載の
ガス分離ボックス。 （２４）前記真空発生器モジュール内への希釈ガス流
と、前記真空発生器モジュール内への前記希釈ガス流の
流れを登録する真空スイッチと、前記真空発生器モジュ
ールによって発生された真空を測定するための真空測定
装置と、前記真空スイッチと前記真空測定装置と前記排
出弁との間のインタロックとをさらに含み、前記真空ス
イッチが前記希釈ガス流の所定レベルの流れを登録し、
前記真空測定装置が前記真空発生器モジュールによって
発生された所定レベルの真空を測定するまで前記排出弁
が開かない、上記（１１）に記載のガス分離ボックス。 （２５）前記真空発生器モジュール内への希釈ガス流を
さらに含み、前記排出セクションが排出すべき前記プロ
セス・ガスを排出前に前記希釈ガス流の２〜１０体積パ
ーセントの範囲まで希釈する、上記（１１）に記載のガ
ス分離ボックス。 （２６）前記プロセス・ガス・セクション、前記パージ
・ガス・セクション、前記排出セクションの機能のうち
少なくとも一部を制御する制御モジュールをさらに含
む、上記（１１）に記載のガス分離ボックス。 （２７）前記制御モジュールと前記エンクロージャが分
離されている、上記（２６）に記載のガス分離ボック
ス。 （２８）前記ガス分離ボックスが床に位置する、上記
（１１）に記載のガス分離ボックス。 （２９）動作時に、前記パージ・ガス・セクションと前
記排出セクションが所定の回数で交互に使用可能にな
る、上記（１１）に記載のガス分離ボックス。 （３０）動作時に、前記パージ・ガス・セクションが所
定の回数で使用可能と使用不能に交互に切り替わる、上
記（１１）に記載のガス分離ボックス。 （３１）プロセス・ガス入口と、パージ・ガス入口と、
ツールへのプロセス・ガス出口と、排出出口とを有する
エンクロージャと、前記エンクロージャ内に収容された
複数のガス・スティックとを含み、各ガス・スティック
が、前記プロセス・ガス入口から前記ガス・スティック
内へのプロセス・ガスの流れと前記プロセス・ガス出口
を介して流出するプロセス・ガスの流れをゲート制御す
るための第１のプロセス・ガス入口弁を含むプロセス・
ガス・セクションと、前記パージ・ガス入口から前記ガ
ス・スティック内へのパージ・ガスの流れと前記プロセ
ス・ガス出口または前記排出出口を介して流出するパー
ジ・ガスの流れをゲート制御するための空気抜き弁を含
むパージ・ガス・セクションと、排出セクションとを含
み、前記排出セクションが、前記ガス・スティックから
のプロセス・ガスまたはパージ・ガスの流出をゲート制
御するための第１の排出弁と、閉位置のときにプロセス
・ガスがブリード弁を介して流出できるようにし、開位
置のときにパージ・ガスがブリード弁を介して自由に流
動できるようにするブリード弁と、真空を引いて前記ガ
ス・スティックまたは前記ツール内のパージ・ガスまた
はいずれかの残留プロセス・ガスを前記第１の排出弁お
よび前記ブリード弁を介し、さらに前記ガス・スティッ
クから前記排出入口を介して排気流に排出する真空発生
器モジュールとを含み、動作時に、いかなる所与の時点
でも前記第１のプロセス・ガス入口弁と前記パージ・ガ
ス・セクションと前記排出セクションのうち１つのみが
動作可能である、ガス分離ボックス。 （３２）前記プロセス・ガス・セクションが、前記第１
のプロセス・ガス入口弁の下流に第２のプロセス・ガス
入口弁をさらに含み、前記第１のプロセス・ガス入口弁
が高圧弁であり、前記第２のプロセス・ガス入口弁が低
圧弁である、上記（３１）に記載のガス分離ボックス。 （３３）前記第１のプロセス・ガス入口弁と前記第２の
プロセス・ガス入口弁の間に圧力変換器をさらに含む、
上記（３２）に記載のガス分離ボックス。 （３４）前記第１の排出弁の下流にあって、前記ブリー
ド弁と前記真空発生器モジュールとの間に位置する第２
の排出弁をさらに含む、上記（３１）に記載のガス分離
ボックス。 （３５）前記第２の排出弁の下流にあって、前記真空発
生器モジュールの前にある第２の圧力変換器をさらに含
む、上記（３１）に記載のガス分離ボックス。 （３６）前記第１の排出弁および前記第１のプロセス・
ガス入口弁と連絡しており、前記第１の排出弁と前記第
１のプロセス・ガス入口弁が同時に開かないようにする
ＡＮＤ弁をさらに含む、上記（３４）に記載のガス分離
ボックス。 （３７）前記ＡＮＤ弁が空気圧論理要素を含む、上記
（３６）に記載のガス分離ボックス。 （３８）前記複数のガス・スティックの少なくとも第１
のガス・スティックが第１のプロセス・ガスを収容し、
前記複数のガス・スティックの少なくとも第２のガス・
スティックが第２のプロセス・ガスを収容し、前記第１
および第２のプロセス・ガスが互いに異なるものであ
る、上記（３１）に記載のガス分離ボックス。 （３９）前記複数のガス・スティックのそれぞれ用のロ
ックアウト・スイッチであって、そのロックアウト・ス
イッチがロックアウト・モードであるときに前記第１の
プロセス・ガス入口弁が動作しないようにするロックア
ウト・スイッチをさらに含む、上記（３１）に記載のガ
ス分離ボックス。 （４０）前記エンクロージャ上のドアであって、そのド
アが開いているときに前記複数のガス・スティックのそ
れぞれが使用禁止になるように前記エンクロージャとの
インタロックを有するドアをさらに含む、上記（３１）
に記載のガス分離ボックス。 （４１）熱スイッチをさらに含む、上記（３１）に記載
のガス分離ボックス。 （４２）いかなる所与の時点でも、前記複数のガス・ス
ティックのうちの１つのガス・スティックのみの前記排
出セクションが使用可能になっている、上記（３１）に
記載のガス分離ボックス。 （４３）前記真空発生器モジュール内への希釈ガス流
と、前記真空発生器モジュール内への前記希釈ガス流の
流れを登録する真空スイッチと、前記真空スイッチと前
記排出弁との間のインタロックとをさらに含み、前記真
空スイッチが前記希釈ガス流の所定レベルの流れを登録
するまで前記排出弁が開かない、上記（３１）に記載の
ガス分離ボックス。 （４４）前記真空発生器モジュール内への希釈ガス流
と、前記真空発生器モジュール内への前記希釈ガス流の
流れを登録する真空スイッチと、前記真空発生器モジュ
ールによって発生された真空を測定するための真空測定
装置と、前記真空スイッチと前記真空測定装置と前記排
出弁との間のインタロックとをさらに含み、前記真空ス
イッチが前記希釈ガス流の所定レベルの流れを登録し、
前記真空測定装置が前記真空発生器モジュールによって
発生された所定レベルの真空を測定するまで前記排出弁
が開かない、上記（３１）に記載のガス分離ボックス。 （４５）前記排出セクションが排出すべき前記プロセス
・ガスを排出前に前記排気流の２〜１０体積パーセント
の範囲まで希釈する、上記（３１）に記載のガス分離ボ
ックス。 （４６）前記プロセス・ガス・セクション、前記パージ
・ガス・セクション、前記排出セクションの機能のうち
少なくとも一部を制御する制御モジュールをさらに含
む、上記（３１）に記載のガス分離ボックス。 （４７）前記制御モジュールと前記エンクロージャが分
離されている、上記（４６）に記載のガス分離ボック
ス。 （４８）前記ガス分離ボックスが床に位置する、上記
（３１）に記載のガス分離ボックス。 （４９）動作時に、前記パージ・ガス・セクションと前
記排出セクションが所定の回数で交互に使用可能にな
る、上記（３１）に記載のガス分離ボックス。 （５０）動作時に、前記パージ・ガス・セクションが所
定の回数で使用可能と使用不能に交互に切り替わる、上
記（３１）に記載のガス分離ボックス。 （５１）プロセス・ガス入口と、パージ・ガス入口と、
ツールへのプロセス・ガス出口と、排出出口とを有する
エンクロージャと、前記エンクロージャ内に収容された
複数のガス・スティックとを含み、各ガス・スティック
が、前記プロセス・ガス入口から前記ガス・スティック
内へのプロセス・ガスの流れと前記プロセス・ガス出口
を介して流出するプロセス・ガスの流れをゲート制御す
るための第１のプロセス・ガス入口弁を含むプロセス・
ガス・セクションと、前記パージ・ガス入口から前記ガ
ス・スティック内へのパージ・ガスの流れと前記プロセ
ス・ガス出口または前記排出出口を介して流出するパー
ジ・ガスの流れをゲート制御するための空気抜き弁を含
むパージ・ガス・セクションと、排出セクションとを含
み、前記排出セクションが、前記ガス・スティックから
のプロセス・ガスまたはパージ・ガスの流出をゲート制
御するための第１の排出弁と、閉位置のときにプロセス
・ガスがブリード弁を介して流出できるようにし、開位
置のときにパージ・ガスがブリード弁を介して自由に流
動できるようにするブリード弁と、真空を引いて前記ガ
ス・スティックまたは前記ツール内のパージ・ガスまた
はいずれかの残留プロセス・ガスを前記第１の排出弁お
よび前記ブリード弁を介し、さらに前記ガス・スティッ
クから前記排出入口を介して排気流に排出する真空発生
器モジュールとを含む排出セクションとを含み、動作時
に、前記ガス・スティックのそれぞれは、オン・モード
時に、前記第１のプロセス・ガス入口弁が開き、前記パ
ージ・ガス・セクションと前記排出セクションが前記ツ
ールにプロセス・ガスを供給するように使用可能になら
ない動作と、システム・パージ・モード時に、前記パー
ジ・ガス・セクションが前記ツールからプロセス・ガス
をパージするように使用可能になり、前記プロセス・ガ
ス・セクションと前記排出セクションが使用可能になら
ない動作と、ツール・ポンプ／パージ・モード時に、前
記パージ・ガス・セクションが所定の回数で使用可能と
使用禁止に交互に切り替わって前記ツールからプロセス
・ガスをパージする動作と、ローカル排出モード時に、
前記排出セクションが前記ツールからプロセス・ガスを
排出するように使用可能になり、前記プロセス・ガス・
セクションと前記パージ・ガス・セクションが使用可能
にならない動作と、ローカル・ポンプ／パージ・モード
時に、前記排出セクションと前記パージ・ガス・セクシ
ョンが交互に使用可能になって前記ツールからプロセス
・ガスを排出してパージし、前記プロセス・ガス・セク
ションが使用可能にならない動作とが可能であるガス分
離ボックス。 （５２）前記プロセス・ガス・セクション、前記パージ
・ガス・セクション、前記排出セクションの機能のうち
少なくとも一部を制御する制御モジュールをさらに含
む、上記（５１）に記載のガス分離ボックス。 （５３）ガス・スティック内へのプロセス・ガスの流れ
をゲート制御するための第１のプロセス・ガス入口弁を
含むプロセス・ガス・セクションと、ガス・スティック
内へのパージ・ガスの流れをゲート制御するための空気
抜き弁を含むパージ・ガス・セクションと、ガス・ステ
ィックからのプロセス・ガスまたはパージ・ガスの流出
のための排出セクションとを含むガス・スティック。 （５４）ガス・スティック内へのプロセス・ガスの流れ
をゲート制御するための第１のプロセス・ガス入口弁を
含むプロセス・ガス・セクションと、ガス・スティック
内へのパージ・ガスの流れをゲート制御するための空気
抜き弁を含むパージ・ガス・セクションと、排出セクシ
ョンとを含み、前記排出セクションが、ガス・スティッ
クからのプロセス・ガスまたはパージ・ガスの流出をゲ
ート制御するための第１の排出弁と、閉位置のときにプ
ロセス・ガスがブリード弁を介して流出できるように
し、開位置のときにパージ・ガスがブリード弁を介して
自由に流動できるようにするブリード弁と、真空を引い
てガス・スティックまたはツール内のパージ・ガスまた
はいずれかの残留プロセス・ガスを前記第１の排出弁お
よび前記ブリード弁を介して前記ガス・スティックから
排気流に排出する真空発生器モジュールとを含む、ガス
・スティック。 （５５）プロセス・ガス入口からガス・スティック内へ
のプロセス・ガスの流れとプロセス・ガス出口を介して
流出するプロセス・ガスの流れをゲート制御するための
第１のプロセス・ガス入口弁を含むプロセス・ガス・セ
クションと、パージ・ガス入口からガス・スティック内
へのパージ・ガスの流れとプロセス・ガス出口または排
出出口を介して流出するパージ・ガスの流れをゲート制
御するための空気抜き弁を含むパージ・ガス・セクショ
ンと、排出セクションとを含み、前記排出セクション
が、ガス・スティックからのプロセス・ガスまたはパー
ジ・ガスの流出をゲート制御するための第１の排出弁
と、閉位置のときにプロセス・ガスがブリード弁を介し
て流出できるようにし、開位置のときにパージ・ガスが
ブリード弁を介して自由に流動できるようにするブリー
ド弁と、真空を引いてガス・スティックまたはツール内
のパージ・ガスまたはいずれかの残留プロセス・ガスを
前記第１の排出弁および前記ブリード弁を介し、さらに
ガス・スティックから排出入口を介して排気流に排出す
る真空発生器モジュールとを含み、動作時に、いかなる
所与の時点でも前記第１のプロセス・ガス入口弁と前記
パージ・ガス・セクションと前記排出セクションのうち
１つのみが動作可能である、ガス・スティック。 （５６）プロセス・ガス入口からガス・スティック内へ
のプロセス・ガスの流れとプロセス・ガス出口を介して
流出するプロセス・ガスの流れをゲート制御するための
第１のプロセス・ガス入口弁を含むプロセス・ガス・セ
クションと、パージ・ガス入口からガス・スティック内
へのパージ・ガスの流れとプロセス・ガス出口または排
出出口を介して流出するパージ・ガスの流れをゲート制
御するための空気抜き弁を含むパージ・ガス・セクショ
ンと、排出セクションとを含み、前記排出セクション
が、ガス・スティックからのプロセス・ガスまたはパー
ジ・ガスの流出をゲート制御するための第１の排出弁
と、閉位置のときにプロセス・ガスがブリード弁を介し
て流出できるようにし、開位置のときにパージ・ガスが
ブリード弁を介して自由に流動できるようにするブリー
ド弁と、真空を引いてガス・スティックまたはツール内
のパージ・ガスまたはいずれかの残留プロセス・ガスを
前記第１の排出弁および前記ブリード弁を介し、さらに
ガス・スティックから排出入口を介して排気流に排出す
る真空発生器モジュールとを含み、動作時に、ガス・ス
ティックのそれぞれは、オン・モード時に、前記第１の
プロセス・ガス入口弁が開き、前記パージ・ガス・セク
ションと前記排出セクションが前記ツールにプロセス・
ガスを供給するように使用可能にならない動作と、シス
テム・パージ・モード時に、前記パージ・ガス・セクシ
ョンが前記ツールからプロセス・ガスをパージするよう
に使用可能になり、前記プロセス・ガス・セクションと
前記排出セクションが使用可能にならない動作と、ツー
ル・ポンプ／パージ・モード時に、前記パージ・ガス・
セクションが所定の回数で使用可能と使用禁止に交互に
切り替わって前記ツールからプロセス・ガスをパージす
る動作と、ローカル排出モード時に、前記排出セクショ
ンが前記ツールからプロセス・ガスを排出するように使
用可能になり、前記プロセス・ガス・セクションと前記
パージ・ガス・セクションが使用可能にならない動作
と、ローカル・ポンプ／パージ・モード時に、前記排出
セクションと前記パージ・ガス・セクションが交互に使
用可能になって前記ツールからプロセス・ガスを排出し
てパージし、前記プロセス・ガス・セクションが使用可
能にならない動作とが可能であるガス・スティック。 （５７）前記エンクロージャが、前記エンクロージャ内
に周囲空気が入るための第１の１組の穿孔と、前記エン
クロージャから周囲空気が出るための第２の１組の穿孔
とを有し、動作時に、前記第１の１組の穿孔と前記第２
の１組の穿孔との間で周囲空気が流れる、上記（１）に
記載のガス分離ボックス。 （５８）前記エンクロージャが、前記エンクロージャ内
に周囲空気が入るための第１の１組の穿孔と、前記エン
クロージャから周囲空気が出るための第２の１組の穿孔
とを有し、動作時に、前記第１の１組の穿孔と前記第２
の１組の穿孔との間で周囲空気が流れる、上記（１１）
に記載のガス分離ボックス。 （５９）前記エンクロージャが、前記エンクロージャ内
に周囲空気が入るための第１の１組の穿孔と、前記エン
クロージャから周囲空気が出るための第２の１組の穿孔
とを有し、動作時に、前記第１の１組の穿孔と前記第２
の１組の穿孔との間で周囲空気が流れる、上記（３１）
に記載のガス分離ボックス。 （６０）前記エンクロージャが、前記エンクロージャ内
に周囲空気が入るための第１の１組の穿孔と、前記エン
クロージャから周囲空気が出るための第２の１組の穿孔
とを有し、動作時に、前記第１の１組の穿孔と前記第２
の１組の穿孔との間で周囲空気が流れる、上記（５１）
に記載のガス分離ボックス。
ジャ内に収容された複数のガス・スティックとを含み、
各ガス・スティックが、前記ガス・スティック内へのプ
ロセス・ガスの流れをゲート制御するための第１のプロ
セス・ガス入口弁を含むプロセス・ガス・セクション
と、前記ガス・スティック内へのパージ・ガスの流れを
ゲート制御するための空気抜き弁を含むパージ・ガス・
セクションと、前記ガス・スティックからプロセス・ガ
スまたはパージ・ガスを流出するための排出セクション
とを含むガス分離ボックス。 （２）前記複数のガス・スティックの少なくとも第１の
ガス・スティックが第１のプロセス・ガスを収容し、前
記複数のガス・スティックの少なくとも第２のガス・ス
ティックが第２のプロセス・ガスを収容し、前記第１お
よび第２のプロセス・ガスが互いに異なるものである上
記（１）に記載のガス分離ボックス。 （３）前記複数のガス・スティックのそれぞれ用のロッ
クアウト・スイッチであって、そのロックアウト・スイ
ッチがロックアウト・モードであるときに前記第１のプ
ロセス・ガス入口弁が動作しないようにするロックアウ
ト・スイッチをさらに含む上記（１）に記載のガス分離
ボックス。 （４）前記エンクロージャ上のドアであって、そのドア
が開いているときに前記複数のガス・スティックのそれ
ぞれが使用禁止になるような前記エンクロージャとのイ
ンタロックを有するドアをさらに含む上記（１）に記載
のガス分離ボックス。 （５）前記複数のガス・スティックのうち１つのガス・
スティックのみ前記排出セクションが、いずれの所与の
時点でも使用可能になっている上記（１）に記載のガス
分離ボックス。 （６）前記プロセス・ガス・セクション、前記パージ・
ガス・セクション、前記排出セクションの機能のうち少
なくとも一部を制御する制御モジュールをさらに含む、
上記（１）に記載のガス分離ボックス。 （７）前記制御モジュールと前記エンクロージャが分離
されている、上記（１）に記載のガス分離ボックス。 （８）前記ガス分離ボックスが床に位置する、上記
（１）に記載のガス分離ボックス。 （９）動作時に、前記パージ・ガス・セクションと前記
排出セクションが所定の回数で交互に使用可能になる、
上記（１）に記載のガス分離ボックス。 （１０）動作時に、前記パージ・ガス・セクションが所
定の回数で使用可能と使用不能に交互に切り替わる、上
記（１）に記載のガス分離ボックス。 （１１）エンクロージャと、前記エンクロージャ内に収
容された複数のガス・スティックとを含み、各ガス・ス
ティックが、前記ガス・スティック内へのプロセス・ガ
スの流れをゲート制御するための第１のプロセス・ガス
入口弁を含むプロセス・ガス・セクションと、前記ガス
・スティック内へのパージ・ガスの流れをゲート制御す
るための空気抜き弁を含むパージ・ガス・セクション
と、排出セクションとを含み、前記排出セクションが、
前記ガス・スティックからのプロセス・ガスまたはパー
ジ・ガスの流出をゲート制御するための第１の排出弁
と、閉位置のときにプロセス・ガスがブリード弁を介し
て流出できるようにし、開位置のときにパージ・ガスが
ブリード弁を介して自由に流動できるようにするブリー
ド弁と、真空を引いて前記ガス・スティックまたはツー
ル内のパージ・ガスまたはいずれかの残留プロセス・ガ
スを前記第１の排出弁および前記ブリード弁を介して前
記ガス・スティックから排気流に排出する真空発生器モ
ジュールとを含むガス分離ボックス。 （１２）前記プロセス・ガス・セクションが、前記第１
のプロセス・ガス入口弁の下流に第２のプロセス・ガス
入口弁をさらに含み、前記第１のプロセス・ガス入口弁
が高圧弁であり、前記第２のプロセス・ガス入口弁が低
圧弁である、上記（１１）に記載のガス分離ボックス。 （１３）前記第１のプロセス・ガス入口弁と前記第２の
プロセス・ガス入口弁の間に圧力変換器をさらに含む、
上記（１２）に記載のガス分離ボックス。 （１４）前記第１の排出弁の下流にあって、前記ブリー
ド弁と前記真空発生器モジュールとの間に位置する第２
の排出弁をさらに含む、上記（１１）に記載のガス分離
ボックス。 （１５）前記第２の排出弁の下流にあって、前記真空発
生器モジュールの前にある第２の圧力変換器をさらに含
む、上記（１１）に記載のガス分離ボックス。 （１６）前記第１の排出弁および前記第１のプロセス・
ガス入口弁と連絡しており、前記第１の排出弁と前記第
１のプロセス・ガス入口弁が同時に開かないようにする
ＡＮＤ弁をさらに含む、上記（１１）に記載のガス分離
ボックス。 （１７）前記ＡＮＤ弁が空気圧論理要素を含む、上記
（１６）に記載のガス分離ボックス。 （１８）前記複数のガス・スティックの少なくとも第１
のガス・スティックが第１のプロセス・ガスを収容し、
前記複数のガス・スティックの少なくとも第２のガス・
スティックが第２のプロセス・ガスを収容し、前記第１
および第２のプロセス・ガスが互いに異なるものであ
る、上記（１１）に記載のガス分離ボックス。 （１９）前記複数のガス・スティックのそれぞれ用のロ
ックアウト・スイッチであって、そのロックアウト・ス
イッチがロックアウト・モードであるときに前記第１の
プロセス・ガス入口弁が動作しないようにするロックア
ウト・スイッチをさらに含む、上記（１１）に記載のガ
ス分離ボックス。 （２０）前記エンクロージャ上のドアであって、そのド
アが開いているときに前記複数のガス・スティックのそ
れぞれが使用禁止になるように前記エンクロージャとの
インタロックを有するドアをさらに含む、上記（１１）
に記載のガス分離ボックス。 （２１）熱スイッチをさらに含む、上記（１１）に記載
のガス分離ボックス。 （２２）いかなる所与の時点でも、前記複数のガス・ス
ティックのうち１つのガス・スティックのみの前記排出
セクションが使用可能になる、上記（１１）に記載のガ
ス分離ボックス。 （２３）前記真空発生器モジュール内への希釈ガス流
と、前記真空発生器モジュール内への前記希釈ガス流の
流れを登録する真空スイッチと、前記真空スイッチと前
記排出弁との間のインタロックとをさらに含み、前記真
空スイッチが前記希釈ガス流の所定レベルの流れを登録
するまで前記排出弁が開かない、上記（１１）に記載の
ガス分離ボックス。 （２４）前記真空発生器モジュール内への希釈ガス流
と、前記真空発生器モジュール内への前記希釈ガス流の
流れを登録する真空スイッチと、前記真空発生器モジュ
ールによって発生された真空を測定するための真空測定
装置と、前記真空スイッチと前記真空測定装置と前記排
出弁との間のインタロックとをさらに含み、前記真空ス
イッチが前記希釈ガス流の所定レベルの流れを登録し、
前記真空測定装置が前記真空発生器モジュールによって
発生された所定レベルの真空を測定するまで前記排出弁
が開かない、上記（１１）に記載のガス分離ボックス。 （２５）前記真空発生器モジュール内への希釈ガス流を
さらに含み、前記排出セクションが排出すべき前記プロ
セス・ガスを排出前に前記希釈ガス流の２〜１０体積パ
ーセントの範囲まで希釈する、上記（１１）に記載のガ
ス分離ボックス。 （２６）前記プロセス・ガス・セクション、前記パージ
・ガス・セクション、前記排出セクションの機能のうち
少なくとも一部を制御する制御モジュールをさらに含
む、上記（１１）に記載のガス分離ボックス。 （２７）前記制御モジュールと前記エンクロージャが分
離されている、上記（２６）に記載のガス分離ボック
ス。 （２８）前記ガス分離ボックスが床に位置する、上記
（１１）に記載のガス分離ボックス。 （２９）動作時に、前記パージ・ガス・セクションと前
記排出セクションが所定の回数で交互に使用可能にな
る、上記（１１）に記載のガス分離ボックス。 （３０）動作時に、前記パージ・ガス・セクションが所
定の回数で使用可能と使用不能に交互に切り替わる、上
記（１１）に記載のガス分離ボックス。 （３１）プロセス・ガス入口と、パージ・ガス入口と、
ツールへのプロセス・ガス出口と、排出出口とを有する
エンクロージャと、前記エンクロージャ内に収容された
複数のガス・スティックとを含み、各ガス・スティック
が、前記プロセス・ガス入口から前記ガス・スティック
内へのプロセス・ガスの流れと前記プロセス・ガス出口
を介して流出するプロセス・ガスの流れをゲート制御す
るための第１のプロセス・ガス入口弁を含むプロセス・
ガス・セクションと、前記パージ・ガス入口から前記ガ
ス・スティック内へのパージ・ガスの流れと前記プロセ
ス・ガス出口または前記排出出口を介して流出するパー
ジ・ガスの流れをゲート制御するための空気抜き弁を含
むパージ・ガス・セクションと、排出セクションとを含
み、前記排出セクションが、前記ガス・スティックから
のプロセス・ガスまたはパージ・ガスの流出をゲート制
御するための第１の排出弁と、閉位置のときにプロセス
・ガスがブリード弁を介して流出できるようにし、開位
置のときにパージ・ガスがブリード弁を介して自由に流
動できるようにするブリード弁と、真空を引いて前記ガ
ス・スティックまたは前記ツール内のパージ・ガスまた
はいずれかの残留プロセス・ガスを前記第１の排出弁お
よび前記ブリード弁を介し、さらに前記ガス・スティッ
クから前記排出入口を介して排気流に排出する真空発生
器モジュールとを含み、動作時に、いかなる所与の時点
でも前記第１のプロセス・ガス入口弁と前記パージ・ガ
ス・セクションと前記排出セクションのうち１つのみが
動作可能である、ガス分離ボックス。 （３２）前記プロセス・ガス・セクションが、前記第１
のプロセス・ガス入口弁の下流に第２のプロセス・ガス
入口弁をさらに含み、前記第１のプロセス・ガス入口弁
が高圧弁であり、前記第２のプロセス・ガス入口弁が低
圧弁である、上記（３１）に記載のガス分離ボックス。 （３３）前記第１のプロセス・ガス入口弁と前記第２の
プロセス・ガス入口弁の間に圧力変換器をさらに含む、
上記（３２）に記載のガス分離ボックス。 （３４）前記第１の排出弁の下流にあって、前記ブリー
ド弁と前記真空発生器モジュールとの間に位置する第２
の排出弁をさらに含む、上記（３１）に記載のガス分離
ボックス。 （３５）前記第２の排出弁の下流にあって、前記真空発
生器モジュールの前にある第２の圧力変換器をさらに含
む、上記（３１）に記載のガス分離ボックス。 （３６）前記第１の排出弁および前記第１のプロセス・
ガス入口弁と連絡しており、前記第１の排出弁と前記第
１のプロセス・ガス入口弁が同時に開かないようにする
ＡＮＤ弁をさらに含む、上記（３４）に記載のガス分離
ボックス。 （３７）前記ＡＮＤ弁が空気圧論理要素を含む、上記
（３６）に記載のガス分離ボックス。 （３８）前記複数のガス・スティックの少なくとも第１
のガス・スティックが第１のプロセス・ガスを収容し、
前記複数のガス・スティックの少なくとも第２のガス・
スティックが第２のプロセス・ガスを収容し、前記第１
および第２のプロセス・ガスが互いに異なるものであ
る、上記（３１）に記載のガス分離ボックス。 （３９）前記複数のガス・スティックのそれぞれ用のロ
ックアウト・スイッチであって、そのロックアウト・ス
イッチがロックアウト・モードであるときに前記第１の
プロセス・ガス入口弁が動作しないようにするロックア
ウト・スイッチをさらに含む、上記（３１）に記載のガ
ス分離ボックス。 （４０）前記エンクロージャ上のドアであって、そのド
アが開いているときに前記複数のガス・スティックのそ
れぞれが使用禁止になるように前記エンクロージャとの
インタロックを有するドアをさらに含む、上記（３１）
に記載のガス分離ボックス。 （４１）熱スイッチをさらに含む、上記（３１）に記載
のガス分離ボックス。 （４２）いかなる所与の時点でも、前記複数のガス・ス
ティックのうちの１つのガス・スティックのみの前記排
出セクションが使用可能になっている、上記（３１）に
記載のガス分離ボックス。 （４３）前記真空発生器モジュール内への希釈ガス流
と、前記真空発生器モジュール内への前記希釈ガス流の
流れを登録する真空スイッチと、前記真空スイッチと前
記排出弁との間のインタロックとをさらに含み、前記真
空スイッチが前記希釈ガス流の所定レベルの流れを登録
するまで前記排出弁が開かない、上記（３１）に記載の
ガス分離ボックス。 （４４）前記真空発生器モジュール内への希釈ガス流
と、前記真空発生器モジュール内への前記希釈ガス流の
流れを登録する真空スイッチと、前記真空発生器モジュ
ールによって発生された真空を測定するための真空測定
装置と、前記真空スイッチと前記真空測定装置と前記排
出弁との間のインタロックとをさらに含み、前記真空ス
イッチが前記希釈ガス流の所定レベルの流れを登録し、
前記真空測定装置が前記真空発生器モジュールによって
発生された所定レベルの真空を測定するまで前記排出弁
が開かない、上記（３１）に記載のガス分離ボックス。 （４５）前記排出セクションが排出すべき前記プロセス
・ガスを排出前に前記排気流の２〜１０体積パーセント
の範囲まで希釈する、上記（３１）に記載のガス分離ボ
ックス。 （４６）前記プロセス・ガス・セクション、前記パージ
・ガス・セクション、前記排出セクションの機能のうち
少なくとも一部を制御する制御モジュールをさらに含
む、上記（３１）に記載のガス分離ボックス。 （４７）前記制御モジュールと前記エンクロージャが分
離されている、上記（４６）に記載のガス分離ボック
ス。 （４８）前記ガス分離ボックスが床に位置する、上記
（３１）に記載のガス分離ボックス。 （４９）動作時に、前記パージ・ガス・セクションと前
記排出セクションが所定の回数で交互に使用可能にな
る、上記（３１）に記載のガス分離ボックス。 （５０）動作時に、前記パージ・ガス・セクションが所
定の回数で使用可能と使用不能に交互に切り替わる、上
記（３１）に記載のガス分離ボックス。 （５１）プロセス・ガス入口と、パージ・ガス入口と、
ツールへのプロセス・ガス出口と、排出出口とを有する
エンクロージャと、前記エンクロージャ内に収容された
複数のガス・スティックとを含み、各ガス・スティック
が、前記プロセス・ガス入口から前記ガス・スティック
内へのプロセス・ガスの流れと前記プロセス・ガス出口
を介して流出するプロセス・ガスの流れをゲート制御す
るための第１のプロセス・ガス入口弁を含むプロセス・
ガス・セクションと、前記パージ・ガス入口から前記ガ
ス・スティック内へのパージ・ガスの流れと前記プロセ
ス・ガス出口または前記排出出口を介して流出するパー
ジ・ガスの流れをゲート制御するための空気抜き弁を含
むパージ・ガス・セクションと、排出セクションとを含
み、前記排出セクションが、前記ガス・スティックから
のプロセス・ガスまたはパージ・ガスの流出をゲート制
御するための第１の排出弁と、閉位置のときにプロセス
・ガスがブリード弁を介して流出できるようにし、開位
置のときにパージ・ガスがブリード弁を介して自由に流
動できるようにするブリード弁と、真空を引いて前記ガ
ス・スティックまたは前記ツール内のパージ・ガスまた
はいずれかの残留プロセス・ガスを前記第１の排出弁お
よび前記ブリード弁を介し、さらに前記ガス・スティッ
クから前記排出入口を介して排気流に排出する真空発生
器モジュールとを含む排出セクションとを含み、動作時
に、前記ガス・スティックのそれぞれは、オン・モード
時に、前記第１のプロセス・ガス入口弁が開き、前記パ
ージ・ガス・セクションと前記排出セクションが前記ツ
ールにプロセス・ガスを供給するように使用可能になら
ない動作と、システム・パージ・モード時に、前記パー
ジ・ガス・セクションが前記ツールからプロセス・ガス
をパージするように使用可能になり、前記プロセス・ガ
ス・セクションと前記排出セクションが使用可能になら
ない動作と、ツール・ポンプ／パージ・モード時に、前
記パージ・ガス・セクションが所定の回数で使用可能と
使用禁止に交互に切り替わって前記ツールからプロセス
・ガスをパージする動作と、ローカル排出モード時に、
前記排出セクションが前記ツールからプロセス・ガスを
排出するように使用可能になり、前記プロセス・ガス・
セクションと前記パージ・ガス・セクションが使用可能
にならない動作と、ローカル・ポンプ／パージ・モード
時に、前記排出セクションと前記パージ・ガス・セクシ
ョンが交互に使用可能になって前記ツールからプロセス
・ガスを排出してパージし、前記プロセス・ガス・セク
ションが使用可能にならない動作とが可能であるガス分
離ボックス。 （５２）前記プロセス・ガス・セクション、前記パージ
・ガス・セクション、前記排出セクションの機能のうち
少なくとも一部を制御する制御モジュールをさらに含
む、上記（５１）に記載のガス分離ボックス。 （５３）ガス・スティック内へのプロセス・ガスの流れ
をゲート制御するための第１のプロセス・ガス入口弁を
含むプロセス・ガス・セクションと、ガス・スティック
内へのパージ・ガスの流れをゲート制御するための空気
抜き弁を含むパージ・ガス・セクションと、ガス・ステ
ィックからのプロセス・ガスまたはパージ・ガスの流出
のための排出セクションとを含むガス・スティック。 （５４）ガス・スティック内へのプロセス・ガスの流れ
をゲート制御するための第１のプロセス・ガス入口弁を
含むプロセス・ガス・セクションと、ガス・スティック
内へのパージ・ガスの流れをゲート制御するための空気
抜き弁を含むパージ・ガス・セクションと、排出セクシ
ョンとを含み、前記排出セクションが、ガス・スティッ
クからのプロセス・ガスまたはパージ・ガスの流出をゲ
ート制御するための第１の排出弁と、閉位置のときにプ
ロセス・ガスがブリード弁を介して流出できるように
し、開位置のときにパージ・ガスがブリード弁を介して
自由に流動できるようにするブリード弁と、真空を引い
てガス・スティックまたはツール内のパージ・ガスまた
はいずれかの残留プロセス・ガスを前記第１の排出弁お
よび前記ブリード弁を介して前記ガス・スティックから
排気流に排出する真空発生器モジュールとを含む、ガス
・スティック。 （５５）プロセス・ガス入口からガス・スティック内へ
のプロセス・ガスの流れとプロセス・ガス出口を介して
流出するプロセス・ガスの流れをゲート制御するための
第１のプロセス・ガス入口弁を含むプロセス・ガス・セ
クションと、パージ・ガス入口からガス・スティック内
へのパージ・ガスの流れとプロセス・ガス出口または排
出出口を介して流出するパージ・ガスの流れをゲート制
御するための空気抜き弁を含むパージ・ガス・セクショ
ンと、排出セクションとを含み、前記排出セクション
が、ガス・スティックからのプロセス・ガスまたはパー
ジ・ガスの流出をゲート制御するための第１の排出弁
と、閉位置のときにプロセス・ガスがブリード弁を介し
て流出できるようにし、開位置のときにパージ・ガスが
ブリード弁を介して自由に流動できるようにするブリー
ド弁と、真空を引いてガス・スティックまたはツール内
のパージ・ガスまたはいずれかの残留プロセス・ガスを
前記第１の排出弁および前記ブリード弁を介し、さらに
ガス・スティックから排出入口を介して排気流に排出す
る真空発生器モジュールとを含み、動作時に、いかなる
所与の時点でも前記第１のプロセス・ガス入口弁と前記
パージ・ガス・セクションと前記排出セクションのうち
１つのみが動作可能である、ガス・スティック。 （５６）プロセス・ガス入口からガス・スティック内へ
のプロセス・ガスの流れとプロセス・ガス出口を介して
流出するプロセス・ガスの流れをゲート制御するための
第１のプロセス・ガス入口弁を含むプロセス・ガス・セ
クションと、パージ・ガス入口からガス・スティック内
へのパージ・ガスの流れとプロセス・ガス出口または排
出出口を介して流出するパージ・ガスの流れをゲート制
御するための空気抜き弁を含むパージ・ガス・セクショ
ンと、排出セクションとを含み、前記排出セクション
が、ガス・スティックからのプロセス・ガスまたはパー
ジ・ガスの流出をゲート制御するための第１の排出弁
と、閉位置のときにプロセス・ガスがブリード弁を介し
て流出できるようにし、開位置のときにパージ・ガスが
ブリード弁を介して自由に流動できるようにするブリー
ド弁と、真空を引いてガス・スティックまたはツール内
のパージ・ガスまたはいずれかの残留プロセス・ガスを
前記第１の排出弁および前記ブリード弁を介し、さらに
ガス・スティックから排出入口を介して排気流に排出す
る真空発生器モジュールとを含み、動作時に、ガス・ス
ティックのそれぞれは、オン・モード時に、前記第１の
プロセス・ガス入口弁が開き、前記パージ・ガス・セク
ションと前記排出セクションが前記ツールにプロセス・
ガスを供給するように使用可能にならない動作と、シス
テム・パージ・モード時に、前記パージ・ガス・セクシ
ョンが前記ツールからプロセス・ガスをパージするよう
に使用可能になり、前記プロセス・ガス・セクションと
前記排出セクションが使用可能にならない動作と、ツー
ル・ポンプ／パージ・モード時に、前記パージ・ガス・
セクションが所定の回数で使用可能と使用禁止に交互に
切り替わって前記ツールからプロセス・ガスをパージす
る動作と、ローカル排出モード時に、前記排出セクショ
ンが前記ツールからプロセス・ガスを排出するように使
用可能になり、前記プロセス・ガス・セクションと前記
パージ・ガス・セクションが使用可能にならない動作
と、ローカル・ポンプ／パージ・モード時に、前記排出
セクションと前記パージ・ガス・セクションが交互に使
用可能になって前記ツールからプロセス・ガスを排出し
てパージし、前記プロセス・ガス・セクションが使用可
能にならない動作とが可能であるガス・スティック。 （５７）前記エンクロージャが、前記エンクロージャ内
に周囲空気が入るための第１の１組の穿孔と、前記エン
クロージャから周囲空気が出るための第２の１組の穿孔
とを有し、動作時に、前記第１の１組の穿孔と前記第２
の１組の穿孔との間で周囲空気が流れる、上記（１）に
記載のガス分離ボックス。 （５８）前記エンクロージャが、前記エンクロージャ内
に周囲空気が入るための第１の１組の穿孔と、前記エン
クロージャから周囲空気が出るための第２の１組の穿孔
とを有し、動作時に、前記第１の１組の穿孔と前記第２
の１組の穿孔との間で周囲空気が流れる、上記（１１）
に記載のガス分離ボックス。 （５９）前記エンクロージャが、前記エンクロージャ内
に周囲空気が入るための第１の１組の穿孔と、前記エン
クロージャから周囲空気が出るための第２の１組の穿孔
とを有し、動作時に、前記第１の１組の穿孔と前記第２
の１組の穿孔との間で周囲空気が流れる、上記（３１）
に記載のガス分離ボックス。 （６０）前記エンクロージャが、前記エンクロージャ内
に周囲空気が入るための第１の１組の穿孔と、前記エン
クロージャから周囲空気が出るための第２の１組の穿孔
とを有し、動作時に、前記第１の１組の穿孔と前記第２
の１組の穿孔との間で周囲空気が流れる、上記（５１）
に記載のガス分離ボックス。
【図１】プロセス・ツールに近接した本発明によるガス
分離ボックスのブロック図である。
分離ボックスのブロック図である。
【図２】図１と同様のブロック図であり、ガス分離ボッ
クスの制御モジュールが遠隔に位置することを示す図で
ある。
クスの制御モジュールが遠隔に位置することを示す図で
ある。
【図３】本発明によるガス分離ボックスの概略斜視図で
ある。
ある。
【図４】本発明によるガス分離ボックスのエンクロージ
ャおよびガス・スティックの概略斜視図である。
ャおよびガス・スティックの概略斜視図である。
【図５】本発明によるガス・スティックの１つの立面図
である。
である。
【図６】本発明によるガス分離ボックスの空気圧配管の
概略図である。
概略図である。
【図７】本発明によるガス分離ボックスを管理する制御
モジュールの概略ブロック図である。
モジュールの概略ブロック図である。
【図８】本発明によるガス分離ボックスのエンクロージ
ャの分解斜視図である。
ャの分解斜視図である。
１０ ガス分離ボックス １２ 制御モジュール １４ エンクロージャ １６ ガス供給キャビネット １８ ツール ２０ 供給ライン ２２ 追加の供給ライン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ロバート・レイモンド・ヤング・ジュニア アメリカ合衆国12514 ニューヨーク州ク リントン・コーナーズ パンプキン・レー ン 631 Ｆターム(参考） 5F004 AA16 BC03 DA24 DA25 DA26 5F045 AC01 AC02 AC11 AC15 AC16 BB20 EE02 EE04
Claims (60)
- 【請求項１】エンクロージャと、 前記エンクロージャ内に収容された複数のガス・スティ
ックとを含み、各ガス・スティックが、 前記ガス・スティック内へのプロセス・ガスの流れをゲ
ート制御するための第１のプロセス・ガス入口弁を含む
プロセス・ガス・セクションと、 前記ガス・スティック内へのパージ・ガスの流れをゲー
ト制御するための空気抜き弁を含むパージ・ガス・セク
ションと、 前記ガス・スティックからプロセス・ガスまたはパージ
・ガスを流出するための排出セクションとを含むガス分
離ボックス。 - 【請求項２】前記複数のガス・スティックの少なくとも
第１のガス・スティックが第１のプロセス・ガスを収容
し、前記複数のガス・スティックの少なくとも第２のガ
ス・スティックが第２のプロセス・ガスを収容し、前記
第１および第２のプロセス・ガスが互いに異なるもので
ある請求項１に記載のガス分離ボックス。 - 【請求項３】前記複数のガス・スティックのそれぞれ用
のロックアウト・スイッチであって、そのロックアウト
・スイッチがロックアウト・モードであるときに前記第
１のプロセス・ガス入口弁が動作しないようにするロッ
クアウト・スイッチをさらに含む請求項１に記載のガス
分離ボックス。 - 【請求項４】前記エンクロージャ上のドアであって、そ
のドアが開いているときに前記複数のガス・スティック
のそれぞれが使用禁止になるような前記エンクロージャ
とのインタロックを有するドアをさらに含む請求項１に
記載のガス分離ボックス。 - 【請求項５】前記複数のガス・スティックのうち１つの
ガス・スティックのみ前記排出セクションが、いずれの
所与の時点でも使用可能になっている請求項１に記載の
ガス分離ボックス。 - 【請求項６】前記プロセス・ガス・セクション、前記パ
ージ・ガス・セクション、前記排出セクションの機能の
うち少なくとも一部を制御する制御モジュールをさらに
含む、請求項１に記載のガス分離ボックス。 - 【請求項７】前記制御モジュールと前記エンクロージャ
が分離されている、請求項１に記載のガス分離ボック
ス。 - 【請求項８】前記ガス分離ボックスが床に位置する、請
求項１に記載のガス分離ボックス。 - 【請求項９】動作時に、前記パージ・ガス・セクション
と前記排出セクションが所定の回数で交互に使用可能に
なる、請求項１に記載のガス分離ボックス。 - 【請求項１０】動作時に、前記パージ・ガス・セクショ
ンが所定の回数で使用可能と使用不能に交互に切り替わ
る、請求項１に記載のガス分離ボックス。 - 【請求項１１】エンクロージャと、 前記エンクロージャ内に収容された複数のガス・スティ
ックとを含み、各ガス・スティックが、 前記ガス・スティック内へのプロセス・ガスの流れをゲ
ート制御するための第１のプロセス・ガス入口弁を含む
プロセス・ガス・セクションと、 前記ガス・スティック内へのパージ・ガスの流れをゲー
ト制御するための空気抜き弁を含むパージ・ガス・セク
ションと、 排出セクションとを含み、前記排出セクションが、前記
ガス・スティックからのプロセス・ガスまたはパージ・
ガスの流出をゲート制御するための第１の排出弁と、閉
位置のときにプロセス・ガスがブリード弁を介して流出
できるようにし、開位置のときにパージ・ガスがブリー
ド弁を介して自由に流動できるようにするブリード弁
と、真空を引いて前記ガス・スティックまたはツール内
のパージ・ガスまたはいずれかの残留プロセス・ガスを
前記第１の排出弁および前記ブリード弁を介して前記ガ
ス・スティックから排気流に排出する真空発生器モジュ
ールとを含むガス分離ボックス。 - 【請求項１２】前記プロセス・ガス・セクションが、前
記第１のプロセス・ガス入口弁の下流に第２のプロセス
・ガス入口弁をさらに含み、前記第１のプロセス・ガス
入口弁が高圧弁であり、前記第２のプロセス・ガス入口
弁が低圧弁である、請求項１１に記載のガス分離ボック
ス。 - 【請求項１３】前記第１のプロセス・ガス入口弁と前記
第２のプロセス・ガス入口弁の間に圧力変換器をさらに
含む、請求項１２に記載のガス分離ボックス。 - 【請求項１４】前記第１の排出弁の下流にあって、前記
ブリード弁と前記真空発生器モジュールとの間に位置す
る第２の排出弁をさらに含む、請求項１１に記載のガス
分離ボックス。 - 【請求項１５】前記第２の排出弁の下流にあって、前記
真空発生器モジュールの前にある第２の圧力変換器をさ
らに含む、請求項１１に記載のガス分離ボックス。 - 【請求項１６】前記第１の排出弁および前記第１のプロ
セス・ガス入口弁と連絡しており、前記第１の排出弁と
前記第１のプロセス・ガス入口弁が同時に開かないよう
にするＡＮＤ弁をさらに含む、請求項１１に記載のガス
分離ボックス。 - 【請求項１７】前記ＡＮＤ弁が空気圧論理要素を含む、
請求項１６に記載のガス分離ボックス。 - 【請求項１８】前記複数のガス・スティックの少なくと
も第１のガス・スティックが第１のプロセス・ガスを収
容し、前記複数のガス・スティックの少なくとも第２の
ガス・スティックが第２のプロセス・ガスを収容し、前
記第１および第２のプロセス・ガスが互いに異なるもの
である、請求項１１に記載のガス分離ボックス。 - 【請求項１９】前記複数のガス・スティックのそれぞれ
用のロックアウト・スイッチであって、そのロックアウ
ト・スイッチがロックアウト・モードであるときに前記
第１のプロセス・ガス入口弁が動作しないようにするロ
ックアウト・スイッチをさらに含む、請求項１１に記載
のガス分離ボックス。 - 【請求項２０】前記エンクロージャ上のドアであって、
そのドアが開いているときに前記複数のガス・スティッ
クのそれぞれが使用禁止になるように前記エンクロージ
ャとのインタロックを有するドアをさらに含む、請求項
１１に記載のガス分離ボックス。 - 【請求項２１】熱スイッチをさらに含む、請求項１１に
記載のガス分離ボックス。 - 【請求項２２】いかなる所与の時点でも、前記複数のガ
ス・スティックのうち１つのガス・スティックのみの前
記排出セクションが使用可能になる、請求項１１に記載
のガス分離ボックス。 - 【請求項２３】前記真空発生器モジュール内への希釈ガ
ス流と、前記真空発生器モジュール内への前記希釈ガス
流の流れを登録する真空スイッチと、前記真空スイッチ
と前記排出弁との間のインタロックとをさらに含み、前
記真空スイッチが前記希釈ガス流の所定レベルの流れを
登録するまで前記排出弁が開かない、請求項１１に記載
のガス分離ボックス。 - 【請求項２４】前記真空発生器モジュール内への希釈ガ
ス流と、前記真空発生器モジュール内への前記希釈ガス
流の流れを登録する真空スイッチと、前記真空発生器モ
ジュールによって発生された真空を測定するための真空
測定装置と、前記真空スイッチと前記真空測定装置と前
記排出弁との間のインタロックとをさらに含み、前記真
空スイッチが前記希釈ガス流の所定レベルの流れを登録
し、前記真空測定装置が前記真空発生器モジュールによ
って発生された所定レベルの真空を測定するまで前記排
出弁が開かない、請求項１１に記載のガス分離ボック
ス。 - 【請求項２５】前記真空発生器モジュール内への希釈ガ
ス流をさらに含み、前記排出セクションが排出すべき前
記プロセス・ガスを排出前に前記希釈ガス流の２〜１０
体積パーセントの範囲まで希釈する、請求項１１に記載
のガス分離ボックス。 - 【請求項２６】前記プロセス・ガス・セクション、前記
パージ・ガス・セクション、前記排出セクションの機能
のうち少なくとも一部を制御する制御モジュールをさら
に含む、請求項１１に記載のガス分離ボックス。 - 【請求項２７】前記制御モジュールと前記エンクロージ
ャが分離されている、請求項２６に記載のガス分離ボッ
クス。 - 【請求項２８】前記ガス分離ボックスが床に位置する、
請求項１１に記載のガス分離ボックス。 - 【請求項２９】動作時に、前記パージ・ガス・セクショ
ンと前記排出セクションが所定の回数で交互に使用可能
になる、請求項１１に記載のガス分離ボックス。 - 【請求項３０】動作時に、前記パージ・ガス・セクショ
ンが所定の回数で使用可能と使用不能に交互に切り替わ
る、請求項１１に記載のガス分離ボックス。 - 【請求項３１】プロセス・ガス入口と、パージ・ガス入
口と、ツールへのプロセス・ガス出口と、排出出口とを
有するエンクロージャと、 前記エンクロージャ内に収容された複数のガス・スティ
ックとを含み、各ガス・スティックが、 前記プロセス・ガス入口から前記ガス・スティック内へ
のプロセス・ガスの流れと前記プロセス・ガス出口を介
して流出するプロセス・ガスの流れをゲート制御するた
めの第１のプロセス・ガス入口弁を含むプロセス・ガス
・セクションと、 前記パージ・ガス入口から前記ガス・スティック内への
パージ・ガスの流れと前記プロセス・ガス出口または前
記排出出口を介して流出するパージ・ガスの流れをゲー
ト制御するための空気抜き弁を含むパージ・ガス・セク
ションと、 排出セクションとを含み、前記排出セクションが、前記
ガス・スティックからのプロセス・ガスまたはパージ・
ガスの流出をゲート制御するための第１の排出弁と、閉
位置のときにプロセス・ガスがブリード弁を介して流出
できるようにし、開位置のときにパージ・ガスがブリー
ド弁を介して自由に流動できるようにするブリード弁
と、真空を引いて前記ガス・スティックまたは前記ツー
ル内のパージ・ガスまたはいずれかの残留プロセス・ガ
スを前記第１の排出弁および前記ブリード弁を介し、さ
らに前記ガス・スティックから前記排出入口を介して排
気流に排出する真空発生器モジュールとを含み、 動作時に、いかなる所与の時点でも前記第１のプロセス
・ガス入口弁と前記パージ・ガス・セクションと前記排
出セクションのうち１つのみが動作可能である、ガス分
離ボックス。 - 【請求項３２】前記プロセス・ガス・セクションが、前
記第１のプロセス・ガス入口弁の下流に第２のプロセス
・ガス入口弁をさらに含み、前記第１のプロセス・ガス
入口弁が高圧弁であり、前記第２のプロセス・ガス入口
弁が低圧弁である、請求項３１に記載のガス分離ボック
ス。 - 【請求項３３】前記第１のプロセス・ガス入口弁と前記
第２のプロセス・ガス入口弁の間に圧力変換器をさらに
含む、請求項３２に記載のガス分離ボックス。 - 【請求項３４】前記第１の排出弁の下流にあって、前記
ブリード弁と前記真空発生器モジュールとの間に位置す
る第２の排出弁をさらに含む、請求項３１に記載のガス
分離ボックス。 - 【請求項３５】前記第２の排出弁の下流にあって、前記
真空発生器モジュールの前にある第２の圧力変換器をさ
らに含む、請求項３１に記載のガス分離ボックス。 - 【請求項３６】前記第１の排出弁および前記第１のプロ
セス・ガス入口弁と連絡しており、前記第１の排出弁と
前記第１のプロセス・ガス入口弁が同時に開かないよう
にするＡＮＤ弁をさらに含む、請求項３４に記載のガス
分離ボックス。 - 【請求項３７】前記ＡＮＤ弁が空気圧論理要素を含む、
請求項３６に記載のガス分離ボックス。 - 【請求項３８】前記複数のガス・スティックの少なくと
も第１のガス・スティックが第１のプロセス・ガスを収
容し、前記複数のガス・スティックの少なくとも第２の
ガス・スティックが第２のプロセス・ガスを収容し、前
記第１および第２のプロセス・ガスが互いに異なるもの
である、請求項３１に記載のガス分離ボックス。 - 【請求項３９】前記複数のガス・スティックのそれぞれ
用のロックアウト・スイッチであって、そのロックアウ
ト・スイッチがロックアウト・モードであるときに前記
第１のプロセス・ガス入口弁が動作しないようにするロ
ックアウト・スイッチをさらに含む、請求項３１に記載
のガス分離ボックス。 - 【請求項４０】前記エンクロージャ上のドアであって、
そのドアが開いているときに前記複数のガス・スティッ
クのそれぞれが使用禁止になるように前記エンクロージ
ャとのインタロックを有するドアをさらに含む、請求項
３１に記載のガス分離ボックス。 - 【請求項４１】熱スイッチをさらに含む、請求項３１に
記載のガス分離ボックス。 - 【請求項４２】いかなる所与の時点でも、前記複数のガ
ス・スティックのうちの１つのガス・スティックのみの
前記排出セクションが使用可能になっている、請求項３
１に記載のガス分離ボックス。 - 【請求項４３】前記真空発生器モジュール内への希釈ガ
ス流と、前記真空発生器モジュール内への前記希釈ガス
流の流れを登録する真空スイッチと、前記真空スイッチ
と前記排出弁との間のインタロックとをさらに含み、前
記真空スイッチが前記希釈ガス流の所定レベルの流れを
登録するまで前記排出弁が開かない、請求項３１に記載
のガス分離ボックス。 - 【請求項４４】前記真空発生器モジュール内への希釈ガ
ス流と、前記真空発生器モジュール内への前記希釈ガス
流の流れを登録する真空スイッチと、前記真空発生器モ
ジュールによって発生された真空を測定するための真空
測定装置と、前記真空スイッチと前記真空測定装置と前
記排出弁との間のインタロックとをさらに含み、前記真
空スイッチが前記希釈ガス流の所定レベルの流れを登録
し、前記真空測定装置が前記真空発生器モジュールによ
って発生された所定レベルの真空を測定するまで前記排
出弁が開かない、請求項３１に記載のガス分離ボック
ス。 - 【請求項４５】前記排出セクションが排出すべき前記プ
ロセス・ガスを排出前に前記排気流の２〜１０体積パー
セントの範囲まで希釈する、請求項３１に記載のガス分
離ボックス。 - 【請求項４６】前記プロセス・ガス・セクション、前記
パージ・ガス・セクション、前記排出セクションの機能
のうち少なくとも一部を制御する制御モジュールをさら
に含む、請求項３１に記載のガス分離ボックス。 - 【請求項４７】前記制御モジュールと前記エンクロージ
ャが分離されている、請求項４６に記載のガス分離ボッ
クス。 - 【請求項４８】前記ガス分離ボックスが床に位置する、
請求項３１に記載のガス分離ボックス。 - 【請求項４９】動作時に、前記パージ・ガス・セクショ
ンと前記排出セクションが所定の回数で交互に使用可能
になる、請求項３１に記載のガス分離ボックス。 - 【請求項５０】動作時に、前記パージ・ガス・セクショ
ンが所定の回数で使用可能と使用不能に交互に切り替わ
る、請求項３１に記載のガス分離ボックス。 - 【請求項５１】プロセス・ガス入口と、パージ・ガス入
口と、ツールへのプロセス・ガス出口と、排出出口とを
有するエンクロージャと、 前記エンクロージャ内に収容された複数のガス・スティ
ックとを含み、各ガス・スティックが、 前記プロセス・ガス入口から前記ガス・スティック内へ
のプロセス・ガスの流れと前記プロセス・ガス出口を介
して流出するプロセス・ガスの流れをゲート制御するた
めの第１のプロセス・ガス入口弁を含むプロセス・ガス
・セクションと、 前記パージ・ガス入口から前記ガス・スティック内への
パージ・ガスの流れと前記プロセス・ガス出口または前
記排出出口を介して流出するパージ・ガスの流れをゲー
ト制御するための空気抜き弁を含むパージ・ガス・セク
ションと、 排出セクションとを含み、前記排出セクションが、前記
ガス・スティックからのプロセス・ガスまたはパージ・
ガスの流出をゲート制御するための第１の排出弁と、閉
位置のときにプロセス・ガスがブリード弁を介して流出
できるようにし、開位置のときにパージ・ガスがブリー
ド弁を介して自由に流動できるようにするブリード弁
と、真空を引いて前記ガス・スティックまたは前記ツー
ル内のパージ・ガスまたはいずれかの残留プロセス・ガ
スを前記第１の排出弁および前記ブリード弁を介し、さ
らに前記ガス・スティックから前記排出入口を介して排
気流に排出する真空発生器モジュールとを含む排出セク
ションとを含み、 動作時に、前記ガス・スティックのそれぞれは、 オン・モード時に、前記第１のプロセス・ガス入口弁が
開き、前記パージ・ガス・セクションと前記排出セクシ
ョンが前記ツールにプロセス・ガスを供給するように使
用可能にならない動作と、 システム・パージ・モード時に、前記パージ・ガス・セ
クションが前記ツールからプロセス・ガスをパージする
ように使用可能になり、前記プロセス・ガス・セクショ
ンと前記排出セクションが使用可能にならない動作と、 ツール・ポンプ／パージ・モード時に、前記パージ・ガ
ス・セクションが所定の回数で使用可能と使用禁止に交
互に切り替わって前記ツールからプロセス・ガスをパー
ジする動作と、 ローカル排出モード時に、前記排出セクションが前記ツ
ールからプロセス・ガスを排出するように使用可能にな
り、前記プロセス・ガス・セクションと前記パージ・ガ
ス・セクションが使用可能にならない動作と、 ローカル・ポンプ／パージ・モード時に、前記排出セク
ションと前記パージ・ガス・セクションが交互に使用可
能になって前記ツールからプロセス・ガスを排出してパ
ージし、前記プロセス・ガス・セクションが使用可能に
ならない動作とが可能であるガス分離ボックス。 - 【請求項５２】前記プロセス・ガス・セクション、前記
パージ・ガス・セクション、前記排出セクションの機能
のうち少なくとも一部を制御する制御モジュールをさら
に含む、請求項５１に記載のガス分離ボックス。 - 【請求項５３】ガス・スティック内へのプロセス・ガス
の流れをゲート制御するための第１のプロセス・ガス入
口弁を含むプロセス・ガス・セクションと、 ガス・スティック内へのパージ・ガスの流れをゲート制
御するための空気抜き弁を含むパージ・ガス・セクショ
ンと、 ガス・スティックからのプロセス・ガスまたはパージ・
ガスの流出のための排出セクションとを含むガス・ステ
ィック。 - 【請求項５４】ガス・スティック内へのプロセス・ガス
の流れをゲート制御するための第１のプロセス・ガス入
口弁を含むプロセス・ガス・セクションと、 ガス・スティック内へのパージ・ガスの流れをゲート制
御するための空気抜き弁を含むパージ・ガス・セクショ
ンと、 排出セクションとを含み、前記排出セクションが、ガス
・スティックからのプロセス・ガスまたはパージ・ガス
の流出をゲート制御するための第１の排出弁と、閉位置
のときにプロセス・ガスがブリード弁を介して流出でき
るようにし、開位置のときにパージ・ガスがブリード弁
を介して自由に流動できるようにするブリード弁と、真
空を引いてガス・スティックまたはツール内のパージ・
ガスまたはいずれかの残留プロセス・ガスを前記第１の
排出弁および前記ブリード弁を介して前記ガス・スティ
ックから排気流に排出する真空発生器モジュールとを含
む、ガス・スティック。 - 【請求項５５】プロセス・ガス入口からガス・スティッ
ク内へのプロセス・ガスの流れとプロセス・ガス出口を
介して流出するプロセス・ガスの流れをゲート制御する
ための第１のプロセス・ガス入口弁を含むプロセス・ガ
ス・セクションと、 パージ・ガス入口からガス・スティック内へのパージ・
ガスの流れとプロセス・ガス出口または排出出口を介し
て流出するパージ・ガスの流れをゲート制御するための
空気抜き弁を含むパージ・ガス・セクションと、 排出セクションとを含み、前記排出セクションが、ガス
・スティックからのプロセス・ガスまたはパージ・ガス
の流出をゲート制御するための第１の排出弁と、閉位置
のときにプロセス・ガスがブリード弁を介して流出でき
るようにし、開位置のときにパージ・ガスがブリード弁
を介して自由に流動できるようにするブリード弁と、真
空を引いてガス・スティックまたはツール内のパージ・
ガスまたはいずれかの残留プロセス・ガスを前記第１の
排出弁および前記ブリード弁を介し、さらにガス・ステ
ィックから排出入口を介して排気流に排出する真空発生
器モジュールとを含み、 動作時に、いかなる所与の時点でも前記第１のプロセス
・ガス入口弁と前記パージ・ガス・セクションと前記排
出セクションのうち１つのみが動作可能である、ガス・
スティック。 - 【請求項５６】プロセス・ガス入口からガス・スティッ
ク内へのプロセス・ガスの流れとプロセス・ガス出口を
介して流出するプロセス・ガスの流れをゲート制御する
ための第１のプロセス・ガス入口弁を含むプロセス・ガ
ス・セクションと、 パージ・ガス入口からガス・スティック内へのパージ・
ガスの流れとプロセス・ガス出口または排出出口を介し
て流出するパージ・ガスの流れをゲート制御するための
空気抜き弁を含むパージ・ガス・セクションと、 排出セクションとを含み、前記排出セクションが、ガス
・スティックからのプロセス・ガスまたはパージ・ガス
の流出をゲート制御するための第１の排出弁と、閉位置
のときにプロセス・ガスがブリード弁を介して流出でき
るようにし、開位置のときにパージ・ガスがブリード弁
を介して自由に流動できるようにするブリード弁と、真
空を引いてガス・スティックまたはツール内のパージ・
ガスまたはいずれかの残留プロセス・ガスを前記第１の
排出弁および前記ブリード弁を介し、さらにガス・ステ
ィックから排出入口を介して排気流に排出する真空発生
器モジュールとを含み、 動作時に、ガス・スティックのそれぞれは、 オン・モード時に、前記第１のプロセス・ガス入口弁が
開き、前記パージ・ガス・セクションと前記排出セクシ
ョンが前記ツールにプロセス・ガスを供給するように使
用可能にならない動作と、 システム・パージ・モード時に、前記パージ・ガス・セ
クションが前記ツールからプロセス・ガスをパージする
ように使用可能になり、前記プロセス・ガス・セクショ
ンと前記排出セクションが使用可能にならない動作と、 ツール・ポンプ／パージ・モード時に、前記パージ・ガ
ス・セクションが所定の回数で使用可能と使用禁止に交
互に切り替わって前記ツールからプロセス・ガスをパー
ジする動作と、 ローカル排出モード時に、前記排出セクションが前記ツ
ールからプロセス・ガスを排出するように使用可能にな
り、前記プロセス・ガス・セクションと前記パージ・ガ
ス・セクションが使用可能にならない動作と、 ローカル・ポンプ／パージ・モード時に、前記排出セク
ションと前記パージ・ガス・セクションが交互に使用可
能になって前記ツールからプロセス・ガスを排出してパ
ージし、前記プロセス・ガス・セクションが使用可能に
ならない動作とが可能であるガス・スティック。 - 【請求項５７】前記エンクロージャが、前記エンクロー
ジャ内に周囲空気が入るための第１の１組の穿孔と、前
記エンクロージャから周囲空気が出るための第２の１組
の穿孔とを有し、動作時に、前記第１の１組の穿孔と前
記第２の１組の穿孔との間で周囲空気が流れる、請求項
１に記載のガス分離ボックス。 - 【請求項５８】前記エンクロージャが、前記エンクロー
ジャ内に周囲空気が入るための第１の１組の穿孔と、前
記エンクロージャから周囲空気が出るための第２の１組
の穿孔とを有し、動作時に、前記第１の１組の穿孔と前
記第２の１組の穿孔との間で周囲空気が流れる、請求項
１１に記載のガス分離ボックス。 - 【請求項５９】前記エンクロージャが、前記エンクロー
ジャ内に周囲空気が入るための第１の１組の穿孔と、前
記エンクロージャから周囲空気が出るための第２の１組
の穿孔とを有し、動作時に、前記第１の１組の穿孔と前
記第２の１組の穿孔との間で周囲空気が流れる、請求項
３１に記載のガス分離ボックス。 - 【請求項６０】前記エンクロージャが、前記エンクロー
ジャ内に周囲空気が入るための第１の１組の穿孔と、前
記エンクロージャから周囲空気が出るための第２の１組
の穿孔とを有し、動作時に、前記第１の１組の穿孔と前
記第２の１組の穿孔との間で周囲空気が流れる、請求項
５１に記載のガス分離ボックス。
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