JP2002198795A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JP2002198795A
JP2002198795A JP2000390843A JP2000390843A JP2002198795A JP 2002198795 A JP2002198795 A JP 2002198795A JP 2000390843 A JP2000390843 A JP 2000390843A JP 2000390843 A JP2000390843 A JP 2000390843A JP 2002198795 A JP2002198795 A JP 2002198795A
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input
transistor
semiconductor device
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Hirotsugu Kashihara
洋次 樫原
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Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 外部入力信号がしきい値電圧間の中間レベル
になったときに流れる貫通電流を低減すると共に、中間
レベルのノイズ入力に応答しない入力回路を備えた半導
体装置を得る。 【解決手段】 サブストレートゲートに電源電圧VCC
よりも大きな電圧VCC2を印加したPMOSトランジ
スタ11と、サブストレートゲートに接地電圧GNDよ
りも小さな電圧GND2を印加したNMOSトランジス
タ12でインバータ13を形成してなる入力初段回路2
と、インバータ13の出力端に接続されるラッチ回路3
とで入力回路1を形成した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、外部からの入力信
号に対応する内部信号を生成して出力する入力初段回路
を有した入力回路を備える半導体装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来の半導体装置において、外部からの
入力信号は、図11で示すようなインバータ、図12で
示すようなNOR回路又はNAND回路等の論理回路で
構成される入力回路に入力され、該入力回路を介して内
部回路に伝達されていた。入力回路に論理回路が使用さ
れるのは、外部からの入力信号(以下、外部入力信号と
呼ぶ)を有効にするか又は無効にするかを制御するため
に内部制御信号と論理をとる必要がある場合であり、外
部入力信号の観点からはインバータの場合と同様の動作
を行う。このことから、以下、図11のインバータを使
用した入力回路を例にして説明する。
【0003】図11の半導体装置において、入力回路1
01は、Pチャネル型MOSトランジスタ(以下、PM
OSトランジスタと呼ぶ)102とNチャネル型MOS
トランジスタ(以下、NMOSトランジスタと呼ぶ)1
03の直列回路で形成されたインバータ104で構成さ
れている。外部入力信号INがロー(Low)レベルから
ハイ(High)レベルに立ち上がるとき、図13で示す
ように、外部入力信号INがNMOSトランジスタ10
3のしきい値電圧Vtn、すなわちインバータ104の
しきい値電圧VLを超えるとNMOSトランジスタ10
3はオンし、インバータ104の出力信号OUTxはハ
イレベルからローレベルに変化し始める。
【0004】一方、外部入力信号INがハイレベルから
ローレベルに変化する場合は、外部入力信号INが電源
電圧VCCよりもPMOSトランジスタ102のしきい
値電圧Vtpだけ低下した時点、すなわちインバータ1
04のしきい値電圧VH(=VCC−Vtp)になった
時点でPMOSトランジスタ102がオンし、出力信号
OUTxはローレベルからハイレベルに変化し始める。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ここで、外部入力信号
INがしきい値電圧VLとVHとの中間レベルである場
合、図11における点線の矢印で示したように貫通電流
Iが、電源電圧VCCが印加される電源端子から接地に
流れる。通常、外部入力信号INの立ち上がり時間Tr
及び立ち下がり時間Tfはスペックで規定されているた
め、貫通電流Iが極端に大きくなることはないが、実際
の使用上では該スペックが満たされていない場合があっ
た。立ち上がり時間Tr及び/又は立ち下がり時間Tf
が大きくなってしまった場合、図14で示すように、外
部入力信号INの信号レベルがしきい値電圧VHとVL
との間である時間が長くなって貫通電流Iが大きくな
る。このため、半導体装置の消費電力が増加し、半導体
チップの特性の悪化や発熱による信頼性の低下等、様々
な問題が発生する。
【0006】このようなインバータにおける貫通電流を
低減する方法として、特開昭57−58417号公報で
は、トランジスタのしきい値電圧を入力信号に応じて低
下させることにより、貫通電流が流れる遷移期間そのも
のを短縮する回路が開示されている。しかし、このよう
な回路を入力回路に使用した場合においても、外部から
中間電圧が印加され続けた場合、遷移期間を短縮するこ
とができず入力回路として適切ではなかった。
【0007】更に、従来の入力回路は、ノイズによる誤
動作が発生するという問題があった。図15に示すよう
に、外部入力信号INが、ノイズによってしきい値電圧
VHとVLとの間の信号レベルになった場合、これをイ
ンバータ104が反転データの入力として検知し、出力
信号OUTxに逆データが発生する可能性があった。な
お、図13及び図14において、(a)は外部入力信号
INの波形を、(b)は出力信号OUTxの波形を、
(c)は貫通電流Iの波形をそれぞれ示している。ま
た、図15において、(a)は外部入力信号INの波形
を、(b)は出力信号OUTxの波形をそれぞれ示して
いる。
【0008】本発明は、上記のような問題を解決するた
めになされたものであり、外部入力信号がしきい値電圧
間の中間レベルになったときに流れる貫通電流を低減す
ると共に、中間レベルのノイズ入力に応答しない入力回
路を備えた半導体装置を得ることを目的とする。
【0009】なお、特開昭61−244123号公報で
は、入力端子とCMOSインバータ回路の各FETゲー
ト間に同一電動型のFETで構成されたトランスファゲ
ートを接続した回路が開示されているが、該公報では、
入力端子とインバータのゲート入力との間に遅延をかけ
て動的に貫通電流を低減しようとしている。これに対し
て、本発明では、入力信号の電位を変えることによっ
て、インバータを構成するトランジスタの見かけ上のし
きい値を上げて静的に貫通電流を低減させることを目的
としている。従って、本発明のように、安定させて動作
させるためには入力端子とインバータの各トランジスタ
のゲートとの間に配置したトランジスタが、ノーマリオ
ンでなくてはならず、特に、外部入力端子に中間電位が
強制的に印加され続けた場合に、その効果が大きく異な
ってくる。これに対して、特開昭61−244123号
公報では、このような場合の貫通電流を防ぐことができ
ない。
【0010】
【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体装
置は、外部からの入力信号を所定の論理に従って、特定
の機能を有する内部回路に出力する入力回路を備えた半
導体装置において、入力回路は、外部から入力される信
号に応じて、ハイレベルの信号を出力するプルアップ回
路及びローレベルの信号を出力するプルダウン回路を有
し、該プルダウン回路を動作させるしきい値がプルアッ
プ回路を動作させるしきい値よりも大きい入力初段回路
部と、該入力初段回路部からの出力信号を保持して内部
回路に出力するラッチ回路部とを備えるものである。
【0011】具体的には、上記プルアップ回路は、しき
い値電圧を高く設定したPチャネル型トランジスタで構
成されるものである。
【0012】上記Pチャネル型トランジスタは、サブス
トレートゲートに印加する基板電圧を、プルアップする
電圧よりも高くした電界効果トランジスタであってもよ
い。
【0013】また、上記Pチャネル型トランジスタは、
製造時にイオン注入量を調整することによってしきい値
電圧を高くしたトランジスタであってもよい。
【0014】一方、具体的には、上記プルダウン回路
は、しきい値電圧を高く設定したNチャネル型トランジ
スタで構成されるものである。
【0015】上記Nチャネル型トランジスタは、サブス
トレートゲートに印加する基板電圧を、プルダウンする
電圧よりも低くした電界効果トランジスタであってもよ
い。
【0016】また、上記Nチャネル型トランジスタは、
製造時にイオン注入量を調整することによってしきい値
電圧を高くしたトランジスタであってもよい。
【0017】また、上記プルアップ回路を、少なくとも
1つのノーマリオンのPチャネル型トランジスタを介し
て外部からの入力信号がゲートに入力されるPチャネル
型トランジスタで構成されるようにしてもよい。
【0018】また、上記プルダウン回路を、少なくとも
1つのノーマリオンのNチャネル型トランジスタを介し
て外部からの入力信号がゲートに入力されるNチャネル
型トランジスタで構成されるようにしてもよい。
【0019】
【発明の実施の形態】次に、図面に示す実施の形態に基
づいて、本発明を詳細に説明する。 実施の形態1.図1は、本発明の実施の形態1における
半導体装置の入力回路例を示した概略の図である。な
お、図1では、本発明の説明に必要な部分のみを示して
おり、その他の部分は省略している。図1において、入
力回路1は、入力初段回路2とラッチ回路3で構成され
ており、該ラッチ回路3は、インバータ4及び5がリン
グ状に接続されてなる。外部入力端子6に入力された外
部入力信号INは入力初段回路2に入力され、入力初段
回路2からの出力信号OUTは、ラッチ回路3を介して
内部回路8に出力される。
【0020】このような構成において、入力初段回路2
において、入力信号をハイ(High)レベルと判断する
ためのしきい値電圧をVHとし、入力信号をロー(Lo
w)レベルと判断するためのしきい値電圧をVLとす
る。入力初段回路2は、外部入力信号INが中間レベ
ル、すなわちVL<IN<VHのときに出力信号OUT
がカットオフされるような回路をなす。また、ラッチ回
路3は、入力初段回路2の出力信号OUTのデータを保
持して該カットオフ時に出力するために設けられてい
る。
【0021】図2は、入力初段回路2の回路例を示した
図である。図2において、入力初段回路2は、Pチャネ
ル型MOSトランジスタ(以下、PMOSトランジスタ
と呼ぶ)11とNチャネル型MOSトランジスタ(以
下、NMOSトランジスタと呼ぶ)12の直列回路で形
成されたインバータ13で構成されている。該直列回路
は、電源電圧VCCが印加される電源端子14と接地と
の間に接続されている。なお、PMOSトランジスタ1
1はプルアップ回路をなし、NMOSトランジスタ12
はプルダウン回路をなす。
【0022】PMOSトランジスタ11とNMOSトラ
ンジスタ12の接続部がインバータ13の出力端をな
し、PMOSトランジスタ11及びNMOSトランジス
タ12の各ゲートの接続部がインバータ13の入力端を
なす。また、PMOSトランジスタ11のサブストレー
トゲートには、電源電圧VCCよりも高い所定の電圧V
CC2が印加されており、NMOSトランジスタ12の
サブストレートゲートには、接地電圧GNDよりも低い
所定の電圧GND2が印加されている。
【0023】このようにバックゲートをかけたトランジ
スタを使用したインバータ13において、PMOSトラ
ンジスタ11のしきい値電圧Vtpは通常のPMOSト
ランジスタよりも大きくなると共に、NMOSトランジ
スタ12のしきい値電圧Vtnは通常のNMOSトラン
ジスタよりも大きくなる。ここで、電圧VCC2及びG
ND2を、Vtn>(VCC−Vtp)となるように調整
することにより、外部入力信号INが中間レベル、すな
わち(VCC−Vtp)<IN<Vtnになると、PMO
Sトランジスタ11及びNMOSトランジスタ12が共
にオフして出力信号OUTがカットオフされる。
【0024】このような構成において、IN>Vtn
(=VH)のときNMOSトランジスタ12のみがオン
し、IN<(VCC−Vtp)(=VL)のときPMOSト
ランジスタ11のみがオンする。一方、(VCC−Vt
p)<IN<Vtnの間は、PMOSトランジスタ11
及びNMOSトランジスタ12が共にオフするが、ラッ
チ回路3によって直前の出力信号OUTのデータが保持
されていることから、出力信号OUTとしては(VCC
−Vtp)<IN<Vtnとなる直前のレベルと同じに
なる。
【0025】このようなことから、外部入力信号INが
ローレベルからハイレベルに立ち上がるとき、図3で示
すように、外部入力信号INがしきい値電圧VHを超え
た時点で、NMOSトランジスタ12がオンして出力信
号OUTはハイレベルからローレベルに変化し始める。
これに対して、外部入力信号INがハイレベルからロー
レベルに立ち下がるとき、外部入力信号INがしきい値
電圧VLを下回った時点で、PMOSトランジスタ11
がオンして出力信号OUTはローレベルからハイレベル
に変化し始める。このように、PMOSトランジスタ1
1及びNMOSトランジスタ12が共にオンする期間が
存在しないことから、電源端子14から接地への貫通電
流Iが実質的に流れることはない。
【0026】また、図4で示すように、外部入力信号I
Nの立ち上がり時間Tr及び/又は立ち下がり時間Tf
が大きくなってしまった場合においても、図3の場合と
同様、外部入力信号INが(VCC−Vtp)<IN<V
tnとなる期間がいくら長くなっても、その間は出力信
号OUTに影響を及ぼさないため、電源端子14から接
地への貫通電流Iが流れることはない。
【0027】一方、図5で示すように、外部入力信号I
Nがローレベルのときは、ノイズが電源電圧VCCに近
いしきい値電圧VHを超えなければ出力信号OUTは変
化することはない。また、外部入力信号INがハイレベ
ルのときは、ノイズが接地レベルに近いしきい値電圧V
Lを下回らなければ出力信号OUTは変化することはな
い。このように、ノイズに対する耐性を向上させること
ができる。なお、図3及び図4において、(a)は外部
入力信号INの波形を、(b)は出力信号OUTの波形
を、(c)は貫通電流Iの波形をそれぞれ示している。
また、図5において、(a)は外部入力信号INの波形
を、(b)は出力信号OUTの波形をそれぞれ示してい
る。
【0028】上記のように、本実施の形態1における半
導体装置は、サブストレートゲートに電源電圧VCCよ
りも大きな電圧VCC2を印加したPMOSトランジス
タ11と、サブストレートゲートに接地電圧GNDより
も小さな電圧GND2を印加したNMOSトランジスタ
12でインバータ13を形成してなる入力初段回路2
と、インバータ13の出力端に接続されるラッチ回路3
とで入力回路1を形成した。このことから、外部入力信
号がしきい値電圧間の中間レベルになったときに流れる
貫通電流Iを低減することができると共に、中間レベル
のノイズ入力に応答しないようにすることができる。
【0029】なお、上記実施の形態1では、PMOSト
ランジスタ11及びNMOSトランジスタ12の各サブ
ストレートゲートにそれぞれ上述した電圧を印加するよ
うにしたが、PMOSトランジスタ11及びNMOSト
ランジスタ12のいずれかのサブストレートゲートに上
述した電圧を印加するようにしてもよい。このような場
合においても、(VCC−Vtp)<Vtnという条件を
満足するようにサブストレートゲートに所定の電圧を印
加すればよい。
【0030】実施の形態2.上記実施の形態1では、電
源電圧VCC及び接地電圧GNDの他に、サブストレー
トゲートに印加する電圧VCC2及びGND2を必要と
したが、電源電圧VCC及び接地電圧GNDのみで実現
するようにしてもよく、このようにしたものを本発明の
実施の形態2とする。図6は、本発明の実施の形態2に
おける半導体装置の入力初段回路例を示した図である。
なお、本発明の実施の形態2における半導体装置の入力
回路例を示した図は、図1の入力回路1を入力回路1a
に、図1の入力初段回路2を入力初段回路2aに変える
以外は図1と同じであることから省略する。また、図6
では、本発明の説明に必要な部分のみを示しており、そ
の他の部分は省略し、図2と同じものは同じ符号で示し
てここではその説明を省略する。
【0031】図6において、入力初段回路2aは、PM
OSトランジスタ11aとNMOSトランジスタ12a
で形成されたインバータ13aで構成されている。外部
入力端子6に入力された外部入力信号INは入力初段回
路2aに入力され、入力初段回路2aからの出力信号O
UTaは、ラッチ回路3を介して内部回路8に出力され
る。ここで、PMOSトランジスタ11a及びNMOS
トランジスタ12aに、しきい値電圧が通常よりも大き
くしたHigh−Vth型トランジスタを使用する。該
High−Vth型トランジスタは、トランジスタを形
成するときのイオン注入量を変えることで実現すること
ができる。
【0032】PMOSトランジスタ11aのしきい値電
圧VtpとNMOSトランジスタ12aのしきい値電圧
Vtnが、Vtn>(VCC−Vtp)となるようにイオ
ン注入量を調整することによって、入力初段回路2a
は、上記実施の形態1の入力初段回路2と同様の動作を
行う。すなわち、(VCC−Vtp)<IN<Vtnにな
ると、PMOSトランジスタ11a及びNMOSトラン
ジスタ12aが共にオフして出力信号OUTaがカット
オフされる。なお、PMOSトランジスタ11aはプル
アップ回路をなし、NMOSトランジスタ12aはプル
ダウン回路をなす。
【0033】このように、本実施の形態2における半導
体装置は、通常のものよりも大きいしきい値電圧を有す
るPMOSトランジスタ11a及びNMOSトランジス
タ12aでインバータ13aを形成してなる入力初段回
路2aと、インバータ13aの出力端に接続されるラッ
チ回路3とで入力回路1aを形成した。このことから、
電源電圧VCC及び接地電圧GND以外の電圧を必要と
せず簡単な回路構成で上記実施の形態1と同様の効果を
得ることができる。
【0034】なお、上記実施の形態2では、PMOSト
ランジスタ11a及びNMOSトランジスタ12aにそ
れぞれHigh−Vth型トランジスタを使用するよう
にしたが、PMOSトランジスタ11a及びNMOSト
ランジスタ12aのいずれかにHigh−Vth型トラ
ンジスタを使用するようにしてもよい。このような場合
においても、(VCC−Vtp)<Vtnという条件を満
足するようにHigh−Vth型トランジスタのしきい
値電圧の調整を行うようにすればよい。
【0035】実施の形態3.上記実施の形態2では、通
常とは異なる特性のトランジスタを必要とするため、ウ
エハプロセスにおいて追加工程を必要としたが、通常の
トランジスタを用いて電源電圧VCC及び接地電圧GN
Dの他に、サブストレートゲートに印加する電圧VCC
2及びGND2を必要とせず電源電圧VCC及び接地電
圧GNDのみで実現するようにしてもよく、このように
したものを本発明の実施の形態3とする。
【0036】図7は、本発明の実施の形態3における半
導体装置の入力初段回路例を示した図である。なお、本
発明の実施の形態3における半導体装置の入力回路例を
示した図は、図1の入力回路1を入力回路1bに、図1
の入力初段回路2を入力初段回路2bに変える以外は図
1と同じであることから省略する。また、図7では、本
発明の説明に必要な部分のみを示しており、その他の部
分は省略し、図2と同じものは同じ符号で示してここで
はその説明を省略する。
【0037】図7において、入力初段回路2bは、PM
OSトランジスタ11,21及びNMOSトランジスタ
12,22で形成されたインバータ13bで構成されて
いる。PMOSトランジスタ11及びNMOSトランジ
スタ12の直列回路は、電源電圧VCCが印加される電
源端子14と接地との間に接続されている。外部入力端
子6とPMOSトランジスタ11のゲートとの間にPM
OSトランジスタ21が接続され、外部入力端子6とN
MOSトランジスタ12のゲートとの間にNMOSトラ
ンジスタ22が接続されている。なお、PMOSトラン
ジスタ11及び21がプルアップ回路をなし、NMOS
トランジスタ12及び22がプルダウン回路をなす。
【0038】更に、PMOSトランジスタ21のゲート
は接地され、NMOSトランジスタ22のゲートは電源
端子14に接続されており、PMOSトランジスタ21
及びNMOSトランジスタ22はそれぞれノーマリオン
となる。PMOSトランジスタ11とNMOSトランジ
スタ12の接続部がインバータ13bの出力端をなし、
PMOSトランジスタ21及びNMOSトランジスタ2
2の接続部がインバータ13bの入力端をなす。なお、
PMOSトランジスタ11のゲートに入力される信号を
入力信号INpとし、NMOSトランジスタ12のゲー
トに入力される信号を入力信号INnとする。また、各
NMOSトランジスタのしきい値電圧はそれぞれ同じで
あるものとし、各PMOSトランジスタのしきい値電圧
においてもそれぞれ同じであるものとして説明する。
【0039】このような構成において、外部入力信号I
Nがローレベルからハイレベルに立ち上がるとき、図8
で示すように、入力信号INnは、外部入力信号INが
NMOSトランジスタ22のしきい値電圧Vtnになっ
た時点で変化し始め、外部入力信号INと入力信号IN
nの電圧差はVtnとなる。一方、出力信号OUTb
は、入力信号INnがNMOSトランジスタ12のしき
い値電圧Vtn(=VL)になった時点でハイレベルから
ローレベルに変化し始める。すなわち、出力信号OUT
bの電圧が変化し始めるのは外部入力信号INの電圧が
2Vtnを超えた時点となる。
【0040】また、外部入力信号INがハイレベルから
ローレベルに立ち下がる場合、入力信号INpは、外部
入力信号INが電源電圧VCCからPMOSトランジス
タ21のしきい値電圧Vtpだけ低下した時点で変化し
始め、外部入力信号INと入力信号INpの電圧差はV
tpとなる。一方、出力信号OUTbは、入力信号IN
pが(VCC−Vtp)(=VH)となった時点でローレベ
ルからハイレベルに変化し始める。すなわち、出力信号
OUTbの電圧が変化し始めるのは外部入力信号INの
電圧が(VCC−2Vtp)を下回った時点となる。
【0041】ここで、(VCC−2Vtp)<2Vtnで
あれば上記実施の形態1及び実施の形態2の場合と同様
に、PMOSトランジスタ11とNMOSトランジスタ
12が同時にオンする期間がないため、電源端子14か
ら接地への貫通電流Iが流れることはない。また、(V
CC−2Vtp)>2Vtnとなる場合は、PMOSト
ランジスタ21を複数のPMOSトランジスタに置き換
えるか、又はNMOSトランジスタ22を複数のNMO
Sトランジスタに置き換えることによって、PMOSト
ランジスタ11とNMOSトランジスタ12が同時にオ
ンする期間をなくすことができる。
【0042】また、図9で示すように、外部入力信号I
Nの立ち上がり時間Tr及び/又は立ち下がり時間Tf
が大きくなってしまった場合においても、(VCC−2
Vtp)<2Vtnであれば電源端子14から接地への
貫通電流Iは全く流れず、(VCC−2Vtp)>2Vt
nのときは図9の場合と同様にPMOSトランジスタ2
1又はNMOSトランジスタ22の数を増やすことによ
って貫通電流Iが流れないようにすることができる。
【0043】一方、図10で示すように、外部入力信号
INがローレベルのときは、ノイズが2Vtnを超えな
ければ出力信号OUTbは変化することはない。従来で
はVtn以上の電圧のノイズで出力信号は影響を受ける
ことから、Vtn分だけノイズに対する耐性が向上す
る。また、外部入力信号INがハイレベルのときは、ノ
イズが(VCC−2Vtp)を下回らなければ出力信号O
UTbは変化することはない。従来では(VCC−Vt
p)以下の電圧のノイズで出力信号は影響を受けること
から、Vtp分だけノイズに対する耐性が向上する。こ
のように、ノイズに対する耐性を向上させることができ
る。
【0044】なお、図8及び図9において、(a)は外
部入力信号IN及び入力信号INp,INnの各波形
を、(b)は出力信号OUTbの波形を、(c)は貫通
電流Iの波形をそれぞれ示している。また、図10にお
いて、(a)は外部入力信号IN及び入力信号INp,
INnの各波形を、(b)は出力信号OUTbの波形を
それぞれ示している。
【0045】このように、本実施の形態3における半導
体装置は、外部入力端子6とPMOSトランジスタ11
のゲートとの間に少なくとも1つのノーマリオンのPM
OSトランジスタを接続し、外部入力端子6とNMOS
トランジスタ12のゲートとの間に少なくとも1つのノ
ーマリオンのPMOSトランジスタを接続するようにし
て形成した入力初段回路2bと、ラッチ回路3とで入力
回路1bを構成するようにした。このことから、上記実
施の形態2と同様の効果を得ることができると共に、ウ
エハプロセスにおける追加工程を必要とせず通常の特性
のトランジスタで実現することができ、製造効率の向上
を図ることができる。
【0046】なお、上記実施の形態3では、PMOSト
ランジスタ11及びNMOSトランジスタ12の各ゲー
トにそれぞれノーマリオンのトランジスタを接続するよ
うにしたが、PMOSトランジスタ11及びNMOSト
ランジスタ12のいずれかのゲートにノーマリオンのト
ランジスタを接続するようにしてもよい。このような場
合、(VCC−Vtp)<2Vtn又は(VCC−2Vt
p)<Vtnという条件を満足するようにすればよい。
【0047】
【発明の効果】請求項1に係る半導体装置は、外部から
入力される信号に応じて、ハイレベルの信号を出力する
プルアップ回路及びローレベルの信号を出力するプルダ
ウン回路を有し、該プルダウン回路を動作させるしきい
値がプルアップ回路を動作させるしきい値よりも大きい
入力初段回路部と、該入力初段回路部からの出力信号を
保持して内部回路に出力するラッチ回路部とを備える入
力回路を備えた。このことから、外部入力信号がプルア
ップ回路とプルダウン回路の各しきい値間の中間レベル
になってプルアップ回路及びプルダウン回路が同時に動
作したときに流れる貫通電流を低減することができると
共に、該中間レベルのノイズ入力に応答しないようにす
ることができる。
【0048】請求項2に係る半導体装置は、請求項1に
おいて、具体的には、上記プルアップ回路を、しきい値
電圧を高く設定したPチャネル型トランジスタで構成さ
れるようにした。このことから、簡単な回路構成でプル
アップ回路及びプルダウン回路が同時に動作しないよう
にすることができる。
【0049】請求項3に係る半導体装置は、請求項2に
おいて、Pチャネル型トランジスタに基板電圧を、プル
アップする電圧よりも高くした電界効果トランジスタを
使用した。このことから、基板電圧を調整することによ
って、プルアップ回路及びプルダウン回路が同時に動作
しないようにすることが容易にできる。
【0050】請求項4に係る半導体装置は、請求項2に
おいて、Pチャネル型トランジスタに、製造時にイオン
注入量を調整することによってしきい値電圧を高くした
トランジスタを使用した。このことから、簡単な回路構
成でプルアップ回路及びプルダウン回路が同時に動作し
ないようにすることができる。
【0051】請求項5に係る半導体装置は、請求項1、
2、3又は4において、上記プルダウン回路を、しきい
値電圧を高く設定したNチャネル型トランジスタで構成
されるようにした。このことから、簡単な回路構成でプ
ルアップ回路及びプルダウン回路が同時に動作しないよ
うにすることができる。
【0052】請求項6に係る半導体装置は、請求項5に
おいて、Nチャネル型トランジスタに基板電圧を、プル
ダウンする電圧よりも低くした電界効果トランジスタを
使用した。このことから、基板電圧を調整することによ
って、プルアップ回路及びプルダウン回路が同時に動作
しないようにすることが容易にできる。
【0053】請求項7に係る半導体装置は、請求項5に
おいて、Nチャネル型トランジスタに、製造時にイオン
注入量を調整することによってしきい値電圧を高くした
トランジスタを使用した。このことから、簡単な回路構
成でプルアップ回路及びプルダウン回路が同時に動作し
ないようにすることができる。
【0054】請求項8に係る半導体装置は、請求項1に
おいて、具体的には、上記プルアップ回路を、少なくと
も1つのノーマリオンのPチャネル型トランジスタを介
して外部からの入力信号がゲートに入力されるPチャネ
ル型トランジスタで構成した。このことから、通常の特
性のトランジスタでプルアップ回路及びプルダウン回路
が同時に動作しないようにすることができ、製造効率の
向上を図ることができる。
【0055】請求項9に係る半導体装置は、請求項1又
は8において、具体的には、上記プルダウン回路を、少
なくとも1つのノーマリオンのNチャネル型トランジス
タを介して外部からの入力信号がゲートに入力されるN
チャネル型トランジスタで構成した。このことから、通
常の特性のトランジスタでプルアップ回路及びプルダウ
ン回路が同時に動作しないようにすることができ、製造
効率の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態1における半導体装置の
入力回路例を示した概略図である。
【図2】 図1の入力初段回路2の回路例を示した図で
ある。
【図3】 図2の入力初段回路2の動作例を示した波形
図である。
【図4】 図2の入力初段回路2における他の動作例を
示した波形図である。
【図5】 図2の入力初段回路2における他の動作例を
示した波形図である。
【図6】 本発明の実施の形態2における半導体装置の
入力初段回路例を示した図である。
【図7】 本発明の実施の形態3における半導体装置の
入力初段回路例を示した図である。
【図8】 図7の入力初段回路2bの動作例を示した波
形図である。
【図9】 図7の入力初段回路2bにおける他の動作例
を示した波形図である。
【図10】 図7の入力初段回路2bにおける他の動作
例を示した波形図である。
【図11】 従来の半導体装置における入力回路の例を
示した図である。
【図12】 従来の半導体装置における入力回路の他の
例を示した図である。
【図13】 図11の入力回路の動作例を示した波形図
である。
【図14】 図11の入力回路における他の動作例を示
した波形図である。
【図15】 図11の入力回路における他の動作例を示
した波形図である。
【符号の説明】
1 入力回路、 2,2a,2b 入力初段回路、 3
ラッチ回路、 6外部入力端子、 13,13a,1
3b インバータ、 14 電源端子、 11,11
a,21 PMOSトランジスタ、 12,12a,2
2 NMOSトランジスタ。

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 外部からの入力信号を所定の論理に従っ
    て、特定の機能を有する内部回路に出力する入力回路を
    備えた半導体装置において、 上記入力回路は、 外部から入力される信号に応じて、ハイレベルの信号を
    出力するプルアップ回路及びローレベルの信号を出力す
    るプルダウン回路を有し、該プルダウン回路を動作させ
    るしきい値がプルアップ回路を動作させるしきい値より
    も大きい入力初段回路部と、 該入力初段回路部からの出力信号を保持して上記内部回
    路に出力するラッチ回路部と、を備えることを特徴とす
    る半導体装置。
  2. 【請求項2】 上記プルアップ回路は、しきい値電圧を
    高く設定したPチャネル型トランジスタで構成されるこ
    とを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
  3. 【請求項3】 上記Pチャネル型トランジスタは、サブ
    ストレートゲートに印加する基板電圧を、プルアップす
    る電圧よりも高くした電界効果トランジスタであること
    を特徴とする請求項2記載の半導体装置。
  4. 【請求項4】 上記Pチャネル型トランジスタは、製造
    時にイオン注入量を調整することによってしきい値電圧
    を高くしたトランジスタであることを特徴とする請求項
    2記載の半導体装置。
  5. 【請求項5】 上記プルダウン回路は、しきい値電圧を
    高く設定したNチャネル型トランジスタで構成されるこ
    とを特徴とする請求項1、2、3又は4記載の半導体装
    置。
  6. 【請求項6】 上記Nチャネル型トランジスタは、サブ
    ストレートゲートに印加する基板電圧を、プルダウンす
    る電圧よりも低くした電界効果トランジスタであること
    を特徴とする請求項5記載の半導体装置。
  7. 【請求項7】 上記Nチャネル型トランジスタは、製造
    時にイオン注入量を調整することによってしきい値電圧
    を高くしたトランジスタであることを特徴とする請求項
    5記載の半導体装置。
  8. 【請求項8】 上記プルアップ回路は、少なくとも1つ
    のノーマリオンのPチャネル型トランジスタを介して外
    部からの入力信号がゲートに入力されるPチャネル型ト
    ランジスタで構成されることを特徴とする請求項1記載
    の半導体装置。
  9. 【請求項9】 上記プルダウン回路は、少なくとも1つ
    のノーマリオンのNチャネル型トランジスタを介して外
    部からの入力信号がゲートに入力されるNチャネル型ト
    ランジスタで構成されることを特徴とする請求項1又は
    8記載の半導体装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012138802A (ja) * 2010-12-27 2012-07-19 Univ Of Tokyo 半導体集積回路

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