JP2002198636A - 洗浄方法 - Google Patents
洗浄方法Info
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- JP2002198636A JP2002198636A JP2000396658A JP2000396658A JP2002198636A JP 2002198636 A JP2002198636 A JP 2002198636A JP 2000396658 A JP2000396658 A JP 2000396658A JP 2000396658 A JP2000396658 A JP 2000396658A JP 2002198636 A JP2002198636 A JP 2002198636A
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- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 フラックスの付着した物品を洗浄又はすすい
だ洗浄液又はすすぎ液の腐食成分を効果的に除去する洗
浄液又はすすぎ液の処理方法を提供すること。 【解決手段】 フラックスの付着した物品を洗浄又はす
すいだ洗浄液又はすすぎ液を、合成ゼオライトで処理す
ることを特徴とする。これによって、洗浄液又はすすぎ
液の使用寿命を２倍以上に延ばすことができる。
だ洗浄液又はすすぎ液の腐食成分を効果的に除去する洗
浄液又はすすぎ液の処理方法を提供すること。 【解決手段】 フラックスの付着した物品を洗浄又はす
すいだ洗浄液又はすすぎ液を、合成ゼオライトで処理す
ることを特徴とする。これによって、洗浄液又はすすぎ
液の使用寿命を２倍以上に延ばすことができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フラックスの付着
した物品を洗浄又はすすいだ洗浄液又はすすぎ液の腐食
成分を除去する洗浄液又はすすぎ液の処理方法に関す
る。
した物品を洗浄又はすすいだ洗浄液又はすすぎ液の腐食
成分を除去する洗浄液又はすすぎ液の処理方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】電子部品を実装した配線基板には、はん
だ付け時のフラックス等による汚れが付着しているた
め、一般に水系や非水系等の洗浄液により洗浄し、さら
に洗浄液と相溶性のあるすすぎ液によりすすいで付着し
た洗浄液を除去し、しかる後基板等に付着したすすぎ液
を乾燥除去することが行われている。
だ付け時のフラックス等による汚れが付着しているた
め、一般に水系や非水系等の洗浄液により洗浄し、さら
に洗浄液と相溶性のあるすすぎ液によりすすいで付着し
た洗浄液を除去し、しかる後基板等に付着したすすぎ液
を乾燥除去することが行われている。
【０００３】このようにフラックス等による汚れの付着
した配線基板の洗浄やすすぎを繰返していると、洗浄液
やすすぎ液には、フラックスに由来する汚れ物質が蓄積
し、この洗浄液やすすぎ液に浸漬された電子部品等に付
着残留してリーク、マイグレーション、絶縁抵抗の低
下、ピンや配線の腐食等の故障の原因となる。
した配線基板の洗浄やすすぎを繰返していると、洗浄液
やすすぎ液には、フラックスに由来する汚れ物質が蓄積
し、この洗浄液やすすぎ液に浸漬された電子部品等に付
着残留してリーク、マイグレーション、絶縁抵抗の低
下、ピンや配線の腐食等の故障の原因となる。
【０００４】このため、特に集積度の高い配線基板の洗
浄やリンスに用いられる洗浄液やすすぎ液は頻繁に交換
しなければならず、洗浄液やすすぎ液の消費量の増大
や、作業性の低下、廃液処理の問題を引き起こすという
問題があった。
浄やリンスに用いられる洗浄液やすすぎ液は頻繁に交換
しなければならず、洗浄液やすすぎ液の消費量の増大
や、作業性の低下、廃液処理の問題を引き起こすという
問題があった。
【０００５】一般に、液体中の汚れ物質の除去手段とし
ては、蒸留や活性炭やイオン交換樹脂による汚れ物質の
吸着除去等の方法が知られているが、蒸留は処理コスト
が高くつき、また活性炭やイオン交換樹脂による吸着で
は、腐食物質を完全に除去することができないという問
題がある。
ては、蒸留や活性炭やイオン交換樹脂による汚れ物質の
吸着除去等の方法が知られているが、蒸留は処理コスト
が高くつき、また活性炭やイオン交換樹脂による吸着で
は、腐食物質を完全に除去することができないという問
題がある。
【０００６】本発明者等は、かかる問題を解消すべく鋭
意研究をすすめたところ、吸着剤のなかでも、合成ゼオ
ライトのように表面が極性で平均吸着孔半径の比較的大
きい吸着剤でフラックスの付着した物品を洗浄又はすす
いだ洗浄液又はすすぎ液を処理した場合には、洗浄液又
はすすぎ液の中から効果的に腐食性物質が除去されるこ
とを見出だした。
意研究をすすめたところ、吸着剤のなかでも、合成ゼオ
ライトのように表面が極性で平均吸着孔半径の比較的大
きい吸着剤でフラックスの付着した物品を洗浄又はすす
いだ洗浄液又はすすぎ液を処理した場合には、洗浄液又
はすすぎ液の中から効果的に腐食性物質が除去されるこ
とを見出だした。
【０００７】平均吸着孔半径の大きい吸着剤で腐食性物
質が除去できる理由は必ずしも明確ではないが、次のよ
うな理由によるものではないかと考えられる。
質が除去できる理由は必ずしも明確ではないが、次のよ
うな理由によるものではないかと考えられる。
【０００８】すなわち、Ｓｎ−Ｐｂ系フラックスは、一
般にロジンに少量の活性剤を混合して作られているが、
はんだ付け時の高温によりこれらの材料が炭化や解重合
を起こして分子径が実質的に大きなものとなり、このた
め平均吸着孔半径の小さい活性炭やイオン交換樹脂では
捕捉されずに平均吸着孔半径の大きい合成ゼオライトの
場合に捕捉されるものと考えられる。
般にロジンに少量の活性剤を混合して作られているが、
はんだ付け時の高温によりこれらの材料が炭化や解重合
を起こして分子径が実質的に大きなものとなり、このた
め平均吸着孔半径の小さい活性炭やイオン交換樹脂では
捕捉されずに平均吸着孔半径の大きい合成ゼオライトの
場合に捕捉されるものと考えられる。
【０００９】ちなみに、典型的な合成ゼオライト、イオ
ン交換樹脂および活性炭の平均吸着孔半径は表１のとお
りである。
ン交換樹脂および活性炭の平均吸着孔半径は表１のとお
りである。
【００１０】
【表１】 表１において、合成ゼオライトは、アルカリ金属又はア
ルカリ土類金属の結晶性含水アルミノケイ酸塩がマクロ
ポアを形成しながら三次元的構造をなしたもので、表面
のミクロ孔（０．４ｎｍ程度）の他に、平均半径１００
ｎｍの吸着孔（マクロ孔）を有している。イオン交換樹
脂は含水状態でミクロ孔を有しており、活性炭もバラツ
キの多いミクロ孔を有している。なお、合成ゼオライト
は表面が極性であるが、活性炭には極性はなく、したが
って合成ゼオライトは極性のある分子を吸着し易いが、
活性炭には特にこのような性質は備えていない。
ルカリ土類金属の結晶性含水アルミノケイ酸塩がマクロ
ポアを形成しながら三次元的構造をなしたもので、表面
のミクロ孔（０．４ｎｍ程度）の他に、平均半径１００
ｎｍの吸着孔（マクロ孔）を有している。イオン交換樹
脂は含水状態でミクロ孔を有しており、活性炭もバラツ
キの多いミクロ孔を有している。なお、合成ゼオライト
は表面が極性であるが、活性炭には極性はなく、したが
って合成ゼオライトは極性のある分子を吸着し易いが、
活性炭には特にこのような性質は備えていない。
【００１１】本発明は、かかる知見に基づいてなされた
もので、フラックスの付着した物品を洗浄又はすすいだ
洗浄液又はすすぎ液の腐食成分を効果的に除去する洗浄
液又はすすぎ液の処理方法を提供することを目的とす
る。
もので、フラックスの付着した物品を洗浄又はすすいだ
洗浄液又はすすぎ液の腐食成分を効果的に除去する洗浄
液又はすすぎ液の処理方法を提供することを目的とす
る。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明の洗浄液又はすす
ぎ液の処理方法は、フラックスの付着した物品を洗浄又
はすすいだ洗浄液又はすすぎ液を、合成ゼオライトで処
理することを特徴とする。合成ゼオライトは、一般に平
均吸着孔半径が６０ｎｍ以上、通常は８０ｎｍ以上であ
り、イオン交換樹脂で効果がない点を考えると、腐食性
物質はこのポア内に分子吸着されるものと考えられる。
ぎ液の処理方法は、フラックスの付着した物品を洗浄又
はすすいだ洗浄液又はすすぎ液を、合成ゼオライトで処
理することを特徴とする。合成ゼオライトは、一般に平
均吸着孔半径が６０ｎｍ以上、通常は８０ｎｍ以上であ
り、イオン交換樹脂で効果がない点を考えると、腐食性
物質はこのポア内に分子吸着されるものと考えられる。
【００１３】したがって、本発明においては、合成ゼオ
ライトに限らず、平均吸着孔半径が６０ｎｍ以上の吸着
剤であれば有効である。
ライトに限らず、平均吸着孔半径が６０ｎｍ以上の吸着
剤であれば有効である。
【００１４】合成ゼオライトによる処理は、合成ゼオラ
イトをカラムに詰めて、このカラムに、フラックスの付
着した物品を洗浄又はすすいだ洗浄液又はすすぎ液を、
通過させることにより行われるが、合成ゼオライトと洗
浄液又はすすぎ液とを懸濁させて濾過したり、任意の方
法を採ることができる。
イトをカラムに詰めて、このカラムに、フラックスの付
着した物品を洗浄又はすすいだ洗浄液又はすすぎ液を、
通過させることにより行われるが、合成ゼオライトと洗
浄液又はすすぎ液とを懸濁させて濾過したり、任意の方
法を採ることができる。
【００１５】本発明に使用される合成ゼオライトとして
は、例えばビーズ状のゼオラムＡ−３、ゼオラムＡ−
４、ペレット状のゼオラムＦ−９（いずれも東ソー株式
会社商品名、平均吸着孔半径１００ｎｍ以上）を挙げる
ことができる。
は、例えばビーズ状のゼオラムＡ−３、ゼオラムＡ−
４、ペレット状のゼオラムＦ−９（いずれも東ソー株式
会社商品名、平均吸着孔半径１００ｎｍ以上）を挙げる
ことができる。
【００１６】また、本発明の対象となる洗浄液として
は、例えばシリコーン系溶剤、炭化水素系溶剤、ペルフ
ルオロ系溶剤、テルペン系溶剤、これらの混合溶剤、も
しくはこれらにアルコール、ハイドロフルオロエーテル
等の洗浄有効成分や界面活性剤等の各種添加剤を添加し
たものが例示される。
は、例えばシリコーン系溶剤、炭化水素系溶剤、ペルフ
ルオロ系溶剤、テルペン系溶剤、これらの混合溶剤、も
しくはこれらにアルコール、ハイドロフルオロエーテル
等の洗浄有効成分や界面活性剤等の各種添加剤を添加し
たものが例示される。
【００１７】また、本発明の対象となるすすぎ液として
は、これらの洗浄液を溶解するものであれば、どのよう
なものでもよく、例えばこれらの洗浄液と同一の有機溶
剤、これらの洗浄液を溶解する有機溶剤又は洗浄液が水
溶性の場合には水が例示される。
は、これらの洗浄液を溶解するものであれば、どのよう
なものでもよく、例えばこれらの洗浄液と同一の有機溶
剤、これらの洗浄液を溶解する有機溶剤又は洗浄液が水
溶性の場合には水が例示される。
【００１８】
【発明の実施の形態】次に、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図１は本発明の一実施の形
態である洗浄装置の概略構成を示す図である。
施の形態について説明する。図１は本発明の一実施の形
態である洗浄装置の概略構成を示す図である。
【００１９】この洗浄装置は、大別して汚れ除去工程Ａ
と、すすぎ洗浄工程Ｂと、蒸気洗浄工程Ｃとから主要部
が構成されており、さらにこれら各工程Ａ、Ｂ、Ｃに配
線基板のような洗浄対象物が収納された洗浄カゴ１を順
に搬送するとともに、洗浄カゴ１の上下の揺動機構（図
示せず）が付設された搬送機構Ｄを有している。
と、すすぎ洗浄工程Ｂと、蒸気洗浄工程Ｃとから主要部
が構成されており、さらにこれら各工程Ａ、Ｂ、Ｃに配
線基板のような洗浄対象物が収納された洗浄カゴ１を順
に搬送するとともに、洗浄カゴ１の上下の揺動機構（図
示せず）が付設された搬送機構Ｄを有している。
【００２０】なお、この洗浄装置は、これらの機構の他
に洗浄液再生機構Ｅが併設されている。
に洗浄液再生機構Ｅが併設されている。
【００２１】汚れ洗浄工程Ａは、第１の洗浄槽２と第２
の洗浄槽３を有し、各洗浄槽２、３には洗浄液４がそれ
ぞれ所定量収容され、洗浄液４中に洗浄カゴ１に収容さ
れた洗浄対象物を浸漬し上下に揺動させることによって
洗浄対象物に付着するはんだ等に由来する汚れ成分が除
去される。
の洗浄槽３を有し、各洗浄槽２、３には洗浄液４がそれ
ぞれ所定量収容され、洗浄液４中に洗浄カゴ１に収容さ
れた洗浄対象物を浸漬し上下に揺動させることによって
洗浄対象物に付着するはんだ等に由来する汚れ成分が除
去される。
【００２２】各洗浄槽２、３には、その底部に超音波発
生装置５が配置されており、洗浄対象物と洗浄液に機械
的衝撃を与えて洗浄効果を向上させる。
生装置５が配置されており、洗浄対象物と洗浄液に機械
的衝撃を与えて洗浄効果を向上させる。
【００２３】各すすぎ洗浄槽６、７に収容されるすすぎ
液８は洗浄液と同一又は洗浄液を溶解する溶剤が用いら
れる。
液８は洗浄液と同一又は洗浄液を溶解する溶剤が用いら
れる。
【００２４】各洗浄槽２、３および各すすぎ洗浄槽６、
７には、合成ゼオライトを充填したカラム９が付設さ
れ、各洗浄液および各すすぎ液は、図示を省略した循環
ポンプにより配管１０を介して、これらのカラム９を循
環し、循環過程でフラックスに由来する汚れ成分や腐食
性物質が吸着除去されるように構成されている。
７には、合成ゼオライトを充填したカラム９が付設さ
れ、各洗浄液および各すすぎ液は、図示を省略した循環
ポンプにより配管１０を介して、これらのカラム９を循
環し、循環過程でフラックスに由来する汚れ成分や腐食
性物質が吸着除去されるように構成されている。
【００２５】蒸気洗浄（乾燥）工程Ｃは、蒸気洗浄（乾
燥）槽１１を有しており、この蒸気洗浄（乾燥）槽１１
には、蒸気洗浄（乾燥）剤が１１ａが収容され、蒸気洗
浄（乾燥）槽１１には、この蒸気洗浄（乾燥）剤１１ａ
を蒸発させるための加熱手段（図示せず）が設けられ上
部には、蒸気洗浄（乾燥）剤の揮散を防ぐための冷却手
段（図示せず）が配置されている。この蒸気洗浄（乾
燥）槽１１にも蒸気洗浄（乾燥）剤の再生機構が付設さ
れている（図示せず）。
燥）槽１１を有しており、この蒸気洗浄（乾燥）槽１１
には、蒸気洗浄（乾燥）剤が１１ａが収容され、蒸気洗
浄（乾燥）槽１１には、この蒸気洗浄（乾燥）剤１１ａ
を蒸発させるための加熱手段（図示せず）が設けられ上
部には、蒸気洗浄（乾燥）剤の揮散を防ぐための冷却手
段（図示せず）が配置されている。この蒸気洗浄（乾
燥）槽１１にも蒸気洗浄（乾燥）剤の再生機構が付設さ
れている（図示せず）。
【００２６】蒸気洗浄（乾燥）剤としては、例えばペル
フルオロカーボン系溶剤、ハイドロフルオロカーボン系
溶剤、ハイドロフルオロクロロカーボン系溶剤、ハイド
ロフルオロエーテル系溶剤、シリコーン系溶剤等の単独
又は混合溶剤が用いられる。
フルオロカーボン系溶剤、ハイドロフルオロカーボン系
溶剤、ハイドロフルオロクロロカーボン系溶剤、ハイド
ロフルオロエーテル系溶剤、シリコーン系溶剤等の単独
又は混合溶剤が用いられる。
【００２７】上記構成の実施形態によれば、合成ゼオラ
イトを充填したカラム９を使用しない場合と比較して、
洗浄液およびすすぎ液の使用寿命を２倍以上も延ばすこ
とが可能である。
イトを充填したカラム９を使用しない場合と比較して、
洗浄液およびすすぎ液の使用寿命を２倍以上も延ばすこ
とが可能である。
【００２８】
【実施例】以下、本発明を実施例によって更に詳しく説
明する。 実施例１ ２週間フラックス（ＲＡタイプ：スパークルフラックス
ＰＯ−Ｆ−０４６：千住金属工業株式会社製商品名）洗
浄に使用した洗浄液（ＧＥ東芝シリコーン株式会社：商
品名ＦＲＷ−１７：グリコールとシリコーンの混合溶
液）の１００ｇと、ビーズ状の合成ゼオライト（東ソー
株式会社製：商品名ゼオラムＡ−４ ４〜８ｍｅｓｈ、
平均吸着孔半径１００ｎｍ）の１０ｇとをガラスビンに
入れ、室温（２５℃）で１時間放置した。１時問放置
後、Ａｇメッキを施した基板を入れて、ガラスビンを密
閉し、２５℃に設定した恒温槽に２０時間放置した。
明する。 実施例１ ２週間フラックス（ＲＡタイプ：スパークルフラックス
ＰＯ−Ｆ−０４６：千住金属工業株式会社製商品名）洗
浄に使用した洗浄液（ＧＥ東芝シリコーン株式会社：商
品名ＦＲＷ−１７：グリコールとシリコーンの混合溶
液）の１００ｇと、ビーズ状の合成ゼオライト（東ソー
株式会社製：商品名ゼオラムＡ−４ ４〜８ｍｅｓｈ、
平均吸着孔半径１００ｎｍ）の１０ｇとをガラスビンに
入れ、室温（２５℃）で１時間放置した。１時問放置
後、Ａｇメッキを施した基板を入れて、ガラスビンを密
閉し、２５℃に設定した恒温槽に２０時間放置した。
【００２９】しかる後、ガラスビンを恒温槽から取出
し、ガラスビンを開封してＡｇメッキ基板を取出し、表
面に付着した洗浄液を紙で拭取りＡｇメッキ全体の変色
性を目視により判定した。その結果を表２に示す。
し、ガラスビンを開封してＡｇメッキ基板を取出し、表
面に付着した洗浄液を紙で拭取りＡｇメッキ全体の変色
性を目視により判定した。その結果を表２に示す。
【００３０】なお、２週問フラックス洗浄（ＲＡタイ
プ：スパークルフラックスＰＯ−Ｆ−０４６）に使用し
た洗浄液（ＦＲＷ−１７）に含まれる元素について蛍光
Ｘ線分析を行った結果、Ｔｉ、Ｐｂ、Ｓｎ、Ｂｒが３０
〜１０ｐｐｍ、Ｃｌ、Ｋ、Ｓが１０ｐｐｍ以下検出され
た。
プ：スパークルフラックスＰＯ−Ｆ−０４６）に使用し
た洗浄液（ＦＲＷ−１７）に含まれる元素について蛍光
Ｘ線分析を行った結果、Ｔｉ、Ｐｂ、Ｓｎ、Ｂｒが３０
〜１０ｐｐｍ、Ｃｌ、Ｋ、Ｓが１０ｐｐｍ以下検出され
た。
【００３１】比較例１ 実施例１との比較のため、２週間フラックス（ＲＡタイ
プ：スパークルフラックスＰＯ−Ｆ−０４６）洗浄に使
用した洗浄液（ＲＷ−１７）の１００ｇをガラスビンに
入れ、室温（２５℃）で１時間放置した。１時問放置
後、Ａｇメッキを施した基板を入れて、ガラスビンを密
閉し、２５℃に設定した恒温槽に２０時間放置した。
プ：スパークルフラックスＰＯ−Ｆ−０４６）洗浄に使
用した洗浄液（ＲＷ−１７）の１００ｇをガラスビンに
入れ、室温（２５℃）で１時間放置した。１時問放置
後、Ａｇメッキを施した基板を入れて、ガラスビンを密
閉し、２５℃に設定した恒温槽に２０時間放置した。
【００３２】しかる後、ガラスビンを恒温槽から取出
し、ガラスビンを開封してＡｇメッキ基板を取出し、表
面に付着した洗浄液を紙で拭取りＡｇメッキ全体の変色
性を目視により判定した。その結果を表２に示す。
し、ガラスビンを開封してＡｇメッキ基板を取出し、表
面に付着した洗浄液を紙で拭取りＡｇメッキ全体の変色
性を目視により判定した。その結果を表２に示す。
【００３３】
【表２】
【００３４】実施例２、３ ビーズ状の合成ゼオライト（東ソー株式会社製：商品名
ゼオラムＡ−４ ４〜８ｍｅｓｈ、平均吸着孔半径１０
０ｎｍ）［実施例２］とペレット状の合成ゼオライト
（東ソー株式会社製：商品名ゼオラムＦ−９ １．５ｍ
ｍφ、平均吸着孔半径１００ｎｍ）［実施例３］とを準
備し、これら２種類のゼオライトをカラムに詰め、この
カラムに、２週問フラックス（タイプ スパークルペー
ストＯＺ６３−２２１ＣＭ−５−４２−１０：千住金属
工業株式会社製商品名）洗浄に使用した洗浄液（ＦＲＷ
−１７）をそれぞれ一定速度（６００ｍｌ／ｈ）で通過
させた。
ゼオラムＡ−４ ４〜８ｍｅｓｈ、平均吸着孔半径１０
０ｎｍ）［実施例２］とペレット状の合成ゼオライト
（東ソー株式会社製：商品名ゼオラムＦ−９ １．５ｍ
ｍφ、平均吸着孔半径１００ｎｍ）［実施例３］とを準
備し、これら２種類のゼオライトをカラムに詰め、この
カラムに、２週問フラックス（タイプ スパークルペー
ストＯＺ６３−２２１ＣＭ−５−４２−１０：千住金属
工業株式会社製商品名）洗浄に使用した洗浄液（ＦＲＷ
−１７）をそれぞれ一定速度（６００ｍｌ／ｈ）で通過
させた。
【００３５】洗浄液が、３００ｍｌ、７００ｍｌ、１０
００ｍｌ、１５００ｍｌ通過したところでカラムを通過
した洗浄液（ＦＲＷ−１７）をそれぞれ採取した。
００ｍｌ、１５００ｍｌ通過したところでカラムを通過
した洗浄液（ＦＲＷ−１７）をそれぞれ採取した。
【００３６】このようにして採取した各２０ｇの洗浄液
（ＦＲＷ−１７）とＡｇメッキされた基板とをガラスビ
ンに入れて密閉し６０℃の恒温槽に６時問放置した。
（ＦＲＷ−１７）とＡｇメッキされた基板とをガラスビ
ンに入れて密閉し６０℃の恒温槽に６時問放置した。
【００３７】その間定期的に、Ａｇ基板を密閉されたガ
ラスビンから取り出し、Ａｇ基板上の洗浄液を紙で拭取
りＡｇメッキ全体の変色性を目視によって判定した。結
果を表３に示す。
ラスビンから取り出し、Ａｇ基板上の洗浄液を紙で拭取
りＡｇメッキ全体の変色性を目視によって判定した。結
果を表３に示す。
【００３８】
【表３】
【００３９】比較例３、４ 本発明との比較のために、合成ゼオライトを、それぞれ
次のイオン交換樹脂に代えた以外は実施例２、３と同一
条件で実験を行った。
次のイオン交換樹脂に代えた以外は実施例２、３と同一
条件で実験を行った。
【００４０】比較例３：オルガノ製商品名アンバーライ
トＥＧ−２９０−ＨＧ：強酸性陽イオン交換樹脂（ＭＲ
型）・強塩基性陰イオン交換樹脂（ＭＲ型）の併用タイ
プイオン交換樹脂 比較例４：弱塩基性陰イオン交換・ＭＲタイプイオン交
換樹脂、オルガノ製：ＩＲＡ９６ＳＢ） 結果を表５に示す。
トＥＧ−２９０−ＨＧ：強酸性陽イオン交換樹脂（ＭＲ
型）・強塩基性陰イオン交換樹脂（ＭＲ型）の併用タイ
プイオン交換樹脂 比較例４：弱塩基性陰イオン交換・ＭＲタイプイオン交
換樹脂、オルガノ製：ＩＲＡ９６ＳＢ） 結果を表５に示す。
【００４１】
【表４】
【００４２】比較例５ 本発明との比較のために、合成ゼオライトを、弱塩基性
陰イオン交換・ゲルタイプイオン交換樹脂（オルガノ株
式会社 商品名ＩＲＡ６７１）に代えた以外は実施例
２、３と同一条件で実験を行った。結果を表５に示す。
陰イオン交換・ゲルタイプイオン交換樹脂（オルガノ株
式会社 商品名ＩＲＡ６７１）に代えた以外は実施例
２、３と同一条件で実験を行った。結果を表５に示す。
【００４３】比較例６ 本発明との比較のために、合成ゼオライトを、活性炭
（４８〜１００ｍｅｓｈ、クラレケミカル株式会社 商
品名 クラレコールＧＳ）に代えた以外は実施例２、３
と同一条件で実験を行った。結果を表５に示す。
（４８〜１００ｍｅｓｈ、クラレケミカル株式会社 商
品名 クラレコールＧＳ）に代えた以外は実施例２、３
と同一条件で実験を行った。結果を表５に示す。
【００４４】比較例７ 本発明との比較のために、合成ゼオライトを使用せず
に、比較例１の洗浄液（ＦＲＷ−１７）だけとした以外
は実施例２、３と同一条件で実験を行った。結果を表５
に示す。
に、比較例１の洗浄液（ＦＲＷ−１７）だけとした以外
は実施例２、３と同一条件で実験を行った。結果を表５
に示す。
【００４５】
【表５】
【００４６】
【発明の効果】以上の実施例からも明らかなとおり、本
発明によれば、フラックスの付着した物品を洗浄又はす
すいだ洗浄液又はすすぎ液中の腐食成分を簡単に除去す
ることができ、これらの液の使用寿命を大幅に延ばすこ
とが可能である。
発明によれば、フラックスの付着した物品を洗浄又はす
すいだ洗浄液又はすすぎ液中の腐食成分を簡単に除去す
ることができ、これらの液の使用寿命を大幅に延ばすこ
とが可能である。
【図１】 本発明の一実施の形態の構成を示す図であ
る。
る。
１……洗浄カゴ ２……第１の洗浄槽 ３……第２の洗浄槽 ４……洗浄液 ５……超音波発生装置 ６……第１のすすぎ洗浄槽 ７……第２のすすぎ洗浄槽 ８……すすぎ液 ９……合成ゼオライトを充填したカラム １０……配管 １１……蒸気洗浄（乾燥）槽 １１ａ…蒸気洗浄（乾燥）剤
フロントページの続き Ｆターム(参考） 3B201 AA02 AB23 AB38 AB45 BB11 BB85 BB95 CB15 CC01 CC21 CD22 4D017 AA03 AA13 CA05 5E343 CC23 EE02 EE08 FF23 FF30 GG11 GG20
Claims (3)
- 【請求項１】 フラックスの付着した物品を洗浄又はす
すいだ洗浄液又はすすぎ液を、合成ゼオライトで処理す
ることを特徴とする洗浄液又はすすぎ液の処理方法。 - 【請求項２】 フラックスの付着した物品を、洗浄又は
すすいだ洗浄液又はすすぎ液を、平均吸着孔半径が６０
ｎｍ以上の表面が極性の吸着剤で処理することを特徴と
する洗浄液又はすすぎ液の処理方法。 - 【請求項３】 フラックスの付着した物品が、電子部品
を実装した配線基板であることを特徴とする請求項１又
は２記載の洗浄液の処理方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000396658A JP2002198636A (ja) | 2000-12-27 | 2000-12-27 | 洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002198636A true JP2002198636A (ja) | 2002-07-12 |
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Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JP2002198636A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114146985A (zh) * | 2021-12-01 | 2022-03-08 | 深圳市富诺依科技有限公司 | 零废水环保型喷淋清洗工艺 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63133389U (ja) * | 1987-02-25 | 1988-08-31 | ||
| JPH07321081A (ja) * | 1994-03-31 | 1995-12-08 | At & T Corp | 電子部品の洗浄方法 |
| JPH09135066A (ja) * | 1995-11-08 | 1997-05-20 | Kurita Water Ind Ltd | プリント基板洗浄剤の再生方法 |
-
2000
- 2000-12-27 JP JP2000396658A patent/JP2002198636A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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