JP2002198619A - 回路基板 - Google Patents

回路基板

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JP2002198619A
JP2002198619A JP2000393101A JP2000393101A JP2002198619A JP 2002198619 A JP2002198619 A JP 2002198619A JP 2000393101 A JP2000393101 A JP 2000393101A JP 2000393101 A JP2000393101 A JP 2000393101A JP 2002198619 A JP2002198619 A JP 2002198619A
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circuit pattern
insulating layer
metal plate
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JP2000393101A
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English (en)
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Mitsuhiro Matsuo
光洋 松尾
Hiroyuki Handa
浩之 半田
Seiichi Nakatani
誠一 中谷
Koichi Hirano
浩一 平野
Yoshihisa Yamashita
嘉久 山下
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 無機フィラーを含有する絶縁層に金属膜を接
着する回路基板の製作工程において、リード線の挿入孔
やスルーホール用の貫通孔をドリルによって形成すると
きのドリル刃の磨耗を減らすこと。 【解決手段】 貫通孔を形成する部分の導体の回路パタ
ーンを厚肉にして絶縁層中に食い込ませることで、貫通
孔部分の絶縁層の厚みを薄くする。ドリル刃は主として
無機フィラーにより摩耗するので絶縁層を薄くすると摩
耗が減る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、無機フィラーと熱
硬化性樹脂を絶縁層に用いた高い熱伝導性を有する回路
基板に関するものである。
【0002】
【従来の技術】プリント基板には、絶縁基板の片面にの
み回路パターンが形成されている片面プリント基板と、
絶縁基板の表裏両面に回路パターンが形成されている両
面プリント基板がある。片面プリント基板は、まずガラ
ス繊維を織った布に半硬化状態のエポキシ樹脂を含浸さ
せたプリプレグ材の一方の面に銅箔などの金属箔を張り
付けて積層板を形成する。この積層板の所望の位置に部
品実装時のリード端子を貫通させる貫通孔をドリルによ
って形成した後、銅箔をパターンエッチングすることで
回路パターンが形成されたプリント基板ができる。両面
プリント基板の場合は、プリプレグ材の両面に銅箔等の
金属箔を張り付けて積層板を形成する。次に電子部品の
取り付け用リード線の挿入孔やスルーホールのための貫
通孔をドリルによって形成する。この積層板をめっき槽
にいれて無電解銅めっき等のめっき処理を行い、貫通孔
内部に導電層を形成する。両面の金属箔をパターンエッ
チングして回路パターン以外の金属箔を除去することに
よりスルーホール付きの回路基板が形成される。電子機
器における軽薄短小の要求から、回路の高密度実装が急
速に進んでいる。部品の実装密度が上昇するにつれて、
回路基板の温度の上昇が顕著になる。すなわち、電子部
品などの素子の熱が回路基板内部にこもりやすくなり、
温度が上昇して電子部品の信頼性に支障をきたすおそれ
がある。これを解決するためには、放熱性のよい回路基
板が必要となる。近年絶縁基板の材料として、熱硬化性
樹脂にセラミックフィラーなどの無機フィラーを高い比
率で混入した高い熱伝導性を有する絶縁樹脂混合物を用
いた放熱性のよい回路基板が開発されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】前記の絶縁樹脂混合物
は、セラミックフィラー等の高い硬さを有する無機フィ
ラーを含むため貫通孔を形成するためのドリルによる穴
加工時に、ドリル刃の磨耗が著しい。絶縁基板の厚みが
増加するとドリル刃の磨耗は一層顕著になる。そのた
め、1本のドリル刃で加工できる貫通孔の数が従来の積
層板の場合より大幅に減少し、ドリル刃の交換頻度が高
くなる。その結果貫通孔の加工時の生産性は著しく低下
し、生産コストが増大してしまう。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の回路基板は、少
なくとも熱硬化性樹脂と無機フィラーとを含む絶縁基板
の少なくとも片面に導電体膜の回路パターン部を形成
し、前記所定の回路パターン部の所定の部分に貫通孔を
形成した回路基板において、前記回路パターン部の前記
貫通孔の周辺部の導電体膜の膜厚を他の部分より厚く
し、前記厚くなされた部分を前記絶縁基板中に食い込ま
せたことを特徴とする。貫通孔の周辺部の導電体膜を厚
くしかつ絶縁基板中に食い込ませたことにより、その部
分の絶縁基板の厚さが他の部分より薄くなる。これによ
り貫通孔を形成する際にドリル刃が掘削すべき絶縁基板
の厚みが薄くなり、ドリル刃の磨耗を低く抑えることが
できる。その結果ドリル刃の交換頻度が減少し、生産コ
ストを削減することができる。また貫通孔の周辺部の厚
い導電体膜が絶縁基板に食い込んでいるので、貫通孔を
有する部分の導電体膜の強度が高くなり、大型部品の実
装も可能となり、その信頼性も向上する。厚い導電体膜
は熱を拡散しやすいので、貫通孔に半田付けした部品の
半田付け部の温度上昇が低く抑えられ、接続の信頼性が
向上する。
【0005】本発明の他の観点の回路基板は、少なくと
も熱硬化性樹脂と無機フィラーとを含む絶縁基板の両面
に導電体膜の回路パターン部を形成し、前記所定の回路
パターン部の所定の部分に、内壁面に導電層を有する貫
通孔を形成した回路基板において、少なくとも一方の面
の回路パターン部の貫通孔の周辺部の導電体膜の膜厚を
他の部分より厚くし、前記厚くなされた部分を前記絶縁
基板中に食い込ませたことを特徴とする。本発明によれ
ば、前記の特徴に加えて、両面の導電体膜の回路パター
ン部と貫通孔により、スルーホール付き回路基板が形成
される。特に回路基板の両面に部品が接続できるので高
密度な実装が可能となる。またスルーホールを形成する
ことで回路パターン部と絶縁基板の密着強度を向上させ
ることができる。さらに、厚い導電体膜のスルーホール
部の電気抵抗が小さいので発熱が減り、基板に対する熱
ストレスも減少して部品の半田付け部の信頼性が向上す
る。
【0006】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施例につ
いて図1から図8を参照して説明する。 《第1実施例》図1は、本発明の第1実施例による貫通
孔を有する回路基板の断面図である。図1において、こ
の回路基板は、無機フィラーと熱硬化性樹脂を混合して
硬化させた絶縁樹脂混合物の絶縁基板である絶縁層10
1に銅箔等の電気良導体の導電体膜で回路の配線部分と
なる回路パターン102を設けている。回路パターン1
02の一部に厚肉部103を設け、この厚肉部に、貫通
孔104を形成している。すなわち貫通孔104を形成
したい部分の回路パターン102の箔厚を厚くして厚肉
部103とし、厚肉部103を絶縁層101に食い込ま
せている。これにより貫通孔104を形成する部分の絶
縁層101の厚みは回路基板の他の部分の絶縁層101
の厚みより好ましくは70%程薄くなる。
【0007】貫通孔104は、電子部品の取り付け用リ
ード線の挿入孔や外部回路との接続端子の挿入孔として
用いられる。リード線を貫通孔104に挿入して半田付
けを行った場合、電子部品の荷重は回路パターン102
の銅箔により支えられるが、従来の銅箔は薄かったため
大型部品の実装は困難であった。本実施例では、絶縁層
101に食い込んだ回路パターン102の厚肉部103
が電子部品の荷重を支えるため、荷重を負担する能力が
大きく、大型部品の実装も可能であり信頼性が向上す
る。発熱部品を実装すると、そのリード線を介して半田
付け部に熱が伝わり温度が上昇して半田接続の信頼性に
悪影響を及ぼす。本実施例では、厚肉部103から絶縁
層101内に熱が拡散されるので半田付け部の温度上昇
は低く抑えられ、半田付け部の信頼性が向上する。
【0008】回路パターン102の貫通孔104の周囲
は厚肉でありかつ絶縁層101に深く食い込んでいるの
で、貫通孔104を形成する工程でドリル刃が掘削する
絶縁層101の厚みが従来例の約1/3と薄く、ドリル
刃の磨耗を低く抑えることが可能になる。これにより1
本のドリル刃で加工できる貫通孔104の数が従来のも
のより多くなり、ドリル刃の交換頻度が減少し生産コス
トの削減ができる。この貫通孔104を利用すれば、パ
ワートランジスタ等の発熱素子や、外部機器との電気的
接続を行うためのコネクタ等の大型部品を実装する場合
でも熱や機械的負荷に十分耐えうる回路基板を実現でき
る。
【0009】絶縁樹脂混合物の絶縁層101は、未硬化
状態の熱硬化性樹脂と無機フィラーの混合物をシート状
に加工することで得られる。無機フィラーを混入するこ
とで熱伝導性に優れた絶縁層101が得られる。熱硬化
性樹脂は、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、シアネ
ート系樹脂の内の少なくとも1種類を用いるのが好まし
い。これらの樹脂で回路基板を形成すれば、高温時の電
気絶縁性が優れた回路基板を得ることができる。特に、
エポキシ系樹脂は半導体封止樹脂やプリント基板の材料
として良く知られており、電気的特性だけでなく、耐薬
品性、機械的特能(強度等)にも優れている。絶縁層1
01中の無機フィラーは、アルミナ、シリカ、マグネシ
ア、窒化アルミニウム及び窒化ホウ素から選ばれた少な
くとも1種のものの粉末であるのが好ましい。アルミ
ナ、窒化アルミニウムを無機フィラーとして用いると、
熱伝導性に優れた回路基板となる。マグネシアを用いる
と、熱伝導度が高いが熱膨張係数が大きくなる。シリカ
(特に、非晶質シリカ)を用いれば、熱膨張係数が小さ
く、軽量で誘電率の小さい回路基板ができる。無機フィ
ラーの添加率は、絶縁層101全体の70〜95重量%
程度が望ましいが、良好な熱伝導性が要求される回路基
板においては、90重量%以上の高い充填率にするのが
望ましい。回路パターン102は銅などの電気良導性の
金属を用いるのが望ましい。回路パターン102は絶縁
層101の表面に接着された構造を有しており、特に回
路パターン102の厚肉部103は絶縁層101内に食
い込ませている。
【0010】本実施例の回路基板の製造方法を図2を参
照して説明する。はじめに図2の(a)の断面図に示す
金属板フレーム201を準備する。金属板フレーム20
1は、図の紙面に垂直な方向にも所定の長さを有する一
様な厚みの金属板の片面を選択的にエッチングして作
る。これにより、凸部203が形成される。次に図2の
(b)に示すように、金属板フレーム201の下面の凸
部203を有する面に、未硬化状態の絶縁樹脂混合物を
シート状にした絶縁シート204を複数枚(図では3
枚)重ね、図示を省略した既知の金型ではさんで加圧し
つつ加熱する。これにより当初まだ柔軟である絶縁シー
ト204は金属板フレーム201の下面に接着されて硬
化し図2の(c)に示す積層板205が形成される。こ
のとき金属板フレーム201の凹部202内に未だ十分
硬化していない絶縁シート204が押し込まれ所定の厚
さTとなる。凸部203は台形になされているので、そ
れほど高い圧力を与えなくても凹部202にすきまなく
軟化した絶縁シート204が充填され絶縁層101を有
する積層板205が形成される。
【0011】積層板205において、凸部203の部分
の下の絶縁層101の厚みtは2mm以下であるのが好
ましい。厚みtが2mmを超えると、貫通孔104を形
成する工程においてドリル刃の磨耗が著しくなる。ま
た、絶縁層101が厚いと基板の熱抵抗が高くなって放
熱効果が極端に低下し、場合によっては回路基板上に実
装した電子部品(半導体装置等)の温度が上昇して電子
部品が破損するおそれがある。種々の実験の結果、ドリ
ル刃の耐久性や電子部品の発熱等を考慮すると上記厚み
tを2mm以下に設定するのが好ましい。図2の(c)
に示す積層板205の凸部203において、図2の
(d)に示すように、この凸部203に回路基板の厚み
方向の貫通孔104をドリル加工によって形成する。最
後に図2の(e)に示すように、金属板フレーム210
を所定の回路パターンにエッチング処理して回路基板が
完成する。
【0012】本実施例によれば、貫通孔104を加工す
るときにドリル刃が貫通する絶縁層101の距離を短く
することによりドリル刃の磨耗を低く抑えることができ
る。貫通孔104の近傍の回路パターン102が厚いの
で、パワートランジスタなどの発熱素子や、外部機器と
の電気的接続を行うためのコネクタなどの大型部品を実
装する際の熱や機械的負荷に耐えうる回路基板が得られ
る。
【0013】本実施例の回路基板の作製に用いる、無機
フィラーと未硬化状態の熱硬化性樹脂からなる絶縁シー
ト204の作製方法について以下に説明する。まず既知
の攪拌混練機により無機フィラーと液状の熱硬化性樹脂
との混合物を攪拌しつつ,適量の溶剤を加えてスラリー
状にする。この攪拌混練機は容器を自転させながら全体
を公転させるもので,混練する樹脂の粘度が比較的高く
ても十分な脱泡ができ良好な分散状態が得られる。本実
施例に使用した絶縁シート204は無機フィラーとして
90重量%のAl(昭和電工(株)製の商品型番
「AS−40」)と9.5重量%のエポキシ樹脂(日本
レック(株)製,商品型番「NRV−1010」)を主
成分とし,0.5重量%のブチルカルビトールと粘度調
整用のメチルエチルケトンを含んでいる。混合したスラ
リー状の物を,表面にシリコンによる離型処理を施した
厚み75μmのポリエチレンテレフタレートの離型フィ
ルム上にドクターブレード法で厚さ約750μmのシー
トに造膜する。次に造膜したシートを15分間温度12
5℃に保ち乾燥させる。スラリー状に混合する際に粘度
調整用に加えたメチルエチルケトンはこの乾燥処理によ
り揮発する。前記乾燥処理により、適度な粘性を有し、
未硬化状態の厚みが400μmの絶縁シート204が得
られる。
【0014】次に導体配線パターンを有する金属板フレ
ーム201の作製方法について図8を参照して説明す
る。図8の(a)に示すように、金属板501として、
一定の厚み500μmを有する銅板(神戸製鋼製:KF
C 1/2)を用いる。図8の(b)に示すように金属
板501の両面にロールラミネート装置により、ドライ
フィルムレジストを用いてレジスト膜502を形成す
る。ドライフィルムレジストは、プリント基板のパター
ン形成に使用される一般的なものであり、日立化成工業
製の品番H−S930−30のものが知られている。上
面のレジスト膜502に図示を省略した紫外線露光装置
を用いて、図8の(c)に示すように配線パターンを描
画したフィルムマスクパターン503を介して密着露光
を行う。金属板501の下面のレジスト膜502(フィ
ルムマスクパターン503を当てていない面)は全面を
露光する。次に、露光した金属板501上のレジスト膜
502を現像液中で処理する。この処理で、紫外線によ
り硬化したレジスト露光部505だけが図8の(d)に
示すように残存し、フィルムマスクパターン503によ
り露光されなかったレジスト膜502が除去され前記配
線パターンの金属板501の面が露出する。
【0015】レジスト露光部505が形成された金属板
501を塩化鉄溶液中でエッチング処理することで、図
8の(e)に示すように、金属板501の上面にのみ厚
み方向に対して一様な深さの溝506と、溝506に対
して金属板501の面に突出する回線パターン507と
が形成される。エッチング処理の時間を変更することに
より、金属板501に形成する溝506の深さを制御す
ることができる。この金属板501では、500μmの
厚みの金属板501に250μmの深さの溝506を形
成した。
【0016】最後にレジスト露光部505を苛性ソーダ
で処理して除去し、図8の(f)に示すように、表面に
所望の回路パターン507と溝506とを有する金属板
フレーム508が得られる。なお、金属フレーム508
の表面には、絶縁シート204との接着性を向上させる
ために、黒化処理などの粗面化処理を施すのが好まし
い。先に作製した絶縁シート204を3枚と金属板フレ
ーム508とを重ね合わせて150℃の温度に保ちつつ
50Kg/cmの圧力で加圧する(図2の(b)を参
照)。これにより金属板フレーム508の溝506に絶
縁シート204が軟化して流れ込み,金属板フレーム2
01と絶縁層101からなる図2の(c)に示すような
積層板205が得られる。
【0017】次に積層板205を乾燥機を用いて175
℃の温度で3時間加熱し,絶縁層101中の熱硬化性樹
脂を完全に硬化させる。積層板205の金属板フレーム
201と絶縁層101を貫く直径0.4mmの貫通孔1
04をNCドリルを用いて穴あけ加工する。最後に金属
板フレーム201の表面をエッチングして所望の回路パ
ターンを形成し、貫通孔104を有する回路基板が形成
される。貫通孔104の部分の絶縁層101の厚みtが
0.5mmと1.4mmの2種類の回路基板を作製し、貫
通孔の加工に用いるドリル刃の寿命を比較した。絶縁層
の厚みtが1.4mmの場合は、1000回の穴あけ加
工でドリル刃の交換を余儀なくされた。絶縁層の厚みt
が0.5mmの場合は、同じドリル刃で6000回の穴
あけ加工が可能であった。これにより、貫通孔104の
部分の絶縁層101の厚みが薄くなればドリル刃の寿命
が飛躍的に向上することがわかる。
【0018】絶縁層101の上に形成されている回路パ
ターン102の引き剥がし強度を測定した。回路パター
ン102の面積は、貫通孔104近傍の厚肉部と、貫通
孔104を有しない薄肉部とを同じにした。その結果薄
肉部では3.0〜3.4kgfの引き剥がし強度を有し
ていた。それに対して、厚肉部は4.0〜4.4kgf
の引き剥がし強度を有していた。これにより、厚肉部の
貫通孔104を有する回路パターン102Aは絶縁層1
01内に食い込んでいる部分が存在するために、引き剥
がし強度が高まっていることが確認できた。さらに同じ
面積を有する厚肉部と薄肉部の回路パターン上にTO−
220パッケージのパワー半導体素子を実装して、その
回路パターンにおける熱抵抗を測定した。薄肉部の回路
パターンでは、熱抵抗は1.4℃/Wであるのに対し
て、厚肉部の回路パターンでは熱抵抗は1.27℃/W
であった。これによりパターンを厚くすることによる放
熱効果が確認できた。
【0019】《第2実施例》本発明の第2実施例の回路
基板について図3及び図4を参照して説明する。図3
は、本発明の第2実施例によるスルーホール付き回路基
板の断面図である。図3において、この回路基板は無機
フィラーと熱硬化性樹脂を混合した絶縁樹脂混合物の絶
縁層301の両面に回路パターン302及び回路パター
ン302Aを設けている。回路パターン302Aには厚
肉部303を設けている。厚肉部303にスルーホール
304を形成し、スルーホール304の内壁面に導体め
っき層305を形成している。回路パターン302Aの
スルーホール304を形成した厚肉部303を未だ硬化
していない絶縁層301に圧入する。この圧入によりス
ルーホール304を形成する部分において、対向する回
路パターン302A間に存在する絶縁層301の厚みが
薄くなる。スルーホール304の内壁の導体めっき層3
05は絶縁層301の両面の回路パターン302、30
2Aを電気的に接続させることができる。他の例として
図5に示すように、厚い回路パターン307,308を
絶縁基板301の両面に形成することも可能である。
【0020】以上のように、スルーホール304を形成
する部分において回路パターン302A、307,30
8を厚くしてその結果絶縁層301の厚さを薄くするこ
とにより、スルーホール304の貫通孔の加工時のドリ
ル刃の磨耗を低く抑えることが可能である。その結果1
本のドリル刃により加工できる貫通孔の数が増加し、生
産コストが削減される。スルーホール304を形成する
ことにより両面の回路パターン302A間の立体的な接
続が可能となり、高密度な実装が可能となる。また、ス
ルーホール304により厚肉部307、308と絶縁層
301間の密着強度を向上させることが可能である。ま
た回路パターン302Aのスルーホール304の部分に
厚肉部303を設けたことにより、電気抵抗が減少して
発熱も減少する。従って基板に対する熱ストレスが減少
して、この基板に取り付けられる電子部品の半田付け部
の信頼性が向上する。
【0021】絶縁層301を形成する絶縁樹脂混合物
は、未硬化状態の熱硬化性樹脂と無機フィラーからなる
絶縁物をシート状に加工した絶縁シート材であり、熱伝
導性に優れている。この絶縁シート材に含まれる熱硬化
性樹脂は、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、シアネ
ート系樹脂の少なくとも1種類又はそれらの混合物であ
るのが好ましい。これらの樹脂からなる絶縁シート材を
硬化させて回路基板を形成すれば、高温時における電気
絶縁性に優れた回路基板を得ることができる。特に、エ
ポキシ系樹脂は、半導体封止樹脂やプリント基板の樹脂
として良く知られているように、電気特性ばかりでな
く、耐薬品性、機械的特能(強度等)にも優れている。
無機フィラーは、アルミナ、シリカ、マグネシア、窒化
アルミニウム及び窒化ホウ素から選ばれた少なくとも1
種の粉末で構成されるのが好ましい。アルミナ、窒化ア
ルミニウムを無機フィラーとして用いた場合には、熱伝
導性に優れた回路基板が得られる。マグネシアを用いた
場合には、熱伝導度が高くなり、かつ熱膨張係数も大き
くなる。シリカ(特に、非晶質シリカ)を用いた場合に
は、熱膨張係数が小さく、軽量で、誘電率の小さい回路
基板とすることができる。無機フィラーの添加率は、絶
縁シート材全体の70〜95重量%程度が望ましいが、
良好な熱伝導性が要求される回路基板においては、90
重量%以上の高い無機フィラー充填率にするのが望まし
い。回路パターン302、302Aとその厚肉部303
は銅などの電気良導性の金属からなるのが望ましい。
【0022】第2の実施例の貫通孔304を有する回路
基板の製造方法を図4を参照して説明する。図4の
(a)の断面図に示す金属板フレーム401は、一様な
厚みを有する金属板の一方の面(図では上面)に選択的
にエッチングを施して、金属板の厚み方向に形成した所
望の形状を有する溝402と、回路パターンの厚肉部3
03のための凸部403が設けられる。次に図4の
(b)に示すように、金属板フレーム401の厚肉部4
03を形成している面(上面)に、未硬化状態の絶縁樹
脂混合物の絶縁シート404を複数枚(図では3枚)重
ねる。さらに一様な厚みを有する金属板405を絶縁シ
ート404の上に重ねる。金属板フレーム401,絶縁
シート404及び金属板405を重ね合わせたものを図
示を省略した治具ではさみ、加圧しつつ加熱する。これ
により絶縁樹脂混合物が硬化し金属板フレーム401と
金属板405は絶縁シート404で接着されて積層板4
08ができる。厚肉部403が台形になっているため
に、比較的低い加圧力で金属板フレーム401の溝40
2内に絶縁シート404が押し込まれ、溝402の内部
にすきまなく充填され積層板408となる。
【0023】図4の(c)に示すように、金属板フレー
ム401の厚肉部403と金属板405との間の絶縁層
406の厚みtは2mm以下にするのが好ましい。厚み
tが2mm以上であると、図4の(d)に示すスルーホ
ール用の貫通孔407をドリルを用いて形成する際のド
リル刃の磨耗が著しくなる。また、絶縁層406が厚く
なると積層板408の熱抵抗が高くなって放熱効果が低
下し、場合によっては回路基板上に実装した電子部品
(半導体装置等)の温度が上昇して電子部品が破損する
場合がある。図4の(d)に示すように貫通孔407を
ドリル加工によって形成したのちに、図4の(e)に示
すように無電解めっきにより貫通孔407の内壁に導電
膜409を形成する。導電膜409により金属板フレー
ム401と金属板405は電気的に接続される。次に図
4の(f)に示すように、金属板401と金属板405
を所望の回路パターンにエッチング加工してスルーホー
ル401を有する回路基板が完成する。
【0024】本実施例において、回路基板にスルーホー
ルを形成する工程の具体例について述べる。厚み500
μmの銅板をエッチング法で加工した金属板フレーム4
01,絶縁樹脂混合物をシート化した絶縁シート40
4,及び片面を粗化した厚み35μmの銅箔の金属板4
05を用意する。図4の(b)に示すように、金属板フ
レーム401の上に、3枚の絶縁シート404と金属板
405を重ね合わせて温度150℃、圧力50Kg/c
で加熱しつつ加圧する。これにより金属板フレーム
401の溝402に絶縁シート404が変型して入り込
み,図4(c)に示す積層板408が形成される。積層
板408を乾燥機を用いて175℃の温度で3時間加熱
し,絶縁シート404中の熱硬化性樹脂を完全に硬化さ
せる。次に,金属板フレーム401の厚肉部403に直
径0.4mmの貫通孔407をNCドリルを用いて加工
する。貫通孔407の内壁に無電解銅めっき層409を
形成する。最後に金属板フレーム401と金属板405
にエッチングにより回路パターンを形成してスルーホー
ル410付き回路基板が完成する。
【0025】貫通孔を形成する際のドリル刃の寿命や回
路パターンの引き剥がし強度と熱抵抗等の諸特性は第1
実施例のものと同じ結果であった。スルーホール410
を介して対向している金属板フレーム401と金属板4
05間の抵抗値は、0.1Ω以下であった。スルーホー
ル410の接続の信頼性を評価するために、最高温度2
40℃のリフロー装置に10回通してから同様にスルー
ホール410の抵抗値を測定したが、変化は認められな
かった。また−40℃と125℃間の熱サイクル試験を
500回行った後でも、同様にスルーホール410の抵
抗値に変化が認められなかった。このことから、スルー
ホール410の接続の信頼性が高いことが確認された。
【0026】《第3実施例》図6は本発明の第3実施例
における貫通孔を有する回路基板の断面図である。図6
において第2実施例と同じ要素については同じ番号を付
して説明を省略する。同図において図1及び図3の構成
と異なるのは、電導良導体の板を打ち抜いて形成した外
部接続に便利なリードフレーム309を絶縁層301内
部に埋め込んでいる点である。リードフレーム309の
接続部がスルーホール310を形成しようとする部分に
配置されており、基板表面の配線導体パターン311と
リードフレーム309がスルーホール310を介して電
気的に接続される。リードフレーム309は銅などの電
気良導性の金属から構成するのが望ましい。
【0027】リードフレーム309を絶縁層301の内
部に埋設することで基板が多層化される。リードフレー
ム309と基板上の配線導体パターン311間をめっき
によるスルーホール310で接続することで外部との良
好な接続が得られる。またスルーホール310を形成す
る部分にリードフレーム309のような強固な導体が配
置されるので、スルーホール310を端子として用いた
ときの基板と外部との接続の信頼性が向上する。スルー
ホール310の部分の絶縁層301は薄いので、貫通孔
104を形成する際にドリル刃が絶縁層301を貫通す
る距離は短く、ドリル刃の磨耗を抑えることが可能とな
る。
【0028】《第4実施例》図7は本発明の第4実施例
におけるスルーホール付き回路基板の断面図である。前
記の各実施例と異なる点は、特定のスルーホール320
の内部に絶縁層301と同じ絶縁樹脂混合物を充填して
いることである。スルーホール320の内部に絶縁層3
01と同じ絶縁性樹脂混合物を充填することにより、基
板に実装されている部品が発する熱がスルーホール32
0に接続された導体を介して放熱される。これにより配
線パターン導体311の発熱を抑えることができ、結果
として基板の温度を低く抑えることができる。配線パタ
ーン導体311と絶縁層301とが接する面積が大きい
ことから、配線パターン導体311と絶縁層301との
接着強度が高くなるという利点がある。さらには回路基
板の内部に配線層を形成することが可能であるので、配
線密度の向上が図れるとともに、基板表面に形成してい
たジャンパー配線を基板内部に埋設できるという利点が
ある。
【0029】
【発明の効果】以上の各実施例で詳細に説明したよう
に、本発明の回路基板によれば、熱硬化性樹脂と無機フ
ィラーから構成される絶縁層の少なくとも片面に回路パ
ターン部が形成された貫通孔を有する回路基板におい
て、前記貫通孔の部分は厚肉になされ、かつ前記絶縁層
中に埋設されている。これにより貫通孔部分の絶縁層は
薄くなり、ドリル加工時のドリル刃の磨耗を低く抑える
ことができる。これにより、1本のドリル刃により加工
できる貫通孔の数が増加し、ドリル刃の交換頻度が減少
する。その結果ドリル刃のコストが節減されると同時
に、ドリル刃交換のために加工装置を止める回数が減
り、生産性が飛躍的に向上するとともに大幅なコストダ
ウンができる。また絶縁樹脂中に食い込んだ厚肉の回路
パターン部により部品の荷重が支えられるため、大型部
品の実装も可能であり信頼性が向上する。また発熱部品
を実装する場合、回路パターン部の厚肉部により熱が拡
散されるので、半田付け部の温度はあまり高くならず信
頼性が向上する。さらに回路パターンに厚肉部を設けた
ことでスルーホール部が低抵抗になり、基板に対する熱
ストレスが減少して、部品の半田付け部の信頼性が向上
する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例における貫通孔を有する回
路基板の断面図
【図2】(a)から(e)は第1実施例による回路基板
の製造方法の工程別断面図
【図3】本発明の第2実施例における貫通孔を有する回
路基板の断面図
【図4】(a)から(f)は第2実施例による回路基板
の製造方法の工程別断面図
【図5】本発明の第2実施例における貫通孔を有する回
路基板の他の例の断面図
【図6】本発明の第3実施例における貫通孔を有する回
路基板の断面図
【図7】本発明の第4実施例における貫通孔を有する回
路基板の断面図
【図8】(a)から(f)は本発明の各実施例における
金属板フレームの製造方法を示す工程別断面図
【符号の説明】
101 絶縁層 102 回路パターン 103 厚肉部 104 貫通孔 201 金属板フレーム 202 溝 203 凸部 204 絶縁シート 205 積層板 301 絶縁層 302 回路パターン 303 厚肉部 304 スルーホール 305 導体めっき層 309 リードフレーム 401 金属板フレーム 402 溝 403 凸部 404 絶縁シート 405 金属板 406 絶縁層 407 貫通孔 409 導体めっき層 410 スルーホール 501 金属板 502 レジスト膜 503 フィルムマスクパターン 505 レジスト露光部 506 溝 507 回路パターン 508 金属板フレーム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中谷 誠一 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 平野 浩一 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 山下 嘉久 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5E317 AA24 BB01 BB02 BB11 CC31 CD32 GG20 5E338 AA01 AA02 AA03 AA16 BB02 BB13 BB25 BB28 BB63 CC01 CD03 CD05 EE31

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも熱硬化性樹脂と無機フィラー
    とを含む絶縁基板の少なくとも片面に導電体膜の回路パ
    ターン部を形成し、前記回路パターン部の所定の部分に
    貫通孔を形成した回路基板において、 前記回路パターン部の前記貫通孔の周辺部の導電体膜の
    膜厚を他の部分より厚くし、前記厚くなされた部分を前
    記絶縁基板中に食い込ませたことを特徴とする回路基
    板。
  2. 【請求項2】 少なくとも熱硬化性樹脂と無機フィラー
    とを含む絶縁基板の両面に導電体膜の回路パターン部を
    形成し、前記所定の回路パターン部の所定の部分に、内
    壁面に導電層を有する貫通孔を形成した回路基板におい
    て、 少なくとも一方の面の回路パターン部の貫通孔の周辺部
    の導電体膜の膜厚を他の部分より厚くし、前記厚くなさ
    れた部分を前記絶縁基板中に食い込ませたことを特徴と
    する回路基板。
  3. 【請求項3】 前記絶縁基板中に食い込ませた導電体膜
    が、前記貫通孔の内壁面の導電層を介して、絶縁基板面
    の所定の回路パターン部と電気的に接続されていること
    を特徴とする請求項2に記載の回路基板。
  4. 【請求項4】 前記導電体膜の厚くなされた部分が台
    形になされていることを特徴とする請求項1から3のい
    ずれかに記載の回路基板。
  5. 【請求項5】 前記無機フィラーが、アルミナ、シリ
    カ、マグネシア、窒化アルミニウム、及び窒化ホウ素の
    中から選ばれた少なくとも一つを含むことを特徴とする
    請求項1又は2に記載の回路基板。
  6. 【請求項6】 前記熱硬化性樹脂が、エポキシ系樹脂、
    フェノール系樹脂もしくはシアネート系樹脂の内の少な
    くとも一つを含むことを特徴とする請求項1又は2に記
    載の回路基板。
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