JP2002198165A - 高周波加熱装置 - Google Patents

高周波加熱装置

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JP2002198165A
JP2002198165A JP2000392655A JP2000392655A JP2002198165A JP 2002198165 A JP2002198165 A JP 2002198165A JP 2000392655 A JP2000392655 A JP 2000392655A JP 2000392655 A JP2000392655 A JP 2000392655A JP 2002198165 A JP2002198165 A JP 2002198165A
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infrared
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heating
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隆幸 平光
Masashi Osada
正史 長田
Kenichi Ito
賢一 伊藤
Hirotsugu Hoshino
裕嗣 星野
Nobutaka Maemura
宣孝 前村
Takahiro Kanai
孝博 金井
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Mitsubishi Electric Home Appliance Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 加熱室内の上下に配置する被加熱物から放射
される赤外線量を検知し、温め調理を行う高周波加熱装
置に関するものである。 【解決手段】 加熱室1の角部かつその中央部の高さ位
置であって、加熱室1の外側方向へ突出して箱状のカバ
ー15を設け、このカバー15の側面に第1の被加熱物
3および第2の被加熱物8から放射される赤外線を透過
し、マイクロ波を遮断するように直径8mm程度の赤外
線透過窓16を形成する。そして、赤外線透過窓16に
近接して1×8の素子配列となっている焦電型或いはサ
ーモパイル型のアレイ状赤外線センサ17を配設する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、マグネトロンか
ら発生するマイクロ波を被加熱物に照射して暖め調理す
る高周波加熱装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図12は、例えば特開平10−2672
89号公報に開示された従来の二段温め調理方式の高周
波加熱装置を示す正面構成図である。図12において、
1は本体(図示なし)内に形成される加熱室、2は加熱
室1の中央部に設置される角皿、3は角皿2の上に載置
する第1の被加熱物、4は加熱室1の下部に設置される
ロータリープレートであり、このロータリープレート4
は加熱室1の外部に配設されるモータ5の回転軸6を介
して回転する。7はロータリープレート4の上部に置か
れる回転皿、8は回転皿7の上に載置する第2の被加熱
物、9は加熱室1の上方側部に設けられて第1の被加熱
物3から発生する蒸気の温度を検出する例えばサーミス
タから成る第1の温度検出器、10は加熱室1の中央側
部に設けられて第2の被加熱物8から発生する蒸気の温
度を検出する例えばサーミスタから成る第8の温度検出
器である。11は加熱室1の外側に配置するマグネトロ
ン、12はマグネトロン11から発生するマイクロ波を
加熱室1の壁面の上下2箇所に形成する給電口13を塞
ぐ高周波透過性の部材から成る閉塞部材13aを介して
加熱室1に導入させる導波管、14は前述のモータ5お
よびマグネトロン11の駆動を制御する制御部である。
【0003】次に、二段温め調理方式の高周波加熱装置
の動作について図12を併用して説明する。その装置を
動作開始した場合に、マグネトロン11から発生するマ
イクロ波は第1の被加熱物3およびその下部に配置する
第2の被加熱部8に照射される。このとき、回転皿7に
載置する第2の被加熱物8はモータ5の回転駆動によっ
て回転しながらマイクロ波を照射する。これにより、双
方の被加熱物は加熱状態となって水蒸気が発生し、第1
の温度検出器9の検出値がある閾値に至った場合に第1
の被加熱物3は温め終了と判断される。一方、第2の温
度検出器10の検出値がある閾値に至った場合に第2の
被加熱物8は温め終了と判断され、双方の被加熱物の温
め調理がスムーズに行われる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来の二段温め調理方
式の高周波加熱装置は、前述のように加熱室の上下に配
置する双方の被加熱物から発生する蒸気の温度を、加熱
室の上部および中央部に設置される各々の温度検出器で
検出し、その検出値に基づいて被加熱物の温度を間接的
に計測する方法であった。しかし、温度検出器を複数個
用いるために部品コストが高くなり、かつ双方の被加熱
物の温度を精度良く検出することが無理であり、これに
よって暖め不十分或いは温めし過ぎという不具合を招く
という問題点を生じる。
【0005】この発明は、前述のような問題点を解決す
るためになされたもので、加熱室の上下に配置される双
方の被加熱物の温度を、一つの温度検出器を用いて検出
することで部品コストを低減し、さらに被加熱物の温度
を直接検出する方法を採用して温め調理を正確に行うこ
とができる高周波加熱装置を得ることを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】この発明に係る高周波加
熱装置は加熱室内を上下に仕切る載置台を設け、加熱室
内の上下各室にマグネトロンから高周波を供給できるよ
うにしたものにおいて、加熱室の側面部に設けた開口を
通して加熱室内の上下各室に置かれた被加熱物から放射
される赤外線を検出できるよう配置された一つの赤外線
検出器を設けるようにしたものである。
【0007】また、赤外線検出器を載置台の側縁部の側
方に対向して配設するようにしたものである。
【0008】また、赤外線検出器をその赤外線検出領域
が加熱室内の左右方向に移動するよう回動したものであ
る。
【0009】また、赤外線検出器を加熱室の側面部に沿
って上下方向に移動できるよう設けると共に、側面部に
加熱室の上下各室に対向して開口を設けるようにしたも
のである。
【0010】また、赤外線検出器は少なくとも加熱室側
面部の上下方向へ複数の赤外線検知素子を並設したアレ
イ状のものから構成するようにしたものである。
【0011】
【発明の実施の形態】実施の形態1.図1はこの発明の
高周波加熱装置に係る実施の形態1を示す上面構成図、
図2は図1に示す加熱室1の対角線aを境界として見た
場合の正面構成図である。図1と図2において、従来例
と同一の符号は同一または相当部分を示す。15は加熱
室1の角部かつその中央部の高さ位置であって、加熱室
1の外側方向へ突出して設けられる箱状のカバーであ
り、このカバー15の側面に第1の被加熱物3および第
2の被加熱物8から放射される熱エネルギー即ち赤外線
を透過し、マイクロ波を遮断するように例えば直径8m
m程度の赤外線透過窓16が形成される。17は赤外線
透過窓16に近接して配設される例えば1×8の素子配
列となっている焦電型或いはサーモパイル型のアレイ状
赤外線センサ17である。なお、図1中のA部に示すよ
うに赤外線センサ17から遠ざかるに応じて赤外線の検
知エリアが広くなっていることが分かる。
【0012】ここで、加熱室1の角部に箱状のカバー1
5を設けてそのカバー15の外側に赤外線センサ17を
配設する理由は、第1の被加熱物3および第2の被加熱
物8と赤外線センサ17との距離を長くして双方の被加
熱物から放射される赤外線に対しての検知エリアを広く
するためである。また、赤外線センサ17を赤外線透過
窓16に対して所定角度だけ傾斜させて配置し、加熱室
1の上部に配置する第1の被加熱物3の側部における図
中の検知エリアe1、e2の赤外線量を、その赤外線セ
ンサ17を構成する第1の素子17aおよび第2の素子
17bで検出させる。また、加熱室1の中央部に位置す
る第1の被加熱物3を載置する角皿2の側部における図
中の検知エリアe3〜e5の赤外線量を、第3の素子1
7cから第5の素子17eで検出させる。
【0013】さらに、加熱室1の下部に配置する第2の
被加熱物8の側部における図中の検知エリアe6〜e8
の赤外線量を、第6の素子17fから第8の素子17h
で検出させる。なお、前述のように角皿2の側部の赤外
線量を第3の素子17cから第5の素子17eで検出す
る目的は、加熱室1の温度を計測するためである。そし
て、その温度情報を赤外線センサ17から出力される赤
外線検出値を温度変化に基づいて補正するために用いる
補正データの一つとする。なお、赤外線センサ17の取
り付け位置を限定し、赤外線センサ17の上下方向の検
出エリア内に加熱室1の上下部に配置される第1の被加
熱物3及び第2の被加熱物8が収まるように、角皿2や
回転皿7の位置を適宜工夫しても良い。これに関して
は、実施の形態2〜実施の形態5についても同様であ
る。
【0014】次に、加熱室4の上部に配置される第1の
被加熱物3を載置する載置台を図3に示すように角状皿
から丸状皿へ変更することにより、加熱室1の下方に対
応した赤外線センサ17の検知エリアe4、e5は丸皿
の側部で遮断されることがない。これにより、その検知
エリアe4およびe5は加熱室1の下部に配置される第
2の被加熱物8の上部を狙うことになる。したがって、
第2の被加熱物8の上部に対しては赤外線センサ17が
検知エリアe4とe5の個所の赤外線量を検出し、かつ
その側部に対しては検知エリアe6からe8でその個所
から放射される赤外線量を検出することで、第2の被加
熱物8の温度を精度良く検出することができる。このと
き、加熱室1の上部に配置される第1の被加熱物3の側
部の検知エリアはe1およびe2であり、その検知エリ
アの赤外線量を赤外線センサ17で検出して温度を計測
する。
【0015】次に、高周波加熱装置の動作について図1
〜図3を併用して説明する。本体パネルに取り付けられ
るスタートボタン(図示なし)を押してONさせると、
マグネトロン11が駆動する。これにより、マグネトロ
ン11から発生するマイクロ波が導波管12を伝播して
加熱室1の側壁部に形成される上下の給電口13から閉
塞部材13aを介し、加熱室1に収容される第1の被加
熱物3および第2の被加熱物8に照射する。このとき、
加熱室1の中央部に配置される角皿2の上に第1の被加
熱物3を置いた場合は、図1に示すように第1の被加熱
物3が静止状態でマイクロ波を浴び、かつ加熱室1の下
部に配置される回転皿7の上に置かれた第2の被加熱物
8は回転状態でマイクロ波を浴びる。したがって、双方
の被加熱物は効率的に温め調理される。
【0016】次に、前述の温め調理の過程で赤外線セン
サ17を構成する第1の素子17aおよび第2の素子1
7bは、加熱室1内の上部に位置する第1の被加熱物1
の検知エリアe1〜e2から放射された赤外線量を検出
する。また、赤外線センサ17の第6の素子17f〜第
8の素子17gで、加熱室1の下部に配置する第2の被
加熱物8の側部に対応した検知エリアe6〜e8の赤外
線量を検出する。そして、各検知エリアe1〜2、e6〜
e8の個所に対応した赤外線センサ17の各素子から出
力される信号に基づき、双方の被加熱物の温度が検出さ
れる。この後で、制御部14は赤外線センサ17の第1
の素子17aと第2の素子17bとの検出値を所定時間
毎に読み込み、それらの検出値の中の最高値m1のみを
記憶する。そして、その最高値m1がある閾値s1に到
達した場合に第1の被加熱物3の温度は所定温度t1に
到達したと判断し、マグネトロン11の駆動を停止す
る。
【0017】また、同時に制御部14は第6の素子17
fから第8の素子17gの検出値を所定時間毎に読み込
み、それらの検出値の中の最高値m2のみを記憶する。
そして、その最高値m2がある閾値s2に到達した場合
に第2の被加熱物8の温度は所定温度t2に到達したと
判断し、マグネトロン11の駆動を停止する。なお、第
1の被加熱物3を載置する皿を角皿から丸皿へ変更した
場合に、前述の理由で赤外線センサ17の第2の被加熱
物8に対応した検知エリアがe4〜e8に拡大し、その
検知エリアe4〜e8の個所に対応した各素子から出力
される信号に基づき、第2の被加熱物8の各個所の温度
を検出する。そして、第4の素子17dから第8の素子
17gの検出値を読み込み、それらの検出値の最高値m
3を記憶する。それ以降は、前述と同様にその最高値m
3とある閾値との関係を見ながらマグネトロン11の駆
動を停止する。このような制御部14によるマグネトロ
ン11の駆動制御方法は、後述の実施の形態2〜実施の
形態5についても同様である。
【0018】ここで、アレイ状の赤外線センサ17を構
成する各赤外線検知素子の配列について図4を併用して
説明する。赤外線センサ17は、加熱室1の上部と下部
に配置される被加熱物の温度を検出する関係上、各素子
の配列は図4に示すように縦長状であることが好まし
い。例えば、各素子の縦サイズは全てHSの大きさ、素
子同志の間隔は全てHGの大きさであり、即ち等分状に
区分けされた配列方法となっている。また、各素子の縦
サイズHSと間隔HGとの関係は、HS>HG、HS<
HG、HS=HGの何れかの大きさとなるように適宜選
択して設計する必要がある。さらに、各素子の配列は図
4に示すように1×8の他に、例えば2×8、3×8、
4×8の縦長状の形状であっても良い。
【0019】以上のように、複数の赤外線検知素子が縦
長状に配列された一つのアレイ状赤外線センサ17を、
加熱室1の一方の側壁部の近傍に配設して加熱室1の上
下部に配置する被加熱物の複数箇所の温度を検出し、こ
の検出値に基づいてマグネトロン11を駆動制御するよ
うに構成しているので、双方の被加熱物を適切に温め調
理することができる。
【0020】実施の形態2.図5は、この発明の高周波
加熱装置に係る実施の形態2を示す正面構成図である。
図5において、従来例と同一の符号は同一または相当部
分を示す。ここでは、例えば1×8のアレイ状の赤外線
センサ17を加熱室1の上部に配置される第1の被加熱
物3の側部における検知エリアをe1〜e4、加熱室1
の下部に配置される第2の被加熱物8の上部および側部
における検知エリアをe5〜e8となるように、箱状の
カバー15に形成する赤外線透過窓16に対して所定角
度だけ傾斜させて配置する。なお、これを実現させるた
めに、赤外線センサ17の素子配列を図6に示すよう
に、第1の素子A1〜第4の素子A4の縦サイズを全て
HS、素子同志の間隔を全てHGに設定し、即ち等分状
に区分けされた配列方法とする。
【0021】また、素子サイズHSと間隔HGとの大き
さの関係は、実施の形態1と同様にHS>HG、HS<
HG、HS=HGの何れかの大きさとなるように適宜選
択して設計する必要がある。そして、第4の素子A4と
第5の素子A5との間隔は図6に示すようにHGよりも
大きいHG’となるように適宜設計する。さらに、第5
の素子A5〜第8の素子A8の縦サイズを全てHS、素
子同志の間隔を全てHGに設計して等分状に区分けされ
た配列方法とする。、なお、赤外線センサ17の各素子
の配列は1×8の他に、例えば2×8、3×8、4×8
という具合に縦長状の任意の形状となるように設計して
も良い。
【0022】以上のように、複数の赤外線検知素子が縦
長状に配列され、かつ配列された素子郡の中央個所に大
きい間隔を形成する一つのアレイ状赤外線センサ17を
使用して加熱室1の上下部に配置する被加熱物の温度を
検出することで、双方の被加熱物をより一層適切に温め
調理することができる。
【0023】実施の形態3.図7は、この発明の高周波
加熱装置に係る実施の形態3を示す上面構成図である。
図7において、従来例と同一の符号は同一または相当部
分を示す。18は加熱室1の外側に突出して設けられる
箱状のカバー15に形成する赤外線透過窓16に対向
し、アレイ状の赤外線センサ17を左右方向に往復回動
させる即ち検知エリアを左右方向に往復回動させる左右
回動機構部である。ここで、赤外線センサ17を左右回
動機構部18により加熱室1の対角線bに対して右方向
に回動した場合に、赤外線センサ17の検知エリアはR
eである。また、赤外線センサ17を中央部に回動した
場合に検知エリアはCe、それを左方向に回動した場合
に検知エリアはLeである。なお、加熱室1の上下部に
配置される被加熱物に対しての赤外線センサ17の垂直
方向側の検知エリアe1〜e8は、実施の形態1または
実施の形態2と同様の配置構成である。
【0024】次に、例えば高周波加熱装置で被加熱物の
オーブン調理を行う場合は、その被加熱物から発生する
オイルミストなどが赤外線透過窓16を介してアレイ状
の赤外線センサ17の受光部に付着する恐れが生じる。
この状態で、被加熱物の温め調理を行った場合は赤外線
センサ17の検出精度が著しく低下する関係上、被加熱
物の温めし過ぎの事態を招く。これを未然に防止するた
めに、オーブン調理のメニューボタン(図示なし)を押
してONさせた場合は、赤外線センサ17の受光部(図
示なし)を左右回動機構部18により赤外線透過窓18
に対して背を向けるように配置させて汚染対策を行う。
【0025】こうした構成により、加熱室1の上部に固
定設置される皿の上に置かれる第1の被加熱物3の側部
に対し、アレイ状の赤外線センサ17の検知エリアが常
に左右方向に回動する。したがって、赤外線センサ17
により第1の被加熱物3の側部全体の温度を検出し、適
切な温め調理を行うことができる。なお、この過程で加
熱室1の下部に配置される第2の被加熱物8は、回転し
た状態でその側部の温度が赤外線センサ17によって検
出される。
【0026】実施の形態4.図8〜図10は、この発明
の高周波加熱装置に係る実施の形態4を示す正面構成図
である。図8〜図10において、従来例と同一の符号は
同一または相当部分を示す。19は加熱室1の外側に突
出して設けられる箱状のカバー15の上部および中央部
に形成する一対の赤外線透過窓、20はアレイ状の赤外
線センサ17を加熱室1の外側であって上部の赤外線透
過窓19aと中央部の赤外線透過窓19aを通過するよ
うに、往復移動させる垂直移動機構部である。
【0027】次に、こうした構成を有する高周波加熱装
置の動作を図8〜図10を併用して説明する。本体パネ
ルに取り付けられるスタートボタン(図示なし)を押し
てONさせると、マグネトロン11が駆動して加熱室1
の上部に配置する第1の被加熱物3、加熱室1の下部に
配置する第2の被加熱物8に照射する。このとき、赤外
線センサ17は図8に示すように箱状のカバー15の上
部に形成する赤外線透過窓19aに対向して所定時間だ
け静止配置させる。これにより、赤外線センサ17は第
1の被加熱物3の側部における検知エリアe1〜e8の
温度を精度良く検出する。
【0028】次に、垂直移動機構部20により赤外線セ
ンサ17は下降移動し、図9に示すように箱状のカバー
15の中央部に形成される赤外線透過窓19bに対向す
るようして、所定時間だけ停止する。これにより、赤外
線センサ19は加熱室1の下部に配置される第2の被加
熱物8の側部における検知エリアe1〜e8の温度を精
度良く検出する。この後で、赤外線センサ19は箱状の
カバー15の上部の赤外線透過窓19a側へ上昇移動
し、この赤外線透過窓19bに対向した状態で所定時間
だけ停止する。そして、赤外線センサ4は加熱室1の上
部に配置される第1の被加熱物3の側部における検知エ
リアe1〜e8の温度を検出する。このように、赤外線
センサ17は垂直移動機構部20により一対の赤外線透
過窓19を対向するようして、箱状のカバー15の面を
沿うように垂直移動するような動作を繰り返す。そし
て、加熱室1内の上下部に配置される被加熱物のそれぞ
れの温め温度に相当する赤外線センサ17の検出値が出
力されたときに、マグネトロン11の駆動が停止して温
め動作が終了する。
【0029】次に、例えば高周波加熱装置で被加熱物の
オーブン調理を行う場合は、その被加熱物から発生する
オイルミストなどが一対の赤外線透過窓19を介してア
レイ状の赤外線センサ17の受光部に付着する恐れを生
じる。したがって、実施の形態3の記載内容と同様に、
被加熱物の温めし過ぎの事態を招く。これを未然に防止
するために、オーブン調理のメニューボタン(図示な
し)を押してONさせた場合は、赤外線センサ17を図
10に示すように垂直移動機構部20により箱状のカバ
ー15の赤外線透過窓19が形成していない個所、例え
ば下部に配置するように下降移動させて汚染対策を行
う。
【0030】以上のように、一つのアレイ状の赤外線セ
ンサ17は一対の赤外線透過窓19を介して加熱室1の
上部および下部に配置される被加熱物の側部に対応する
検知エリアの数をe1〜e8に増やし、被加熱物の温度
をより一層精度良く検出して温め調理を実行することが
できる。また、オーブン調理を行う場合は赤外線センサ
17を一対の赤外線透過窓19が形成していない個所に
配置することで、オイルミストなどの汚れ対策を施すこ
とができる。
【0031】実施の形態5.図11は、この発明の高周
波加熱装置に係る実施の形態5を示す正面構成図であ
る。図11において、従来例および実施の形態1〜実施
の形態4と同一の符号は同一または相当部分を示す。2
1は加熱室1の外側に突出して設けられる箱状のカバー
15の上部から下部に跨って複数箇所に形成される複数
の赤外線透過窓、22は垂直移動機構部20の動作によ
り複数の赤外線透過窓21に対向するシングル状の赤外
線センサ即ち1個の素子のみで構成する赤外線センサで
ある。
【0032】こうした構成により、高周波加熱装置の動
作を開始させた場合に、赤外線センサ22は図11に示
すように箱状のカバー15の最上部に形成する赤外線透
過窓21aに所定時間だけ対向して静止配置する。そし
て、赤外線センサ22は加熱室1の上部に配置される第
1の被加熱物3の側部Aに対応する検知エリアe1の赤
外線量を検出する。次に、赤外線センサ22は垂直移動
機構部20により所定量だけ下降移動し、赤外線透過窓
21bに所定時間だけ対向して静止配置した状態で第1
の被加熱物3の側部Bに対応する検知エリアe2(図示
なし)の赤外線量を検出する。
【0033】次に、赤外線センサ22は垂直移動機構部
20によって所定量だけ順次下降移動しながら赤外線透
過窓21cから21dを介し、加熱室1の下部に配置さ
れる第2の被加熱物8の側部CからDに対応する検知エ
リアe3(図示なし)の赤外線量を検出する。この後
で、赤外線センサ22は垂直移動機構部20により上昇
移動して、再び第1の被加熱物3の側部Aに対応する検
知エリアe1の赤外線量を検出する。これ以降は、前述
と同様の動作を繰り返す。そして、双方の被加熱物の側
部に対応した検知エリアにおける赤外線センサ22の検
出値がある閾値に至ったときに、マグネトロン11の駆
動が停止して温め調理が終了する。なお、例えば高周波
加熱装置で被加熱物のオーブン調理を行う場合は、赤外
線センサ22の汚れ対策を実施する上で、前述と同様に
垂直移動機構部20で赤外線センサ22を赤外線透過窓
21に対向しない位置に配置することが肝要である。
【0034】以上のように、シングル状の赤外線センサ
22は複数の赤外線透過窓21を介して加熱室1の上部
および下部に配置される被加熱物の側部に対応する検知
エリアの赤外線量を検出することで、双方の被加熱物の
温度を計測して温め調理を実行することができる。
【0035】
【発明の効果】この発明は、以上説明したように構成さ
れているので以下に記載されるような効果を奏する。
【0036】この発明に係る高周波加熱装置は、加熱室
内を上下に仕切る載置台を設け、加熱室内の上下各室に
マグネトロンから高周波を供給できるようにしたものに
おいて、加熱室の側面部に設けた開口を通して加熱室内
の上下各室に置かれた被加熱物から放射される赤外線を
検出できるよう配置された一つの赤外線検出器を設ける
ようにしたので、一つのアレイ状の赤外線検出器により
加熱室の上下部に配置する被加熱物の複数箇所の温度を
検出し、これらの検出値の中で最高値のみを抽出してマ
グネトロンを駆動制御することが可能である。したがっ
て、双方の被加熱物を適切に温め調理することができる
と共に、その被加熱物の複数箇所の温度を検出する温度
検出器が複数の温度検知素子から成る一つのアレイ状の
赤外線センサで構成されるために、その取り付け作業が
非常に容易であると共に部品コストが安くなるという利
点を有する。
【0037】また、赤外線検出器を載置台の側縁部の側
方に対向して配設するようにしたので、一つのアレイ状
の赤外線検出器で加熱室の上下部に配置する被加熱物の
複数箇所の温度を検出し、検出した温度に基づいてマグ
ネトロンの駆動を制御することができる。これにより、
加熱室の上下部の被加熱物を適切に温め調理することが
可能となる。
【0038】また、赤外線検出器をその赤外線検出領域
が加熱室内の左右方向に移動するよう回動したので、加
熱室の上部に配置される静止状態である被加熱物の複数
個所の温度を精度良く検出し、温め調理することができ
る。
【0039】また、赤外線検出器を加熱室の側面部に沿
って上下方向に移動できるよう設けると共に、側面部に
加熱室の上下各室に対向して開口を設けるようにしたの
で、加熱室の上下部に配置する被加熱物の複数個所の温
度をより一層精度良く検出し、温め調理することができ
る。さらに、例えば高周波加熱装置で被加熱物のオーブ
ン調理を行う場合は、垂直移動機構部により赤外線セン
サを赤外線透過窓に対向しない位置に配置し、汚染対策
を行うことができる。
【0040】また、赤外線検出器は少なくとも加熱室側
面部の上下方向へ複数の赤外線検知素子を並設したアレ
イ状のものから構成するようにしたので、高周波加熱装
置への赤外線センサの取り付け作業を簡単にして、かつ
部品コストを低減させながら加熱室の上下部に配置する
被加熱物の温度を精度良く検出し、温め調理を実行する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の高周波加熱装置に係る実施の形態
1を示す上面構成図である。
【図2】 実施の形態1を示す高周波加熱装置の正面図
である。
【図3】 実施の形態1を示す高周波加熱装置の正面図
である。
【図4】 実施の形態1の高周波加熱装置に使用される
アレイ状の赤外線センサの構成図である。
【図5】 実施の形態2を示す高周波加熱装置の正面図
である。
【図6】 実施の形態2の高周波加熱装置に使用される
アレイ状の赤外線センサの構成図である。
【図7】 実施の形態3を示す高周波加熱装置の正面図
である。
【図8】 実施の形態4を示す高周波加熱装置の正面図
である。
【図9】 実施の形態4を示す高周波加熱装置の正面図
である。
【図10】 実施の形態4を示す高周波加熱装置の正面
図である。
【図11】 実施の形態5を示す高周波加熱装置の正面
図である。
【図12】 従来の高周波加熱装置を示す正面図であ
る。
【符号の説明】
1 加熱室、2 角皿、3 第1の被加熱物、4 ロー
タリープレート、5モータ、6 回転軸、7 回転皿、
8 第2の被加熱物、9 第1の温度検出器、10 第
2の温度検出器、11 マグネトロン、12 導波管、
13 給電口、14 制御部、15 箱状のカバー、1
6 赤外線透過窓、17 アレイ状の赤外線センサ、1
8 左右移動機構部、19 一対の赤外線透過窓、20
垂直移動機構部、21 複数の赤外線透過窓。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長田 正史 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 伊藤 賢一 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 星野 裕嗣 埼玉県大里郡花園町大字小前田1728番地1 三菱電機ホーム機器株式会社内 (72)発明者 前村 宣孝 埼玉県大里郡花園町大字小前田1728番地1 三菱電機ホーム機器株式会社内 (72)発明者 金井 孝博 埼玉県大里郡花園町大字小前田1728番地1 三菱電機ホーム機器株式会社内 Fターム(参考) 3K086 AA01 AA07 BA08 CA04 CB04 CC01 3K090 AA01 AB02 BA01 BB01 CA16 EB14 3L086 BB13 CB17 DA14 DA20 DA23 DA29

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 加熱室内を上下に仕切る載置台を備え、
    前記加熱室内の上下各室にマグネトロンから高周波を供
    給できるようにしたものにおいて、前記加熱室の側面部
    に設けた開口を通して前記加熱室内の上下各室に置かれ
    た被加熱物から放射される赤外線を検出できるよう配置
    された一つの赤外線検出器を具備したことを特徴とする
    高周波加熱装置。
  2. 【請求項2】 前記赤外線検出器を前記載置台の側縁部
    の側方に対向して配設したことを特徴とする請求項1記
    載の高周波加熱装置。
  3. 【請求項3】 前記赤外線検出器をその赤外線検出領域
    が前記加熱室内の左右方向に移動するよう回動したこと
    を特徴とする請求項1記載の高周波加熱装置。
  4. 【請求項4】 前記赤外線検出器を前記加熱室の側面部
    に沿って上下方向に移動できるよう設けると共に、前記
    側面部に前記加熱室の上下各室に対向して開口を設けた
    ことを特徴とする請求項1記載の高周波加熱装置。
  5. 【請求項5】 前記赤外線検出器は少なくとも前記加熱
    室側面部の上下方向へ複数の赤外線検知素子を並設した
    アレイ状のものから構成したことを特徴とする請求項1
    記載の高周波加熱装置。
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