JP2002194529A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2002194529A5
JP2002194529A5 JP2001321299A JP2001321299A JP2002194529A5 JP 2002194529 A5 JP2002194529 A5 JP 2002194529A5 JP 2001321299 A JP2001321299 A JP 2001321299A JP 2001321299 A JP2001321299 A JP 2001321299A JP 2002194529 A5 JP2002194529 A5 JP 2002194529A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical
thin film
layer
optical thin
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001321299A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP4026349B2 (ja
JP2002194529A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2001321299A priority Critical patent/JP4026349B2/ja
Priority claimed from JP2001321299A external-priority patent/JP4026349B2/ja
Publication of JP2002194529A publication Critical patent/JP2002194529A/ja
Publication of JP2002194529A5 publication Critical patent/JP2002194529A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4026349B2 publication Critical patent/JP4026349B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

JP2001321299A 2000-10-20 2001-10-19 光学薄膜の作製方法 Expired - Fee Related JP4026349B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001321299A JP4026349B2 (ja) 2000-10-20 2001-10-19 光学薄膜の作製方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000-321654 2000-10-20
JP2000321654 2000-10-20
JP2001321299A JP4026349B2 (ja) 2000-10-20 2001-10-19 光学薄膜の作製方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2002194529A JP2002194529A (ja) 2002-07-10
JP2002194529A5 true JP2002194529A5 (enExample) 2005-06-16
JP4026349B2 JP4026349B2 (ja) 2007-12-26

Family

ID=26602534

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001321299A Expired - Fee Related JP4026349B2 (ja) 2000-10-20 2001-10-19 光学薄膜の作製方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4026349B2 (enExample)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4198086B2 (ja) 2003-06-25 2008-12-17 オリンパス株式会社 蛍光観察用装置
JP4862295B2 (ja) * 2005-06-27 2012-01-25 パナソニック電工株式会社 有機ｅｌ素子の製造方法及び製造装置
JP4735291B2 (ja) * 2006-01-31 2011-07-27 株式会社昭和真空 成膜方法
JP2010209413A (ja) * 2009-03-10 2010-09-24 Central Glass Co Ltd 酸化タンタル薄膜及び薄膜積層体
JP5743266B2 (ja) 2010-08-06 2015-07-01 キヤノンアネルバ株式会社 成膜装置及びキャリブレーション方法
JP7550297B2 (ja) * 2020-07-22 2024-09-12 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド ドープされた非晶質光学装置膜及びドーパント原子の組み込みを介した堆積

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3064301B2 (ja) 薄膜形成装置及び方法
US6635155B2 (en) Method for preparing an optical thin film
JP7676466B2 (ja) 基板上に少粒子層を形成するための方法および装置
EP2530182B1 (en) Film-forming method, film-forming apparatus, and apparatus for controlling the film-forming apparatus
JP2004524435A (ja) 差動ポンプ動作を用いる材料加工システム
US20060070877A1 (en) Magnetron sputtering device
JP2010168665A (ja) 多層膜を製造する方法および前記方法を実施するための装置
KR20140074922A (ko) 터치 패널에서 사용하기 위한 투명 보디를 제조하는 방법 및 시스템
JP4482972B2 (ja) 光学薄膜製造装置
JP2005048260A (ja) 反応性スパッタリング方法
JP2002194529A5 (enExample)
JP4530776B2 (ja) 多層膜形成用スパッタリング装置及びその膜厚制御方法
JP6672204B2 (ja) 反応性スパッタリングの成膜装置、および成膜方法
JP5901571B2 (ja) 成膜方法
JP2006509102A (ja) 多層膜を製造する方法および前記方法を実施するための装置
JP4026349B2 (ja) 光学薄膜の作製方法
TWI485277B (zh) 多靶反應性濺鍍製程穩定控制方法
CN101713062B (zh) 遮光元件及其镀膜方法
JP4858492B2 (ja) スパッタリング装置
JP2004043880A (ja) 成膜方法、成膜装置、光学素子及び投影露光装置
JP2004317738A (ja) 紫外光遮蔽素子とその製造方法及び光学装置
JP4502540B2 (ja) 光学多層膜干渉フィルタの作製装置および作製方法
JP2004533538A (ja) ２重スキャン薄膜処理システム
JP2009144252A (ja) 反応性スパッタリング装置及び反応性スパッタリング方法
JP2004244722A (ja) 薄膜形成装置及び薄膜形成方法並びに光学素子