JP2002192213A

JP2002192213A - 平坦度制御方法および装置

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Publication number: JP2002192213A
Application number: JP2000390753A
Authority: JP
Inventors: Lars Jonsson; ラルスジョンソン，; Close Mayer; クロースメイヤー，
Original assignee: ABB AB
Current assignee: ABB AB
Priority date: 2000-12-22
Filing date: 2000-12-22
Publication date: 2002-07-10
Anticipated expiration: 2020-12-22
Also published as: JP4831863B2

Abstract

(57)【要約】【課題】ストリップにおける平坦度誤差を低減する。【解決手段】圧延された材料からなるストリップ１の
平坦度を制御する方法であって、圧延部５を通過した後
に少なくとも１つの領域において得られたストリップ１
の平坦度の測定値が、第１の所定の圧延平坦度目標値と
の比較により、圧延された材料の平坦度を制御し、か
つ、調節するための圧延部５の制御信号を生成するため
に使用される方法において、少なくとも１つの領域にお
ける平坦度の目標値がストリップの長さ方向の位置に依
存する、ストリップ１のための第２の長さ方向依存の圧
延平坦度目標値を構成するさらなるステップを特徴とす
る方法を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、銅、鋼またはア
ルミニウム等の材料からなる長尺の平坦なシートまたは
ストリップを製造するための連続または半連続プロセス
のための制御方法およびシステムに関するものである。
さらに詳細には、この発明は、圧延作業に続いてストリ
ップが処理される、圧延機内で使用される平坦度制御方
法およびシステムに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】通常、ストリップまたはシート材料の圧
延では、材料を圧延機において所望の寸法に圧延し、そ
の後、製造されたストリップを巻取装置に供給すること
が行われる。巻取装置では、ストリップはコイル状に巻
き取られる。その後、そのようなコイルは、巻取装置か
ら取り外され、いくらかの時間経過後に、焼鈍、スリッ
ティングまたは表面処理プロセス等のような後続プロセ
スに移動させられる。後続プロセスの開始時に、コイル
は巻き戻され、巻き戻されたストリップが後続プロセス
に供給される。

【０００３】圧延機と巻取装置との間でストリップに生
ずる張力は、注意深く監視され、圧延された材料の平坦
度を調節するためにストリップを横切る張力分布を測定
することが知られている。米国特許第３４８１１９４号
明細書では、Sivilotti と Carlssonが、ストリップ平
坦度センサを開示している。このセンサは、圧延機と、
例えば、ここでは巻取装置との間で、その上方にストリ
ップを通過させる測定ローラを具備している。この測定
ローラは、ストリップの幅方向に沿って配される複数の
地点で、ストリップに生ずる圧力を検出する。圧力は、
ストリップ内の張力の測定値を表している。ストリップ
内の張力を測定することにより、該ストリップの幅方向
に横切る複数領域の各々において平坦度のマップを得る
ことができる。米国特許第４４００９５７号明細書は、
平坦度を特徴付けるために引張応力分布を測定するスト
リップまたはシート圧延機を開示している。平坦度の測
定値は、目標平坦度と比較され、測定された平坦度と目
標平坦度との差が、平坦度誤差として計算される。平坦
度誤差は、該平坦度誤差がゼロとなるようにストリップ
の平坦度を調節または制御するために、圧延機の制御装
置にフィードバックされる。

【０００４】同様に、米国特許第５９７０７６５号明細
書は、ストリップの幅方向にわたって測定されたストリ
ップの平坦度と、目標平坦度との間の差を計算するスト
リップを圧延するための方法および装置を開示してい
る。ローラ列からなる圧延機内の形状調節部材が、その
後、前記平坦度の差を最小化するように作動させられ
る。したがって、目標平坦度までの差が、同じ列内の他
のローラにフィードバックまたはフィードフォワードさ
れ、反転装置の場合には、同じストリップのその後の通
過時に、同じ装置内において使用される。この方法は、
ランアウトテーブル上およびコイル内の高温ストリップ
の冷却中の処理とは独立して、表面平坦度を改良するこ
とができると言われている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、巻き取
られたストリップの後段または後続処理において問題が
生ずる。巻き取られたストリップが巻き戻されて、その
後に処理されるときには、ストリップが巻き取られる前
に測定されたときに有していた平坦度の測定値と同じ値
を有していないことがしばしば見受けられる。このこと
は、ストリップは、巻き戻された後には、巻き取られる
前と同じ平坦度を有しておらず、圧延機から生産された
ストリップに平坦度の誤差が導入されていることを意味
している。

【０００６】この発明は、ストリップにおける平坦度誤
差を低減することを目的としている。この発明の他の目
的は、ストリップの長さの一部において平坦度誤差を低
減することである。さらに、この発明の他の目的は、圧
延後に巻き取られるストリップにおける平坦度誤差を低
減することである。また、この発明は、巻取後の平坦度
の誤差を測定する方法を提供することをも目的としてい
る。さらに、この発明は、後続処理のための平坦度目標
値を提供することをも目的としている。また、この発明
の他の目的は、圧延機および後続処理の両方における平
坦度を改良することができる補償係数を提供することで
ある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】この発明は、所定のスト
リップの巻戻し後の平坦度を測定し、長さに対する平坦
度の第２の目標値、圧延機平坦度目標値２との比較を行
い、第２の平坦度誤差を決定し、それを、圧延機を通し
たストリップのその後の圧延を調節するため、および、
同じ所定のストリップに対する後続または後段の処理を
制御するための両方に使用する方法、ならびに、その方
法を実施するための装置およびシステムとして概略的に
説明される。この手段により、圧延によるストリップの
長さ方向に沿う異なる位置での平坦度の誤差が検出さ
れ、その後、そのような誤差を低減または補正するため
に使用される。

【０００８】この発明の主な利点は、圧延された材料か
らなり、圧延後の後続プロセスにおいて処理されるスト
リップを、少ない誤差の所望の平坦度に製造することが
でき、その結果、製品の品質低下、廃棄および廃物を低
減することができるという点である。

【０００９】他の利点は、巻戻し後の平坦度誤差を、同
じストリップの仕様に圧延される各ストリップ製品の平
坦度を改良するために、都合よく使用することができる
という点である。また、他の利点は、圧延後の平坦度測
定値が、その後の後段プロセスにフィードフォワードさ
れ、これらのプロセス中における改良された平坦度制御
を提供するために使用することができるという点であ
る。

【００１０】

【発明の実施の形態】この発明は、添付図面を参照し
て、以下に詳細に説明される。図１（従来技術）は、公
知技術による平坦度測定ローラ、圧延部および巻取装置
を含む圧延機の一部を概略的に示している。図２（従来
技術）は、公知技術による圧延機平坦度目標値を有する
平坦度制御方法のための簡略化したブロック図を示して
いる。図３は、この発明の一実施形態に係る圧延材料か
らなるストリップの平坦度制御方法を示す簡略化したブ
ロック図である。図４は、この発明の一実施形態に係る
圧延材料からなるストリップの平坦度制御のためのブロ
ック図を示している。図５は、この発明の一実施形態に
係る圧延材料からなるストリップの後続プロセスにおけ
る平坦度制御方法のブロック図を示している。

【００１１】この発明を説明するために、まず最初に、
従来技術の方法および装置を概略的に説明する。図１
（従来技術）は、圧延部を矢印Ｄにより示された方向に
通過する金属ストリップ１を示している。このストリッ
プ１は、巻取装置３に到達する前に測定ローラ２の上を
通過する。測定ローラ２は、平坦度制御装置４に接続さ
れ、該平坦度制御装置４は圧延部５の制御装置に接続さ
れている。平坦度制御装置４は、ストリップの所定の仕
様に対して、予め設定された一組の平坦度値、ここで
は、圧延機平坦度目標値と呼ぶ圧延プロセスのための平
坦度目標値を具備している。

【００１２】ストリップの平坦度に相当するストリップ
の測定は、圧延部５の出口において、巻取装置３におけ
るストリップの巻き取り前に、測定ローラ２によって行
われる。

【００１３】図２（従来技術）は、公知の制御方法のた
めの簡略化したブロック図１０を示している。ストリッ
プは目標平坦度、すなわち、ストリップの幅の関数であ
り、ｆ（ｗ）と表される圧延機平坦度目標値まで圧延さ
れる。圧延中に、ストリップを幅方向に横切る領域ごと
の平坦度は、符号２の位置で測定される。第１の平坦度
誤差として説明される、圧延機平坦度目標値と測定値と
の間の差は、測定値補償器および加算器８において処理
され、その後、平坦度制御装置４に送られる。測定され
かつ補償された平坦度と、領域ごとの圧延機平坦度目標
値との間の差、すなわち、第１の平坦度誤差は、１以上
の制御信号を提供するために平坦度制御装置によって使
用され、ストリップに対して圧延機平坦度目標値によっ
て定義された該領域において要求される平坦度からの変
動を低減するために、圧延測定点２の前に、少なくとも
１つの圧延部５にフィードバックされる。圧延機平坦度
目標値は、ストリップの幅方向に沿って提供され、目標
値はストリップの長さによっては変化しない。この方法
は、従来技術の一部を構成している。

【００１４】この発明に係る方法では、ストリップ１
は、所定のストリップ１に対する巻き取り前の平坦度デ
ータおよび平坦度システム情報とともに、図４に示され
るデータロガー６に格納されるコイル識別データを使用
して、圧延されかつ識別される。巻取後に、所定のスト
リップ１は、図５に概略的に示されるように、後続プロ
セス１２に移動させられる。

【００１５】図３は、この発明の好ましい実施形態に係
るストリップの圧延制御方法を示している。ストリップ
を圧延するための第２の平坦度目標値、すなわち、長さ
方向に依存する圧延機平坦度目標値（ＭＦＴ２）が構成
され、任意の領域における平坦度を、圧延されるストリ
ップの長さ方向にわたって変化させられる。第３の形式
の平坦度目標値、すなわち、圧延後平坦度目標値ＰＲＦ
Ｔも構成される。このＰＲＦＴは、１つ以上の後続プロ
セスに対するストリップの平坦度のための目標値であ
る。これらＰＲＦＴまたは各ＰＲＦＴは、データベース
３０に格納されたデータ、および、ストリップの後続プ
ロセスに関連する仕様に基づいて生成される。ＰＲＦＴ
は、ストリップの長さに依存して任意の領域で変化する
ことがあるので、従来技術の圧延機平坦度目標値とは相
違している。ＰＲＦＴでは、平坦度は、幅および長さの
関数であり、ｆ（ｗ，ｌ）として表記されてもよい。ス
トリップは、図３に概略的に示されるように圧延され
る。

【００１６】次に、図４を参照する。圧延され、符号３
のブロックにおいて冷却された後に、ストリップは、そ
の後、巻き戻され、後続プロセスに供給される。この発
明によれば、コイルは、巻戻装置１２３において巻き戻
され、巻戻し後の平坦度が、後続プロセス１２に移動す
る前に、符号１２２の地点で測定される。巻戻し後は、
平坦度はコイルにおけるストリップの位置によって影響
されるので、平坦度誤差がストリップに、該ストリップ
の長さ方向位置に依存して生じる。コイルの中心に近い
ストリップの温度および熱分布は、コイルの外側に近い
ストリップよりも大きく変化する。

【００１７】巻戻し後の平坦度の測定は、符号１２２の
位置で行われ、巻戻し後にＰＲＦＴと比較され、測定さ
れた平坦度とＰＲＦＴ目標値との間の差、ここでは圧延
後平坦度誤差（ＰＲＦＥ）と呼ぶ、が計算される。

【００１８】圧延後平坦度誤差ＰＲＦＥは、圧延後平坦
度目標値を測定された圧延後平坦度ＰＲＦから引き算す
ることにより算出される。圧延後平坦度誤差ＰＲＦＥの
一部または全部が、圧延機のための新たな圧延平坦度目
標値を計算する適応アルゴリズム９９に供給される。新
たな目標値は、ここでは最適圧延平坦度目標値（ＯＭＦ
Ｔ）として説明される。このＯＭＦＴは、ストリップの
幅方向に沿う各領域における平坦度の目標値を含んでい
る点で、従来技術の圧延平坦度目標値と類似している
が、任意領域における平坦度がストリップの長さ方向に
沿って変化する可能性がある点で、従来技術の圧延平坦
度目標値とは相違している。このＯＭＦＴは、新たな平
坦度目標値として圧延機制御装置に供給され、１以上の
後続プロセスのための１以上の圧延後平坦度目標値ＰＲ
ＦＴに対して第２の圧延平坦度目標値ＭＦＴ２を最適化
するために使用される。

【００１９】上述したように、ＰＲＦＥの一部が、ＯＭ
ＦＴを生成するために適応アルゴリズム９９において使
用される。ＯＭＦＴは、圧延後平坦度誤差ＰＲＦＥ（巻
戻し後）が、既知のストリップ１の同じ仕様のストリッ
プのその後の圧延において、ほぼゼロに低減されるよう
に、符号１０で示された位置において、圧延平坦度目標
値として使用される。

【００２０】圧延平坦度目標値を修正するために使用さ
れる第２の平坦度誤差と、上記のようにして生成される
この発明に係るＯＭＦＴとの比率が、別の方法を用いて
計算されてもよい。この発明の一実施形態では、予め設
定された比率のＰＲＦＥの値が、適応アルゴリズム９９
において使用され、ＯＭＦＴを形成するための補償係数
として適用される。

【００２１】測定した平坦度とＯＭＦＴとの差は、平坦
度測定ローラ２によって検出された差およびストリップ
をその後に圧延されるときのＯＭＦＴを最小化するよう
に圧延部を調節するために使用される。

【００２２】これに代えて、ＰＲＦＥにフィルタが適用
されてもよい。フィルタは、アルゴリズムとして実行さ
れる数式モデルであってもよい。この発明の巻戻しにお
いて、ＯＭＦＴを修正するための補償係数として適用さ
れる平坦度誤差の値の比率は、その最適な値の比率を決
定するために、ファジー論理システムを使用して選択さ
れてもよい。この発明の他の巻戻しでは、ＯＭＦＴを修
正するための補償係数として適用される平坦度誤差の値
の比率は、最適な値の比率を決定するためにニューラル
ネットワークを使用して選択されてもよい。

【００２３】ＰＲＦＥおよびＯＭＦＴはベクトルであ
り、異なる大きさのものとすることができる。制御装置
として説明することもできる適応アルゴリズム９９は、
以下の任意の種類の多入力多出力（ＭＩＭＯ）制御装置
でよいが、これらに限定されるものではない。

【００２４】ＭＩＭＯ−ＰＩＤ制御装置。この最も基本
的な制御装置は、該制御装置の任意の比例係数を１／２
として、ＯＭＦＴ＝１／２×ＰＲＦＥとなるような比例
制御でよい。これは、上述したＰＲＦＥの所定の比率を
計算する方法と同様の方法である。

【００２５】ＭＩＭＯ−ファジー制御装置。一例とし
て、各々が入力として、その値および誤差ベクトルＰＲ
ＦＥの一要素の微分のメンバーシップ関数を有する一組
のｎファジー制御装置がある。使用される一組の一般的
なファジールールは、非ファジー化後に出力ベクトルＯ
ＭＦＴを与える、タカギ−スゲノＦＬＣ−１またはＦＬ
Ｃ−２として知られている。

【００２６】ＩＭＣ、ファジー、Ｈ_∞、またはスライデ
ィングモードのようなＭＩＭＯモデルベース制御装置。

【００２７】勾配降下法に基づく最適化を使用した、ニ
ューロ、ニューロファジー制御装置および他の等価な制
御装置。

【００２８】適応制御、適応内部モデル制御、ロバスト
制御、ロバスト適応制御装置（ロバスト適応部分極配
置、ロバスト適応モデル規範形制御、ロバスト適応Ｈ_２
最適制御、ロバスト適応Ｈ_∞最適制御）。

【００２９】特定の仕様のストリップ１の最初の製造に
おいては、ＭＦＴ２は、領域ごとにストリップの長さ方
向に一定の値とすることもできる、所定の基準値であ
る。しかしながら、巻戻しのようなその後のプロセスを
通過する同じ仕様のストリップについての各製造後に
は、ＰＲＦＥが測定される。ＰＲＦＥの一部から抽出さ
れるＯＭＦＴは、継続的に洗練され、それぞれの後続プ
ロセスに入るストリップの最初の製造後に製造される連
続するコイルのＰＲＦＥがゼロに近づくように、圧延機
のＭＦＴ２に適用される。

【００３０】実際に、ＰＲＦＴは、圧延機作業後のいく
つかのまたは全てのプロセスのために構成されてもよ
い。このことは、ＯＭＦＴを修正するために、１以上の
後続プロセスの各々に対して異なるＰＲＦＥがフィード
バックされてもよいことを意味している。この説明にお
いて、後続プロセスという語句は、巻き取りまたは巻戻
作業のみならず、圧延作業後に続く、焼鈍等の他の任意
のプロセスを意味するために使用される。

【００３１】この発明の他の実施形態では、ＰＲＦＥお
よび巻戻し後に測定された平坦度は、フィードフォワー
ド制御にも使用される。ストリップが巻き戻された後
に、該ストリップは後続プロセスに供給される。図５
は、ストリップ１の巻戻し後の任意のプロセスの一例を
表す後続プロセス１２を示している。この例は、連続焼
鈍プロセス１２ａとバッチ焼鈍プロセス１２ｂとを示し
ている。所定のストリップのコイルごとに、コイルを巻
き戻した後に、符号１２２の位置で測定される図４に示
されるような第２の平坦度誤差が、プロセス１２のよう
な後続プロセスにフィードフォワードされる。

【００３２】例えば、後続プロセス１２において、平坦
度は測定され、例えば、焼鈍プロセス後のストリップの
平坦度に対する目標平坦度と比較される。図５は、例と
して、連続鋳造に対する平坦度目標値ＰＲＦＴ１２ａお
よびバッチ焼鈍に対する他の目標値ＰＲＦＴ１２ｂを示
している。入来する巻き戻したストリップの測定値と目
標値との間の変動、すなわち、平坦度誤差が、プロセス
に入るストリップに対するプロセスパラメータを適応さ
せるために使用されてもよい。この発明の好ましい実施
形態によれば、ＰＲＦＴおよび／またはＰＲＦＥ、およ
びＯＭＦＴが、巻取／巻戻または圧延後に続く他の任意
のプロセスによる予想される平坦度の変化を補償するた
めに、少なくとも１つの後続プロセスの制御に使用され
てもよい。ＰＲＦＴと測定された平坦度との間の差また
は誤差は、その後のプロセス制御装置（図示略）におい
て決定され、例えば、スキンパスが、ストリップの厚さ
を、さらに、通常約０．７５％だけ微小に低減するため
に使用されるスキンパスロール（５５）のためのライト
トリミング圧延部を調節するために使用される。スキン
パスロールは、ＰＲＦＴと測定された平坦度との間の誤
差の一部を用いて適応される。ストリップ製品の平坦度
制御は、このようにフィードフォワード制御を使用し
て、より正確に行われる。

【図面の簡単な説明】

【図１】公知技術による平坦度測定ローラ、圧延部お
よび巻取装置を含む圧延機の一部を概略的に示してい
る。

【図２】公知技術による圧延機平坦度目標値を有する
平坦度制御方法を説明する簡略化したブロック図であ
る。

【図３】この発明の一実施形態に係る圧延材料からな
るストリップの平坦度制御方法を示す簡略化したブロッ
ク図である。

【図４】この発明の一実施形態に係る圧延材料からな
るストリップの平坦度制御を説明するブロック図であ
る。

【図５】この発明の一実施形態に係る圧延材料からな
るストリップの後続プロセスにおける平坦度制御方法を
説明するブロック図である。

【符号の説明】

１ストリップ２測定ローラ３巻取装置（後続プロセス）４平坦度制御装置５圧延部６データロガー（データベース）１２後続プロセス９９適応アルゴリズム１２２平坦度測定装置１２３巻戻装置ＭＦＴ平坦度目標値ＯＭＦＴ圧延平坦度目標値ＰＲＦＥ圧延後平坦度誤差ＰＲＦＴ圧延後平坦度目標値

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 4E024 AA02 GG10 5H004 GA17 GB03 HA07 HA20 HB07 JA22 JA30 JB08 JB15 KA71 KA74 KB03 KB33 KC18 KC34 KD02 KD18 KD36 LA18

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】圧延された材料からなるストリップ
（１）の平坦度を制御する方法であって、圧延部（５）を通過した後に少なくとも１つの領域にお
いて得られたストリップ（１）の平坦度の測定値を、第
１の所定の圧延平坦度目標値との比較により、圧延され
た材料の平坦度を制御し、かつ、調節するための圧延部
（５）の制御信号を生成するために使用する方法におい
て、前記少なくとも１つの領域における平坦度の目標値がス
トリップの長さ方向の位置に依存する、ストリップ
（１）のための第２の長さ方向依存の圧延平坦度目標値
ＭＦＴ２を構成するさらなるステップを特徴とする方
法。
【請求項２】後続プロセス（３，１２）にストリップ
を通過させるステップと、前記後続プロセス（３，１２）の後に、前記圧延された
材料からなるストリップ（１）の長さ方向の少なくとも
一部において、前記少なくとも１つの領域における圧延
後平坦度ＰＲＦを測定するステップと、前記ストリップ（１）の測定した平坦度ＰＲＦと圧延後
平坦度目標値ＰＲＦＴとを比較するステップと、圧延後平坦度誤差ＰＲＦＥを計算するステップと、第３の長さ方向依存の最適化された圧延平坦度目標値Ｏ
ＭＦＴを構成するために、圧延後平坦度誤差ＰＲＦＥの
少なくとも一部を適応させるステップとをさらに具備す
ることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】前記圧延後平坦度誤差ＰＲＦＥを適応さ
せるステップが、適応アルゴリズム（９９）によること
を特徴とする請求項２記載の方法。
【請求項４】前記適応アルゴリズムが、１／２を制御
装置の任意の比例係数として、ＯＭＦＴ＝１／２×ＰＲ
ＦＥとなるような、ＭＩＭＯ−ＰＩＤ制御装置であるこ
とを特徴とする請求項３記載の方法。
【請求項５】前記適応アルゴリズムが、一組のｎ個の
ファジー制御装置からなるＭＩＭＯファジー制御装置で
あり、その各々が、前記誤差ベクトルＰＲＦＥの一要素
の値およびその微分値からなる入力メンバーシップ関数
を有することを特徴とする請求項３記載の方法。
【請求項６】前記適応アルゴリズムが、ＩＭＣ、ファ
ジー、Ｈ_∞、スライディングモード形のようなＭＩＭＯ
モデルベース制御装置であることを特徴とする請求項３
記載の方法。
【請求項７】前記適応アルゴリズムが、ニューロまた
はニューロファジー制御装置または勾配降下法に基づく
最適化を使用する等価なアルゴリズムであることを特徴
とする請求項３記載の方法。
【請求項８】前記適応アルゴリズムが、適応制御装置
または適応内部モデル制御装置またはロバストまたはロ
バスト適応制御装置であることを特徴とする請求項３記
載の方法。
【請求項９】測定した圧延後平坦度ＰＲＦを、少なく
とも１つの後続および後段プロセス（１２）のフィード
フォワード制御ループに供給するステップを具備するこ
とを特徴とする請求項２記載の方法。
【請求項１０】圧延後平坦度誤差ＰＲＦＥを、少なく
とも１つの後続および後段プロセス（１２）のフィード
フォワード制御ループに供給するステップを具備するこ
とを特徴とする請求項２記載の方法。
【請求項１１】後続プロセス（３）が、ストリップ
（１）の巻き戻しプロセスであることを特徴とする請求
項１から請求項１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】各ストリップ（１）の平坦度測定デー
タを、各ストリップ（１）を識別するデータとともに格
納するステップをさらに具備することを特徴とする請求
項２記載の方法。
【請求項１３】圧延された材料からなるストリップ
（１）の平坦度を制御するシステムであって、圧延部（５）を備えた圧延機と、第１の圧延平坦度目標
値を有する平坦度制御装置（４）と、測定ローラ（２）
と、巻取装置（３）とを具備し、前記圧延機が、後続プロセス（３，１２）、少なくとも
１つの平坦度測定装置（１２２）、少なくとも１つのデ
ータロガー（６）、巻戻し装置（１２３）、および、第
２の長さ方向依存の平坦度目標値ＭＦＴおよび圧延後平
坦度目標値ＰＲＦＴを備えた少なくとも１つの後続プロ
セス制御装置とをさらに具備することを特徴とするシス
テム。
【請求項１４】前記少なくとも１つの平坦度測定装置
（１２２）が、前記後続プロセス（３，１２）の後に配
置され、前記平坦度制御装置（４）が、前記後続プロセス（３，
１２）後の前記ストリップ（１）の測定された平坦度
と、前記第２の圧延平坦度目標値ＭＦＴとを比較し、平
坦度誤差ＰＲＦＥを計算するために設けられ、前記制御装置（４）が、前記後続プロセス（３，１２）
の後に計算された平坦度誤差ＰＲＦＥに基づいて制御信
号を生成するために設けられていることを特徴とする請
求項１３記載のシステム。
【請求項１５】前記圧延後平坦度誤差ＰＲＦＥの一部
が、制御信号を構成するために、適応アルゴリズム（９
９）によって適合されていることを特徴とする請求項１
４記載のシステム。
【請求項１６】前記制御信号が、前記後続プロセス
（１２）のための制御装置内のフィードフォワード制御
ループに送られることを特徴とする請求項１４記載のシ
ステム。
【請求項１７】前記ストリップ（１）と同種のストリ
ップの後続の製造のための圧延中に、ストリップ（１）
の平坦度を制御するための請求項１３から請求項１５の
いずれかに記載のシステムの使用方法。
【請求項１８】前記ストリップ（１）に適用される後
続プロセス中に、ストリップ（１）の平坦度を制御する
ための請求項１３から請求項１６のいずれかに記載のシ
ステムの使用方法。
【請求項１９】前記ストリップ（１）に適用される後
続のスキンパスロール中に、ライトトリミング圧延部を
制御するための請求項１３から請求項１６のいずれかに
記載のシステムの使用方法。
【請求項２０】圧延されたストリップの平坦度の測定
値と、前記圧延されたストリップに対する平坦度の目標
値とから抽出された計算情報を含むデータ通信において
実現されるコンピュータデータ信号であって、該データ信号内の前記計算情報が、圧延された材料から
なるストリップの一領域における目標平坦度がストリッ
プの長さ方向に沿って変化する第２の長さ方向依存の圧
延平坦度目標値（ＭＦＴ２）に依存し、前記データ信号
が、同じ圧延プロセスにおいて圧延されるストリップの
連続する圧延を調節するために、新たな平坦度目標値を
構成する圧延プロセスの制御装置（４）に送られること
を特徴とするコンピュータデータ信号。
【請求項２１】前記データ信号内の前記計算された情
報が、第２の圧延平坦度目標値（ＭＦＴ２）を構成し、
フィードフォワード信号として、前記圧延されたストリ
ップの後続プロセスにおける平坦度を調節するために、
後続プロセス（１２）の制御装置に送られるように適合
されることを特徴とする請求項２０記載のコンピュータ
データ信号。
【請求項２２】圧延された材料のストリップ（１）の
平坦度を制御するためのシステムのデータベース（６）
のデータフォーマットであって、圧延されたストリップ
の平坦度の測定値から抽出されて格納された情報を具備
し、前記測定された平坦度の情報を含むデータ部分であっ
て、前記圧延されたストリップの全長に沿う各領域にお
ける平坦度の測定値が記録されたデータ部分と、個々の圧延されたストリップを識別するためのコイル識
別データを含む識別部分とからなることを特徴とするデ
ータフォーマット。
【請求項２３】アルゴリズム、数学的モデル、ファジ
ー論理システムまたはニューラルネットワークシステム
のいずれかのような手段であって、コンピュータまたは
プロセッサ上で作動させられたときに、コンピュータま
たはプロセッサに、請求項１から請求項１２のいずれか
に記載の方法のステップを実行させることになる手段を
含む１以上の一連の指示を、コンピュータまたはプロセ
ッサに実行させることができるコンピュータコード手段
またはソフトウェアコード部分を具備することを特徴と
するコンピュータプログラム製品。
【請求項２４】コンピュータ読取可能な媒体を含むこ
とを特徴とする請求項２３記載のコンピュータプログラ
ム製品。