JP2002187793A - ダイヤモンド被膜の平滑化方法、およびダイヤモンド被覆部材の製造方法 - Google Patents
ダイヤモンド被膜の平滑化方法、およびダイヤモンド被覆部材の製造方法Info
- Publication number
- JP2002187793A JP2002187793A JP2001196701A JP2001196701A JP2002187793A JP 2002187793 A JP2002187793 A JP 2002187793A JP 2001196701 A JP2001196701 A JP 2001196701A JP 2001196701 A JP2001196701 A JP 2001196701A JP 2002187793 A JP2002187793 A JP 2002187793A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diamond
- smoothing
- coating
- coated
- target
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/26—Deposition of carbon only
- C23C16/27—Diamond only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/56—After-treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32055—Arc discharge
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Drilling Tools (AREA)
- Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 複雑な三次元形状の切れ刃を有するダイヤモ
ンド被覆切削工具に対しても、ダイヤモンド被膜の表面
を効率良く高い精度で平滑化できるようにする。 【解決手段】 表面にダイヤモンド被膜がコーティング
されたエンドミル中間品３６をアークイオンプレーティ
ング装置２０のチャンバ２２内に配置し、所定の金属タ
ーゲット２４をカソードとしてアーク放電させることに
より、その金属ターゲット２４から金属イオンを放出さ
せるとともに、エンドミル中間品３６に負のバイアス電
圧を印加することにより、その金属イオンをエンドミル
中間品３６の表面に高速でボンバードさせて、ダイヤモ
ンド被膜の表面を平滑化する。
ンド被覆切削工具に対しても、ダイヤモンド被膜の表面
を効率良く高い精度で平滑化できるようにする。 【解決手段】 表面にダイヤモンド被膜がコーティング
されたエンドミル中間品３６をアークイオンプレーティ
ング装置２０のチャンバ２２内に配置し、所定の金属タ
ーゲット２４をカソードとしてアーク放電させることに
より、その金属ターゲット２４から金属イオンを放出さ
せるとともに、エンドミル中間品３６に負のバイアス電
圧を印加することにより、その金属イオンをエンドミル
中間品３６の表面に高速でボンバードさせて、ダイヤモ
ンド被膜の表面を平滑化する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はダイヤモンド被膜の
平滑化方法に係り、特に、複雑な三次元形状のダイヤモ
ンド被覆部材に対しても効率良く高い精度で平滑化でき
る平滑化方法に関するものである。
平滑化方法に係り、特に、複雑な三次元形状のダイヤモ
ンド被覆部材に対しても効率良く高い精度で平滑化でき
る平滑化方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】エンドミルやタップ、ドリルなどの切削
工具として、超硬合金等の工具母材の表面にダイヤモン
ド被膜をコーティングしたダイヤモンド被覆切削工具が
提案されている。特許第２５１９０３７号公報に記載さ
れている工具はその一例で、ダイヤモンド被膜はＣＶＤ
（化学気相成長）法によってコーティングされている
が、このようなダイヤモンド被覆切削工具はダイヤモン
ドの結晶が大きく、その凹凸が被削材に転写されて被削
面の面粗さが制約される。このため、例えば「DIAMOND
AND RELATED MATERIALS VOL4 (1995) 」の第９２１頁〜
９２９頁の文献「Apreliminary investigation of the
effect of post-deposition polishing of diamond fil
ms on the machining behavior of diamond-coated cut
ting tools」に記載されているように、レーザー、イオ
ンビーム、熱化学−機械的研磨、機械的−化学的研磨な
どを利用してダイヤモンド被膜の表面を平滑化する方法
が提案されている。
工具として、超硬合金等の工具母材の表面にダイヤモン
ド被膜をコーティングしたダイヤモンド被覆切削工具が
提案されている。特許第２５１９０３７号公報に記載さ
れている工具はその一例で、ダイヤモンド被膜はＣＶＤ
（化学気相成長）法によってコーティングされている
が、このようなダイヤモンド被覆切削工具はダイヤモン
ドの結晶が大きく、その凹凸が被削材に転写されて被削
面の面粗さが制約される。このため、例えば「DIAMOND
AND RELATED MATERIALS VOL4 (1995) 」の第９２１頁〜
９２９頁の文献「Apreliminary investigation of the
effect of post-deposition polishing of diamond fil
ms on the machining behavior of diamond-coated cut
ting tools」に記載されているように、レーザー、イオ
ンビーム、熱化学−機械的研磨、機械的−化学的研磨な
どを利用してダイヤモンド被膜の表面を平滑化する方法
が提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、レーザ
を利用した平滑化方法は、研磨速度は速いもののドリル
やエンドミルなど三次元的な形状のものを効率良く研磨
するのには適していない。イオンビームを利用した平滑
化方法は、研磨速度が遅く、研磨に数十時間を要する。
また、熱化学−機械的研磨および機械的−化学的研磨で
は、三次元的な凹凸のある複雑な形状は研磨できない。
を利用した平滑化方法は、研磨速度は速いもののドリル
やエンドミルなど三次元的な形状のものを効率良く研磨
するのには適していない。イオンビームを利用した平滑
化方法は、研磨速度が遅く、研磨に数十時間を要する。
また、熱化学−機械的研磨および機械的−化学的研磨で
は、三次元的な凹凸のある複雑な形状は研磨できない。
【０００４】本発明は以上の事情を背景として為された
もので、その目的とするところは、複雑な三次元形状の
ダイヤモンド被覆部材に対しても、ダイヤモンド被膜の
表面を効率良く高い精度で平滑化できる平滑化方法を提
供することにある。
もので、その目的とするところは、複雑な三次元形状の
ダイヤモンド被覆部材に対しても、ダイヤモンド被膜の
表面を効率良く高い精度で平滑化できる平滑化方法を提
供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに、第１発明は、表面にダイヤモンド被膜がコーティ
ングされているダイヤモンド被覆部材のそのダイヤモン
ド被膜の表面を平滑化する方法であって、アークイオン
プレーティング装置を用いて、所定のターゲットをカソ
ードとしてアーク放電させることによりそのターゲット
から＋イオンを放出させるとともに、前記ダイヤモンド
被覆部材に負のバイアス電圧を印加することにより、そ
の＋イオンを前記ダイヤモンド被膜の表面に高速で衝突
させて平滑化することを特徴とする。
めに、第１発明は、表面にダイヤモンド被膜がコーティ
ングされているダイヤモンド被覆部材のそのダイヤモン
ド被膜の表面を平滑化する方法であって、アークイオン
プレーティング装置を用いて、所定のターゲットをカソ
ードとしてアーク放電させることによりそのターゲット
から＋イオンを放出させるとともに、前記ダイヤモンド
被覆部材に負のバイアス電圧を印加することにより、そ
の＋イオンを前記ダイヤモンド被膜の表面に高速で衝突
させて平滑化することを特徴とする。
【０００６】第２発明は、表面にダイヤモンド被膜がコ
ーティングされているダイヤモンド被覆部材のそのダイ
ヤモンド被膜の表面を平滑化する方法であって、アーク
イオンプレーティング装置を用いて、所定の金属ターゲ
ットをカソードとしてアーク放電させることによりその
金属ターゲットから金属イオンを放出させるとともに、
前記ダイヤモンド被覆部材に負のバイアス電圧を印加す
ることにより、その金属イオンを前記ダイヤモンド被膜
の表面に高速で衝突させて平滑化することを特徴とす
る。
ーティングされているダイヤモンド被覆部材のそのダイ
ヤモンド被膜の表面を平滑化する方法であって、アーク
イオンプレーティング装置を用いて、所定の金属ターゲ
ットをカソードとしてアーク放電させることによりその
金属ターゲットから金属イオンを放出させるとともに、
前記ダイヤモンド被覆部材に負のバイアス電圧を印加す
ることにより、その金属イオンを前記ダイヤモンド被膜
の表面に高速で衝突させて平滑化することを特徴とす
る。
【０００７】第３発明は、第２発明のダイヤモンド被膜
の平滑化方法において、前記金属ターゲットは、元素の
周期表において IIIａ族から IIIｂ族の間に位置する金
属の何れかを主成分とするものであることを特徴とす
る。
の平滑化方法において、前記金属ターゲットは、元素の
周期表において IIIａ族から IIIｂ族の間に位置する金
属の何れかを主成分とするものであることを特徴とす
る。
【０００８】第４発明は、第３発明のダイヤモンド被膜
の平滑化方法において、前記金属ターゲットは、Ｔｉ、
ＴｉＡｌ、Ｖ、Ｙ、Ａｌ、およびＣｒの何れかを含むも
のであることを特徴とする。
の平滑化方法において、前記金属ターゲットは、Ｔｉ、
ＴｉＡｌ、Ｖ、Ｙ、Ａｌ、およびＣｒの何れかを含むも
のであることを特徴とする。
【０００９】第５発明は、第１発明〜第４発明の何れか
のダイヤモンド被膜の平滑化方法において、前記負のバ
イアス電圧は、５００Ｖ以上１５００Ｖ以下の範囲であ
ることを特徴とする。
のダイヤモンド被膜の平滑化方法において、前記負のバ
イアス電圧は、５００Ｖ以上１５００Ｖ以下の範囲であ
ることを特徴とする。
【００１０】第６発明は、所定の本体部材の表面にダイ
ヤモンド被膜がコーティングされているダイヤモンド被
覆部材の製造方法であって、(a) 前記本体部材の表面を
ダイヤモンド被膜で被覆するコーティング工程と、(b)
アークイオンプレーティング装置を用いて、所定のター
ゲットをカソードとしてアーク放電させることによりそ
のターゲットから＋イオンを放出させるとともに、前記
本体部材に負のバイアス電圧を印加することにより、そ
の＋イオンを前記ダイヤモンド被膜の表面に高速で衝突
させて平滑化する平滑化工程と、を有することを特徴と
する。
ヤモンド被膜がコーティングされているダイヤモンド被
覆部材の製造方法であって、(a) 前記本体部材の表面を
ダイヤモンド被膜で被覆するコーティング工程と、(b)
アークイオンプレーティング装置を用いて、所定のター
ゲットをカソードとしてアーク放電させることによりそ
のターゲットから＋イオンを放出させるとともに、前記
本体部材に負のバイアス電圧を印加することにより、そ
の＋イオンを前記ダイヤモンド被膜の表面に高速で衝突
させて平滑化する平滑化工程と、を有することを特徴と
する。
【００１１】第７発明は、所定の本体部材の表面にダイ
ヤモンド被膜がコーティングされているダイヤモンド被
覆部材の製造方法であって、(a) 前記本体部材の表面を
ダイヤモンド被膜で被覆するコーティング工程と、(b)
アークイオンプレーティング装置を用いて、所定の金属
ターゲットをカソードとしてアーク放電させることによ
りその金属ターゲットから金属イオンを放出させるとと
もに、前記本体部材に負のバイアス電圧を印加すること
により、その金属イオンを前記ダイヤモンド被膜の表面
に高速で衝突させて平滑化する平滑化工程と、を有する
ことを特徴とする。
ヤモンド被膜がコーティングされているダイヤモンド被
覆部材の製造方法であって、(a) 前記本体部材の表面を
ダイヤモンド被膜で被覆するコーティング工程と、(b)
アークイオンプレーティング装置を用いて、所定の金属
ターゲットをカソードとしてアーク放電させることによ
りその金属ターゲットから金属イオンを放出させるとと
もに、前記本体部材に負のバイアス電圧を印加すること
により、その金属イオンを前記ダイヤモンド被膜の表面
に高速で衝突させて平滑化する平滑化工程と、を有する
ことを特徴とする。
【００１２】第８発明は、第７発明のダイヤモンド被覆
部材の製造方法において、前記平滑化工程は、第３発明
〜第５発明の何れかのダイヤモンド被膜の平滑化方法で
平滑化処理を行うものであることを特徴とする。
部材の製造方法において、前記平滑化工程は、第３発明
〜第５発明の何れかのダイヤモンド被膜の平滑化方法で
平滑化処理を行うものであることを特徴とする。
【００１３】第９発明は、第６発明〜第８発明の何れか
のダイヤモンド被覆部材の製造方法において、前記ダイ
ヤモンド被覆部材は、三次元形状の切れ刃を有して軸心
まわりに回転駆動されることにより切削加工を行う回転
切削工具であることを特徴とする。
のダイヤモンド被覆部材の製造方法において、前記ダイ
ヤモンド被覆部材は、三次元形状の切れ刃を有して軸心
まわりに回転駆動されることにより切削加工を行う回転
切削工具であることを特徴とする。
【００１４】
【発明の効果】第１発明〜第５発明のダイヤモンド被膜
の平滑化方法によれば、アークイオンプレーティング装
置を用いて、所定のターゲット（例えば金属ターゲッ
ト）をカソードとしてアーク放電させることによりその
ターゲットから＋イオン（例えば金属イオン）を放出さ
せるとともに、ダイヤモンド被覆部材に負のバイアス電
圧を印加することにより、その＋イオンをダイヤモンド
被膜の表面に高速で衝突させて平滑化するため、三次元
的な形状のダイヤモンド被覆部材に対しても高い精度で
平滑化できる一方、アークイオンプレーティング装置を
用いているため、短時間で大量に平滑化処理を行うこと
が可能で、優れた処理効率が得られる。
の平滑化方法によれば、アークイオンプレーティング装
置を用いて、所定のターゲット（例えば金属ターゲッ
ト）をカソードとしてアーク放電させることによりその
ターゲットから＋イオン（例えば金属イオン）を放出さ
せるとともに、ダイヤモンド被覆部材に負のバイアス電
圧を印加することにより、その＋イオンをダイヤモンド
被膜の表面に高速で衝突させて平滑化するため、三次元
的な形状のダイヤモンド被覆部材に対しても高い精度で
平滑化できる一方、アークイオンプレーティング装置を
用いているため、短時間で大量に平滑化処理を行うこと
が可能で、優れた処理効率が得られる。
【００１５】第６発明〜第９発明のダイヤモンド被覆部
材の製造方法においても、上記と同様な平滑化処理が行
われるため、実質的に同様の効果が得られるとともに、
表面の平滑度が高いダイヤモンド被覆部材を効率良く製
造できる。特に、第９発明では、複雑な三次元形状の切
れ刃の形状精度を維持しつつ高い精度で平滑化できると
ともに、その回転切削工具で切削加工された被削材の被
削面の面粗さが向上する。
材の製造方法においても、上記と同様な平滑化処理が行
われるため、実質的に同様の効果が得られるとともに、
表面の平滑度が高いダイヤモンド被覆部材を効率良く製
造できる。特に、第９発明では、複雑な三次元形状の切
れ刃の形状精度を維持しつつ高い精度で平滑化できると
ともに、その回転切削工具で切削加工された被削材の被
削面の面粗さが向上する。
【００１６】
【発明の実施の形態】本発明の平滑化方法は、ダイヤモ
ンド被覆部材、特に切れ刃を有するダイヤモンド被覆切
削工具を製造する際に好適に適用されるが、切削工具以
外の加工工具など種々のダイヤモンド被覆部材に適用さ
れ得る。
ンド被覆部材、特に切れ刃を有するダイヤモンド被覆切
削工具を製造する際に好適に適用されるが、切削工具以
外の加工工具など種々のダイヤモンド被覆部材に適用さ
れ得る。
【００１７】ターゲットとしてはＴｉ、ＴｉＡｌ、Ｖ、
Ｙ、Ａｌ、Ｃｒなどの金属ターゲットが好適に用いられ
るが、ＳｉＣなどの金属以外のターゲットを採用するこ
ともできる。要するに、アークイオンプレーティング装
置を用いてアーク放電させることが可能で、ダイヤモン
ド被膜の表面を平滑化できるものであれば良い。
Ｙ、Ａｌ、Ｃｒなどの金属ターゲットが好適に用いられ
るが、ＳｉＣなどの金属以外のターゲットを採用するこ
ともできる。要するに、アークイオンプレーティング装
置を用いてアーク放電させることが可能で、ダイヤモン
ド被膜の表面を平滑化できるものであれば良い。
【００１８】負のバイアス電圧は、ターゲットの種類に
よっても異なるが、５００Ｖ〜１５００Ｖの範囲が適当
で、更には８００Ｖ〜１２００Ｖ程度が好ましい。バイ
アス電圧が５００Ｖより低くなると、＋イオンの衝突速
度が遅くて十分な平滑化作用が得られなくなる一方、１
５００Ｖより高くなると、衝突速度が速くなり過ぎてダ
イヤモンド被膜が剥離し易くなる。
よっても異なるが、５００Ｖ〜１５００Ｖの範囲が適当
で、更には８００Ｖ〜１２００Ｖ程度が好ましい。バイ
アス電圧が５００Ｖより低くなると、＋イオンの衝突速
度が遅くて十分な平滑化作用が得られなくなる一方、１
５００Ｖより高くなると、衝突速度が速くなり過ぎてダ
イヤモンド被膜が剥離し易くなる。
【００１９】第６発明、第７発明のダイヤモンド被覆部
材は、エンドミルやタップ、ドリルなどの回転切削工具
の他、バイト等の非回転式の切削工具、或いは転造工具
など、種々の加工工具に好適に適用されるが、加工工具
以外のダイヤモンド被覆部材にも同様に適用され得る。
ダイヤモンド被覆切削工具は、例えばアルミニウム鋳物
やアルミニウム合金、銅、銅合金などの非鉄金属の切削
加工に好適に用いられるが、他の被削材の切削加工に用
いることもできる。
材は、エンドミルやタップ、ドリルなどの回転切削工具
の他、バイト等の非回転式の切削工具、或いは転造工具
など、種々の加工工具に好適に適用されるが、加工工具
以外のダイヤモンド被覆部材にも同様に適用され得る。
ダイヤモンド被覆切削工具は、例えばアルミニウム鋳物
やアルミニウム合金、銅、銅合金などの非鉄金属の切削
加工に好適に用いられるが、他の被削材の切削加工に用
いることもできる。
【００２０】本体部材としては超硬合金が好適に用いら
れる。本発明では、本体部材に負のバイアス電圧を印加
して平滑化処理を行うことから、導電性材料を採用する
ことになる。第１発明、第２発明のダイヤモンド被覆部
材についても、超硬合金等の導電性材料にダイヤモンド
被膜がコーティングされたものが対象となる。
れる。本発明では、本体部材に負のバイアス電圧を印加
して平滑化処理を行うことから、導電性材料を採用する
ことになる。第１発明、第２発明のダイヤモンド被覆部
材についても、超硬合金等の導電性材料にダイヤモンド
被膜がコーティングされたものが対象となる。
【００２１】本体部材の表面をダイヤモンド被膜で被覆
するコーティング工程では、マイクロ波プラズマＣＶＤ
法やホットフィラメントＣＶＤ法、高周波プラズマＣＶ
Ｄ法等のＣＶＤ法が好適に用いられるが、イオンビーム
法などの他の被覆手段が用いられても良い。
するコーティング工程では、マイクロ波プラズマＣＶＤ
法やホットフィラメントＣＶＤ法、高周波プラズマＣＶ
Ｄ法等のＣＶＤ法が好適に用いられるが、イオンビーム
法などの他の被覆手段が用いられても良い。
【００２２】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ詳
細に説明する。図１は、本発明方法に従って製造された
ダイヤモンド被覆切削工具、或いはダイヤモンド被覆部
材としてのエンドミル１０を示す図で、超硬合金にて構
成されている工具母材１２にはシャンクおよび刃部１４
が一体に設けられている。刃部１４には、三次元形状の
切れ刃として外周刃１４ａおよび底刃１４ｂが設けられ
ており、軸心まわりに回転駆動されることによりそれ等
の外周刃１４ａおよび底刃１４ｂによって切削加工が行
われるとともに、その刃部１４の表面にはダイヤモンド
被膜１６がコーティングされている。図１の斜線部はダ
イヤモンド被膜１６を表している。エンドミル１０は回
転切削工具で、工具母材１２は本体部材に相当する。
細に説明する。図１は、本発明方法に従って製造された
ダイヤモンド被覆切削工具、或いはダイヤモンド被覆部
材としてのエンドミル１０を示す図で、超硬合金にて構
成されている工具母材１２にはシャンクおよび刃部１４
が一体に設けられている。刃部１４には、三次元形状の
切れ刃として外周刃１４ａおよび底刃１４ｂが設けられ
ており、軸心まわりに回転駆動されることによりそれ等
の外周刃１４ａおよび底刃１４ｂによって切削加工が行
われるとともに、その刃部１４の表面にはダイヤモンド
被膜１６がコーティングされている。図１の斜線部はダ
イヤモンド被膜１６を表している。エンドミル１０は回
転切削工具で、工具母材１２は本体部材に相当する。
【００２３】上記エンドミル１０は、図２に示す工程を
経て製造されたもので、ステップＳ１では、円柱形状の
超硬合金の工具素材に研削加工等を施すことにより、切
れ刃として外周刃１４ａおよび底刃１４ｂを有する工具
母材１２を形成し、ステップＳ２では、例えばマイクロ
波プラズマＣＶＤ装置を用いて工具母材１２の刃部１４
の表面にダイヤモンド被膜１６をコーティングする。ダ
イヤモンド被膜１６の付着強度を高めるために、ダイヤ
モンド被膜１６のコーティングに先立って、例えば工具
母材１２の刃部１４の表面に化学的腐食等による荒し加
工などの前処理を施すことが望ましい。上記ステップＳ
２はコーティング工程に相当する。
経て製造されたもので、ステップＳ１では、円柱形状の
超硬合金の工具素材に研削加工等を施すことにより、切
れ刃として外周刃１４ａおよび底刃１４ｂを有する工具
母材１２を形成し、ステップＳ２では、例えばマイクロ
波プラズマＣＶＤ装置を用いて工具母材１２の刃部１４
の表面にダイヤモンド被膜１６をコーティングする。ダ
イヤモンド被膜１６の付着強度を高めるために、ダイヤ
モンド被膜１６のコーティングに先立って、例えば工具
母材１２の刃部１４の表面に化学的腐食等による荒し加
工などの前処理を施すことが望ましい。上記ステップＳ
２はコーティング工程に相当する。
【００２４】次のステップＳ３は平滑化工程で、図３
(a) のアークイオンプレーティング装置２０を用いて、
ダイヤモンド被膜１６の表面に平滑化処理（ボンバード
処理）を施す。図３(a) は、アークイオンプレーティン
グ装置２０の模式図で、図示しない真空ポンプなどに接
続されたチャンバ２２、複数の金属ターゲット２４、そ
の金属ターゲット２４とアノード２６との間にアーク電
流を通電するアーク電源２８、回転テーブル３０、およ
びバイアス電源３２を備えて構成されている。回転テー
ブル３０上にはワーク支持具３４が配設され、前記ダイ
ヤモンド被膜１６がコーティングされた複数のエンドミ
ル中間品３６が、それぞれ刃部１４が上向きになる姿勢
で配置されるとともに、バイアス電源３２により回転テ
ーブル３０を介してエンドミル中間品３６に負のバイア
ス電圧が印加されるようになっている。エンドミル中間
品３６は、アルコール、アルカリ洗剤などを媒介とする
超音波洗浄により、予め脱脂洗浄される。なお、図３の
プロセスガスは、アルゴン（Ａｒ）ガス、窒素（Ｎ2 ）
ガス、アセチレン（Ｃ2 Ｈ2 ）ガス、メタン（ＣＨ4）
ガスなどである。
(a) のアークイオンプレーティング装置２０を用いて、
ダイヤモンド被膜１６の表面に平滑化処理（ボンバード
処理）を施す。図３(a) は、アークイオンプレーティン
グ装置２０の模式図で、図示しない真空ポンプなどに接
続されたチャンバ２２、複数の金属ターゲット２４、そ
の金属ターゲット２４とアノード２６との間にアーク電
流を通電するアーク電源２８、回転テーブル３０、およ
びバイアス電源３２を備えて構成されている。回転テー
ブル３０上にはワーク支持具３４が配設され、前記ダイ
ヤモンド被膜１６がコーティングされた複数のエンドミ
ル中間品３６が、それぞれ刃部１４が上向きになる姿勢
で配置されるとともに、バイアス電源３２により回転テ
ーブル３０を介してエンドミル中間品３６に負のバイア
ス電圧が印加されるようになっている。エンドミル中間
品３６は、アルコール、アルカリ洗剤などを媒介とする
超音波洗浄により、予め脱脂洗浄される。なお、図３の
プロセスガスは、アルゴン（Ａｒ）ガス、窒素（Ｎ2 ）
ガス、アセチレン（Ｃ2 Ｈ2 ）ガス、メタン（ＣＨ4）
ガスなどである。
【００２５】そして、このようなアークイオンプレーテ
ィング装置２０によれば、図３(b)に示すように真空雰
囲気中で金属ターゲット２４をカソード（陰極）とし
て、アノード（陽極）２６との間でアーク放電（電流が
両極間の気体中を大きな密度で流れ、強い発熱と発光を
伴うもの）を起こすと、金属ターゲット２４の表面上に
数μｍ〜十数μｍの大きさの微小なアークスポットが形
成されるとともに、金属ターゲット２４の表面上をラン
ダムに移動し、ターゲット金属が瞬時に蒸発すると同時
に金属イオン（＋イオン）となって真空中に飛び出す。
また、金属ターゲット２４に対向して設置されたエンド
ミル中間品３６に負のバイアス電圧を印加すると、金属
ターゲット２４から放出された金属イオンはエンドミル
中間品３６の表面近傍で加速され、エンドミル中間品３
６の表面に高速でボンバード（衝突）される。このボン
バードによって、ダイヤモンド被膜１６の表面が平滑化
され、目的とするエンドミル１０が得られる。
ィング装置２０によれば、図３(b)に示すように真空雰
囲気中で金属ターゲット２４をカソード（陰極）とし
て、アノード（陽極）２６との間でアーク放電（電流が
両極間の気体中を大きな密度で流れ、強い発熱と発光を
伴うもの）を起こすと、金属ターゲット２４の表面上に
数μｍ〜十数μｍの大きさの微小なアークスポットが形
成されるとともに、金属ターゲット２４の表面上をラン
ダムに移動し、ターゲット金属が瞬時に蒸発すると同時
に金属イオン（＋イオン）となって真空中に飛び出す。
また、金属ターゲット２４に対向して設置されたエンド
ミル中間品３６に負のバイアス電圧を印加すると、金属
ターゲット２４から放出された金属イオンはエンドミル
中間品３６の表面近傍で加速され、エンドミル中間品３
６の表面に高速でボンバード（衝突）される。このボン
バードによって、ダイヤモンド被膜１６の表面が平滑化
され、目的とするエンドミル１０が得られる。
【００２６】上記金属ターゲット２４としては、元素の
周期表において IIIａ族から IIIｂ族の間に位置する金
属の何れかを主成分とするものが用いられ、例えばＴ
ｉ、ＴｉＡｌ、Ｖ、Ｙ、Ａｌ、およびＣｒの何れかを主
成分とするもの、或いはそれ等の複数を所定の割合で含
むものが好適に採用される。また、バイアス電源３２の
負のバイアス電圧は、５００Ｖ以上１５００Ｖ以下の範
囲で設定される。なお、金属ターゲット２４の代わり
に、アークイオンプレーティング装置２０を用いてアー
ク放電させてダイヤモンド被膜１６の表面を平滑化でき
るＳｉＣなどの金属以外のターゲットを用いることもで
きる。
周期表において IIIａ族から IIIｂ族の間に位置する金
属の何れかを主成分とするものが用いられ、例えばＴ
ｉ、ＴｉＡｌ、Ｖ、Ｙ、Ａｌ、およびＣｒの何れかを主
成分とするもの、或いはそれ等の複数を所定の割合で含
むものが好適に採用される。また、バイアス電源３２の
負のバイアス電圧は、５００Ｖ以上１５００Ｖ以下の範
囲で設定される。なお、金属ターゲット２４の代わり
に、アークイオンプレーティング装置２０を用いてアー
ク放電させてダイヤモンド被膜１６の表面を平滑化でき
るＳｉＣなどの金属以外のターゲットを用いることもで
きる。
【００２７】図４は、平滑化処理なし（ダイヤモンドコ
ーティングのみ）の試験品No１、金属ターゲット２４と
してＴｉを用いて平滑化処理を行った試験品No２、金属
ターゲット２４としてＴｉＡｌを用いて平滑化処理を行
った試験品No３、金属ターゲット２４としてＣｒを用い
て平滑化処理を行った試験品No４、について、それぞれ
外周二番面、底刃二番面、溝すくい面の被膜表面粗さ
（粗さ曲線の最大高さ）Ｒy の測定結果である。また、
図５は、金属ターゲット２４としてＴｉを用いた試験品
No２の平滑化処理前と処理後における切れ刃稜線部（３
５０倍、１０００倍）および外周二番面（１０００倍）
の電子顕微鏡写真を縮小して示した図である。
ーティングのみ）の試験品No１、金属ターゲット２４と
してＴｉを用いて平滑化処理を行った試験品No２、金属
ターゲット２４としてＴｉＡｌを用いて平滑化処理を行
った試験品No３、金属ターゲット２４としてＣｒを用い
て平滑化処理を行った試験品No４、について、それぞれ
外周二番面、底刃二番面、溝すくい面の被膜表面粗さ
（粗さ曲線の最大高さ）Ｒy の測定結果である。また、
図５は、金属ターゲット２４としてＴｉを用いた試験品
No２の平滑化処理前と処理後における切れ刃稜線部（３
５０倍、１０００倍）および外周二番面（１０００倍）
の電子顕微鏡写真を縮小して示した図である。
【００２８】ここで、上記試験品No２〜４の平滑化処理
は、何れもチャンバ２２内の圧力が１．３３×８．５×
１０-6Ｐａ（パスカル）程度になるまで真空引きを行
い、ヒータ温度５００℃で４０分間予熱した後、金属タ
ーゲット２４とアノード２６との間でアーク放電させる
とともに負のバイアス電圧１０００Ｖで１２０分間保持
してボンバード処理を行ったものであり、その後９０分
間徐冷した後チャンバ２２内に窒素ガスを導入して１５
分保持した後、処理品をチャンバ２２から取り出した。
は、何れもチャンバ２２内の圧力が１．３３×８．５×
１０-6Ｐａ（パスカル）程度になるまで真空引きを行
い、ヒータ温度５００℃で４０分間予熱した後、金属タ
ーゲット２４とアノード２６との間でアーク放電させる
とともに負のバイアス電圧１０００Ｖで１２０分間保持
してボンバード処理を行ったものであり、その後９０分
間徐冷した後チャンバ２２内に窒素ガスを導入して１５
分保持した後、処理品をチャンバ２２から取り出した。
【００２９】図４の測定結果から明らかなように、平滑
化処理なしの試験品No１では、例えば外周二番面の面粗
さＲy が３．３μｍ程度であるのに対し、本発明が適用
された試験品No２〜４では、外周二番面の面粗さＲy が
２．０μｍ程度以下で、面粗さＲy が４０％程度小さく
なるなど、ダイヤモンド被膜１６の表面の平滑度が大幅
に向上する。
化処理なしの試験品No１では、例えば外周二番面の面粗
さＲy が３．３μｍ程度であるのに対し、本発明が適用
された試験品No２〜４では、外周二番面の面粗さＲy が
２．０μｍ程度以下で、面粗さＲy が４０％程度小さく
なるなど、ダイヤモンド被膜１６の表面の平滑度が大幅
に向上する。
【００３０】また、図６は、上記試験品No１〜４を用い
て、以下の切削条件で切削加工を行って被削材の面粗さ
（側面）を測定した結果である。試験品No１〜４は、何
れも図１に示すような４枚刃のねじれ刃エンドミルで、
外径寸法は１４．５ｍｍである。 （切削条件） 被削材：Ａ７０７５（アルミニウム） 加工方法：側面 試験機械：横形マシニングセンタ 切削油剤：水溶性 切削速度：２００００ｍｉｎ-1 送り速度：２４００ｍｍ／ｍｉｎ 切込み：ＡＤ（軸方向深さ）２０ｍｍ×ＲＤ（径方向深
さ）０．１ｍｍ
て、以下の切削条件で切削加工を行って被削材の面粗さ
（側面）を測定した結果である。試験品No１〜４は、何
れも図１に示すような４枚刃のねじれ刃エンドミルで、
外径寸法は１４．５ｍｍである。 （切削条件） 被削材：Ａ７０７５（アルミニウム） 加工方法：側面 試験機械：横形マシニングセンタ 切削油剤：水溶性 切削速度：２００００ｍｉｎ-1 送り速度：２４００ｍｍ／ｍｉｎ 切込み：ＡＤ（軸方向深さ）２０ｍｍ×ＲＤ（径方向深
さ）０．１ｍｍ
【００３１】図６の試験結果から明らかなように、本発
明が適用された試験品No２〜４によれば、平滑化処理な
しの試験品No１に比較して、何れも被削面の面粗さが向
上する。なお、面粗さ「Ｒmax 」は、ＪＩＳ−Ｂ０６０
１（１９８２）に規定の最大高さ（Ｒmax ）のことで、
断面曲線から基準長さだけ抜き取った部分の平均線に対
して平行な２直線で抜き取り部分を挟んだとき、この２
直線間の間隔を断面曲線の縦倍率の方向に測定してこの
値をマイクロメートル（μｍ）で表したものである。
明が適用された試験品No２〜４によれば、平滑化処理な
しの試験品No１に比較して、何れも被削面の面粗さが向
上する。なお、面粗さ「Ｒmax 」は、ＪＩＳ−Ｂ０６０
１（１９８２）に規定の最大高さ（Ｒmax ）のことで、
断面曲線から基準長さだけ抜き取った部分の平均線に対
して平行な２直線で抜き取り部分を挟んだとき、この２
直線間の間隔を断面曲線の縦倍率の方向に測定してこの
値をマイクロメートル（μｍ）で表したものである。
【００３２】このように本実施例のエンドミル１０は、
マイクロ波プラズマＣＶＤ装置などを用いて工具母材１
２の刃部１４の表面にダイヤモンド被膜１６をコーティ
ングした後、アークイオンプレーティング装置２０を用
いて、所定の金属ターゲット２４をカソードとしてアー
ク放電させることによりその金属ターゲット２４から金
属イオンを放出させるとともに、エンドミル中間品３６
に負のバイアス電圧を印加することにより、その金属イ
オンをダイヤモンド被膜１６の表面に高速でボンバード
させて平滑化するため、複雑な三次元形状を有する外周
刃１４ａや底刃１４ｂの形状精度を維持しつつ高い精度
で平滑化でき、そのエンドミル１０を用いて切削加工を
行った場合の被削面の面粗さが向上する。
マイクロ波プラズマＣＶＤ装置などを用いて工具母材１
２の刃部１４の表面にダイヤモンド被膜１６をコーティ
ングした後、アークイオンプレーティング装置２０を用
いて、所定の金属ターゲット２４をカソードとしてアー
ク放電させることによりその金属ターゲット２４から金
属イオンを放出させるとともに、エンドミル中間品３６
に負のバイアス電圧を印加することにより、その金属イ
オンをダイヤモンド被膜１６の表面に高速でボンバード
させて平滑化するため、複雑な三次元形状を有する外周
刃１４ａや底刃１４ｂの形状精度を維持しつつ高い精度
で平滑化でき、そのエンドミル１０を用いて切削加工を
行った場合の被削面の面粗さが向上する。
【００３３】また、アークイオンプレーティング装置２
０を用いているため、短時間で大量に平滑化処理を行う
ことが可能で、ダイヤモンド被膜１６の表面の平滑度が
高いエンドミル１０を効率良く製造できる。因みに、本
発明者等の実験によれば、シャンク径がφ６の場合には
チャンバ２２内に８４０本セットして同時に平滑化処理
することが可能で、シャンク径がφ１０の場合にはチャ
ンバ２２内に５２０本セットして同時に平滑化処理する
ことが可能であり、何れの場合も所定の平滑度が得られ
るのに必要な処理時間、すなわち金属ターゲット２４と
アノード２６との間でアーク放電させるとともにエンド
ミル中間品３６に負のバイアス電圧１０００Ｖを印加す
る時間は、２８０分程度であった。
０を用いているため、短時間で大量に平滑化処理を行う
ことが可能で、ダイヤモンド被膜１６の表面の平滑度が
高いエンドミル１０を効率良く製造できる。因みに、本
発明者等の実験によれば、シャンク径がφ６の場合には
チャンバ２２内に８４０本セットして同時に平滑化処理
することが可能で、シャンク径がφ１０の場合にはチャ
ンバ２２内に５２０本セットして同時に平滑化処理する
ことが可能であり、何れの場合も所定の平滑度が得られ
るのに必要な処理時間、すなわち金属ターゲット２４と
アノード２６との間でアーク放電させるとともにエンド
ミル中間品３６に負のバイアス電圧１０００Ｖを印加す
る時間は、２８０分程度であった。
【００３４】以上、本発明の実施例を図面に基づいて詳
細に説明したが、これはあくまでも一実施形態であり、
本発明は当業者の知識に基づいて種々の変更，改良を加
えた態様で実施することができる。
細に説明したが、これはあくまでも一実施形態であり、
本発明は当業者の知識に基づいて種々の変更，改良を加
えた態様で実施することができる。
【図１】本発明方法に従って製造されたエンドミルを軸
心と直角方向から見た正面図である。
心と直角方向から見た正面図である。
【図２】図１のエンドミルの製造工程を説明する図であ
る。
る。
【図３】図２のステップＳ３の平滑化工程の処理内容を
説明する図で、(a) は平滑化処理を行うアークイオンプ
レーティング装置の模式図であり、(b) はそのアークイ
オンプレーティング装置の作動を説明する図である。
説明する図で、(a) は平滑化処理を行うアークイオンプ
レーティング装置の模式図であり、(b) はそのアークイ
オンプレーティング装置の作動を説明する図である。
【図４】本発明方法に従って平滑化処理を行った試験品
（No２〜４）の各部の表面粗さの測定結果で、平滑化処
理なしの場合（No１）と比較して示す図である。
（No２〜４）の各部の表面粗さの測定結果で、平滑化処
理なしの場合（No１）と比較して示す図である。
【図５】図４の試験品No２の平滑化処理前と処理後にお
ける切れ刃稜線部（３５０倍、１０００倍）および外周
二番面（１０００倍）の電子顕微鏡写真を縮小して示す
図である。
ける切れ刃稜線部（３５０倍、１０００倍）および外周
二番面（１０００倍）の電子顕微鏡写真を縮小して示す
図である。
【図６】図４の試験品（No１〜４）を用いて切削加工を
行った場合の被削面の面粗さの測定結果を示す図であ
る。
行った場合の被削面の面粗さの測定結果を示す図であ
る。
１０：エンドミル（ダイヤモンド被覆部材、回転切削工
具） １２：工具母材（本体部材） １４ａ：外周
刃（切れ刃） １４ｂ：底刃（切れ刃） １６：ダイヤモンド被膜 ２０：アークイオンプレー
ティング装置 ２４：金属ターゲット ３６：エン
ドミル中間品 ステップＳ２：コーティング工程 ステップＳ３：平滑化工程
具） １２：工具母材（本体部材） １４ａ：外周
刃（切れ刃） １４ｂ：底刃（切れ刃） １６：ダイヤモンド被膜 ２０：アークイオンプレー
ティング装置 ２４：金属ターゲット ３６：エン
ドミル中間品 ステップＳ２：コーティング工程 ステップＳ３：平滑化工程
Claims (9)
- 【請求項１】 表面にダイヤモンド被膜がコーティング
されているダイヤモンド被覆部材の該ダイヤモンド被膜
の表面を平滑化する方法であって、 アークイオンプレーティング装置を用いて、所定のター
ゲットをカソードとしてアーク放電させることにより該
ターゲットから＋イオンを放出させるとともに、前記ダ
イヤモンド被覆部材に負のバイアス電圧を印加すること
により、該＋イオンを前記ダイヤモンド被膜の表面に高
速で衝突させて平滑化することを特徴とするダイヤモン
ド被膜の平滑化方法。 - 【請求項２】 表面にダイヤモンド被膜がコーティング
されているダイヤモンド被覆部材の該ダイヤモンド被膜
の表面を平滑化する方法であって、 アークイオンプレーティング装置を用いて、所定の金属
ターゲットをカソードとしてアーク放電させることによ
り該金属ターゲットから金属イオンを放出させるととも
に、前記ダイヤモンド被覆部材に負のバイアス電圧を印
加することにより、該金属イオンを前記ダイヤモンド被
膜の表面に高速で衝突させて平滑化することを特徴とす
るダイヤモンド被膜の平滑化方法。 - 【請求項３】 前記金属ターゲットは、元素の周期表に
おいて IIIａ族から IIIｂ族の間に位置する金属の何れ
かを主成分とするものであることを特徴とする請求項２
に記載のダイヤモンド被膜の平滑化方法。 - 【請求項４】 前記金属ターゲットは、Ｔｉ、ＴｉＡ
ｌ、Ｖ、Ｙ、Ａｌ、およびＣｒの何れかを含むものであ
ることを特徴とする請求項３に記載のダイヤモンド被膜
の平滑化方法。 - 【請求項５】 前記負のバイアス電圧は、５００Ｖ以上
１５００Ｖ以下の範囲であることを特徴とする請求項１
〜４の何れか１項に記載のダイヤモンド被膜の平滑化方
法。 - 【請求項６】 所定の本体部材の表面にダイヤモンド被
膜がコーティングされているダイヤモンド被覆部材の製
造方法であって、 前記本体部材の表面をダイヤモンド被膜で被覆するコー
ティング工程と、 アークイオンプレーティング装置を用いて、所定のター
ゲットをカソードとしてアーク放電させることにより該
ターゲットから＋イオンを放出させるとともに、前記本
体部材に負のバイアス電圧を印加することにより、該＋
イオンを前記ダイヤモンド被膜の表面に高速で衝突させ
て平滑化する平滑化工程と、 を有することを特徴とするダイヤモンド被覆部材の製造
方法。 - 【請求項７】 所定の本体部材の表面にダイヤモンド被
膜がコーティングされているダイヤモンド被覆部材の製
造方法であって、 前記本体部材の表面をダイヤモンド被膜で被覆するコー
ティング工程と、 アークイオンプレーティング装置を用いて、所定の金属
ターゲットをカソードとしてアーク放電させることによ
り該金属ターゲットから金属イオンを放出させるととも
に、前記本体部材に負のバイアス電圧を印加することに
より、該金属イオンを前記ダイヤモンド被膜の表面に高
速で衝突させて平滑化する平滑化工程と、 を有することを特徴とするダイヤモンド被覆部材の製造
方法。 - 【請求項８】 前記平滑化工程は、請求項３〜５の何れ
か１項に記載のダイヤモンド被膜の平滑化方法で平滑化
処理を行うものであることを特徴とする請求項７に記載
のダイヤモンド被覆部材の製造方法。 - 【請求項９】 前記ダイヤモンド被覆部材は、三次元形
状の切れ刃を有して軸心まわりに回転駆動されることに
より切削加工を行う回転切削工具であることを特徴とす
る請求項６〜８の何れか１項に記載のダイヤモンド被覆
部材の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001196701A JP2002187793A (ja) | 2000-10-11 | 2001-06-28 | ダイヤモンド被膜の平滑化方法、およびダイヤモンド被覆部材の製造方法 |
| US09/927,337 US6517688B2 (en) | 2000-10-11 | 2001-08-13 | Method of smoothing diamond coating, and method of manufacturing diamond-coated body |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000310259 | 2000-10-11 | ||
| JP2000-310259 | 2000-10-11 | ||
| JP2001196701A JP2002187793A (ja) | 2000-10-11 | 2001-06-28 | ダイヤモンド被膜の平滑化方法、およびダイヤモンド被覆部材の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002187793A true JP2002187793A (ja) | 2002-07-05 |
Family
ID=26601849
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001196701A Pending JP2002187793A (ja) | 2000-10-11 | 2001-06-28 | ダイヤモンド被膜の平滑化方法、およびダイヤモンド被覆部材の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6517688B2 (ja) |
| JP (1) | JP2002187793A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107604325A (zh) * | 2017-09-04 | 2018-01-19 | 苏州云舒新材料科技有限公司 | 一种散热类金刚石薄膜材料的制备方法 |
| US11642730B2 (en) | 2016-04-25 | 2023-05-09 | Kyocera Corporation | Cutting tool |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4216518B2 (ja) * | 2002-03-29 | 2009-01-28 | 株式会社神戸製鋼所 | カソード放電型アークイオンプレーティング用ターゲットおよびその製造方法 |
| US20050181239A1 (en) * | 2004-02-12 | 2005-08-18 | Seagate Technology Llc | Granular magnetic recording media with improved corrosion resistance by pre-carbon overcoat ion etching |
| US9997338B2 (en) * | 2005-03-24 | 2018-06-12 | Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon | Method for operating a pulsed arc source |
| US20060219325A1 (en) * | 2005-03-31 | 2006-10-05 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) | Method for producing alpha-alumina layer-formed member and surface treatment |
| US7691499B2 (en) * | 2006-04-21 | 2010-04-06 | Seagate Technology Llc | Corrosion-resistant granular magnetic media with improved recording performance and methods of manufacturing same |
| US20090136308A1 (en) * | 2007-11-27 | 2009-05-28 | Tdy Industries, Inc. | Rotary Burr Comprising Cemented Carbide |
| CN101934400B (zh) * | 2010-09-26 | 2011-11-02 | 南京航空航天大学 | 一种可修复式铣刀及一体化修复装置 |
| US9159353B2 (en) * | 2012-05-16 | 2015-10-13 | HGST Netherlands B.V. | Plasma polish for magnetic recording media |
| CN104294272A (zh) * | 2014-09-15 | 2015-01-21 | 江苏大学 | 一种提高硬质合金刀具表面金刚石涂层附着力的方法 |
| US9643282B2 (en) * | 2014-10-17 | 2017-05-09 | Kennametal Inc. | Micro end mill and method of manufacturing same |
| US10125782B2 (en) | 2014-12-17 | 2018-11-13 | Envaerospace Inc. | Conditioning method of gas turbine engine components for increasing fuel efficiency |
| DE102015222491B4 (de) * | 2015-11-13 | 2023-03-23 | Kennametal Inc. | Schneidwerkzeug und Verfahren zu dessen Herstellung |
| US10245686B2 (en) | 2016-11-03 | 2019-04-02 | Envaerospace Inc. | Conditioning method of gas turbine engine components for aerodynamic noise reduction |
| US9940963B1 (en) | 2016-11-17 | 2018-04-10 | Western Digital Technologies, Inc. | Magnetic media with atom implanted magnetic layer |
| CN106591785B (zh) * | 2016-12-22 | 2019-03-01 | 中国南方航空工业(集团)有限公司 | 真空电弧离子镀膜方法 |
| WO2021080701A1 (en) * | 2019-10-25 | 2021-04-29 | Applied Materials, Inc. | Method for depositing high quality pvd films |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2519037B2 (ja) | 1986-07-11 | 1996-07-31 | 京セラ株式会社 | ダイヤモンド被覆切削工具の製造方法 |
-
2001
- 2001-06-28 JP JP2001196701A patent/JP2002187793A/ja active Pending
- 2001-08-13 US US09/927,337 patent/US6517688B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11642730B2 (en) | 2016-04-25 | 2023-05-09 | Kyocera Corporation | Cutting tool |
| CN107604325A (zh) * | 2017-09-04 | 2018-01-19 | 苏州云舒新材料科技有限公司 | 一种散热类金刚石薄膜材料的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20020040848A1 (en) | 2002-04-11 |
| US6517688B2 (en) | 2003-02-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2002187793A (ja) | ダイヤモンド被膜の平滑化方法、およびダイヤモンド被覆部材の製造方法 | |
| US3882579A (en) | Anti-wear thin film coatings and method for making same | |
| JP6525310B2 (ja) | 被覆工具 | |
| JP5301531B2 (ja) | パーティクルの発生の少ないスパッタリングターゲット | |
| JP2006152424A (ja) | 硬質被膜および硬質被膜被覆加工工具 | |
| KR102095344B1 (ko) | 코팅된 절삭 공구 | |
| JP5286626B2 (ja) | 表面被覆切削工具およびその製造方法 | |
| JP4652446B2 (ja) | 硬質被膜の脱膜方法 | |
| JPWO2015076401A1 (ja) | 被覆工具 | |
| CN112708852B (zh) | 一种原位高能Ar+刻蚀后处理改善AlCrN涂层刀具性能的方法 | |
| CN109267005B (zh) | 一种w-n纳米复合结构小径刀涂层及其制备方法 | |
| JP7029700B2 (ja) | 硬質皮膜被覆部材、及び硬質皮膜被覆工具 | |
| JP2004131820A (ja) | 高機能ハイス工具製造方法 | |
| JP5983878B2 (ja) | 被覆切削工具 | |
| JP2016534217A (ja) | ＴｉｘＳｉ１−ｘＮ層を含んでなるコーティングを有するワークピースをコーティングする方法 | |
| JPH04226829A (ja) | アルミニウムロープ又はワイヤの黒皮削り工具の寿命を長くする方法 | |
| JP2011131347A (ja) | ダイヤモンド被覆超硬合金製切削工具 | |
| JP2012016797A (ja) | 硬質被覆層の耐欠損性、耐剥離性に優れる表面被覆切削工具 | |
| JP2010229552A (ja) | 非晶質炭素被覆部材の製造方法 | |
| JP5327534B2 (ja) | 硬質被覆層の耐欠損性、耐剥離性に優れる表面被覆切削工具 | |
| JPH0920590A (ja) | ダイヤモンド膜付き超硬基材の製造方法 | |
| CN116024526A (zh) | 一种用于刀具的复合涂层及其制备方法和用途 | |
| JP6510771B2 (ja) | チタン又はチタン合金のミーリング加工用の被覆切削工具及びその製造方法 | |
| JP2005335040A (ja) | 表面被覆切削工具 | |
| JPH06299320A (ja) | 被覆すべき表面の清浄化方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040302 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040421 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060912 |